JPH0754154A - 均質なフォルステライト被膜を有する方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents
均質なフォルステライト被膜を有する方向性珪素鋼板の製造方法Info
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- JPH0754154A JPH0754154A JP20170793A JP20170793A JPH0754154A JP H0754154 A JPH0754154 A JP H0754154A JP 20170793 A JP20170793 A JP 20170793A JP 20170793 A JP20170793 A JP 20170793A JP H0754154 A JPH0754154 A JP H0754154A
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- silicon steel
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 密着性に優れ、均質なフォルステライト被膜
を有する方向性珪素鋼板の安定した製造方法の提案。 【構成】 中間焼鈍後から脱炭焼鈍前に下式で示される
重量の表面層を除去する。 Ａ≧（0.65×Ｂ−543 ）×Ｃ 但し、Ａ：除去すべき表面層（ｇ／ｍ2 ）、 Ｂ：中間焼鈍温度（℃）、 Ｃ：表面除去前の板厚（mm）である。
を有する方向性珪素鋼板の安定した製造方法の提案。 【構成】 中間焼鈍後から脱炭焼鈍前に下式で示される
重量の表面層を除去する。 Ａ≧（0.65×Ｂ−543 ）×Ｃ 但し、Ａ：除去すべき表面層（ｇ／ｍ2 ）、 Ｂ：中間焼鈍温度（℃）、 Ｃ：表面除去前の板厚（mm）である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は方向性珪素鋼板、特に
均質で密着性の優れたフォルステライト絶縁被膜を有す
る方向性珪素鋼板の製造方法に関するものである。
均質で密着性の優れたフォルステライト絶縁被膜を有す
る方向性珪素鋼板の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】方向性珪素鋼板は、変圧器の積層鉄心、
又は巻鉄心として使用され、その層間の絶縁性を保持す
るために、鋼板表面に絶縁被膜をそなえる。この被膜
は、絶縁性に加え、地鉄との密着性、外観の均質性、高
占積率性等、多くの特性を満足するものでなければなら
ない。このような被膜を形成するには、一般に次のよう
な方法がとられている。
又は巻鉄心として使用され、その層間の絶縁性を保持す
るために、鋼板表面に絶縁被膜をそなえる。この被膜
は、絶縁性に加え、地鉄との密着性、外観の均質性、高
占積率性等、多くの特性を満足するものでなければなら
ない。このような被膜を形成するには、一般に次のよう
な方法がとられている。
【０００３】まず、所定の最終厚みまで冷間圧延した珪
素鋼帯を、 700〜900 ℃の温度範囲の湿水素中で脱炭焼
鈍し、鋼板表面に主としてSiO2からなるサブスケールを
形成させる。さらに、この酸化膜上に MgOを主体とする
焼鈍分離剤を塗布して乾燥後、ストリップをコイル状に
巻き取り、水素中で再び1100〜1200℃の温度範囲の高温
度で仕上げ焼鈍を行う。このとき、 MgOとSiO2とを反応
させてフォルステライト被膜を鋼板表面に生成させる。
素鋼帯を、 700〜900 ℃の温度範囲の湿水素中で脱炭焼
鈍し、鋼板表面に主としてSiO2からなるサブスケールを
形成させる。さらに、この酸化膜上に MgOを主体とする
焼鈍分離剤を塗布して乾燥後、ストリップをコイル状に
巻き取り、水素中で再び1100〜1200℃の温度範囲の高温
度で仕上げ焼鈍を行う。このとき、 MgOとSiO2とを反応
させてフォルステライト被膜を鋼板表面に生成させる。
【０００４】したがって、フォルステライト被膜の品質
は脱炭焼鈍後に形成されるサブスケールに強く影響され
る。このため、サブスケールの品質を改善する目的で、
これまでにもいくつかの方法が提案されている。たとえ
ば特開昭50−71526 号公報で、脱炭焼鈍前の最終冷延板
の表面層を３ｇ／ｍ2 以上酸洗除去し、表面付着物を除
くことにより、均一な皮膜が形成され密着性が向上する
ことが記載されている。
は脱炭焼鈍後に形成されるサブスケールに強く影響され
る。このため、サブスケールの品質を改善する目的で、
これまでにもいくつかの方法が提案されている。たとえ
ば特開昭50−71526 号公報で、脱炭焼鈍前の最終冷延板
の表面層を３ｇ／ｍ2 以上酸洗除去し、表面付着物を除
くことにより、均一な皮膜が形成され密着性が向上する
ことが記載されている。
【０００５】更に、特開昭57−101673号公報では脱炭焼
鈍前の最終冷延板の表面を片面0.025 〜 0.5ｇ／ｍ2 研
削あるいは酸洗にて除去することにより、均一な皮膜が
形成され密着性が向上することが記載されている。しか
しながら、これらの方法をもってしても、脱炭焼鈍後に
形成されるサブスケールの品質のばらつきが大きく、結
果としてフォルステライト被膜の品質が安定しないこと
が多かったのである。
鈍前の最終冷延板の表面を片面0.025 〜 0.5ｇ／ｍ2 研
削あるいは酸洗にて除去することにより、均一な皮膜が
形成され密着性が向上することが記載されている。しか
しながら、これらの方法をもってしても、脱炭焼鈍後に
形成されるサブスケールの品質のばらつきが大きく、結
果としてフォルステライト被膜の品質が安定しないこと
が多かったのである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、密着
性に優れ、かつ欠陥の少ない、均質なフォルステライト
被膜を有する方向性珪素鋼板を、安定して製造する方法
について提案することである。
性に優れ、かつ欠陥の少ない、均質なフォルステライト
被膜を有する方向性珪素鋼板を、安定して製造する方法
について提案することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、脱炭焼鈍
後に形成されるサブスケール品質、および仕上げ焼鈍後
に形成されるフォルステライト被膜の品質と、脱炭焼鈍
前の各工程での鋼板表面状態を詳細に検討した。その結
果、中間焼鈍後、地鉄表面層でSi濃度が低下しているこ
とを見出し、このSi濃度低下がサブスケールの品質のば
らつきの主原因となっていることをつきとめた。さら
に、このSi濃度低下層は中間焼鈍の温度が高くなるに伴
い、その厚みが厚くなることをも発見した。したがっ
て、本発明者らは、中間焼鈍温度に応じてSi濃度低下層
に相当する厚みの表面層を除去することにより、サブス
ケール品質のばらつきを無くすことが可能と考え、本発
明を完成するに至った。
後に形成されるサブスケール品質、および仕上げ焼鈍後
に形成されるフォルステライト被膜の品質と、脱炭焼鈍
前の各工程での鋼板表面状態を詳細に検討した。その結
果、中間焼鈍後、地鉄表面層でSi濃度が低下しているこ
とを見出し、このSi濃度低下がサブスケールの品質のば
らつきの主原因となっていることをつきとめた。さら
に、このSi濃度低下層は中間焼鈍の温度が高くなるに伴
い、その厚みが厚くなることをも発見した。したがっ
て、本発明者らは、中間焼鈍温度に応じてSi濃度低下層
に相当する厚みの表面層を除去することにより、サブス
ケール品質のばらつきを無くすことが可能と考え、本発
明を完成するに至った。
【０００８】すなわち、本発明は、珪素鋼スラブを熱間
圧延し、中間焼鈍をはさむ２回以上の冷間圧延を施して
最終冷延板厚とした後、脱炭焼鈍を施して鋼板表面にSi
O2を主体とするサブスケールを形成し、さらに MgOを主
体とする焼鈍分離剤を塗布し、次いで仕上げ焼鈍するこ
とにより、該鋼板表面にフォルステライトからなる絶縁
被膜を形成するに当たり、中間焼鈍後から脱炭焼鈍前に
下式で示される重量の表面層を除去することを特徴とす
る均質なフォルステライト被膜を有する方向性珪素鋼板
の製造方法である。
圧延し、中間焼鈍をはさむ２回以上の冷間圧延を施して
最終冷延板厚とした後、脱炭焼鈍を施して鋼板表面にSi
O2を主体とするサブスケールを形成し、さらに MgOを主
体とする焼鈍分離剤を塗布し、次いで仕上げ焼鈍するこ
とにより、該鋼板表面にフォルステライトからなる絶縁
被膜を形成するに当たり、中間焼鈍後から脱炭焼鈍前に
下式で示される重量の表面層を除去することを特徴とす
る均質なフォルステライト被膜を有する方向性珪素鋼板
の製造方法である。
【０００９】Ａ≧（0.65×Ｂ−543 ）×Ｃ 但し、Ａ：除去すべき表面層（ｇ／ｍ2 ）、 Ｂ：中間焼鈍温度（℃）、 Ｃ：表面層除去前の板厚（mm）である。
【００１０】
【作用】図１は、 900℃、1000℃および1100℃でそれぞ
れ板厚0.23mmに冷間圧延された方向性珪素鋼板の深さ方
向におけるSi濃度分布を示す。深さ方向研磨は＃180 の
エメリー紙によって行い、Si濃度は蛍光Ｘ線分析によっ
て得られるSiカウントから求めた。
れ板厚0.23mmに冷間圧延された方向性珪素鋼板の深さ方
向におけるSi濃度分布を示す。深さ方向研磨は＃180 の
エメリー紙によって行い、Si濃度は蛍光Ｘ線分析によっ
て得られるSiカウントから求めた。
【００１１】同図によれば、表層においてSi濃度が極端
に減少していることが明らかである。また、そのSi濃度
の減少の程度は中間焼鈍温度が高いときに著しくなって
いる。このようにSi濃度が減少すれば、サブスケールの
主成分であるSiO2の生成量も少なくなることが考えられ
る。そこで、中間焼鈍温度を種々に変えた方向性珪素鋼
板について、種々の方法で表面を除去する実験を行った
結果、下式によって決定される量の表面層を除去すれ
ば、サブスケール品質が安定し、したがってフォルステ
ライト被膜品質も安定することがわかった。
に減少していることが明らかである。また、そのSi濃度
の減少の程度は中間焼鈍温度が高いときに著しくなって
いる。このようにSi濃度が減少すれば、サブスケールの
主成分であるSiO2の生成量も少なくなることが考えられ
る。そこで、中間焼鈍温度を種々に変えた方向性珪素鋼
板について、種々の方法で表面を除去する実験を行った
結果、下式によって決定される量の表面層を除去すれ
ば、サブスケール品質が安定し、したがってフォルステ
ライト被膜品質も安定することがわかった。
【００１２】Ａ≧（0.65×Ｂ−543 ）×Ｃ 但し、Ａ：除去すべき表面層（ｇ／ｍ2 ）、 Ｂ：中間焼鈍温度（℃）、 Ｃ：表面層除去前の板厚（mm）である。 この除去方法としては、ショット、ブラシロール、グラ
インダー、研削、酸洗などが適当である。また、除去を
実施する時期は中間焼鈍後から脱炭焼鈍前の何れの工程
でもよいが、板厚が薄くなってからの方が、負荷が軽い
ので有利である。因みに圧延されれば、圧延量に応じて
Si低濃度層の厚みも薄くなる。
インダー、研削、酸洗などが適当である。また、除去を
実施する時期は中間焼鈍後から脱炭焼鈍前の何れの工程
でもよいが、板厚が薄くなってからの方が、負荷が軽い
ので有利である。因みに圧延されれば、圧延量に応じて
Si低濃度層の厚みも薄くなる。
【００１３】
【実施例】1.25mm厚に中間冷延した後、1000℃にて中間
焼鈍を行い、0.23mmまで冷間圧延した方向性珪素鋼板
を、湿水素中 830℃で３分間の脱炭焼鈍を施し、次いで
1.5％のTiO2を含む MgOを焼鈍分離剤として塗布し、水
素中1200℃で10時間の高温仕上げ焼鈍することにより、
フォルステライト被膜を形成した。この処理を施すにあ
たって、最終冷延途中の板厚1.25〜0.23mmの各段階で研
削ロールにより、研削量を種々変えて表面層を研削除去
した。
焼鈍を行い、0.23mmまで冷間圧延した方向性珪素鋼板
を、湿水素中 830℃で３分間の脱炭焼鈍を施し、次いで
1.5％のTiO2を含む MgOを焼鈍分離剤として塗布し、水
素中1200℃で10時間の高温仕上げ焼鈍することにより、
フォルステライト被膜を形成した。この処理を施すにあ
たって、最終冷延途中の板厚1.25〜0.23mmの各段階で研
削ロールにより、研削量を種々変えて表面層を研削除去
した。
【００１４】かくして、得られたフォルステライト被膜
の外観均質性、および密着性について評価した結果を図
２中に示す。密着性は方向性珪素鋼板を円筒に巻き付け
たときに、フォルステライト被膜の剥離が生じない最小
径によって評価した。同図によれば、本発明にしたがっ
て得られたフォルステライト被膜はその外観、密着性が
ともに良好であるが、比較例では被膜外観が不均一であ
り、密着性も劣っている。
の外観均質性、および密着性について評価した結果を図
２中に示す。密着性は方向性珪素鋼板を円筒に巻き付け
たときに、フォルステライト被膜の剥離が生じない最小
径によって評価した。同図によれば、本発明にしたがっ
て得られたフォルステライト被膜はその外観、密着性が
ともに良好であるが、比較例では被膜外観が不均一であ
り、密着性も劣っている。
【００１５】
【発明の効果】この発明によれば、密着性がよく、特に
外観にむらのない均質なフォルステライト被膜を安定し
て確実に得ることができる。
外観にむらのない均質なフォルステライト被膜を安定し
て確実に得ることができる。
【図１】種々の温度で中間焼鈍したときの板厚深さ方向
のSi濃度分布を示すグラフである。
のSi濃度分布を示すグラフである。
【図２】中間焼鈍温度後の研削除去前の板厚と研削量と
の関係を外観均質性および密着性について評価した結果
を示すグラフである。
の関係を外観均質性および密着性について評価した結果
を示すグラフである。
Claims (1)
- 【請求項１】 珪素鋼スラブを熱間圧延し、中間焼鈍を
はさむ２回以上の冷間圧延を施して最終冷延板厚とした
後、脱炭焼鈍を施して鋼板表面にSiO2を主体とするサブ
スケールを形成し、さらに MgOを主体とする焼鈍分離剤
を塗布し、次いで仕上げ焼鈍することにより、該鋼板表
面にフォルステライトからなる絶縁被膜を形成するに当
たり、中間焼鈍後から脱炭焼鈍前に下式で示される重量
の表面層を除去することを特徴とする均質なフォルステ
ライト被膜を有する方向性珪素鋼板の製造方法。 Ａ≧（0.65×Ｂ−543 ）×Ｃ 但し、Ａ：除去すべき表面層（ｇ／ｍ2 ）、 Ｂ：中間焼鈍温度（℃）、 Ｃ：表面層除去前の板厚（mm）である。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20170793A JP3277039B2 (ja) | 1993-08-13 | 1993-08-13 | 均質なフォルステライト被膜を有する方向性珪素鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20170793A JP3277039B2 (ja) | 1993-08-13 | 1993-08-13 | 均質なフォルステライト被膜を有する方向性珪素鋼板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0754154A true JPH0754154A (ja) | 1995-02-28 |
| JP3277039B2 JP3277039B2 (ja) | 2002-04-22 |
Family
ID=16445598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20170793A Expired - Fee Related JP3277039B2 (ja) | 1993-08-13 | 1993-08-13 | 均質なフォルステライト被膜を有する方向性珪素鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3277039B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1104507C (zh) * | 1998-09-18 | 2003-04-02 | 川崎制铁株式会社 | 覆膜特性和磁特性优越的晶粒取向硅钢板及其制造方法 |
| CN110643796A (zh) * | 2019-11-13 | 2020-01-03 | 武汉钢铁有限公司 | 一种底层附着性良好的高磁感取向硅钢的制备方法 |
-
1993
- 1993-08-13 JP JP20170793A patent/JP3277039B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1104507C (zh) * | 1998-09-18 | 2003-04-02 | 川崎制铁株式会社 | 覆膜特性和磁特性优越的晶粒取向硅钢板及其制造方法 |
| CN110643796A (zh) * | 2019-11-13 | 2020-01-03 | 武汉钢铁有限公司 | 一种底层附着性良好的高磁感取向硅钢的制备方法 |
| CN110643796B (zh) * | 2019-11-13 | 2021-06-15 | 武汉钢铁有限公司 | 一种底层附着性良好的高磁感取向硅钢的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3277039B2 (ja) | 2002-04-22 |
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