JPH07504173A - 除草剤としてのスルホニル尿素 - Google Patents
除草剤としてのスルホニル尿素Info
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- JPH07504173A JPH07504173A JP5514493A JP51449393A JPH07504173A JP H07504173 A JPH07504173 A JP H07504173A JP 5514493 A JP5514493 A JP 5514493A JP 51449393 A JP51449393 A JP 51449393A JP H07504173 A JPH07504173 A JP H07504173A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
除草剤としてのスルホニル尿素
本発明は新規な、除草作用のあるおよび植物の成長を調節するN−フェニルスル
ホニル−No−ピリミジニル−および−トリアジニル−尿素、それらの製造方法
、有効成分としてそれらを含む組成物、および雑草を防除する、特に、有益な植
物である作物において雑草を選択的に防除するかまたは植物の成長を調節および
抑制するためのこれらの組成物の使用方法に関する。
除草作用を持つ尿素化合物、トリアジン化合物およびピリミジン化合物は一般に
公知である。そのような化合物は、例えば欧州特許出願第0 007 687号
、0030 138号、0 030 138号、0 073562号および0
126 711号に記載されている。
除草作用と植物成長調節作用を持つ新規のスルホニル尿素を今や見出した。
本発明のN−フェニルスルホニル−No −ピリミジニル−およびN’−)リア
ジニルー尿素は下記の式1:〔式中、R3は水素原子又はメチル基を表し;R8
は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子、(W)−R* 、N
Ot、R1、R4、R,、R,とR7は他と独立して水素原子又は炭素原子数
1ないし4のアルキル基を表し;R1は炭素原子数1ないし4のアルキル基、1
.2.3又は4個のハロゲン原子、炭素原子数1ないし3のアルコキシ基又は炭
素原子数1ないし3のアルキルチオ基により置換されている炭素原子数1ないし
4のアルキル基を表すか、または炭素原子数2ないし4のアルケニル基または1
.2.3又は4個のハロゲン原子により置換されている炭素原子数2ないし4の
アルケニル基を表し;R1は水素原子、メトキシ基、エトキシ基または炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表し;R1,は水素原子または炭素原子数1ないし
4のアルキル基を表し;
R11は水素原子、メチル基またはエチル基を表し;Rhaは水素原子またはメ
チル基を表し;Eは−CH=または−N=を表し;
Xは炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基
、炭素原子数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし4のハロアルコ
キシ基、炭素原子数1ないし4のハロアルキルチオ基、炭素原子数1ないし4の
アルキルチオ基、ハロゲン原子、炭素原子数2ないし5のアルコキシアルキル基
、炭素原子数2ないし5のアルコキシアルコキシ基、アミノ基、炭素原子数1な
いし3のアルキルアミノ基またはジ(炭素原子数1ないし3のアルキル)アミノ
基を表し;Yは炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基、炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基、炭素原子数1ないし4
のハロアルキルチオ基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基、炭素原子数2
ないし5のアルコキシアルキル基、炭素原子数2ないし5のアルコキシアルコキ
シ基、炭素原子数2ないし5のアルキルチオアルキル基、シクロプロピル基又は
−〇CHF、を表し;
Wは酸素原子、硫黄原子、SOまたはS Oxを表し;そして
nはO又は1を表し;
但し、a)基R3、R4、R,、RoおよびRtの少なくとも一つは炭素原子数
1ないし4のアルキル基を表し;
b)Xがハロゲン原子である場合はEは−CH=を表し;そして
c)XまたはYが一0CHF、または一5CHF、を表す場合は、Eは−CH=
を表す。〕で表されるそれらと、これら化合物の塩である。
ハロゲン原子としてのXの適当なものは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子また
は沃素原子、好ましくはフッ素原子、塩素原子および臭素原子である。
炭素原子数1ないし4のアルキル基としてのR1、R4、Rs、Rs、Rt、R
s、Rs、Rye、XおよびYの適当なものは、メチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、5ec−ブチル基、イソブチル基又は
tert−ブチル基である。炭素原子数1ないし3のアルキル基が好ましい。
1ないし4個のハロゲン原子により置換されている炭素原子数1ないし4のアル
キル基としてのR1の適当なものは、特に、フッ素原子、塩素原子、臭素原子ま
たは沃素原子により置換されているアルキル基である。これらのハロゲン原子さ
れている炭素原子数1ないし4のアルキル基の中で好ましいものは、ハロゲン原
子、特にフッ素原子または塩素原子により置換されているアルキル基、例えばフ
ルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基
、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、2,2.2−1−リフルオロエチル
基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基および2,2.2−トリクロロ
エチル基;好ましくはジフルオロメチル基およびトリフルオロメチル基である。
炭素原子数1ないし3のアルキルチオ基により置換されている炭素原子数1ない
し4のアルキル基としてのR,の適当なものは、例えば:メチルチオエチル基、
エチルチオエチル基、プロピルチオエチル基、イソプロピルチオメチル基、好ま
しくはメチルチオメチル基とエチルチオエチル基である。
炭素原子数1ないし4のハロアルキル基としてのXの適当なものは、特に、フッ
素原子、塩素原子、臭素原子または沃素原子により置換されているアルキル基で
ある。
これらの基の中で好ましいものは、ハロゲン原子、特にフッ素原子又は塩素原子
により車ないし三置換されたアルキル基、例えばフルオロメチル基、ジフルオロ
メチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリク
ロロメチル基、2,2.2−トリフルオロエチル基、2−フルオロエチル基、2
−クロロエチル基および2.2.2−)リフロエチル基;好ましくはジフルオロ
メチル基およびトリフルオロメチル基である。
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基としてのXおよびYの適当なものは、例え
ば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−
ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、5ec−プチルオキシ基およびtert
−ブチルオキシ基;好ましくはメトキシ基とエトキシ基である。
炭素原子数1ないし4のハロアルコキシ基としてのXおよびYの適当なものは、
例えば、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2.2.2−トリフ
ルオロエトキシ基、1,1,2.2−テトラフルオロエトキシ基、2−フルオロ
エトキシ基、2−クロロエトキシ基および2.2−ジフルオロエトキシ基;好ま
しくはジフルオメトキシ基およびトリフルオロメトキシ基である。
炭素原子数2ないし5のアルコキシアルキル基としてのXおよびYのための適当
なものおよび(炭素原子数1ないし3のアルコキシ)(炭素原子数1ないし4の
アルキル)基としてのR6のための適当なものは、例えばメトキシメチル基、メ
トキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基またはプロピルオキシメ
チル基である。
炭素原子数2ないし4のアルケニル基としてのR6の適当なものは、直鎖または
分枝したアルケニル基、例えばビニル基、アリル基、メタリル基、1−メチルア
リル基又は2−ブテン−1−イル基であって、2ないし3の炭素鎖長を持つアル
ケニル基が特に適当である。
工ないし4個のハロゲン原子により置換されている炭素原子数2ないし4のアル
ケニル基としてのR8の適当なものは、例えば、3.3−ジフルオロブタン−2
−エン−1−イル基である。
炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基としてのXおよびYの適当なものは、例
えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、n
−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、5ec−ブチルチオ基またはtert−ブ
チルチオ基、好ましくはメチルチオ基またはエチルチオ基である。
炭素原子数1ないし4のハロアルキルチオ基としてのXおよびYの適当なものは
、特に、フッ素原子、塩素原子、臭素原子または沃素原子により置換されている
アルキルチオ基である。これらの基の中で好ましいものは、ハロゲン原子、特に
フッ素原子または塩素原子により半ないし三置換されているアルキルチオ基、例
えばフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ
基、クロロメチルチオ基、ジクロロメチルチオ基またはトリクロロメチルチオ基
である。
炭素原子数2ないし5のアルキルチオアルキル基としてのYの適当なものは、例
えば、メチルチオエチル基、エチルチオエチル基、プロピルチオエチル基または
イソプロピルチオメチル基、好ましくはメチルチオメチル基とエチルチオエチル
基である。
炭素原子数2ないし5のアルコキシアルコキシ基としてのXおよびYの適当なも
のは、例えば、メトキシメトキシ基、メトキンエトキシ基、メトキシプロピルオ
キシ基、エトキシメトキシ基、エトキシエトキシ基およびプロピルオキシメトキ
シ基である。
炭素原子数1ないし3のアルキルアミノ基としてのXの適当なものは、例えば、
メチルアミノ基、エチルアミノ基、n−プロピルアミノ基またはイソプロピルア
ミノ基である。基Xとしてのジ(炭素原子数1ないし3のアルキル)アミノ基は
、例えば、ジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジエチルアミノ基または
n−プロピルメチルアミノ基である。
本発明はまたアミン、アルカリ金属塩基およびアルカリ土類金属塩基もしくは第
四級アンモニウム塩基と形成可能な式1で表される化合物の塩をも含む。
塩形成物質としての好ましいアルカリ金属水酸化物もしくはアルカリ土類金属水
酸化物は、リチウム水酸化物、ナトリウム水酸化物、カリウム水酸化物、マグネ
シウム水酸化物およびカルシウム水酸化物、特にナトリウム水酸化物またはカリ
ウム水酸化物である。
塩形成に適当なアミンの例は、第一、第二および第三の脂肪族および芳香族アミ
ン、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン1.イソプロピルア
ミン、4個のブチルアミン異性体、n−アミルアミン、イソアミルアミン、ヘキ
シルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、
ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシル
アミン、メチルエチルアミン、メチルイソプロピルアミン、メチルヘキシルアミ
ン、メチルノニルアミン、メチルペンタデシルアミン、メチルオクタデシルアミ
ン、エチルブチルアミン、エチルへブチルアミン、エチルオクチルアミン、ヘキ
シルへブチルアミン、ヘキシルオクチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミ
ン、ジ−n−プロピルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジ−n−アミルアミン、
ジ−イソ−アミルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノ基ジオクチルアミン
、エタノールアミン、n−プロパツールアミン、イソプロパツールアミン、N、
N−ジエチルエタノールアミン、N−エチルプロパツールアミン、N−エチルプ
ロパツールアミン、N−ブチルエタノールアミン、アリルアミン、n−ブテニル
−2−アミン、n−ペンテニル−2−アミン、2.3−ジメチルブテニル−2−
アミン、ジブテニル−2−アミン、n−へキモニル−2−アミン、プロとレンジ
アミン、ジェタノールアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリーn
−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリーn−ブチルアミン、トリイ
ソブチルアミン、トリー5ec−ブチルアミン、トリーn−アミルアミン;複素
環アミン、例えばピリジン、キノリン、イソキノリン、モルホリン、とベリジン
、ピロリジン、インドリン、キヌクリジンおよびアゼピン;第1級アリールアミ
ン、例えばアニリン、メトキシアニリン、エトキシアニリン、0−lm−または
p−トルイジン、フェニレンジアミン、ベンジジン、ナフチルアミンおよび0−
lm−またはp−クロロアニリンであるが、特に、エチル−、プロピル−、ジエ
チル−またはトリエチルアミン、然し、特にイソプロピルアミンとジェタノール
アミンである。
四級アンモニウム塩基の例は一般に、ノ\ロアンモニウム塩のカチオン、例えば
、テトラメチルアンモニウムカチオン、トリメチルベンジルアンモニウム カチ
オン、トリエチルベンジルアンモニウム カチオン、テトラエチルアンモニウム
カチオン、トリメチルエチルアンモニウム カチオンであり、またアンモニウ
ム カチオンでもある。
式I【:
(式中、R1,Ra、Rs、Ra、Rh、Ra、Rr、XおよびYは式1中と同
じに定義される。)の化合物は好ましい。
他の好ましい化合物は、式III :
(式中、R1% R1、R1,R4、Rs、Ra、R1、XおよびYは式1中と
同じに定義される。)の化合物である。
特に好ましい化合物は、式1,11およびIII中、R3が水素原子である化合
物である。
式1.IIおよびIIIの他の特に好ましい化合物は、式中、R1が水素原子で
ある化合物である。
式1.IIおよびIIIの特別に好ましい化合物は、式中、Ra 、R4、Ri
とR1が水素原子である化合物である。
式I、■!およびIIIの特に重要な化合物は、式中、RIが水素原子を表すそ
れら、特に、式中、RI とR1、R1とRa 、Rr 、R1とR8またはR
,、R1、R龜、R,、R,およびR,が水素原子を表すそれらである。
式Iの他の興味のある化合物は、式中、R2とR3が水素原子を表し、R,、R
,、R,、R1およびR7が互いに独立して水素原子またはメチル基を表し、E
が一〇H=または−N=を表し、
Xがメチル基、メトキシ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジフルオロメ
トキシ基または塩素原子を表しモしてYがメチル基、メトキシ基、ジフルオロメ
トキシ基、エトキシ基またはシクロプロピル基を表し、但し、a)Rs 、R4
、Rs 、ReおよびR1の少なくとも一つがメチル基を表し、
b)Eが、Xが塩素原子である場合、−CH=を表しそして
c)Eが、XまたはYが−OCHF zを表す場合、−CH=を表すそれらであ
る。
式Iの化合物は、
a)式■■:
(式中、Rz 、Rt 、R< 、Rs 、R1およびR,Gよ式I中と同じに
定義される。)のフェニルスルホンアミドを、式■:
(式中、R,、ESXおよびYは式I中と同じに定義され、モしてR11はフェ
ニル基または炭素原子数1ないし4のアルキル基またはハロゲン原子により置換
されて1するフェニル基を表す。)のビリミジニルカーノ(メートまたはトリア
ジニルカーバメートと、塩基の存在下、反応させることにより;または
b)式v1:
(式中、Rx 、Rs 、R4 、Ri 、ReおよびR,は式1中と同じに定
義されそしてR11は式V中と同じに定義される。)のスルホニルカーバメート
を、式Vll :(式中、R, 、E,XおよびYは式l中と同じに定義される
。)のアミンと、塩基の存在下、反応させることにより、または
C)式Iv:
(式中、Rt 、Rs 、R4、Ri 、ReおよびR1は式I中と同じに定義
される。)のフェニルスルポンアミドを、式Vlll:
(式中、ElXおよびYは式I中と同じに定義される。)のピリミジニルイソシ
アナートまたはトリアジニルイソシアナートと、塩基の存在下、反応させること
によるいずれかの方法で製造できる。
式■の化合物は、式IX:
(式中、R,、R,、R,、Ri 、ReおよびR7は式I中と同じに定義され
る。)の化合物を、式VI[の化合物と、式X:
M”0CN−(X)
〔式中、Mはアルカリ金属またはR+sRI@R+tR+sQ(式中、R,、、
R16、R17とR11は互いに独立して炭素原子数工ないし18のアルキル基
、ベンジル基またはフェニル基を表し、炭素原子の総数は36より太き(はなく
;そしてQは窒素原子、硫黄原子またはリン原子を表す。)を表す。〕のシアン
酸塩のアンモニウム、ホスホニウム、スルホニウムまたはアルカリ金属塩の存在
下、反応させることによっても製造できる。そのような反応はスイス特許明細書
第662348号に記載されている。
式Iの化合物を形成する反応は、非プロトン性の不活性有機溶媒中で有利に行わ
れる。そのような溶媒は炭化水素、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンまた
はシクロヘキサン;塩素化炭化水素、例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタ
ン、テトラクロロメタンまたはクロロベンゼン:エーテル類、例えば、ジエチル
エーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサン;ニトリル、例えば、アセト
ニトリルまたはプロピオニトリル;およびアミド、例えば、ジメチルポルムアミ
ド、ジエチルホルムアミドまたはN−メチルピロリドンである。反応温度は好ま
しくは一20’Cと+120℃の間である。
一般に、反応は少し発熱しながら進行し、室温で行われてよい。反応時間を短く
するため、または反応を開始するため、反応混合物を短時間内に辞意まで加熱す
るのが都合が良い。反応触媒として数滴の塩基を添加することによって反応時間
を短くすることも可能である。適当な塩基は特に、第三級アミン、例えば、トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、キヌクリジン、l、4−ジアザビシクロ [
2,2,21オクタン、1,5−ジアザビシクロ [4,3,0]−5−ノネン
または1.5−ジアザビシクロ [5,4,0] −7−ウンデセンである。
別法として、無機塩基、例えば、水素化物、例えば、水素化ナトリウムまたは水
素化カルシウム;水酸化物、例えば、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム;
炭酸塩、例えば、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウム、または炭酸水素化物、例
えば、炭酸水素カリウムおよび炭酸水素ナトリウムもまた、塩基として使用され
得る。
式Iの最終生成物は、濃縮および/または溶媒の蒸発によって単離きれ、そして
容易に溶解しない溶媒、例えば、エーテル、芳香族炭化水素または塩素化炭化水
素の中での固体残渣の再結晶または濯ぎによって精製され得る。
式1の化合物の上記の製造法では、R11は、炭素原子数1ないし4のアルキル
基または塩素原子により置換されているフェニル基、特に好ましくはフェニル基
である。
式IVのフェニルスルホンアミドは、式1の有効成分の製造のために特に開発さ
れそして製造された新規の化合物である。従って、それらは本発明のための一部
分である。式Iの化合物の場合に上述した、R1、Rs 、Ra、Rs、Reお
よびR7についてと同じ好ましい範囲が、式IVの化合物に適用される。それら
は式■X:(式中、R1、R1、R4、R,、R1およびR,は式I中と同じに
定義される。)の該当するフェニルスルホニルクロライドから、アンモニアによ
る反応により得られる。そのような反応は当業者にとって周知である。
式IXのフェニルスルホニルクロライドは、式Iの有効成分の製造のために特に
開発されそして製造された新規の化合物である。従って、それらは本発明のため
の一部分である。式Iの化合物の場合に上述した、R1、R1%Ra 、Rs
、RsおよびRtについてと同じ好ましい範囲が、式IXの中間体に適用される
。式IXのフェニルスルホニルクロライドは、適当に置換されている2−クロロ
スルホニルベンゾイルクロライド(参照:例えばD、Davis、 Sac、
2042.2044(1932))を、式X1:(式中、Rs 、R4、Rs
、ReとR7は式I中と同じに定義される。)の化合物と、塩基の存在下、反応
させることにより製造される。そのような反応は当業者に周知である。
式IXのフェニルスルホニルクロライドも、2−イソプロピルチオ安息香酸(参
照、例えばH,Gilman、 F、J。
Webb、 Am、Soc、71.4062−4063)を塩化チオニルと反応
させて該当するベンゾイルクロライドを得、次いでそれを、塩基の存在下、式(
XI)の化合物と共に該当する2−イソプロピルチオ安息香酸オキセタン−3−
イルに変換し、そこで塩素と反応させて最後に式IXのスルホニルクロライドを
得る。そのような反応は当業者に周知である。
式Xtの化合物とその製造法は既知である(参照、例えばJ、Am、Chem、
Soc、 112.3535−3539(1990); Bull、Chem。
式Vtのスルホニルカーバメートは新規でありそして本発明の部分である。式l
の化合物の場合に上述した、R,、R,、R,、R% 、R,およびR1につい
てと同じ好ましい範囲が、式■1の中間体に適用される。それらは、例えば、式
■■のスルホンアミドをジフェニルカーバメートと塩基の存在下反応させること
により得られる。
そのような反応は当業者には既知である。
式V11のアミンは、欧州特許出願第0007687号、0030138号、0
073562号および0126711号および米国特許第4579584号に記
載されている。
N−ピリミジニル−およびN−1リアジニルカーバメートは、例えば欧州特許公
開公報(EP−A−)第0101670号に記載されている。
一般に、式1の有効成分は、o、ootないし2kg/ h a 、特にO’、
005ないし1kg/haの施用量で好結果に使用される。所望の作用のために
必要とされる施用量は試験によって決定できる。それは作用の型、作物植物およ
び雑草の発達段階、ならびにまた施用法(場所、時期、方法)に依存し、これら
のパラメータのため、それは広い範囲内で変化し得る。
式Iの化合物は有用植物である作物、特に穀草類、綿花、大豆、脂肪種子−セイ
ヨウアブラナ、トウモロコシおよびイネにおける使用に対し顕著に適当であるこ
とを示す成長抑制および除草特性によって特徴付けられ、ダイズ作物と穀草類に
おいての使用が特に好ましい。ダイズ作物中の雑草が発芽後処理で好ましく抑制
される。式Iの化合物はそれらの高い分解性により特徴付けられる。
驚くべきことに、式1の化合物そして更には式中、R,、R,、RI 、R,お
よびR7が同時に水素原子である別の式Iの化合物が、成る特定の薬害軽減剤に
対して応答することが判明した。これらの薬害軽減剤または解毒剤は、除草剤に
より起こされる薬害に対して作物植物を保護することができる(例えば、意図し
ない過剰薬量の場合)。更には、これらの解毒剤は、輪作との関連で、除草剤抵
抗性の植物に続いてその除草剤に対して抵抗性がないまたは不十分な抵抗性だけ
しか持たない作物植物をを育成する場合の作物植物を薬害から保護することがで
きる。従って、本発明は有用植物中の雑草(細葉と広葉雑草)を抑制するための
選択的除草剤組成物であって、式1の除草剤または式中、Rs 、R4、Rs、
R・およびR7が同時に水素原子である式Iの除草剤、及びその除草剤の植物毒
性に対して作物を保護するが、雑草を保護しない薬害軽減剤(拮抗剤、解毒剤)
からなる除草剤組成物、並びに有用植物の作物中の除草のためのこの組成物の使
用、または除草剤と解毒剤の組み合わせ物に関する。
本発明の組成物中で使用される薬害軽減剤は、例えば欧州特許公開公報(EP−
A−)第0492366号および欧州特許公開公報(EP−A−)第00943
49号に開示されているとおりのキノリン−8−オキシ酢酸誘導体、例えば欧州
特許公開公報(EP−A−)第0268554号に開示されているとおりのジフ
ェニルカルボン酸誘導体、および例えば欧州特許公開公報(EP−A−)第03
65484号に開示されているとおりのスルファモイルフェニル尿素誘導体に属
する。
式S1ないしS5の薬害軽減剤は本発明の組成物に使用するのに特に適している
:
式S1、S2、S3、S4およびS5の薬害軽減剤からなる特に好ましい組成物
は、使用される式lの除草剤が式2,011の化合物であるそれらである:意図
する使用によって、薬害軽減剤または解毒剤は、作物植物の種子を前処理するた
めに(種子被覆または切枝の処理)使用されまたは播種の前または後で土壌中に
導入する。
別法としては、それは純粋な有効成分としてまたは種子の発芽の前または後に除
草剤と共に適用できる。従って、植物または種子は、植物毒性化学品の適用時点
とは実質的に独立して薬害軽減剤で処理できる。別法としては、植物は植物物性
化学品と薬害軽減剤の同時適用(タンク混合)により処理され得る。発芽前処理
とは、播種前の耕作区域の処理および種子は播種されたが植物はま適用される薬
害軽減剤の除草剤に対する施用量は、適用方法に大きく依存する。一般には、薬
害軽減剤と除草剤の組み合わせのタンク混合物を使用するか、または薬害軽減剤
と除草剤の別々の適用によるいずれかによって実施されるは揚処理は、1:10
0ないしl:1、好ましくは1:20ないし1:1、特に1:1の除草剤に対す
る薬害軽減剤の比率を要求する。これと対照的に種子被覆は耕作区域のへクター
ル当りの除草剤の適用量に比例してかなりより少ない量の薬害軽減剤を要求する
。
は揚処理の場合は、概して、0.001ないし5.0kg/haの薬害軽減剤、
好ましくは0.005ないし0゜5kg/haの薬害軽減剤が適用される。
除草剤の施用量は、概して0.001と2kg/haQ間、好ましくは0.00
1と0.5kg/haの間である。
概して、薬害軽減剤0.001ないし10g/(種子kg) 、好ましくは薬害
軽減剤0.05ないし2g/(種子kg)が種子被覆の場合は、適用される。薬
害軽減剤を、播種の短時間前の種子浸漬のだめの液剤の形で適用する場合は、有
効成分を1ないしt o o o o ppm 、好ましくは100ないし11
000ppの濃度で含有する薬害軽減剤の溶液を使用するのが好都合である。
適用の目的のためには、薬害軽減剤、又は拮抗される除草剤と共に本発明に従っ
て使用される薬害軽減剤の組み合わせを、製剤技術で常用されている補助剤と共
に使用するのが好都合であり、それら補助剤は既に式Iの化合物の適用に関連し
て上で記述しである。
本発明は、式Iの新規の有効成分からなる除草と植物成長調節のための製剤、植
物成長抑制の方法に関する。
植物成長調節剤は、農業経営的に所望する、植物中のまたは植物に与える生化学
的そして生理学的および/または形態学的変形の原因になる物質である。
本発明の組成物中に含有される有効成分は、適用時期、施用量、適用形式と支配
環境によるいろいろの方法で、植物成長に影響する。例えば、式Iの植物成長調
節剤は植物の徒長を抑制できる。この型の作用は、芝生に、観賞植物の栽培で、
果樹園で、路傍に、運動場と工業区域に適用する場合に、そしてそれらだけでな
く例えばタバコ栽培におけるような2次発芽の特定抑制でも、有用である。耕作
農業では、茎強化による穀草の徒長抑制は倒伏を減少し、同様の農業経営的効果
は、脂肪種子セイヨウアブラナ、ヒマワリ、トウモロコシおよび他の作物植物で
も実現される。更に、徒長防止は単位面積当りの植物数を増加できることを意味
する。成長抑制剤を適用できる他の分野は、農園または鉄量の空間の広い作物で
の地被植物の選択的抑制であり、被覆作物をそれらを枯らすことなく強力に成長
抑制することにより行い、そのため、主作物との競争はな(なるが、浸食防止、
窒素固定化および土壌流失のような農業経営的に役立つ効果が保持される。
植物成長を抑制する方法は、突然変異の意味で、植物の遺伝学的な特性によって
決定されるような植物のライフサイクルを変えることなく植物の自然の発達を管
理する方法を意味するものと理解されるべきである。植物調節の方法は、個々の
場合で決定される植物の発達時期の個々の時点で使用される。式Iの有効成分は
植物の発芽の前または後、例えば、既に種または苗木に、根、塊茎、茎、葉、花
または他の植物部分に施用されつる。これは例えば、有効成分を、純粋な有効成
分としてまたは組成物の形態として植物に施用することによって、および/また
は植物の栄養培地(土壌)を処理することにより行うことができる。
種々の方法および技術は、植物成長を調節するために式Iの化合物または式Iの
化合物を含む組成物を使用するのに適する。例えば、以下の通りである:i)種
子被覆
a)種子表面を均一に覆うまで、容器中で振り混ぜることにより、水和剤として
調合された有効成分で種子を被覆する(乾式被覆)。種子1kgにつき式1の有
効成分を4gまでをこの方法において使用する(50%製剤の場合、水和剤8.
0gまで)。
b)式Iの有効成分の乳剤原液で、または水和剤として調合される式lの有効成
分の水性溶液でa)法を使用して種子をドレッシングする (湿式被覆)。
c)to(10ppmまでの式Iの有効成分を含む溶液中で1ないし72時間、
種子を浸し、必要ならば、続いて種子を乾燥させることにより種子を被覆する(
種子浸漬法)。
当然、有効成分での処理が目的の作物に完全に向けられるため、種子のドレッシ
ングまたは発芽した苗木の処理は本質的に好ましい施用方法である。概して、有
効成分の0.001gないし4.0gは一般に1kgの種子につき使用されるが
、選択された方法に依存して両方の濃度限界からはずれることも可能であり、そ
の選択された方法は他の有効成分または微量元素の添加もまた可能にする(反復
被覆)。
if)有効成分の放出制御
溶解した有効成分を、鉱物粒状担体または重合粒子(尿素/ホルムアルデヒド)
に適用し、乾燥させる。必要ならば、有効成分を特定期間かけて放出できる被覆
を適用できる(被覆粒剤)。
式Iの化合物は合成によって得られるそのままの形態で、あるいは好ましくは製
剤業界で慣用の補助剤と共に使用され、そのため公知の方法により、例えば、乳
剤原液、直接噴霧可能な、又は希釈可能な溶液、希釈乳剤、水和剤、水溶剤、粉
剤、粒剤および例えば、ポリマー物質中のカプセル化剤に加工される。噴霧、霧
化、散粉、湿展、散水又は注水のような適用方法ならびに組成物の型は、所期目
的および使用環境に適合するように選ばれる。
製剤、即ち式Iの有効成分および必要な場合には、1種またはそれ以上の固体又
は液体の補助剤を含む組成物、製剤または調合物は、公知の方法により、例えば
有効成分を溶媒、固体担体および適当な場合には表面活性化合物(界面活性剤)
のような増量剤と十分に混合および/又は摩砕することにより、製造される。
下記のものは溶媒として適当である:芳香族炭化水素特に炭素原子数8ないし1
2の部分、例えばキシレン混合物またはアルキル化ナフタレンのようなアルキル
ベンゼンの混合物;パラフィン、シクロヘキサンまたはテトラヒドロナフタレン
のような脂肪族および脂環式炭化水素:エタノール、プロパツールまたはブタノ
ールのようなアルコール;プロピレングリコールまたはジプロピレングリコール
エーテルのようなグリコール並びにそれらのエーテルおよびエステル;シクロヘ
キサノン、イソホロンまたはジアセトンアルコールのようなケトン、N−メチル
−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシドのような強極性溶媒または水;ナタネ
油、ヒマシ油または大豆油のような植物油、並びにそれらのエステル;シリコン
油も適当である。
例えば粉剤および分散性粉末に使用する固体担体は通常、方解石、タルク、カオ
リン、モンモリロナイトまたはアタパルジャイトのような天然岩石粉末である。
物性を改良するため、高分散ケイ酸または高分散吸収性ポリマーを添加すること
もできる。適当な粒剤、粒状化吸着性担体は多孔性型のもので、例えば、軽石、
破壊レンガ、セビオライトまたはベントナイトであり、ならびに適当な非吸収性
担体は例えば方解石または砂である。さらに広範囲の前もって粒状化した無機質
または有機質の物質、特にドロマイトまたは粉末化植物残骸が使用されつる。
製剤される式Iで表わされる有効成分の性質により、適する界面活性化合物は、
良好な乳化、分散および水和性を有する非イオン性、陽イオン性および/又は陰
イオン性界面活性剤である。界面活性剤の用語はまた界面活性剤の混合物も意味
するものと理解すべきである。
いわゆる水溶柱石ケンまたは水溶性合成界面活性成分は適当な陰イオン性界面活
性剤である。
石ケンは高級脂肪酸(C1,〜C、t)のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩
、または未置換または置換のアンモニウム塩、例えばオレイン酸またはステアリ
ン酸、あるいは例えばココナツツ油または獣脂から得られる天然脂肪酸混合物の
ナトリウムまたはカリウム塩である。脂肪酸メチルタウリン塩もさらにまた適す
る。
しかし、いわゆる合成界面活性剤は、特に脂肪アルコールスルホネート、脂肪ア
ルコールスルフェート、スルホン化ベンズイミダゾール誘導体またはアルキルア
リールスルホネートが、さらに頻繁に使用される。
脂肪アルコールスルホネートまたは脂肪アルコールスルフェートは一般に、アル
カリ金属塩、アルカリ土類金属塩、または未置換または置換のアンモニウム塩の
形態であり、アシル基のアルキル部分をも含む炭素原子数8ないし22のアルキ
ル基を含み、例えば、リグノスルホン酸、ドデシルサルフェートまたは天然脂肪
酸から得られる脂肪アルコールサルフェートの混合物のナトリウムまたはカルシ
ウム塩である。これらの化合物はまた、硫酸エステルの塩、および脂肪酸アルコ
ール/エチレンオキシド付加物のスルホン酸の塩も含まれる。スルホン化ベンズ
イミダゾール誘導体は、好ましくは二つのスルホン酸基と8ないし22の炭素原
子を含む一つの脂肪酸基とを含む。アルキルアリールスルホネートの例は、ドデ
シルベンゼンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸またはナフタレンスル
ホン酸/ホルムアルデヒド縮合物のナトリウム、カルシウムまたはトリエタノー
ルアミン塩である。
対応するホスフェート、例えば、エチレンオキシド4ないし14モルを持つp−
ノニルフェノールの付加物のリン酸エステルの塩があげられ、またはリン脂質も
またさらに適当である。
非イオン性界面活性剤は好ましくは主に、脂肪族または脂環式アルコール、また
は飽和または不飽和脂肪酸およびアルキルフェノールのポリグリコールエーテル
誘導体であり、該誘導体は3ないし30個のグリコールエーテル基、および(脂
肪族)炭化水素基に8ないし20個の炭素原子、そしてアルキルフェノールのア
ルキル部分に6ないし18個の炭素原子を含み得る。
他の非イオン性界面活性剤はポリプロピレングリコール、エチレンジアミノポリ
プロピレングリコールおよびアルキル鎖中に1ないし10個の炭素原子を含むア
ルキルポリプロピレングリコールとのポリエチレンオキシド水溶性付加物であり
、その付加物は20ないし250個のエチレングリコールエーテル基、および1
0ないし100個のプロピレングリコールエーテル基を含む。上記の化合物は通
常、プロピレングリコール単位当たり1ないし5のエチレングリコール単位を含
む。
非イオン性界面活性剤の代表例は、ノニルフェノール−ポリエトキシエタノール
、ヒマシ油・ポリグリコールエーテル、ポリプロピレン/ポリエチレンオキシド
・付加物、トリブチルフェノキシポリエトキシエタノール、ポリエチレングリコ
ールおよびオクチルフェノキシポリエトキシエタノールである。
ポリオキシエチレンソルビタントリオレートのようなポリオキシエチレンソルビ
タンの脂肪酸エステルもさらに適当である。
カチオン性界面活性剤は、特にN−置換基として少なくとも一つの炭素原子数8
ないし22のアルキル基と、他の置換基として未置換のまたは低級ハロゲン化ア
ルキル基、ベンジル基または低級ヒドロキシアルキル基とを含む第四アンモニウ
ム塩である。
塩はハライド、メチルスルフェートまたはエチルスルフェート、例えば、ステア
リルトリメチルアンモニウムクロリドまたはベンジルジ(2−クロロエチル)エ
チルアンモニウムブロマイドの形態が好ましい。
製剤業界で慣用的に使用されている界面活性剤は特に、以下の刊行物に記載され
ている。
”マクカッチャンズ デタージェンツ アンド エマルジファイアーズ アニュ
アル(Me Cujcheon’ sDetergents and Bmul
sifiers Annual ) 、マック出版社、グレン ロック、ニュー
シャーシー州、1988年;エム アンド ジエー、アシュ著、′エンサイクロ
ペディア オブ サーファクタンッ(Encyclopedia ofSurf
actants )”1〜3巻、ケミカル出版社、ニューヨーク、1980−1
981年;
ヘルムト スタッヒエ(Dr、Helmut 5tache)著、′テンシドー
タッシェンプーフ(Tensid−Taschenbuch) 、カルル ハン
ザ−出版社、ミュンヘン/ウィーン(CarlHanser−Verlag 、
Munfch/Vjenna)、1981年。
通常、製剤は式1の有効成分0.1ないし99%、特に0.1ないし95%、固
体または液体補助剤工ないし99%、および界面活性剤0ないし25%、特に0
. 1ないし25%を含む。
使用者は一般に希釈した組成物を使用するが、市販の製品は原液として製剤化さ
れるのが好ましい。
組成物は安定剤、例えば、エポキシ化されているか、またはエポキシ化されてい
ない植物油(エポキシ化ココナツツ油、ナタネ油または大豆油)、消泡剤、例え
ば、シリコン油、防腐剤、粘度調節剤、結合剤、粘着付与剤並びに特別の効果を
出すための肥料のような他の補助剤、または他の有効物質を含むこともできる。
好ましい製剤は、特に下記の組成を持つ:(%=重量%パーセント)。
乳剤原液:
有効成分 エないし20%、好ましくは5ないし10%
表面活性剤 5ないし30%、好ましくは10ないし20%
液体担体 5ないし94%、好ましくは70ないし85%
粉剤:
有効成分 0.1ないし10%、好ましくは0.1ないし1%
固体担体 99.9ないし90%、好ましくは99゜9ないし99%
懸濁原液:
有効成分 5ないし75%、好ましくは10ないし50%
水 94ないし24%、好ましくは88ないし30%
表面活性剤 1ないし40%、好ましくは2ないし30%
水和剤:
有効成分 0.5ないし90%、好ましくは1ないし80%
表面活性剤 0.5ないし20%、好ましくは1ないし15%
固体担体 5ないし95%、好ましくは15ないし90%
粒剤:
有効成分 0.5ないし30%、好ましくは3ないし15%
固体担体材料 99.5ないし70%、好ましくは97ないし85%
2−(3−メチルオキセタン−8−オキシカルボニル)フェニルスルホニルクロ
ライド
3−メチル−3−ヒドロキシオキセタン6.25g、2−クロロスルホニルベン
ゾイルクロライド16.1 gおよび無水塩化メチレン40m1の混合物を、0
−5℃で、ピリジン5.6g(無水塩化メチレン10m1に溶解した)と共に処
理する。次いで、反応混合物を20ないし25℃の温度で2時間にわたり攪拌し
、次いで氷水100m1中へ注入する。有機相を分離し、そしてM g t S
Oa上で乾燥し、表記化合物の塩化メチレン溶液を更に操作することなしに実
施例H2で使用する。
アンモニア1.5gを実施例H1で得られた塩化メチレン溶液中へ口ないし5℃
で1時間にわたり通過せしめる。
混合物をろ過し、次いで氷水で処理し、そして有機相を分離し、水で洗浄し、M
g*SO4上で乾燥する。減圧下乾燥した後、表記化合物の結晶2.1gを得る
二m。
1)、113−115℃。
実施例H3;
N−[2−(3−メチルオキセタン−8−オキシカルボニル)フェニルスルホニ
ル]−N″−(4,6−シメチルー1,3−ピリミジニル)尿素
2−(3−メチルオキセタン−3−オキシカルボニル)フェニルスルホンアミド
1.36g、4.6−シメチルー1.3−ピリミジニル・フェニルカーバメー
ト1.35gおよび無水ジメチルホルムアミド4mlを、20−25℃で滴下し
て、ジアザビシクロ−[5,4,0] −7−ウンデセン0.78 gとジメチ
ルホルムアミド1mlの混合物と処理し、次いで20ないし25℃の温度で4時
間にわたり攪拌する。混合物を水と10%塩酸中に移しpH5にした後、m、p
、L96−198℃(分解)の表記化合物が結晶析出する。
下記の表に示した式Iの化合物と、それらの中間体を同様にして製造する。
表1:下式の中間体
第2表二式Iの化合物
2.023 HHHCH3CH,HHCH30CH3CH2,024HHHCH
,CI(、HHOCH,0CI(3CH2,025HHHCH3CH3HH0C
H30CHF、CH2,026HHHQ(3G(、HHQ 0CR3G(λ02
7 HHHCH3CH3HHOCH,CH,NZ、028 HHHCH3CH3
HHOCH,−<NZ、029 HHHQ(3CH3HHOCH,0CH3N2
.030 HHHCH3CH3HHHNCHlQC,H3N2.031 HHH
CH30H3CH2HCH,CH,CH2、,032HHHCH3CH,CH,
HCH,0CH3CH2、,037HHHCH2O(3CH3HOCH3< N
2.046 HHHCH3CH3CH3CH300(3−〈N(%=重量%)
表2の有効成分 20% 50% 0.5%リグノスルホン酸ナトリウム 5%
5% 5%ラウリル硫酸ナトリウム 3% −−
ジイソブチ#tフタレンスル本ン [)IJOム − 6% 6%オクチルフェ
ノールポリエチレングリコールエーテル −2% 2%(エチレンオキシド 7
−8モl/)
高分散ケイ酸 5% 27% 27%
有効成分は添加剤と十分に混合し、混合物を適当なミル中で充分に粉砕する。所
望の濃度の懸濁液を得るために、水で希釈できる水和剤を得る。
表2の有効成分 75% 5%
ジブチルナフタレンスルネン酸ナトリウム 2% 0.5%アラビアゴム 1%
1%
硫酸ナトリウム 5% 3%
リグノスル本ン酸ナトリウム 17% 15%カオリン 75.5%
水との希釈により上記のような濃厚物から、所望の濃度の乳剤が得られる。
表2の有効成分 0.1% 1%
タルク 99.9% −
カオリン 99%
担体と有効成分を均質に混合することにより、すぐに使用できる粉剤が得られる
。
表2の有効成分 10% 1%
リグノスルホン酸ナトリウム 2% 2%カルボキシメチルセルロース 1%
1%カオリン 87% 96%
有効成分を添加剤と混合し、そして混合物を粉砕し次いで水で湿らせる。混合物
を押し出し次いで押出物を空気流で乾燥する。
F5.被覆粒剤
表2の有効成分 3%
ポリエチレングリコール(分子量200) 3%カオリン 94%
ミキサー中で、ポリエチレングリコールで湿らせたカオリンを、細粉された有効
成分で均一に被覆する。この方法で、非粉塵性の被覆粒剤が得られる。
F6.懸濁原液 a) b)
表2の有効成分 5% 40%
エチレングリコール 10% 10%
ノニルフェノールポリエチレングリコールエーテル 1% 6%(エチレンオキ
シド15モル)
リグノスルホン酸ナトリウム 5% 10%カルボキシメチルセルロース 1%
1%37%水性ホルムアルデヒド溶液 0.2% 0.2%75%水性乳剤形
態のシリコン油 0.8% 0.8%水 77% 32%
細粉された有効成分を添加剤と均一に混合する。水と希釈することによってあら
ゆる所望の濃度の懸濁液が作れる懸濁原液が得られる。
F7.塩溶液
表2の有効成分 5%
イソプロピルアミン 1%
オクチルフェノールポリエチレングリコールエーテル 3%(エチレンオキシド
78モル)
水 91%
プラスチックスの鉢を、膨張させたバーミキュライト(密度:0.135g/c
m”、水吸着容量: 0.5651/Iりで満たす。非吸着性バーミキュライト
を70ppmの濃度で有効成分を含む、脱イオン水中の水性有効成分エマルジョ
ンで飽和した後、以下の植物の種をその表面に播く:おらんだがらしくNast
urtium officinalis)、ヌカボまたはコヌカグサの一種(A
grostis tenuis) 。
ハコベ(Stellaria media)およびシバの一種(Digitar
ia sanguinaljs)。
試験容器を引続き、20℃、約20kiuxの照度および70%の相対大気湿度
で制御された気象調節室に保持する。4ないし5日の発芽期に、鉢は局所的な大
気湿度を増すため、透明な材料で覆われ、そして脱イオン水で潅水する。5日後
、0.5%の市販の液体肥料を潅流水に加える。播種12日後、試験は評価され
、試験植物上の作用を以下の尺度を使って評価する。
1:植物が発芽しないか、または完全に枯れる2−3=著しい薬害作用
4−6=中位の作用
7−8=弱い作用
9:作用なしく未処理の対照物と同様)この試験で、式Iの化合物は強力な除草
作用を示す。
表B1:発芽前の作用
有効成分の濃度ニア0ppm
試験植物
2.001 1 2 1 2
2.002 3 3 1 2
2.006 1 2 2 1
2.010 2 2 2 2
2.011 2 2 1 2
2.017 2 2 2 2
発芽後(4ないし6葉期段階)、多数の雑草について単子稟および双子集の両方
にヘクタールあたり試験化合物8−500gの投与濃度で有効成分の実施例F6
に従った水性分散液を噴霧し、植物を24−28℃および相対大気温度45−6
0%で保つ。試験を処理後15日間にわたって評価する。
3週間後、除草作用を9段階指標(1=完全に枯らす、9=作用無し)を使用し
て、未処理の対照群と比較して評価する。6ないし9の指数(特に7ないし9)
は良好な耐性(特に作物植物の場合)を示す。
この試験で、式Iの化合物は強力な除草作用を示す。
同様な結果は、式Iの化合物をFlないしF5およびF7に従って製剤した場合
にも得られる。
実施例B3:穀草中の除草剤NO12,011のおよび式S1と82の薬害軽減
剤との除草剤の混合物の発芽後の植物薬害の影響
コムギを、プラスチック製鉢中、温室の条件下で3葉期まで生育する。この段階
で、式Iの除草剤を純粋な有効成分として並びに薬害軽減剤との除草剤の混合物
として、試験植物に適用する。適用は水5001/ha(ヘクタール)を使用し
て試験物質の水性けん濁液の形で実施する。除草剤の施用量は80/15/8
g/haであり、薬害軽減剤の施用量は60g/haである。適用後28日で、
試験をパーセンテージ係数を使用して評価する。100%は試験植物が枯死した
ことを意味し、0%は植物薬害の無かったことを意味する。結果は、使用された
薬害軽減剤が、コムギにおける除草剤による薬害を顕著に減らす能力のあること
を示している。薬害軽減剤の優れた防護作用の例を表B3に示す。
2.011 − 80 70 60
2.011 SL 60 60 20 152.011 S2 60 60 2
5 10実施例B4:トウモロコシ中の除草剤No、2.011のおよび式S3
の薬害軽減剤との除草剤の混合物の発芽後の植物薬害の影響
トウモロコシを、プラスチック製鉢中、温室の条件下で2.5葉期まで生育する
。この段階で、式Iの除草剤を純粋な有効成分として並びに薬害軽減剤との除草
剤の混合物として、試験植物に適用する。適用は水5001/ha(ヘクタール
)を使用して試験物質の水性けん濁液の形で実施する。除草剤の施用量は30/
15/8 g/haであり、薬害軽減剤の施用量は60g/haである。
適用後12日で、試験をパーセンテージ係数を使用して評価する。100%は試
験植物が枯死したことを意味し、0%は植物薬害の無かったことを意味する。結
果は、使用された薬害軽減剤が、トウモロコシにおける除草剤による薬害を顕著
に減らす能力のあることを示している。
薬害軽減剤の優れた防護作用の例を表B4に示す。
2.011 − 90 80 75
実施例B5:トウモロコシ栽培で種子被覆のために、式S4の薬害軽減剤との除
草剤No、2.011の混合物を使用
トウモロコシ種子を1g/(種子1kg)の薬量と同等の量で式S4の薬害軽減
剤で被覆する。次いで、トウモロコシを、プラスチック製鉢中、温室の条件下で
Z5葉期まで生育する。未処理のトウモロコシを同じ期まで処理したトウモロコ
シと平行して生育する。この段階で、式1の除草剤を処理したそして未処理の試
験植物に適用する。適用を、除草剤の水性けん濁液の形で水5001/ h a
で実施する。除草剤の施用量は30または15g/ h aでありそして式S4
の種子被覆薬害軽減剤の施用量は1g/(種子kg)である。適用14日後に、
試験をパーセンテージ係数を使用して評価する。100%は試験植物が枯死した
ことを意味し、0%は植物薬害の無かったことを意味する。結果は、種子被覆剤
として使用された薬害軽減剤が、除草剤の発芽後処理による薬害を顕著に減らす
ことを示している。同様な結果は、除草剤が発芽前に適用された場合も得られる
。薬害軽減剤の優れた防護作用の例を表B5に示す。
2.011 − 90 80 75
2.011 S4 80 20 10 05フロントページの続き
(81)指定国 EP(AT、BE、CH,DE。
DK、ES、FR,GB、GR,IE、IT、LU、MC,NL、 PT、 S
E)、0A(BP、BJ、CF、CG、 CI、 CM、 GA、 GN、 M
L、 MR,SN、 TD。
TG)、 AU、 BB、 BG、 BR,CA、 CZ、 FI。
HU、JP、KP、KR,LK、MG、MN、MW、NO,NZ、 PL、 R
O,RU、SD、 SK、 UA、 US
Claims (20)
- 1.ラスタの第1の主方向にn1画素/mmの解像度と、ラスタの第2の主方向 にm1画素/mmの解像度で第1のラスタに配置された2進画素の値の形式で画 像を表わすディジタル画像データを受ける入力手段と;該入力手段に接続され、 受けた該ディジタル画像データを、ラスタの第1の主方向にn2画素/mmの解 像度と、ラスタの第2の主方向にm2画素/mmの解像度で、n2はn1よりも 大きく、m2はm1よりも小さい第2のラスタに配置された2進画素の値の形式 で同一面像を表わす新しいディジタル画像データに変換する解像度変換ユニット と;該解像度変換ユニットに接続され、該解像度変換ユニットから受けた該新し いディジタル画像データに基づいて再生媒体に画像を表示する再生ユニットとよ りなる画像再生装置。
- 2.前記再生ユニットは、ラスタの第1と第2の主方向において画素の寸法は第 1のラスタの画素の対応する寸法の比の(n1*m2)/(n2*m1)倍の比 である画素ラスタに従って画像データを表示するよう適合されていることを特徴 とする請求項1記載の装置。
- 3.前記解像度変換ユニットは、元の画像データを新しい画像データに変換する 際に、局部的な平均画素の値を実質的に等しく保つように適合されている請求項 1又は2記載の装置。
- 4.前記解像度変換ユニットは、前記元の画像データの少なくとも一つのA*B 個の画素のブロックを記憶する記憶手段と、該記憶手段に接続され、該A*B個 の画素のブロックを、該A*B個の画素のブロックと同じ画像の部分を表わす前 記新しい画像データのC*D個の画素のブロックに変換する変換手段とを設けら れており、ここで、A、B、C及びDは整数であることを特徴とする請求項3記 載の装置。
- 5.前記変換手段は、一定のセルフリピーティング系に従って、前記元の画像デ ータの画素の値を前記新しい画像データの画素の値に転送する回路よりなる請求 項4記載の装置。
- 6.前記変換手段は、前記A*B個の画素の値により制御されるとき、該値に対 応するC*D個の画素の値のパターンを出力する回路よりなる請求項4記載の装 置。
- 7.前記変換手段は、前記A*B個の画素と該画素の周辺の多数の画素の値によ り制御されるとき、該値に対応するC*D個の画素の値のパターンを出力する回 路よりなる請求項4記載の装置。
- 8.A*BはC*Dに等しい請求項4、6又は7記載の装置。
- 9.数値C及びDの一方は1に等しく、その他方は1よりも大きい請求項4乃至 6のうちいずれか1項記載の装置。
- 10.請求項4乃至7のうちいずれか1項記載の装置に使用される解像度変換ユ ニット。
- 11.ラスタの第1の主方向にn1画素/mmの解像度と、ラスタの第2の主方 向にm1画素/mmの解像度を有する第1のラスタに配置された2進画素の値よ りなるディジタル画像データにより表わされた画像を再生する方法であって、該 ディジタル画像データを、そのラスタの第1の主方向にn2画素/mmの解像度 と、そのラスタの第2の主方向にm2画素/mmの解像度を有する第2のラスタ に配置された2値画素の値の形式で同一画像データを表わす新しい画像データに 変換し、n2はnlよりも大きく、m2はm1よりも小さく、該新しいディジタ ル画像データに基づいて該画像を再生媒体に表示することを特徴とする方法。
- 12.前記新しい画像データは、前記ラスタの第1と第2の主方向における画素 の寸法が、第1のラスタの画素の対応する寸法の比の(n1*m2)/(n2* m1)倍の比である画素ラスタに従って表示されることを特徴とする請求項11 記載の方法。
- 13.元の画像データを前記新しい画像データに変換する際に、局部的な平均画 素の値は実質的に等しく保たれることを特徴とする請求項11又は12記載の方 法。
- 14.前記元の画像データのA*B個の画素のブロックは、毎回、該A*B個の 画素のブロックと同じ画像の部分を表わす前記新しい面像データのC*D個の画 素のブロックに変換され、ここで、A、B、C及びDは整数であることを特徴と する請求項13記載の方法。
- 15.前記元の画素の値は、一定のセルフリピーティング系に従って、前記新し い画素に1対1対応で割り当てられることを特徴とする請求項14記載の方法。
- 16.各パターンに対して少なくとも一つの対応するC*D個の画素の値のパタ ーンを伴うA*B個の画素の値のパターンのテーブルを事前に作ることにより、 元の画像データを新しい画像データに変換する際に、該元の画像データのA*B 個の画素のブロックに対して毎回、該テーブル内の上記ブロックの画素の値のパ ターンを探索し、該テーブルの対応するパターンに応じて、該新しい画像データ のC*D個の画素の対応するブロックの画素に値を割り当てることを特徴とする 請求項14記載の方法。
- 17.2以上のC*D個の画素の値のパターンがA*B個の画素の値のパターン に対応する前記テーブルに格納され、元の画像データを新しい画像データに変換 する間に、該A*B個の画素の周辺にある該元の画像データの画素の値を参照し て、該元の画像データのA*B個の画素のブロックに対する該C*D個の画素の 値の対応するパターンから選択される請求項16記載の方法。
- 18.各パターンに対して少なくとも一つのC*D個の画素の値の対応するパタ ーンを伴うE*F個の画素の値のパターンのテーブルを事前に作り、ここで、E 及びFは整数であり、E*FはA*Bよりも大きく、元の画像データを新しい画 像データに変換する際に、該元の画像データのE*F個の画素のブロックに対し て毎回、該テーブル内の上記ブロックの画素の値のパターンを探索し、該テーブ ルの対応するパターンに応じて、該E*F個の画素のブロックに含まれる該元の 画像データのA*B個の画素のブロックに対応して、該新しい画像データのC* D個の画素のブロツクの画素に値を割り当てる請求項14記載の方法。
- 19.A*BはC*Dに等しい請求項14、16、17又は18記載の方法。
- 20.数値C及びDの一方は1に等しく、その他方は1よりも大きい請求項14 乃至18のうちいずれか1項記載の方法。
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