JPH0751586A - 竪型粉砕機 - Google Patents
竪型粉砕機Info
- Publication number
- JPH0751586A JPH0751586A JP20613993A JP20613993A JPH0751586A JP H0751586 A JPH0751586 A JP H0751586A JP 20613993 A JP20613993 A JP 20613993A JP 20613993 A JP20613993 A JP 20613993A JP H0751586 A JPH0751586 A JP H0751586A
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- JP
- Japan
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- rotary table
- crushing roller
- raw material
- crushing
- roller
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 粉砕ローラへの噛み込み効率を増し，粉砕効
率の向上を図った竪型粉砕機を提供しようとするもので
ある。 【構成】 回転テーブル３Ａの粉砕ローラは平均直径が
小なる予備粉砕ローラ４Ａと平均直径が大なる主粉砕ロ
ーラ４Ｂとから構成され，予備粉砕ローラ４Ａは回転テ
ーブル３Ａの半径方向中間部上面に配設され，主粉砕ロ
ーラ４Ｂは回転テーブル３Ａの外周部上面に配置した。
率の向上を図った竪型粉砕機を提供しようとするもので
ある。 【構成】 回転テーブル３Ａの粉砕ローラは平均直径が
小なる予備粉砕ローラ４Ａと平均直径が大なる主粉砕ロ
ーラ４Ｂとから構成され，予備粉砕ローラ４Ａは回転テ
ーブル３Ａの半径方向中間部上面に配設され，主粉砕ロ
ーラ４Ｂは回転テーブル３Ａの外周部上面に配置した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，回転テーブルと粉砕ロ
ーラとの協働により，セメント原料，スラグ，クリンカ
やセラミック，化学品等の原料を粉砕する竪型粉砕機に
係り，特に粉砕効率の向上を企図した竪型粉砕機に関す
る。
ーラとの協働により，セメント原料，スラグ，クリンカ
やセラミック，化学品等の原料を粉砕する竪型粉砕機に
係り，特に粉砕効率の向上を企図した竪型粉砕機に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】石灰石やスラグ，セメント原料などの原
料を細かく粉砕し粉体とする粉砕機の一種として，図４
に示すように，回転テーブルと粉砕ローラとを備えた竪
型粉砕機１が広く用いられている。この種の粉砕機は，
円筒状ケーシング１５の下部においてモータ２Ａにより
減速機２で駆動されて低速回転する円盤状の回転テーブ
ル３Ａと，その上面外周部を円周方向へ等分する箇所に
油圧などで圧接されて従動回転する複数個の粉砕ローラ
４とを備えている。
料を細かく粉砕し粉体とする粉砕機の一種として，図４
に示すように，回転テーブルと粉砕ローラとを備えた竪
型粉砕機１が広く用いられている。この種の粉砕機は，
円筒状ケーシング１５の下部においてモータ２Ａにより
減速機２で駆動されて低速回転する円盤状の回転テーブ
ル３Ａと，その上面外周部を円周方向へ等分する箇所に
油圧などで圧接されて従動回転する複数個の粉砕ローラ
４とを備えている。
【０００３】粉砕ローラ４はケーシング１５に軸６によ
って揺動自在に軸支されたアーム５とアーム７を介して
油圧シリンダ９のピストンロッド１０に連結されてお
り，油圧シリンダ９を作動させることにより，粉砕ロー
ラ４を回転テーブル３Ａ上に押圧して原料への粉砕圧力
を与えている。３Ｂは回転テーブル３Ａの外周縁に設け
られ原料層厚を調整するダムリング，１４は回転テーブ
ル３Ａ周囲のガス吹上用環状空間通路，１４Ａはガス供
給路，１３は羽根１３Ａにより粉砕された原料を分級す
る回転セパレータ，１６はガスと共に製品を取り出す排
出口，１７は原料投入シュートである。
って揺動自在に軸支されたアーム５とアーム７を介して
油圧シリンダ９のピストンロッド１０に連結されてお
り，油圧シリンダ９を作動させることにより，粉砕ロー
ラ４を回転テーブル３Ａ上に押圧して原料への粉砕圧力
を与えている。３Ｂは回転テーブル３Ａの外周縁に設け
られ原料層厚を調整するダムリング，１４は回転テーブ
ル３Ａ周囲のガス吹上用環状空間通路，１４Ａはガス供
給路，１３は羽根１３Ａにより粉砕された原料を分級す
る回転セパレータ，１６はガスと共に製品を取り出す排
出口，１７は原料投入シュートである。
【０００４】このような竪型粉砕機において，回転テー
ブルの中央部へ原料投入シュート１７で供給された原料
は，回転テーブル３Ａの回転によりテーブル半径方向の
遠心力を受けて回転テーブル３Ａ上を滑るときに回転テ
ーブル３Ａにより回転方向の力を受け，回転テーブル３
Ａとの間で滑って回転テーブル３Ａの回転数よりいくら
か遅い回転を行なう。以上２つの力，すなわち，半径方
向と回転方向の力とが合成され，原料は回転テーブル３
Ａ上を渦巻状の軌跡を描いて回転テーブル３Ａの外周部
へ移動する。この外周部には，ローラが圧接されて回転
しているので，渦巻線を描いた原料は粉砕ローラ４と回
転テーブル３Ａとの間へローラ軸方向とある角度をなす
方向から進入して噛み込まれて粉砕される。
ブルの中央部へ原料投入シュート１７で供給された原料
は，回転テーブル３Ａの回転によりテーブル半径方向の
遠心力を受けて回転テーブル３Ａ上を滑るときに回転テ
ーブル３Ａにより回転方向の力を受け，回転テーブル３
Ａとの間で滑って回転テーブル３Ａの回転数よりいくら
か遅い回転を行なう。以上２つの力，すなわち，半径方
向と回転方向の力とが合成され，原料は回転テーブル３
Ａ上を渦巻状の軌跡を描いて回転テーブル３Ａの外周部
へ移動する。この外周部には，ローラが圧接されて回転
しているので，渦巻線を描いた原料は粉砕ローラ４と回
転テーブル３Ａとの間へローラ軸方向とある角度をなす
方向から進入して噛み込まれて粉砕される。
【０００５】一方，ケーシング１５の基部には熱風ダク
ト２０によって空気，あるいは熱風などのガスが導かれ
ており，このガスが回転テーブル３Ａの外周面とケーシ
ングの内周面との間の環状空間部１４から吹き上がるこ
とにより，粉砕された微粉体はガスに同伴されてケーシ
ング１５内を上昇し，上部に位置するセパレータ１３の
羽根１３Ａにより分級作用を受け，所定粒度の製品はガ
スと共に排出口１６から排出され次の工程へ送られる。
ト２０によって空気，あるいは熱風などのガスが導かれ
ており，このガスが回転テーブル３Ａの外周面とケーシ
ングの内周面との間の環状空間部１４から吹き上がるこ
とにより，粉砕された微粉体はガスに同伴されてケーシ
ング１５内を上昇し，上部に位置するセパレータ１３の
羽根１３Ａにより分級作用を受け，所定粒度の製品はガ
スと共に排出口１６から排出され次の工程へ送られる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このように，同一の形
状，同一の平均直径を有する粉砕ローラを回転テーブル
上の中心から等距離の位置の円周に等間隔で配列した従
来の竪型粉砕機では，回転テーブルの中央付近に供給さ
れた原料は回転テーブルの遠心力によって渦巻状の軌跡
を画いて回転テーブル外周に向かうが，このとき運良く
粉砕ローラに噛み込まれた原料が粉砕に与り，その他の
大部分の原料は回転テーブル外周に周設されたダムリン
グを通過し，その外側の環状空間通路へ落下し，環状空
間通路を上昇してくる高速の気流に吹き上げられて再び
回転テーブル上へ戻される。力学的なシミュレーション
を行なった結果では，回転テーブル中央に落下した原料
のうち粉砕ローラへ噛み込まれる比率は４ローラでは３
８％程度，２ローラにおいては２５％程度で，ニューフ
ィードされた原料の大部分は一旦回転テーブルをオーバ
フローして上昇気流へ回転テーブル上へ吹き戻される過
程を繰り返しつつ運良く粉砕ローラへ噛み込む機会を得
てやがて規定粒度となってミル外へ排出される。したが
って，原料の粉砕ローラへの噛み込み効率が低いために
粉砕効率が低いという問題とともに，ミル内の含塵濃度
が大きくなりミル差圧増加による吸入ファン動力の増加
というランニングコスト増を招いていた。
状，同一の平均直径を有する粉砕ローラを回転テーブル
上の中心から等距離の位置の円周に等間隔で配列した従
来の竪型粉砕機では，回転テーブルの中央付近に供給さ
れた原料は回転テーブルの遠心力によって渦巻状の軌跡
を画いて回転テーブル外周に向かうが，このとき運良く
粉砕ローラに噛み込まれた原料が粉砕に与り，その他の
大部分の原料は回転テーブル外周に周設されたダムリン
グを通過し，その外側の環状空間通路へ落下し，環状空
間通路を上昇してくる高速の気流に吹き上げられて再び
回転テーブル上へ戻される。力学的なシミュレーション
を行なった結果では，回転テーブル中央に落下した原料
のうち粉砕ローラへ噛み込まれる比率は４ローラでは３
８％程度，２ローラにおいては２５％程度で，ニューフ
ィードされた原料の大部分は一旦回転テーブルをオーバ
フローして上昇気流へ回転テーブル上へ吹き戻される過
程を繰り返しつつ運良く粉砕ローラへ噛み込む機会を得
てやがて規定粒度となってミル外へ排出される。したが
って，原料の粉砕ローラへの噛み込み効率が低いために
粉砕効率が低いという問題とともに，ミル内の含塵濃度
が大きくなりミル差圧増加による吸入ファン動力の増加
というランニングコスト増を招いていた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】以上の課題を解決し，噛
み込み率を増加して粉砕効率を向上するために，本発明
においては，回転テーブル上面に複数個の回転自在な粉
砕ローラを配置し，回転テーブル上に供給した原料を粉
砕ローラに所定の粉砕圧力を与えて回転テーブル上面と
粉砕ローラ周面との間で粉砕する竪型粉砕機において，
粉砕ローラは平均直径が小なる予備粉砕ローラと平均直
径が大なる主粉砕ローラとからなり，かつ，該予備粉砕
ローラは該回転テーブルの半径方向中間部上面に配設さ
れ，該主粉砕ローラは該回転テーブル外周部上面に配置
された構成とした。また，第２の発明では，第１の発明
の竪型粉砕機であって，さらに，竪型粉砕機の中心軸線
上に鉛直に垂下された原料投入シュートの排出口に各々
の予備粉砕ローラの原料噛み込み側へ供給原料を導くガ
イドシュートを配設した構成とした。
み込み率を増加して粉砕効率を向上するために，本発明
においては，回転テーブル上面に複数個の回転自在な粉
砕ローラを配置し，回転テーブル上に供給した原料を粉
砕ローラに所定の粉砕圧力を与えて回転テーブル上面と
粉砕ローラ周面との間で粉砕する竪型粉砕機において，
粉砕ローラは平均直径が小なる予備粉砕ローラと平均直
径が大なる主粉砕ローラとからなり，かつ，該予備粉砕
ローラは該回転テーブルの半径方向中間部上面に配設さ
れ，該主粉砕ローラは該回転テーブル外周部上面に配置
された構成とした。また，第２の発明では，第１の発明
の竪型粉砕機であって，さらに，竪型粉砕機の中心軸線
上に鉛直に垂下された原料投入シュートの排出口に各々
の予備粉砕ローラの原料噛み込み側へ供給原料を導くガ
イドシュートを配設した構成とした。
【０００８】
【作用】本発明では，ニューフィードの原料はまず小径
の予備粉砕ローラに噛み込まれ，予備粉砕された後，予
備粉砕ローラよりも回転テーブル外周寄りに配置された
大径の主粉砕ローラにより粉砕され，回転テーブルをオ
ーバフローする。オーバフローした粉粒体は環状空間通
路を上昇してくる上昇気流で上方へ吹き戻され，粒径に
応じてセパレータへ搬送されるかあるいは途中で重力落
下して回転テーブルへ戻され再び粉砕作用を受ける。第
２の発明では，原料投入シュートの排出口にガイドシュ
ートを設けたので大部分のニューフィードの原料は予備
粉砕ローラへ移動し，予備粉砕ローラで粉砕される。
の予備粉砕ローラに噛み込まれ，予備粉砕された後，予
備粉砕ローラよりも回転テーブル外周寄りに配置された
大径の主粉砕ローラにより粉砕され，回転テーブルをオ
ーバフローする。オーバフローした粉粒体は環状空間通
路を上昇してくる上昇気流で上方へ吹き戻され，粒径に
応じてセパレータへ搬送されるかあるいは途中で重力落
下して回転テーブルへ戻され再び粉砕作用を受ける。第
２の発明では，原料投入シュートの排出口にガイドシュ
ートを設けたので大部分のニューフィードの原料は予備
粉砕ローラへ移動し，予備粉砕ローラで粉砕される。
【０００９】
【実施例】以下図面に基づいて本発明の実施例の詳細に
ついて説明する。図１〜図３は本発明の実施例に係り，
図１は竪型粉砕機の要部平面図，図２は他の実施例を示
す竪型粉砕機の要部平面図，図３は図２のＸ−Ｘ視の縦
断面図である。図１に示すように，竪型粉砕機１の回転
テーブル３Ａ上には，平均直径の小さな予備粉砕ローラ
４Ａと平均直径の大きな主粉砕ローラ４Ｂとが交互に配
列され，予備粉砕ローラ４Ａは回転テーブル３Ａの約２
分の１の半径位置以内に配置されるのに対し，主粉砕ロ
ーラ４Ｂはこれまでの竪型粉砕機と同様に，回転テーブ
ル３Ａの外周部に各々対向して配置される。主粉砕ロー
ラ４Ｂの平均直径はこれまでの竪型粉砕機に採用された
粉砕ローラとほぼ同一の寸法形状であるが，予備粉砕ロ
ーラ４Ａは，両粉砕ローラ４Ａ，４Ｂの収納スペースを
考慮してその平均直径は主粉砕ローラ４Ｂの平均直径の
３０〜６０％の範囲で適宜に選定される。図１では，主
粉砕ローラ４Ｂ同志を結ぶ軸線と予備粉砕ローラ同志を
結ぶ軸線とが直交するように配列したが，直交でなく６
０゜〜８５゜程度の斜交であっても構わない。主粉砕ロ
ーラ４Ｂの回転テーブル３Ａへの緊張力（押圧力）は，
これまでの竪型粉砕機で採用した値と同様に粉砕面圧１
５０〜２５０ｋｇ／ｃｍ2 程度とし（原料の被粉砕性や
所望の製品粒度によって増減する），予備粉砕ローラ４
Ａの緊張力は主粉砕ローラ４Ｂの２０〜６０％程度とす
る。竪型粉砕機１のその他の構造は従来技術で述べたと
おりであるからその説明を省略する。図２，図３は第２
の発明に係る実施例を示したもので，第１の発明と異な
る点のみを述べれば，原料投入シュート１７の下端の排
出口に，各々の予備粉砕ローラへ落下したニューフィー
ドの原料の大部分（勿論全量が望ましい）が導かれるよ
うに傾斜した案内管で形成されるガイドシュート１７ａ
を取り付ける。ガイドシュート１７ａは図示した案内管
形状のほか，左右一対の垂直な平板状のものであっても
よい。
ついて説明する。図１〜図３は本発明の実施例に係り，
図１は竪型粉砕機の要部平面図，図２は他の実施例を示
す竪型粉砕機の要部平面図，図３は図２のＸ−Ｘ視の縦
断面図である。図１に示すように，竪型粉砕機１の回転
テーブル３Ａ上には，平均直径の小さな予備粉砕ローラ
４Ａと平均直径の大きな主粉砕ローラ４Ｂとが交互に配
列され，予備粉砕ローラ４Ａは回転テーブル３Ａの約２
分の１の半径位置以内に配置されるのに対し，主粉砕ロ
ーラ４Ｂはこれまでの竪型粉砕機と同様に，回転テーブ
ル３Ａの外周部に各々対向して配置される。主粉砕ロー
ラ４Ｂの平均直径はこれまでの竪型粉砕機に採用された
粉砕ローラとほぼ同一の寸法形状であるが，予備粉砕ロ
ーラ４Ａは，両粉砕ローラ４Ａ，４Ｂの収納スペースを
考慮してその平均直径は主粉砕ローラ４Ｂの平均直径の
３０〜６０％の範囲で適宜に選定される。図１では，主
粉砕ローラ４Ｂ同志を結ぶ軸線と予備粉砕ローラ同志を
結ぶ軸線とが直交するように配列したが，直交でなく６
０゜〜８５゜程度の斜交であっても構わない。主粉砕ロ
ーラ４Ｂの回転テーブル３Ａへの緊張力（押圧力）は，
これまでの竪型粉砕機で採用した値と同様に粉砕面圧１
５０〜２５０ｋｇ／ｃｍ2 程度とし（原料の被粉砕性や
所望の製品粒度によって増減する），予備粉砕ローラ４
Ａの緊張力は主粉砕ローラ４Ｂの２０〜６０％程度とす
る。竪型粉砕機１のその他の構造は従来技術で述べたと
おりであるからその説明を省略する。図２，図３は第２
の発明に係る実施例を示したもので，第１の発明と異な
る点のみを述べれば，原料投入シュート１７の下端の排
出口に，各々の予備粉砕ローラへ落下したニューフィー
ドの原料の大部分（勿論全量が望ましい）が導かれるよ
うに傾斜した案内管で形成されるガイドシュート１７ａ
を取り付ける。ガイドシュート１７ａは図示した案内管
形状のほか，左右一対の垂直な平板状のものであっても
よい。
【００１０】以上のように構成された第１の発明や第２
の発明の作動について説明する。原料投入シュート１７
の下端（第２の発明ではガイドシュート１７ａ）より回
転テーブル３Ａの中央部に落下供給されたニューフィー
ドの原料は，回転する回転テーブルの移送力によって渦
巻状の軌跡を画きながら回転テーブル３Ａの外周側へ移
動し，予備粉砕ローラ４Ａへ噛み込まれて粉砕され，さ
らに外側へ渦巻状に移動し，主粉砕ローラ４Ｂでさらに
粉砕されて回転テーブル３Ａの外周部のダムリング３Ｂ
を溢流し，環状空間通路１４へ落下する。環状空間通路
１４では，粉砕された原料の粉末を含む粉粒体は環状空
間通路１４を高速で上昇する上昇気流によって吹き上げ
られ，空気搬送により竪型粉砕機１の頂部に設置された
セパレータ１３へ運ばれ，分級されて分級点以下の製品
粉末は竪型粉砕機１より排出される。セパレータ１３の
分級点以上の粗粉や粒体は回転テーブル３Ａ上へ戻され
規定の粒度に達するまで再粉砕される。本発明では，小
径の予備粉砕ローラ４Ａを原料投入シュート１７に近接
して配置し，また，第２発明ではガイドシュート１７ａ
を設けたので，ニューフィードの原料の大半が予備粉砕
ローラ４Ａへ噛み込まれる（第２の発明ではほとんど全
量が予備粉砕ローラ４Ａへ導かれる）。したがって，主
粉砕ローラ４Ｂへ噛み込まれる原料はある程度以下の整
粒された粉粒体となり，負荷が軽減されるとともに一定
層厚の原料層となって主粉砕ローラ４Ａへ供給され粉砕
される結果，粉砕効率が向上する。また，従来機のよう
に，６２〜７５％に達するニューフィードの原料が粉砕
機会のないまま回転テーブル３Ａをオーバフローし，環
状空間通路〜回転テーブル間を繰り返し移動するという
無駄な挙動も減少し，ミル内の滞留時間が減るためミル
内含塵濃度が減り，ミル内差圧（ミル入口出口間の圧力
損失）が減少するから，ミル内通風用の吸入ファンの動
力が減少しランニングコストが低減される。また，ミル
差圧減少により異常振動が減少し静粛な安定した運転が
継続できる。
の発明の作動について説明する。原料投入シュート１７
の下端（第２の発明ではガイドシュート１７ａ）より回
転テーブル３Ａの中央部に落下供給されたニューフィー
ドの原料は，回転する回転テーブルの移送力によって渦
巻状の軌跡を画きながら回転テーブル３Ａの外周側へ移
動し，予備粉砕ローラ４Ａへ噛み込まれて粉砕され，さ
らに外側へ渦巻状に移動し，主粉砕ローラ４Ｂでさらに
粉砕されて回転テーブル３Ａの外周部のダムリング３Ｂ
を溢流し，環状空間通路１４へ落下する。環状空間通路
１４では，粉砕された原料の粉末を含む粉粒体は環状空
間通路１４を高速で上昇する上昇気流によって吹き上げ
られ，空気搬送により竪型粉砕機１の頂部に設置された
セパレータ１３へ運ばれ，分級されて分級点以下の製品
粉末は竪型粉砕機１より排出される。セパレータ１３の
分級点以上の粗粉や粒体は回転テーブル３Ａ上へ戻され
規定の粒度に達するまで再粉砕される。本発明では，小
径の予備粉砕ローラ４Ａを原料投入シュート１７に近接
して配置し，また，第２発明ではガイドシュート１７ａ
を設けたので，ニューフィードの原料の大半が予備粉砕
ローラ４Ａへ噛み込まれる（第２の発明ではほとんど全
量が予備粉砕ローラ４Ａへ導かれる）。したがって，主
粉砕ローラ４Ｂへ噛み込まれる原料はある程度以下の整
粒された粉粒体となり，負荷が軽減されるとともに一定
層厚の原料層となって主粉砕ローラ４Ａへ供給され粉砕
される結果，粉砕効率が向上する。また，従来機のよう
に，６２〜７５％に達するニューフィードの原料が粉砕
機会のないまま回転テーブル３Ａをオーバフローし，環
状空間通路〜回転テーブル間を繰り返し移動するという
無駄な挙動も減少し，ミル内の滞留時間が減るためミル
内含塵濃度が減り，ミル内差圧（ミル入口出口間の圧力
損失）が減少するから，ミル内通風用の吸入ファンの動
力が減少しランニングコストが低減される。また，ミル
差圧減少により異常振動が減少し静粛な安定した運転が
継続できる。
【００１１】
【発明の効果】以上述べたように，本発明においては，
噛み込み効率の上昇にともなう粉砕効率の向上が達成さ
れるとともに，ランニングコストが減少し，安定連続運
転が継続でき運転操作性とメインテナンス性が改善され
る。
噛み込み効率の上昇にともなう粉砕効率の向上が達成さ
れるとともに，ランニングコストが減少し，安定連続運
転が継続でき運転操作性とメインテナンス性が改善され
る。
【図１】本発明の実施例に係る竪型粉砕機の要部平面図
である。
である。
【図２】本発明の他の実施例に係る竪型粉砕機の要部平
面図である。
面図である。
【図３】図２のＸ−Ｘ視の縦断面図である。
【図４】従来の竪型粉砕機の全体縦断面図である。
１ 竪型粉砕機 ３Ａ 回転テーブル ３Ｂ ダムリング ４ 粉砕ローラ ４Ａ 予備粉砕ローラ ４Ｂ 主粉砕ローラ １３ セパレータ １５ ケーシング １７ 原料投入シュート １７ａ ガイドシュート
Claims (2)
- 【請求項１】 回転テーブル上面に複数個の回転自在な
粉砕ローラを配置し，回転テーブル上に供給した原料を
粉砕ローラに所定の粉砕圧力を与えて回転テーブル上面
と粉砕ローラ周面との間で粉砕する竪型粉砕機におい
て，粉砕ローラは平均直径が小なる予備粉砕ローラと平
均直径が大なる主粉砕ローラとからなり，かつ，該予備
粉砕ローラは該回転テーブルの半径方向中間部上面に配
設され，該主粉砕ローラは該回転テーブル外周部上面に
配置された竪型粉砕機。 - 【請求項２】 竪型粉砕機の中心軸線上に鉛直に垂下さ
れた原料投入シュートの排出口に各々の予備粉砕ローラ
の原料噛み込み側へ供給原料を導くガイドシュートを配
設した請求項１記載の竪型粉砕機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20613993A JPH0751586A (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 竪型粉砕機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20613993A JPH0751586A (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 竪型粉砕機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0751586A true JPH0751586A (ja) | 1995-02-28 |
Family
ID=16518438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20613993A Pending JPH0751586A (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 竪型粉砕機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0751586A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012521282A (ja) * | 2010-03-09 | 2012-09-13 | ロエシェ ゲーエムベーハー | ローラミル |
-
1993
- 1993-08-20 JP JP20613993A patent/JPH0751586A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012521282A (ja) * | 2010-03-09 | 2012-09-13 | ロエシェ ゲーエムベーハー | ローラミル |
| KR20120138616A (ko) * | 2010-03-09 | 2012-12-26 | 로쉐 게엠베하 | 롤러 밀 |
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