JPH0756345B2 - 非接触端面シール - Google Patents

非接触端面シール

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JPH0756345B2
JPH0756345B2 JP3177524A JP17752491A JPH0756345B2 JP H0756345 B2 JPH0756345 B2 JP H0756345B2 JP 3177524 A JP3177524 A JP 3177524A JP 17752491 A JP17752491 A JP 17752491A JP H0756345 B2 JPH0756345 B2 JP H0756345B2
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JP
Japan
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sealing
spiral groove
contact
face seal
sealing surface
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芳一 木村
日出雄 壺井
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16JPISTONS; CYLINDERS; SEALINGS
    • F16J15/00Sealings
    • F16J15/16Sealings between relatively-moving surfaces
    • F16J15/34Sealings between relatively-moving surfaces with slip-ring pressed against a more or less radial face on one member
    • F16J15/3404Sealings between relatively-moving surfaces with slip-ring pressed against a more or less radial face on one member and characterised by parts or details relating to lubrication, cooling or venting of the seal
    • F16J15/3408Sealings between relatively-moving surfaces with slip-ring pressed against a more or less radial face on one member and characterised by parts or details relating to lubrication, cooling or venting of the seal at least one ring having an uneven slipping surface
    • F16J15/3412Sealings between relatively-moving surfaces with slip-ring pressed against a more or less radial face on one member and characterised by parts or details relating to lubrication, cooling or venting of the seal at least one ring having an uneven slipping surface with cavities

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は非接触端面シールに係
り、特に、回転軸とともに回転する回転環の密封面と、
該回転環に相対する固定環の密封面とから密封部を形成
する非接触端面シールに関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、非接触端面シールはハウジング
と回転軸間の空間をシールするために用いられており、
この非接触端面シールは、たとえば、高圧を発生するガ
スタービンやコンプレッサに組み込まれる。上記のタイ
プの非接触端面シールは特公平1−22509号(対応
する米国特許第4,212,475号)に開示されてい
る。特公平1−22509号では、図13乃至図15に
示されるように回転環側にスパイラル溝を形成したタイ
プのものが示されている。
【0003】図13乃至図15において、ケーシング9
の内部に収容された回転軸1には軸スリーブ2が設けら
れている。軸スリーブ2はキーを介して回転環3に接続
されている。そして、スプリングリテーナ6との間に介
在するバネ10によって、固定環4がシールリングリテ
ーナ5を介して回転環3に対して押しつけられている。
【0004】回転環3は図14及び図15で示されてお
り、符号33はシール流体をそのポンピング作用で巻き
込むスパイラル溝、符号34は巻き込まれたシール流体
に絞り作用を与えるダム領域を示している。
【0005】しかして、回転軸1が回転することによ
り、回転環3と固定環4とが相対運動する。これによ
り、回転環3に形成したスパイラル溝33(図15参
照)が高圧流体を巻き込んで、密封面に流体膜を形成す
る。このことにより密封面は非接触状態となるが、密封
面間のすきまは極力小さくなるようにして漏れを制限し
ている。
【0006】また、特公昭49−33614号(対応す
る米国特許第3,499,653号)に他のタイプの非接
触端面シールが開示されている。この非接触端面シール
は、図13乃至図15に示すものと同様に回転環と固定
環とを備え、又、これら両環の一方にスパイラル溝を備
えている。そして、一方の環にはシール流体が存在する
外側に向かって隙間の広がるテーパ面が形成されてい
る。
【0007】本非接触端面シールにおいては、流体がテ
ーパ面より両環の間に侵入すると、シール流体の作動圧
力によって密封面は非接触状態となる。シール流体が低
圧の場合には、シール流体の静圧効果だけでは非接触に
ならないが、スパイラル溝の動圧効果により、密封面が
非接触状態となる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】図13乃至図15に示
す特公平1−22509号(対応米国特許第4,212,
475号)の非接触端面シールでは、特に図14で明確
に示されている様に、スパイラル溝33を形成したスパ
イラル溝領域35とダム領域34とが同一平面となって
おり、その高さも同じであった。そのため始動時には、
スパイラル溝33の形成部分におけるリッジ部(溝でな
い部分であり、ダム領域34と同じ高さを持つ部分)
が、密封部(図13中の符号35で示す部分)におい
て、固定環4の端面と固体接触している。
【0009】しかし、この様に密封部において固体接触
をしていると、シール流体が密封部の接触面内に入り込
めなくなってしまう。そして、シール流体が高い圧力を
持っている状態で始動しようとすると、密封部に非常に
大きな押付力が発生して、始動抵抗が増大し、そのため
に、始動に必要な動力も非常に大きなものになるという
問題点があった。固定環側にスパイラル溝が形成されて
いるタイプの場合も同様である。
【0010】一方、特公昭49−33614号(対応米
国特許第3,499,653号)に記載の非接触端面シー
ルは、基本的に、流体の圧力によって、即ち、ある大き
さの流体の作動圧力によって密封面が非接触となる静圧
型すきまメカニカルシールであるため、始動時に始動抵
抗が問題になる恐れはない。しかしながら、流体の圧力
によって密封面が非接触となるため、機械の停止時に間
隙を有した密封面から流体が漏れるという問題点があっ
た。
【0011】本発明は上述した点に鑑みてなされたもの
で、その目的とする処は、機械の始動時に発生する始動
抵抗を減少せしめて始動に必要な動力を小さくすること
ができるとともに、機械の停止時においても高圧側から
低圧側への流体の漏れを最小限に抑えることができる非
接触端面シールを提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は回転軸とともに回転する回転環の端面の密
封面と、該回転環に相対する固定環の端面の密封面とか
ら密封部を形成し、前記回転環の静止時には前記両密封
面の少なくとも一部は接触しており、前記回転環の回転
により前記両密封面が非接触となる非接触端面シールに
おいて、前記一方の密封面に高圧流体側から低圧流体側
に向かうスパイラル溝を形成し、該スパイラル溝は両密
封面の相対的回転によりシール流体を低圧側へ巻き込む
方向に設けられており、前記密封面のいずれか一方は、
前記スパイラル溝を含む領域あるいはその一部の領域に
おいて、密封面の他の部分に比べて僅かに窪んでいるこ
とを特徴とするものである。
【0013】
【作用】上記したような構成を有する本発明によれば、
密封面のいずれか一方は、スパイラル溝を含む領域ある
いはその一部の領域において、密封面の他の部分よりも
低くしたことにより、特に始動時において密封面の一部
が接触している状態でシール流体が密封面内に充分に入
り込むようになっている。これにより始動時の抵抗が小
さくなり、始動に必要な動力も小さくて済むので、省エ
ネルギーの要請にも良く合致する。
【0014】ここで、スパイラル溝を含む領域あるいは
その一部の領域において、密封面が密封面の他の部分と
比較して窪んでいる寸法が大きすぎると、スパイラル溝
部のポンピング作用を減少することになり非接触機能に
支障を来す恐れがあるが、本発明ではその寸法が僅かで
ある様に構成されているため、スパイラル溝部のポンピ
ング作用に悪影響を及ぼす恐れは少ない。特に3μm以
下の寸法だけ窪んでいる様に構成すれば、加工時の表面
あらさ或いはうねりを考慮する点からも好適である。
【0015】一方、機械の停止時には、密封面相互が一
部の領域(ダム領域)にて接触しているため、この部分
にて流体をシールすることができ、高圧側から低圧側へ
の流体の漏れを最小限に抑えることができる。
【0016】
【実施例】以下、本発明に係る非接触端面シールの一実
施例を図1乃至図8を参照して説明する。
【0017】図1において、ケーシング9に収容された
回転軸1には軸スリーブ2が設けられている。そして軸
スリーブ2はキー20を介して回転環3に接続されてお
り、回転環3は固定環4と向かい合って且つ始動時は密
封面のダム領域32により面接触している。
【0018】ここで固定環4はシールリングリテーナ5
に接触しており、シールリングリテーナ5とケーシング
9に取り付けられたスプリングリテーナ6との間にはバ
ネ10が介在している。そして、バネ10及びシールリ
ングリテーナ5を介して、固定環4は回転環3に押しつ
けられている。なお、部材7,8は軸スリーブ2に固定
されている。
【0019】この実施例においても、図13の場合と同
様に、回転環3に高圧流体側から低圧流体側に向けてス
パイラル溝が形成されている。図2において符号31は
スパイラル溝、符号32はダム領域を示している。そし
て、スパイラル溝31が形成されている領域は符号38
で示されている。
【0020】図3は回転環3と固定環4を示す要部拡大
断面図であり、同図に示されるようにスパイラル溝31
を形成した部分38の表面(スパイラル溝31のリッジ
部)は、ダム領域32に比べてht だけ窪んでいる(低
い)。ここで、htは3μm以下となっている。
【0021】なお、図1で符号42,44,46,48
はシール部材を示している。このような構成により、高
圧側Hにある高い圧力を持つ流体は低圧側Lに極力漏出
しない様になっている。
【0022】次に、上述のように構成された本実施例の
非接触端面シールの作用を説明する。
【0023】回転軸1が回転することにより、回転環3
と固定環4とが相対運動する。これにより、回転環3に
形成したスパイラル溝31(図2参照)が高圧流体を巻
き込んで、密封面に流体膜を形成する。この流体膜によ
り密封面は非接触状態となり、図4に示されるように固
定環3と固定環4との間の密封面間にすきまhが形成さ
れる。即ち、ダム領域32は固定環4の対応する面50
に対して非接触状態となる。そして、密封面間のすきま
hは極力小さくなるようにして漏れを制限している。
【0024】ここで高圧側Hにあるシール流体の圧力を
2、低圧側Lの圧力をP1とし、始動時においては、密
封面の固体接触状態にある部分(ダム領域の面32,5
0の接触箇所)ではその周囲から流体が入り込まないも
のとし、スパイラル溝31の溝幅とリッジ幅が等しい
(リッジ部の面積がスパイラル溝31が形成されている
スパイラル溝領域38の1/2である)ものとする。図
13乃至図15の従来の構造(ht =0μm)における
密封面の固体接触部(図3中のダム領域の面32と面5
0との接触箇所)の負荷は次式の通りである。 F=π(rg 2−rb 2)P2+π(rb 2−r1 2)P1+Fsp ……(1) +π(r2 2−rg 2)P2/2 (Fspはスプリング10の反発力)
【0025】一方、本発明における構造にすると、密封
面の固体接触部(図1中の面32と面50との接触箇
所)の負荷は以下になる。 F=π(rg 2−rb 2)P2+π(rb 2−r1 2)P1+Fsp ……(2)
【0026】従って本発明の構造によれば、密封面の負
荷を π(r2 2−rg 2)P2/2 だけ低減することができ、その分だけ始動時のすべり抵
抗を緩和できる。
【0027】ここで、窪みht を大きくすることはスパ
イラル溝31のポンピング作用を減少することになり、
密封面を非接触状態に保つ機能に支障を来す恐れがあ
る。よって、窪みht は極力小さいことが望ましい。加
工時の表面あらさ或いはうねり、圧力及び熱による変形
などをも考慮すればht=3μm以下が好適である。
【0028】上述した本発明の非接触端面シールは始動
抵抗の低減を目的としてスパイラル溝領域38に窪みh
t を設けている。即ち対向的に半径方向に伸びた面にお
いてステップがあり、実際には二つの面から成る。一方
の窪みのある面、即ち、スパイラル溝領域38(高圧
側)にはスパイラル溝が設けられており、密封面の相対
的回転による溝のポンピング作用によって高圧側の密封
流体を低圧側に巻き込む。また、他方の窪みの無い平
面、即ち、ダム領域32は高圧側から低圧側への流れに
対する絞り抵抗作用を持ち、本来の密封作用を行う。言
い換えれば、端面にポンピング作用を行うスパイラル溝
領域38と密封作用を行うダム領域32が存在する。
【0029】上述したように本実施例の非接触端面シー
ルは始動抵抗の低減を目的としてスパイラル溝領域38
に窪みht を設けることを特徴としているが、そのため
に密封面に形成される流体膜の負荷能力及び剛性が変化
することも確かである。そのために溝深さ(h0)、バ
ランス比(BR=(r2 2−rb 2)/(r2 2−r1 2))、
ダム幅比(DW=(rg−r1)/(r2−r1))を適正
に選ぶことにより、密封面における軸方向振動、傾き振
動、変形などの諸外乱に対して、密封面の固体接触を生
ずることなく狭いすきまhを維持できるようにする必要
がある。
【0030】次に表1に示す形状、運転条件のシールに
ついて、諸特性を求める。 表1 シ -ル 面 シ-ル 面 ハ゛ランス スハ゜イラル 低圧側 高圧側 密封面の 回転 気体 内 径 外 径 直径 ク゛ル-フ゛角 圧力 圧力 流体温度 速度 種類 (2r1mm)(2r2mm) (2rbmm) (αdeg)(P1kgf/cm2)(P2kgf/cm2) (℃) N/min ──────────────────────────────────── 138 180 142.9 15 1 31 30 13000 空気 ────────────────────────────────────
【0031】ここで、スパイラルグルーブ角とは、スパ
イラル溝のある点の速度ベクトルの方向とスパイラル溝
のある点の接線方向との間の角度を云う。
【0032】まず、窪みhtを設けることによって、密
封面の負荷がどの程度減少するかを図5に示す。図5に
おいて、横軸がダム幅比(DW)、縦軸が窪みht を設
けた場合と設けない場合の負荷比(F1/F2)である。
即ち、窪みがある場合を計算式(2)で、無い場合を
(1)で求め、両者の比を表わしたものである。ダム幅
比が小さいほど負荷比が小さくなることが明らかで、密
封面における摩擦係数が同じであるとすれば窪みht
設けることにより始動抵抗が大きく低減できることにな
る。
【0033】また、バランス比を一定とし(BR=0.
897)、ダム幅比と溝深さを変えたときの密封面すき
ま(h)、漏れ量(Q)、固体接触の可能性が強くなる
ような状況の一例として取り上げたすきまh=1μmに
おける流体膜の剛性(dW/dh)を図6〜8に示す。
図中、溝深さh0を種々に変えて、窪みhtが存在する
(1μm)場合を実線で示し、窪みht が存在しない場
合を破線で示した。窪みを設けることにより膜剛性(d
w/dh)が、特に溝の浅い領域で大きく減少する(図
8)。一方、すきまhと漏れ量Qはダム幅比DWが0.
3付近の小さい領域では、窪みhtの影響は少なくな
る。
【0034】次に、図5乃至図8に示す結果から、本実
施例における非接触端面シールのスパイラル溝の溝深さ
0 、ダム幅比DW、バランス比BRの好ましい範囲を
説明する。
【0035】本発明の非接触端面シールにおいては、窪
みht を設けた結果、図5に示すように始動抵抗を大幅
に低下させることができた。しかしながら、これによっ
て図8に示すように膜剛性が低下してしまう。この膜剛
性の低下は密封面の固体接触を防止し、ガスシールを正
常に作動させるためには最もマイナス要因となるため、
膜剛性を高める必要がある。ところで、上記3つの因子
のうち膜剛性と最も関係がある因子は図8から溝深さh
0 とダム幅比DWであることがわかる。即ち、溝深さh
0 を小さくすれば、膜剛性を大きくすることができる。
ところが、図6から溝深さh0 を小さくすると、すまき
hが減少することがわかる。このすきまhが小さすぎる
と、密封面の固体接触を引き起こす可能性があることか
ら溝深さh0 は極端に小さい値を選定できない。また、
溝の加工上の誤差の問題を考慮すると、この面からも、
溝深さh0 は極端に小さい値を選定することはできな
い。そこで、本発明の非接触端面シールでは、表2に示
すように溝深さh0 は3μmを下限とすることが好まし
い。一方、溝深さh0 の上限はラフなシール効果でも良
い場合を考慮すると15μm程度まで広げてもさしつか
えない。
【0036】次に、ダム幅比と膜剛性の関係を検討する
と、図8に示すようにダム幅比が小さいほど、膜剛性が
上昇する。したがって、膜剛性に関する限りは、ダム幅
比を小さくすればよいが、ダム幅比を小さくすると、図
7に示すように漏れ量が増加していくことがわかる。ま
た、極端にダム幅比を小さくしすぎると、ダム領域32
にきず、欠け等の欠陥があると、そこから流体が漏れて
シールとして機能しない場合がある。そこで、本発明の
非接触端面シールでは、表2に示すようにダム幅比は
0.2を下限とすることが好ましい。一方、ダム幅比の
上限は図8に示す膜剛性の値が小さすぎないことを考慮
して、0.4程度が好ましい。
【0037】バランス比については、機械の停止時にダ
ム領域において密封面が固定接触していて、高圧側から
低圧側への流体の漏れを最小限に抑えることができるこ
とを考慮すると、0.8〜0.9の範囲が好ましい。
【0038】以上をまとめると本発明の非接触端面シー
ルの各数値範囲は表2のようになる。 表 2 ─────────────────────────────────── 項 目 範 囲 ─────────────────────────────────── 窪 み ht μm 3以下 ─────────────────────────────────── 溝深さ h0 μm 3〜15 ─────────────────────────────────── ダム幅比 (rg−r1)/(r2−r1) 0.20〜0.40 ─────────────────────────────────── バランス比 (r2 2−rb 2)/(r2 2−r1 2) 0.8〜0.9 ───────────────────────────────────
【0039】次に、図9乃至図12に本発明の非接触端
面シールの別実施例を示す。
【0040】図9は窪みhtを固定環4の端面に設けた
例であり、窪みhtの領域はスパイラル溝領域と同一で
ある。この場合にも図1乃至図4に示した実施例と同様
の作用効果が得られる。
【0041】図10は窪みht の領域がダム領域まで及
んでいる例を示し、図10(a)が回転環3の端面に窪
みを設けた例、図10(b)が固定環4の端面に窪みを
設けた例である。
【0042】ここで、窪みhtが形成された内端の直径
を2rtとすると、密封面の負荷は、 F=π(rt 2−rb 2)P2+π(rb 2−r1 2)P1+Fsp(rt>rb) ……(3) となり、図1乃至図4の実施例より小さくなる。
【0043】図11は窪みht の領域がスパイラル溝領
域の内側にある例を示し、図11(a)が回転環3の端
面に窪みを設けた例、図11(b)は固定環4の端面に
窪みを設けた例である。
【0044】この場合には、密封面の負荷は、 F=π(rg 2−rb 2)P2+π(rb 2−r1 2)P1+Fsp +π(rt 2−rg 2)P2/2 ……(4) となり、図1乃至図4の実施例の場合に比べ、より大き
くなる。
【0045】以上より、前述したようにスパイラル溝領
域に窪みを設けることはスパイラル溝のポンピング作用
を弱めることにもなるので、ポンピング作用と始動抵抗
を考慮して窪み内端の直径2rtを定めればよい。
【0046】図1乃至図11に示す実施例では、スパイ
ラル溝の外側が高圧で内側が低圧であり、密封面ではシ
ール流体が内向き流れを形成するが、図12に示す実施
例では、スパイラル溝の外側が低圧で内側が高圧であ
り、密封面でシール流体が外向きに流れる場合を示し、
本実施例でも図1乃至図11に示した実施例と同様の作
用効果が得られる。
【0047】
【発明の効果】本発明の効果を以下に列挙する。
【0048】(1)シール流体が密封面内に充分に入り
込むようになっているので、始動時のすべり抵抗が極力
小さくなり、特に高圧条件での始動に必要な動力も小さ
くて済む。そのため、始動時における起動不能を回避
し、密封面の損傷を軽減できる。
【0049】(2)回転環又は固定環のいずれか一方に
窪みを設けたことにより、スパイラル溝部におけるポン
ピング作用が影響を受けるが、スパイラル溝の溝深さ
(h0)、ダム幅比(DW)及びバランス比(BR)を
適宜選択することにより所定の性能を十分に確保するこ
とができ、非接触機能に支障を来す恐れがない。
【0050】(3)機械の停止時に、固定環と回転環と
がダム領域にて密接しているため、停止時における高圧
流体の漏れを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る非接触端面シールの一実施例を示
す縦断面図。
【図2】本発明に係る非接触端面シールにおける回転環
の端面に形成されたスパイラル溝の詳細を示す端面図。
【図3】本発明に係る非接触端面シールにおける回転環
と固定環の要部拡大断面図。
【図4】本発明に係る非接触端面シールにおける動作説
明図。
【図5】窪みを設けた場合と設けない場合におけるダム
幅比(DW)と負荷比(F1 /F2)との関係を示す
図。
【図6】窪みを設けた場合と設けない場合におけるダム
幅比(DW)と密封面すきま(h)との関係を示す図。
【図7】窪みを設けた場合と設けない場合におけるダム
幅比(DW)と漏れ量(Q)との関係を示す図。
【図8】窪みを設けた場合と設けない場合におけるダム
幅比(DW)と流体膜の剛性(dW/dh)との関係を
示す図。
【図9】本発明に係る非接触端面シールにおける他の実
施例を示す断面図。
【図10】本発明に係る非接触端面シールにおける更に
他の実施例を示す断面図。
【図11】本発明に係る非接触端面シールにおける更に
他の実施例を示す断面図。
【図12】本発明に係る非接触端面シールにおける更に
他の実施例を示す断面図。
【図13】従来の非接触端面シールにおける縦断面図。
【図14】従来の非接触端面シールにおける回転環の断
面図。
【図15】従来の非接触端面シールにおける回転環の端
面に形成されたスパイラル溝の詳細を示す端面図。
【符号の説明】 1 回転軸 3 回転環 4 固定環 31 スパイラル溝 32 ダム領域 38 スパイラル溝領域 50 密封面 h0 溝深さ ht 窪み h 密封面すきま

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回転軸とともに回転する回転環の端面の
    密封面と、該回転環に相対する固定環の端面の密封面と
    から密封部を形成し、前記回転環の静止時には前記両密
    封面の少なくとも一部は互いに接触しており、前記回転
    環の回転により前記両密封面が非接触となる非接触端面
    シールにおいて、前記一方の密封面に高圧流体側から低
    圧流体側に向かうスパイラル溝を形成し、該スパイラル
    溝は両密封面の相対的回転によりシール流体を低圧側へ
    巻き込む方向に設けられており、前記密封面のいずれか
    一方は、前記スパイラル溝を含む領域あるいはその一部
    の領域において、密封面の他の部分に比べて僅かに窪ん
    でいることを特徴とする非接触端面シール。
  2. 【請求項2】 前記密封面に形成された窪みは、前記ス
    パイラル溝を越えて溝のない平坦な領域まで伸びている
    ことを特徴とする請求項1記載の非接触端面シール。
JP3177524A 1990-07-09 1991-06-21 非接触端面シール Expired - Lifetime JPH0756345B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3177524A JPH0756345B2 (ja) 1990-07-09 1991-06-21 非接触端面シール
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