JPH0756039B2 - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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- JPH0756039B2 JPH0756039B2 JP3190926A JP19092691A JPH0756039B2 JP H0756039 B2 JPH0756039 B2 JP H0756039B2 JP 3190926 A JP3190926 A JP 3190926A JP 19092691 A JP19092691 A JP 19092691A JP H0756039 B2 JPH0756039 B2 JP H0756039B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子部品用洗浄剤組成
物であり、主にプリント基板よりハンダフラックスの除
去に用いる洗浄剤組成物に関するものである。
物であり、主にプリント基板よりハンダフラックスの除
去に用いる洗浄剤組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のプリント基板付着ハンダフラック
ス洗浄用洗浄剤としては、例えばＣＦＣ−１１３に代表
される通称フロン溶剤又は１，１，１−トリクロロエタ
ンに代表される塩素系溶剤が主として用いられていた。
ス洗浄用洗浄剤としては、例えばＣＦＣ−１１３に代表
される通称フロン溶剤又は１，１，１−トリクロロエタ
ンに代表される塩素系溶剤が主として用いられていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のＣＦＣ−１１３或いは１，１，１−トリクロ
ロエタンにあっては、オゾン層を破壊する原因物質とし
て厳しい使用削減を計らねばならず、当該洗浄に用いる
事が不可能となってきたため、代替洗浄剤が広く要望さ
れてきている。代替洗浄には、オゾン破壊係数の少ない
或いは無い代替フロンや、アルコール或いは炭化水素油
を主成分とする水系洗浄剤又はアルカリを主成分とする
水系洗浄剤が広く提案されている。しかしながらこれら
代替フロン洗浄は、安全性・洗浄性・経済性の点におい
て充分に満足するレベルには到っておらず、アルコール
（系）洗浄は引火点の低い事より操業安全性に懸念が残
り、炭化水素油を主体とする水系洗浄又はアルカリを主
体とする水系洗浄剤は被洗浄素材選択性すなわち被洗浄
素材への影響場合により洗浄剤自身の残存等が懸念され
るという問題点があった。又特開平３−６２８９５号公
報に開示されているような炭素数６〜２２のアルコール
に炭素数２〜４のアルキレンオキシドを付加したものが
提案されているが、これらは洗浄性に劣り、目的とする
十分な洗浄効果が得られない。
うな従来のＣＦＣ−１１３或いは１，１，１−トリクロ
ロエタンにあっては、オゾン層を破壊する原因物質とし
て厳しい使用削減を計らねばならず、当該洗浄に用いる
事が不可能となってきたため、代替洗浄剤が広く要望さ
れてきている。代替洗浄には、オゾン破壊係数の少ない
或いは無い代替フロンや、アルコール或いは炭化水素油
を主成分とする水系洗浄剤又はアルカリを主成分とする
水系洗浄剤が広く提案されている。しかしながらこれら
代替フロン洗浄は、安全性・洗浄性・経済性の点におい
て充分に満足するレベルには到っておらず、アルコール
（系）洗浄は引火点の低い事より操業安全性に懸念が残
り、炭化水素油を主体とする水系洗浄又はアルカリを主
体とする水系洗浄剤は被洗浄素材選択性すなわち被洗浄
素材への影響場合により洗浄剤自身の残存等が懸念され
るという問題点があった。又特開平３−６２８９５号公
報に開示されているような炭素数６〜２２のアルコール
に炭素数２〜４のアルキレンオキシドを付加したものが
提案されているが、これらは洗浄性に劣り、目的とする
十分な洗浄効果が得られない。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明は、このような
従来の問題点に着目してなされたものである。すなわ
ち、炭素数２〜４の脂肪族飽和アルコールのエチレンオ
キシド２〜４モル付加物及び炭素数６〜８の脂肪族飽和
アルコールのエチレンオキシド１〜３モル付加物から成
る電子部品用洗浄剤組成物である。
従来の問題点に着目してなされたものである。すなわ
ち、炭素数２〜４の脂肪族飽和アルコールのエチレンオ
キシド２〜４モル付加物及び炭素数６〜８の脂肪族飽和
アルコールのエチレンオキシド１〜３モル付加物から成
る電子部品用洗浄剤組成物である。
【０００５】本発明の炭素数２〜４の脂肪族飽和アルコ
ールエチレンオキシド２〜４モル付加物に使用するアル
コールはエチルアルコール、プロピルアルコール、ブチ
ルアルコールが挙げられる。炭素数６〜８の脂肪族飽和
アルコールエチレンオキシド１〜３モル付加物に使用す
るアルコールはヘキシルアルコール、ヘプチルアルコー
ル、２エチルヘキシルアルコールが挙げられる。又、Ｈ
ＬＢ８〜１２の非イオン界面活性剤は、炭素数２〜４の
オキシアルキレン鎖を有するアルキルフェニルエーテ
ル、アルキルエーテルやポリオキシエチレンポリオキシ
プロピレンブロックポリマー、ソルビタン脂肪酸エステ
ル、又はショ糖脂肪酸エステル等が挙げられる。
ールエチレンオキシド２〜４モル付加物に使用するアル
コールはエチルアルコール、プロピルアルコール、ブチ
ルアルコールが挙げられる。炭素数６〜８の脂肪族飽和
アルコールエチレンオキシド１〜３モル付加物に使用す
るアルコールはヘキシルアルコール、ヘプチルアルコー
ル、２エチルヘキシルアルコールが挙げられる。又、Ｈ
ＬＢ８〜１２の非イオン界面活性剤は、炭素数２〜４の
オキシアルキレン鎖を有するアルキルフェニルエーテ
ル、アルキルエーテルやポリオキシエチレンポリオキシ
プロピレンブロックポリマー、ソルビタン脂肪酸エステ
ル、又はショ糖脂肪酸エステル等が挙げられる。
【０００６】上記成分以外に、任意的補助成分として、
アルカノールアミン、シクロヘキシルアミン等のアミン
類や、脂肪酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ジア
ルキルスルホコハク酸エステル塩等のアニオン界面活性
剤やアルキルカルボキシベタイン、アルキルアミノカル
ボン酸、アルキルイミダゾリン等の両性界面活性剤或
は、アルキルピコリニウムクロライド、アルキルトリメ
チルアンモニウムクロライド等のカチオン界面活性剤が
添加される。
アルカノールアミン、シクロヘキシルアミン等のアミン
類や、脂肪酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ジア
ルキルスルホコハク酸エステル塩等のアニオン界面活性
剤やアルキルカルボキシベタイン、アルキルアミノカル
ボン酸、アルキルイミダゾリン等の両性界面活性剤或
は、アルキルピコリニウムクロライド、アルキルトリメ
チルアンモニウムクロライド等のカチオン界面活性剤が
添加される。
【０００７】炭素数２〜４の脂肪族飽和アルコールのエ
チレンオキシド付加物並びに炭素数６〜８の脂肪族飽和
アルコールのエチレンオキシド付加物は、その２群を組
み合わせる事でその優れた洗浄効果が発揮され且つ、前
者は、エチレンオキシド付加モル数２〜４以外、後者は
１〜３モル付加以外では、良好なる効果が発現しない。
又、この２群の配合量として、全脂肪族飽和アルコール
中、炭素数２〜４の脂肪族飽和アルコールのエチレンオ
キシド２〜４モル付加物が７０〜９５重量％で、炭素数
６〜８の脂肪族飽和アルコールのエチレンオキシド１〜
３モル付加物が５〜３０重量％の時、又は前者が５〜３
０重量％で後者が７０〜９５重量％の時に特に優れた洗
浄性が発現できる。
チレンオキシド付加物並びに炭素数６〜８の脂肪族飽和
アルコールのエチレンオキシド付加物は、その２群を組
み合わせる事でその優れた洗浄効果が発揮され且つ、前
者は、エチレンオキシド付加モル数２〜４以外、後者は
１〜３モル付加以外では、良好なる効果が発現しない。
又、この２群の配合量として、全脂肪族飽和アルコール
中、炭素数２〜４の脂肪族飽和アルコールのエチレンオ
キシド２〜４モル付加物が７０〜９５重量％で、炭素数
６〜８の脂肪族飽和アルコールのエチレンオキシド１〜
３モル付加物が５〜３０重量％の時、又は前者が５〜３
０重量％で後者が７０〜９５重量％の時に特に優れた洗
浄性が発現できる。
【０００８】更に前記２者の洗浄剤組成物８０〜９５重
量部、ＨＬＢ８〜１２の非イオン界面活性剤０．１〜５
重量部及び水５〜１５重量部という構成をとる時にも更
に優れた洗浄性が発現できる。非イオン界面活性剤はＨ
ＬＢ８〜１２の時、洗浄効果が優れ、ＨＬＢが８未満で
は洗浄性あるいは洗浄剤自身の残存が問題となる場合が
あり、ＨＬＢが１２をこえると洗浄操作上発泡に問題が
生じる。又、水の存在は、１５部をこえると洗浄性が劣
り、５部未満の場合洗浄組成物に引火性が発現しその取
り扱いが難しくなる。
量部、ＨＬＢ８〜１２の非イオン界面活性剤０．１〜５
重量部及び水５〜１５重量部という構成をとる時にも更
に優れた洗浄性が発現できる。非イオン界面活性剤はＨ
ＬＢ８〜１２の時、洗浄効果が優れ、ＨＬＢが８未満で
は洗浄性あるいは洗浄剤自身の残存が問題となる場合が
あり、ＨＬＢが１２をこえると洗浄操作上発泡に問題が
生じる。又、水の存在は、１５部をこえると洗浄性が劣
り、５部未満の場合洗浄組成物に引火性が発現しその取
り扱いが難しくなる。
【０００９】本発明の対象とする電子部品とは、プリン
ト基板のほかに電算機及びその周辺機器、家電機器、通
信機器、ＯＡ機器、時計、玩具、液晶表示器、映像・音
声記録／再生部品、磁気記録部品、水晶震動子等の電極
部品、光電変換部品などである。
ト基板のほかに電算機及びその周辺機器、家電機器、通
信機器、ＯＡ機器、時計、玩具、液晶表示器、映像・音
声記録／再生部品、磁気記録部品、水晶震動子等の電極
部品、光電変換部品などである。
【００１０】本願発明洗浄剤はそのまま、或は、水で希
釈して浸漬（揺動）・超音波又は噴霧等の洗浄方式に基
づき、プリント基板等に付着、或は残存するハンダフラ
ックスの洗浄処理を行う事が出来る。
釈して浸漬（揺動）・超音波又は噴霧等の洗浄方式に基
づき、プリント基板等に付着、或は残存するハンダフラ
ックスの洗浄処理を行う事が出来る。
【００１１】
【作用】本発明の電子部品用洗浄剤組成物は炭素数２〜
４の脂肪族飽和アルコールのエチレンオキシド付加物と
炭素数６〜８の脂肪族飽和アルコールのエチレンオキシ
ド付加物の両者を併用することによって、そのメカニズ
ムは定かではないが優れた洗浄効果を発現する。これら
の内どちらかが欠けても目的とする洗浄効果は得られな
い。
４の脂肪族飽和アルコールのエチレンオキシド付加物と
炭素数６〜８の脂肪族飽和アルコールのエチレンオキシ
ド付加物の両者を併用することによって、そのメカニズ
ムは定かではないが優れた洗浄効果を発現する。これら
の内どちらかが欠けても目的とする洗浄効果は得られな
い。
【００１２】
【実施例】次に実施例により本発明を具体的に説明す
る。 効果例−１ ＩＣチップ装着、油性フラックス付着モデル基板を表
１，表２の各々の洗浄剤で５０℃、２０秒間浸漬処理の
後、５０℃、４０秒間で１ｋｇ／ｃｍ2 圧のスプレー洗
浄を行う。次に後リンス処理を実施し乾燥後、残存フラ
ックスを紫外分光光度法にて測定し、次式により洗浄性
（％）を求める。結果を表３に示す。洗浄性（％）＝
（付着油性フラックス(mg)−残存油性フラックス(mg)）
÷付着油性フラックス(mg)×１００
る。 効果例−１ ＩＣチップ装着、油性フラックス付着モデル基板を表
１，表２の各々の洗浄剤で５０℃、２０秒間浸漬処理の
後、５０℃、４０秒間で１ｋｇ／ｃｍ2 圧のスプレー洗
浄を行う。次に後リンス処理を実施し乾燥後、残存フラ
ックスを紫外分光光度法にて測定し、次式により洗浄性
（％）を求める。結果を表３に示す。洗浄性（％）＝
（付着油性フラックス(mg)−残存油性フラックス(mg)）
÷付着油性フラックス(mg)×１００
【００１３】効果例−２ 銅板上に所定量のクリームハンダ材を塗布し、熱処理を
行いモデル汚染板を作成する。表１，表２の各々の洗浄
剤で５５℃、４０秒間超音波洗浄を行い、次に後リンス
処理を行い乾燥後、残存フラックス紫外分光光度法にて
効果例−１と同様に評価する。結果を表３に示す。
行いモデル汚染板を作成する。表１，表２の各々の洗浄
剤で５５℃、４０秒間超音波洗浄を行い、次に後リンス
処理を行い乾燥後、残存フラックス紫外分光光度法にて
効果例−１と同様に評価する。結果を表３に示す。
【００１４】効果例−３ 効果例−２と同様に洗浄処理を行い、４０℃流水中での
リンス挙動を以下の基準にて目視評価する。結果を表３
に示す。 ◎ 優れたリンス性を呈す。 ○ 良好なリンス性を呈す。 △ ややリンス性が劣る。 × 全んどリンス性を呈さない。
リンス挙動を以下の基準にて目視評価する。結果を表３
に示す。 ◎ 優れたリンス性を呈す。 ○ 良好なリンス性を呈す。 △ ややリンス性が劣る。 × 全んどリンス性を呈さない。
【００１５】
【表１】
【００１６】
【表２】
【００１７】
【表３】
【００１８】本発明洗浄剤組成物１〜３はいずれも優れ
た洗浄性と洗浄剤残存にともなう、優れたリンス挙動が
発現される。一方、比較洗浄剤組成物は、 Ａ）は炭素数２〜４の脂肪族飽和アルコールが炭素数１
となる為、洗浄力に劣る。 Ｂ）は炭素数２〜４の脂肪族飽和アルコールのプロピレ
ンオキシドとなる為、洗浄力、リンス挙動に劣る。 Ｃ）は炭素数２〜４の脂肪族飽和アルコールのエチレン
オキシド付加モル数が低く洗浄力に劣る。 Ｄ）は炭素数６〜８の脂肪族飽和アルコールのエチレン
オキシド付加モル数が高く、洗浄力に劣る。 Ｅ）は脂肪族飽和アルコールのエチレンオキシドが炭素
数２〜４タイプしか含有せず且つ界面活性剤のＨＬＢが
低く、洗浄力、リンス挙動に劣る。 Ｆ）は脂肪族飽和アルコールのエチレンオキシドが炭素
数６〜８タイプしか含有せず且つ界面活性剤のＨＬＢが
高く、特に洗浄力に劣る。 Ｇ）は比較的高い洗浄力を示すもののオゾン層破壊原因
物質であり、 Ｈ）は比較的高い洗浄力を示すものの、引火点が低くそ
の取り扱いに問題を有する。 Ｉ）は脂肪族飽和アルコールの炭素数が６〜８のエチレ
ンオキシド付加物単独であり、洗浄力、リンス性に劣
る。 本発明洗浄剤組成物はオゾン層破壊する原因物質に該当
せず、かつＣＦＣ−１１３と同様な洗浄効果を示し、取
り扱い上安全で優れた洗浄力を発揮するものである。
た洗浄性と洗浄剤残存にともなう、優れたリンス挙動が
発現される。一方、比較洗浄剤組成物は、 Ａ）は炭素数２〜４の脂肪族飽和アルコールが炭素数１
となる為、洗浄力に劣る。 Ｂ）は炭素数２〜４の脂肪族飽和アルコールのプロピレ
ンオキシドとなる為、洗浄力、リンス挙動に劣る。 Ｃ）は炭素数２〜４の脂肪族飽和アルコールのエチレン
オキシド付加モル数が低く洗浄力に劣る。 Ｄ）は炭素数６〜８の脂肪族飽和アルコールのエチレン
オキシド付加モル数が高く、洗浄力に劣る。 Ｅ）は脂肪族飽和アルコールのエチレンオキシドが炭素
数２〜４タイプしか含有せず且つ界面活性剤のＨＬＢが
低く、洗浄力、リンス挙動に劣る。 Ｆ）は脂肪族飽和アルコールのエチレンオキシドが炭素
数６〜８タイプしか含有せず且つ界面活性剤のＨＬＢが
高く、特に洗浄力に劣る。 Ｇ）は比較的高い洗浄力を示すもののオゾン層破壊原因
物質であり、 Ｈ）は比較的高い洗浄力を示すものの、引火点が低くそ
の取り扱いに問題を有する。 Ｉ）は脂肪族飽和アルコールの炭素数が６〜８のエチレ
ンオキシド付加物単独であり、洗浄力、リンス性に劣
る。 本発明洗浄剤組成物はオゾン層破壊する原因物質に該当
せず、かつＣＦＣ−１１３と同様な洗浄効果を示し、取
り扱い上安全で優れた洗浄力を発揮するものである。
【００１９】
【発明の効果】本発明洗浄剤組成物は、ＣＦＣ−１１３
或いは１，１，１−トリクロロエタン等ロジン系フラッ
クス洗浄用に用いられる水溶性洗浄剤組成物でオゾン層
破壊に原因する物質を全く含有せず、アルコール系洗浄
剤に比較し、引火点を持たず取り扱いが容易であり且つ
優れた洗浄効果を有し、炭化水素油を主体とする水系洗
浄剤やアルカリ水系洗浄剤等に比べ被洗浄素材への影響
が少なく、除去性すなわち洗浄剤自身の残存も著しく低
く、且つ優れた洗浄効果を発揮するものである。
或いは１，１，１−トリクロロエタン等ロジン系フラッ
クス洗浄用に用いられる水溶性洗浄剤組成物でオゾン層
破壊に原因する物質を全く含有せず、アルコール系洗浄
剤に比較し、引火点を持たず取り扱いが容易であり且つ
優れた洗浄効果を有し、炭化水素油を主体とする水系洗
浄剤やアルカリ水系洗浄剤等に比べ被洗浄素材への影響
が少なく、除去性すなわち洗浄剤自身の残存も著しく低
く、且つ優れた洗浄効果を発揮するものである。
Claims (3)
- 【請求項１】 炭素数２〜４の脂肪族飽和アルコールの
エチレンオキシド２〜４モル付加物及び炭素数６〜８の
脂肪族飽和アルコールのエチレンオキシド１〜３モル付
加物からなる電子部品用洗浄剤組成物。 - 【請求項２】 前記全脂肪族飽和アルコールのエチレン
オキシド付加物中、（ａ）炭素数２〜４の脂肪族飽和ア
ルコールのエチレンオキシド２〜４モル付加物が７０〜
９５重量％及び炭素数６〜８の脂肪族飽和アルコールの
エチレンオキシド１〜３モル付加物が５〜３０重量％、
又は、（ｂ）炭素数２〜４の脂肪族飽和アルコールのエ
チレンオキシド２〜４モル付加物が５〜３０重量％及び
炭素数６〜８の脂肪族飽和アルコールのエチレンオキシ
ド１〜３モル付加物が７０〜９５重量％からなる請求項
１記載の電子部品用洗浄剤組成物。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載の洗浄剤組成物８０
〜９５重量部、ＨＬＢ８〜１２の非イオン界面活性剤
０．１〜５重量部及び水５〜１５重量部からなる電子部
品用洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3190926A JPH0756039B2 (ja) | 1991-07-04 | 1991-07-04 | 洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3190926A JPH0756039B2 (ja) | 1991-07-04 | 1991-07-04 | 洗浄剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH059499A JPH059499A (ja) | 1993-01-19 |
| JPH0756039B2 true JPH0756039B2 (ja) | 1995-06-14 |
Family
ID=16265989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3190926A Expired - Fee Related JPH0756039B2 (ja) | 1991-07-04 | 1991-07-04 | 洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0756039B2 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6369897A (ja) * | 1986-09-11 | 1988-03-29 | 第一工業製薬株式会社 | プリント基板洗浄用洗浄剤組成物 |
| JPH0362895A (ja) * | 1989-07-31 | 1991-03-18 | Kao Corp | 洗浄剤組成物 |
| EP0426943A2 (en) * | 1989-11-08 | 1991-05-15 | Arakawa Chemical Industries, Ltd. | Agent and method for removing rosinbase solder flux |
| JPH03162496A (ja) * | 1989-11-21 | 1991-07-12 | Kao Corp | 洗浄剤組成物 |
-
1991
- 1991-07-04 JP JP3190926A patent/JPH0756039B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6369897A (ja) * | 1986-09-11 | 1988-03-29 | 第一工業製薬株式会社 | プリント基板洗浄用洗浄剤組成物 |
| JPH0362895A (ja) * | 1989-07-31 | 1991-03-18 | Kao Corp | 洗浄剤組成物 |
| EP0426943A2 (en) * | 1989-11-08 | 1991-05-15 | Arakawa Chemical Industries, Ltd. | Agent and method for removing rosinbase solder flux |
| JPH03227400A (ja) * | 1989-11-08 | 1991-10-08 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤及び洗浄方法 |
| JPH03162496A (ja) * | 1989-11-21 | 1991-07-12 | Kao Corp | 洗浄剤組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH059499A (ja) | 1993-01-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100614 Year of fee payment: 15 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110614 Year of fee payment: 16 |
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