JPH085875B2 - 除草性ピリジンスルフオニルウレア類 - Google Patents

除草性ピリジンスルフオニルウレア類

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JPH085875B2
JPH085875B2 JP63501327A JP50132788A JPH085875B2 JP H085875 B2 JPH085875 B2 JP H085875B2 JP 63501327 A JP63501327 A JP 63501327A JP 50132788 A JP50132788 A JP 50132788A JP H085875 B2 JPH085875 B2 JP H085875B2
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    • C07D401/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • A01N47/00Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本出願のピリジンスルフオニルウレア類は発芽前及び
発芽後除草剤として高い活性を示す。特に、トウモロコ
シ(corn)に対する安全性が多くの除草剤で証明されて
いる。
欧州特許(EP−A)第13,480号には、次式 式中、R1はH,Cl,Br,F,C1−C4アルキル,C1−C4アルコ
キシ,C1−C4アルキルチオ,NO2又はCO2R5を表す、 で表される除草性スルフオンアミド類が開示されてい
る。
1984年3月6日発行の米国特許第4,435,206号及び198
5年6月11日発行の米国特許第4,522,645号にはR1(但
し、R1はH,Cl,Br,F,C1−C4アルキル、C1−C4アルコキ
シ,C1−C4アルキルチオ,NO2,CF3,CO2R5又はSO2NR6R
7を表す)で3位が置換された2−ピリジンスルフオニ
ルウレア類が開示されている。
米国特許第4,339,267号には、次式 式中、R4はH,Cl,Br,F,C1−C4アルキル,C1−C4アルコ
キシ,NO2,CO2R6又はSR13を表す、 で表される除草性スルフオンアミド類が開示されてい
る。
欧州特許(EP−A)第30,433号には、次式 式中、XはHを表し、R14はH又はCH3を表し、R3はH,
F,Cl,Br,CH3,OCH3,NO2,CO2R11又はS(O)nR12を表
す、 で表される除草性スルフオンアミド類が開示されてい
る。
米国特許第4,456,469号には、次式 式中、RはC1−C6アルキル、C3−C6アルケニル,C2
C4アルコキシアルキル,C5−C6シクロアルキル,R′OCH2
CH2OCH2,R′OCH2CH2OCH2CH2CF3,CF3CH2,HGLCCF2又はHCF2を表し、ZはH,F,Cl,Br,
CH3,OCH3又はSCH3を表す、 で表される除草性スルフオンアミド類が開示されてい
る。
米国特許第4,487,626号には、次式 式中、Aは、 を表し、R2はH,F,Cl,Br,C1−C4アルキル,C1−C4アル
コキシ,NO2,CO2R15,S(O)mR16,SO2NR18R19又はSO2
N(OCH3)CH3を表す、 で表される除草性スルフオンアミド類が開示されてい
る。
米国特許第4,421,550号には、次式 式中、Zは、 を表し、R16はH,C1−C4アルキル,C1−C4アルコキシ,
F,Cl,Br,CF3,CO2R20,SO2NR10R11又はSO2N(OCH3)CH3
又はS(O)nR13を表す、 で表される除草性スルフオンアミド類が開示されてい
る。
米国特許第4,496,392号には、次式 式中、R3はCl,SO2CH3又はSO2N(CH32を表す、 で表される除草性スルフオンアミド類が開示されてい
る。
欧州特許(EP−A)第84,224号には、次式 式中、Aは を表し、R16はH,C1−C4アルキル,C1−C4アルコキシ,
F,Cl,Br,CF3,CO2R9,SO2NR10R11又はSO2N(OCH3)CH3
又はS(O)nR13を表す、 で表される除草性スルフオンアミド類が開示されてい
る。
欧州特許(EP−A)第125,846号には、次式 式中、Jは を表し、R3はCl,SO2CH3,SO2N(CH32,OCH3,NO2
はN(CH32に表す、 で表される除草性スルフオンアミド類が開示されてい
る。
欧州特許(EP−A)第155,767号には、次式 式中、Jは を表し、R5はH,CH3,Cl,Br,CO2R15,C(O)NR16R17,S
O2NR16R17,SO2N(OCH3)CH3,SO2R又はNO2を表す、 で表される除草性スルフオンアミド類が開示されてい
る。
欧州特許(EP−A)第161,905号には、次式 式中、R4はCH3,CH2CH3,OCH3,OCH2CH3,F,Cl.Br,SO2
NR16R17,SO2N(OCH3)CH3,S(O)nR19,C3−C4アルケ
ニロキシ又はC3−C4アルキニロキシを表す、 で表される除草性スルフオンアミド類が開示されてい
る。
欧州特許(EP−A)第164,269号には、次式 式中、R4はCH3,CH2CH3,OCH3,OCH2CH3,F,Cl,Br,SO2
NR11R12,SO2(OCH3)CH3又はS(O)nR13を表す、 で表される除草性スルフオンアミド類が開示されてい
る。
欧州特許(EP−A)第171,286号には、次式 式中、R4はCH3,CH2CH3,OCH3,OCH2CH3,F,Cl,Br,SO2
NR18R19,SO2N(OCH3)CH3,S(O)nR21,C3−C4アルケ
ニロキシ,CH2OCH3又はCH2OCH2CH3を表す、 で表される除草性スルフオンアミド類が開示されてい
る。
1983年12月14日に公開された南アフリカ特許出願83/4
305号には、下記式 式中、R2はH,C1−C3アルキル,C1−C3ハロアルキル,
ハロゲン,NO2,C1−C3アルコキシ,C(W)R8,SO2NR6R
7,S(O)n−C1−C3アルキル又はC(O)R9を表し、R
3はH,ハロゲン,C1−C3アルキル,OCH3,NO2,またはCF
3を表し、R5はH,NO2,F,Cl,Br,CH3,CF3,S(O)nC1−C
3アルキル,C(O)C1−C4アルコキシ又はC1−C3アルコ
キシを表し、YはO又はSを表す、 で表される除草性スルフオンアミド類が開示されてい
る。
1984年3月8日に公開された南アフリカ特許出願83/6
639号には、下記式 式中、AはC3−C6アルキニル基;ハロゲン,C1−C4
ルコキシ,C1−C4アルキルチオ,C1−C4アルキルスルフ
ィニル,C1−C4アルキルスルフォニル,C1−C4ハロアル
コキシ,C1−C4ハロアルキルチオ,C1−C4ハルアルキル
スルフィニル又はC1−C4ハロアルキルスルフォニルで置
換されたC1−C6アルキル基;非置換の又はC1−C6アルキ
ルで置換されたC2−C4アルケニル基;ハロゲン,シア
ノ,ニトロ,C1−C4アルキル,C1−C4ハロアルキル,−
X−C1−C4アルキル,C1−C4アルコキシカルボニル,ア
ミノ,モノ−又はジ(C1−C4アルキル)アミノ、カルバ
モイル,モノ−又はジ−(C1−C4アルキル)カルバモイ
ル、スルファモイル、モノ−又はジ−(C1−C4アルキ
ル)スルファモイル基で置換されたフェニル基を表し; R1は水素,ハロゲン,C1−C4アルキル,C1−C4アルコ
キシ,C1−C4ハロアルキル,C1−C4ハロアルコキシ,C2
−C5アルコキシアルコキシ,C1−C5アルキルチオ,C1
C5アルキルスルフィニル又はC1−C5アルキルスルフオニ
ルを表し; XはO,S,SO又はSO2を表す、 で表される除草性スルフオンアミド類が開示されてい
る。
米国特許第4,518,776号には、次式 式中、R1は一部S(O)nC1−C4アルキル,SO2ジ−C
1−C4アルキルアミノ又はCO2−C1−C2アルキルを表し、 R2はH,ハロゲン,CF3,NO2,C1−C4アルキル又はC1
C4アルコキシをあらわす で表される除草性スルフオンアミド類の製造方法が開示
されている。
この特許には本発明の化合物の幾つかが一般的に開示
されているが、クレームされている物はない。
1984年2月29日公開の欧州特許(EP−A)第101,670
には、次式 式中、R1はQ−C1−C4アルキル,SO2−ジ−C1−C4
ルキルアミノ又はCO2−C1−C4アルキルを表し、QはS
又はS(O)nを表し; R2はH,ハロゲン,CF3,NO2,C1−C4アルキル又はC1
C4アルコキシを表す、 で表される除草性スルフオンアミド類の製造方法が開示
されている。
この出願には本発明の化合物の幾つかが一般的に開示
されている。
米国特許第4,521,597号には、次式 式中、R3はH,F,Cl,Br,NO2,OCH3又はCF3を表し; R5はS(O)mC1−C5アルキル,SO2NR8R9又はCOR7
表し; R6はH,F,CH3又はOCH3を表す、 で表される除草性スルフオンアミド類の製造方法が開示
されている。
この特許には本発明の化合物の幾つかが一般的に開示
されているが、クレームされている物はない。
1986年6月11日公開の欧州特許(EP−A)第184,385
号には、トマト類や芝生中での選択的雑草防除のための
下記化合物が開始されている。
米国特許出願第874,307号には除草性−アルキルカ
ルボニル−ピリジンスルフオニルウレア類が開示されて
いる。
米国特許出願第957,137号には除草性−置換−ピリ
ジンスルフオニルウレア類が開示されている。
発明の要約 本発明は、式Iで表される新規化合物、それらを含有
する農業上好適な組成物及び発芽前及び/又は発芽後除
草剤又は植物成長調節剤としての利用方法に関する。
式中 Jは下記式 RはH又はCH3; WはO又はS; を表し;尚 R1はRf又はRg; RfはH、C1−C3アルキル、C1−C3ハロアルキル、ハロ
ゲン、NO2、C1−C3アルコキシ、C1−C3アルキルチオ又
はCN; RgはC1−C3ハロアルキル;C2−C3アルキル;シクロプ
ロピル;C1−C3アルコキシ,OH,C1−C2アルキルチオ又は
CNで置換されたC1−C3アルキル;CN;W2R11;アミノ;C1
−C3アルキルアミノ又はC1−C3ジアルキルアミノ; R2はC1−C4アルキルスルフイニル、C1−C4アルキルス
ルフォニル、C3−C5シクロアルキルチオ、C3−C5シクロ
アルキルスルフイニル、C3−C5シクロアルキルスルフォ
ニル、SO2NH2、SO2NRdRe、SO2NR7′R8、SO2NR7R8、OSO2
R8、SO2OR8、N3、P(W1)(OC1−C2アルキル)2、CN、
CO2R9、CO2R9′、CH2F、CF2H、CH2Cl、CCl2HまたはC2
C4ハロアルキル; R3はC1−C4アルキルスルフイニル、C3−C5シクロアル
キルチオ、C3−C5シクロアルキルスルフイニル、C3−C4
シクロアルキルスルフォニル、SO2NH2、SO2NRdRe、SO2N
R7R8、SO2NR7′R8、OSO2R8、SO2OR8、N3、P(W1)(OC
1−C2アルキル)2、CN、CO2R9、CO2R9′又はC1−C4ハロ
アルキル; R4はC1−C4アルキルスルフィニル、C3−C5シクロアル
キルチオ、C3−C5シクロアルキルスルフィニル、C3−C4
シクロアルキルスルフォニル、SO2NH2、SO2NRdRe、SO2N
R7R8、OSO2R8、SO2OR8、N3、P(W1)(OC1−C2アルキ
ル)2、CN、CO2R9、又はC1−C4ハロアルキル; R5はC1−C4アルキルスルフィニル、C1−C4アルキルス
ルフォニル、C3−C5シクロアルキルチオ、C3−C5シクロ
アルキルスルフィニル、C3−C5シクロアルキルスルフォ
ニル、SO2NH2、SO2NRdRe、SO2NR7R8、OSO2R8、SO2OR8
N3、P(W1)(OC1−C2アルキル)2、CN、CO2R9、又はC
1−C4ハロアルキル; R6はC1−C4アルキルチオ、C1−C4アルキルスルフィニ
ル、C1−C4ハロアルキルチオ、C1−C4ハロアルキルスル
フィニル、C1−C4ハロアルキルスルフォニル、C3−C4
ルケニルチオ、C3−C4アルケニルスルフィニル、C3−C4
アルケニルスルフォニル、C3−C4アルキニルチオ、C3
C4アルキニルスルフィニル、C3−C4アルキニルスルフォ
ニル、C3−C5シクロアルキルチオ、C3−C5シクロアルキ
ルスルフィニル、C3−C5シクロアルキルスルフォニル、
SO2NRdRe、SO2NR7R8、OSO2R8、SO2OR8、N3、P(W1
(OC1−C2アルキル)2、CN、CO2R9、又はC1−C4ハロア
ルキル; R7はH、C2−C3シアノアルキル、C3−C4アルケニル又
はC3−C4アルキニル; R7′はC1−C4アルキル; R8はC1−C4アルキル、C1−C4ハロアルキル、C3−C4
ルケニル、C3−C4アルキニル、C2−C4アルコキシアルキ
ル、又はシクロプロピル;或いは、 R7とR8は一緒になって−(CH23−、−(CH24−、
−(CH25−、又は−CH2CH2OCH2CH2−; R9はCH2CH2R10、CH2CF3、C3−C4ハロアルキル、C3−C
4アルキニル、C2−C4アルキルチオアルキル、C3−C5
クロアルキル又はC4−C7シクロアルキルアルキル; R9′はC1−C4アルキル、C3−C4アルケニル、CH2CH2C
l、CH2CH2Br、CH2CH2OCH3又はCH2CH2OC2H5; R10はOH、F、CN、OSO2(C1−C3アルキル)又はOSO2
(C1−C3ハロアルキル); R11はC1−C3アルキル、C1−C3ハロアルキル、C3−C4
アルケニル又はC3−C4アルキニル; W1はO又はS; W2はO又はS; であり、また Aは次式 XはH、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、C2−C4
ハロアルコキシ、C1−C4ハロアルコキル、C2−C4ハロア
ルキルチオ、C1−C4アルキルチオ、ハロゲン、C2−C5
ルコキシアルキル、C2−C5アルコキシアルコキシ、アミ
ノ、C1−C3アルキルアミノ又はジ(C1−C3アルキル)ア
ミノ; YはH、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ、C2−C4
ハロアルコキシ、C2−C4ハロアルキルチオ、C1−C4アル
キルチオ、C2−C5アルコキシアルキル、C2−C5アルコキ
シアルコキシ、アミノ、C1−C3アルキルアミノ、ジ(C1
−C3アルキル)アミノ、C3−C4アルケニロキシ、C3−C4
アルキニロキシ、C2−C5アルキルチオアルキル、C2−C5
アルキルスルフィニルアルキル、C2−C5アルキルスルフ
ォニルアルキル、C1−C4ハロアルキル、C2−C4アルキニ
ル、C3−C5シクロアルキル、アヂド、 又はN(OCH3)CH3; mは2又は3; Q1及びQ2は独立にO又はS; RaはH又はC1−C3アルキル; Rb及びRcは独立にC1−C3アルキル; RdはH又はC1−C2アルキル; ReはC1−C2アルコキシ; ZはCH、N、CCH3、CC2H5、CCl又はCBr; Y1はO又はCH2; X1はCH3、OCH3、OC2H5、又はOCF2H; X2はCH3、C2H5、又はCH2CF3; Y2はOCH3、OC2H5、SCH3、SC2H5、CH3又はCH2CH3; X3はCH3又はOCH3; Y3はH又はCH3; X4はCH3、OCH3、OC2H5、CH2OCH3又はCl;Y4はCH3、OCH
3、OC2H5又はCl; である で表される化合物及びそれらの農業上好適な塩類;ただ
し 1)Xがハロゲンのとき、ZはCH且つYはOCH3、OC2H
5、NH2、NHCH3、N(CH32又はN(OCH3)CH3; 2)WがSのとき、RはH、AはA−1、ZはCH又は
N且つYはCH3、OCH3、OC2H5、CH2OCH3、C2H5、CF3、SC
H3、OCH2CH=CH2、OCH2C≡CH、OCH2CH2OCH3、CH(OC
H32又は である; 3)XとYの総炭素原子数が4より大きいとき、R1
R2,R3,R4,R5またはR6の合体炭素数(combined numbe
r of carbons)は6又はそれ以下; 4)JがJ−1且つR2がC1−C4アルキルスルホニル、SO
2NRdRe、SO2NR7´R8又はCO2R9であるか、或はJがJ−
2且つR3がCF3、SO2NRdRe、SO2NR7′R8又はCO2R9′のと
き、YはC2−C5アルキルチオアルキル、C2−C5アルキル
スルフィニルアルキル、C2−C5アルキルスルフオニルア
ルキル、 以外のもの; 5)JがJ−2又はJ−3且つR3又はR4がC1−C4アルキ
ルスルフィニルのとき、X及びYはNH2又はNHCH3以外で
ある; 6)JがJ−2且つR3がC1−C4アルキルスルフィニル或
はSO2NRdRe又はR7がHのとき、X及びYはC2−C4ハロア
ルキル以外である; 7)JがJ−5のとき、R7はH以外且つR6はSO2NRdRe以
外である; 8)JがJ−2且つR3がSO2NH2又はSO2NRdReであるか或
はR7がHのとき、Xはヨウ素以外である; 9)JがJ−2且つR7がH又はR3がSO2NRdReのとき、Y
はC2−C4アルキニル以外である; 10)X4及びY4は同時にClであることはない; 11)JがJ−1,J−2,J−3,J−4且つAがA−5のと
き、RfはH以外である; 12)JがJ−1又はJ−2のとき、AはA−6以外であ
る; 13)JがJ−1且つAがA−7のとき、R2はC1−C4アル
キルスルフオニル以外である; 14)R2又はR3がCO2R9′又はSO2NR7′R8のとき、R1はRg;
並びにR2又はR3がCO2R9′又はSO2NR7′R8以外のとき、R
1はRf;及び 15)JがJ−2且つR1がスルフオニルウレア結合(brid
ge)に隣接しているとき、RgはC1−C3ハロアルキル、C2
−C3アルキル、シクロプロピル、CN、W2R11、アミノ、C
1−C3アルキルアミノ又はC1−C3ジアルキルアミノ; である。
上記定義において、“アルキル”という語は、単独
で、又は、“アルキルチオ”又は“ハロアルキル”のよ
うに合成語中で用いられ、直鎖又は分岐鎖のアルキル、
即ちメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル又は
種々のブチル異性体を意味する。
アルコキシはメトキシ、エトキシ、n−プロピロキシ
又はイソプロピロキシを意味する。
アルケニルは直鎖又は分岐鎖のアルケン類、即ち1−
プロペニル、2−プロペニル、3−プロペニル及び種々
のブテニル異性体を意味する。
アルキニルは直鎖又は分岐鎖のアルキン類、即ちエチ
ニル、1−プロピニル、2−プロピニル及び種々のブチ
ニル異性体を意味する。
アルキルスルフオニルはメチルスルフオニル、エチル
スルフオニル及び種々のプロピルスルフオニルとブチル
スルフオニル異性体類を意味する。
シクロアルキルはシクロプロピル、シクロブチル及び
シクロペンチルを意味する。
“ハロゲン”なる語は、単独で、又は、“ハロアルキ
ル”のような合成語中で、フッ素、塩素、臭素又はヨウ
素を意味する。更に“ハロアルキル”のような合成語中
において用いられるときは、該アルキルは同一又は異な
っていてもよいハロゲン原子で部分的に又は完全に置換
されていることができる。ハロアルキルの例にはCH2CH2
F、CF2CF3及びCH2CHFClが含まれる。同様に、この定義
はハロアルコキシ及びハロアルキルチオにも適用され
る。
置換基の総炭素原子数は、i及びjが1〜5の数であ
るCi−Cj接頭語で示される。例えば、C1−C3アルキルス
ルフオニルはメチルスルフオニルからプロピルスルホニ
ルまでを、C2アルコキシアルコキシはOCH2OCH3を、C2
アノアルキルはCH2CNを、及びC3シアノアルキルはCH2CH
2CN及びCH(CN)CH3を示すであろう。
好適化合物 合成の容易さの増大、および/又は大なる除草効率と
いう理由から好ましいものは: 1.XはC1−C2アルキル、C1−C2アルコキシ、Cl、F、B
r、I、CH2F、CF3、OCH2CH2F、OCH2CHF2、OCH2CF3、CH2
Cl又はCH2Br; YがH、C1−C2アルキル、C1−C2アルコキシ、CH2OCH
3、CH2OCH2CH3、NHCH3、N(OCH3)CH3、N(CH32、C
F3、SCH3、OCH2CH=CH2、OCH2C≡CH、OCH2CH2OCH3 CH2SCH3、シクロプロピル、C≡CH又はC≡CCH3; RaはH又はCH3及び ZはCH又はN である式Iの化合物。
2.WはO; RfはH、CH3、C1ハロアルキル、ハロゲン又はOCH3; RgはC1−C2ハロアルキル、エチル、W2R11、CH2OCH3
CH2SCH3、CH2CN、C1−C2アルキルアミノ又はN(C
H32; R2はC1−C4アルキルスルフィニル、C1−C4 アルキル
スルフオニル、SO2NH2、SO2NRdRe、SO2NR7R8、SO2NR7
R8、OSO2R8、SO2OR8、N3、P(W1)(OC1−C2アルキ
ル)2、CN、CO2R9、CO2R9′、CHF2、CF2H、CH2Cl、CCl2
H又はC2−C4ハロアルキル; R3はC1−C4アルキルスルフィニル、SO2NH2、SO2NRdR
e、SO2R7R8、SO2NR7′R8、OSO2R8、SO2OR8、N3、P
(W1)(OC1−C2アルキル)2、CN、CO2R9、CO2R9′又は
C1−C4ハロアルキル; R4はC1−C4アルキルスルフィニル、SO2NH2、SO2N(OC
H3)CH3、SO2NR7R8、OSO2R8、SO2OR8、N3、P(W1)(O
C1−C2アルキル)2、CN、CO2R9又はC1−C4ハロアルキ
ル; R5はC1−C4アルキルスルフィニル、C1−C4アルキルス
ルフオニルSO2NH2、SO2N(OCH3)CH3、SO2NR7R8、OSO2O
R8、SO2OR8、N3、P(W1)(OC1−C2アルキル)2、CN、
CO2R9又はC2−C4ハロアルキル; R6はC1−C4アルキルチオ、C1−C4アルキルスルフィニ
ル、C1−C4ハロアルキルチオ、C1−C4ハロアルキルスル
フィニル、C1−C4ハロアルキルスルフオニル、C3−C4
ルケニルチオ、C3−C4アルケニルスルフィニル、C3−C4
アルケニルスルフォニル、C3−C4アルキニルチオ、C3
C4アルキニルスルフィニル、C3−C4アルキニルスルフォ
ニル、SO2N(OCH3)CH3、SO2NR7R8、OSO2R8、SO2OR8、N
3、P(W1)(OC1−C2アルキル)2、CN、CO2R9又はC1
C4ハロアルキル; R7はH、C2−C3シアノアルキル、C3−C4アルケニル又
はC3−C4アルキニル; R8がC1−C4アルキル、C1−C4ハロアルキル、C3−C4
ルケニル、C3−C4アルキニル、C2−C4アルコキシアルキ
ル又はシクロプロピル;及び R11はC1−C3アルキル、C1−C2ハロアルキル、アリル
又はプロパルギル である、好適例1の化合物。
3.JはJ−1である好適例2の化合物。
4.JはJ−2である好適例2の化合物。
5.JはJ−3である好適例2の化合物。
6.JはJ−4である好適例2の化合物。
7.JはJ−5である好適例2の化合物。
8.R7はH、C2−C3シアノアルキル、アリル又はプロパル
ギル; R7′はC1−C3アルキル; R8はC1−C3アルキル、アリル、プロパルギル又はシク
ロプロピル; R9はCH2CH2R10、CH2CH2SCH3、プロパルギル又はシク
ロプロピルメチル; R9′はC1−C3アルキル、アリル、CH2CH2OCH3又はCH2C
H2Cl;及び R10はOH、CN又はOSO2CH3 である好適例3の化合物。
9.AがA−1; XがCH3、OCH3、OCH2CH3、Cl又はOCH2CF3; YがCH3、OCH3、CH2CH3、CH2O CH3、NHCH3又はCH(O
CH32である好適例8の化合物。
10.ZはCHである好適例9の化合物。
11.ZはNである好適例9の化合物。
12.R7はH、C2−C3シアノアルキル、アリル又はプロパ
ルギル;及び R8はC1−C3アルキル、アリル、プロパルギル又はシク
ロプロピル; である好適例4の化合物。
13.AはA−1; XはCH3、OCH3、OCH2CH3、Cl又はOCH2CF3; YはCH3、OCH3、CH2CH3、CH2OCH3、NHCH3又はCH(OCH
32 である好適例12の化合物。
14.ZはCHである好適例13の化合物。
15.ZはNである好適例13の化合物。
16.R7はH、C2−C3シアノアルキル、アリル又はプロパ
ルギル;及び R8はC1−C3アルキル、アリル、プロパルギル又はシク
ロプロピル; である好適例5の化合物。
17.AはA−1; XはCH3、OCH3、OCH2CH3、Cl又はOCH2CF3; YはCH3、OCH3、CH2CH3、CH2OCH3、NHCH3又はCH(OCH
32 である好適例16の化合物。
18.ZはCHである好適例17の化合物。
19.ZはNである好適例17の化合物。
20.R7はH、C2−C3シアノアルキル、アリル又はプロパ
ルギル:及び R8はC1−C3アルキル、アリル、プロパルギル又はシク
ロプロピル; である好適例6の化合物。
21.AはA−1; XはCH3、OCH3、OCH2CH3、Cl又はOCH2CF3; YはCH3、OCH3、CH2CH3、CH2OCH3、NHCH3又はCH(OCH
32 である好適例20の化合物。
22.ZはCHである好適例21の化合物。
23.ZはNである好適例21の化合物。
24.R6はC1−C2アルキルチオ、C1−C2アルキルスルフィ
ニル、C1−C2ハロアルキルチオ、C1−C2ハロアルキルス
ルフィニル、C1−C2ハロアルキルスルフオニル、SO2N
(OCH3)CH3、SO2NR7R8; R7はH、C2−C3シアノアルキル、アリル又はプロパル
ギル;及び R8はC1−C3アルキル、アリル、プロパルギル又はシク
ロプロピル; である好適例7の化合物。
25.AはA−1; XはCH3、OCH3、OCH2CH3、Cl又はOCH2CF3; YはCH3、OCH3、CH2CH3、CH2OCH3、NHCH3又はCH(OCH
32 である好適例24の化合物。
26.ZはCHである好適例25の化合物。
27.ZはNである好適例25の化合物。
28.JはJ−1; AはA−1; ZはCH; WはO; R2はC1−C4アルキルスルフィニル、又はC1−C4アルキ
ルスルフオニル; RfはH、C1−C2アルキル、C1ハロアルキル、C1−C2
ルコキシ又はC1−C2チオアルキル; である好適例1の化合物。
29.RfはH; R2はC1〜C4アルキルスルフオニル; XはOCH3; YがOCH3 である好適例28の化合物。
最大の合成の容易さ、及び/又は最大の除草効率とい
う理由から特別に好適な物は; ・N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)ア
ミノカルボニル]−3−(1−プロピルスルフオニル)
−2−ピリジンスルフオンアミド; ・N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)ア
ミノカルボニル]−3−(1−プロピルスルフィニル)
−2−ピリジンスルフオンアミド; ・N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)ア
ミノカルボニル]−3−(エチルスルフオニル)−2−
ピリジンスルフオンアミド; ・N2−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)ア
ミノカルボニル]−N3−エチル−2,3−ピリジンスルフ
オンアミド; ・N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)ア
ミノカルボニル]−3−(メチルスルフオニルオキシ)
−2−ピリジンスルフオンアミド;及び ・N2−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)ア
ミノカルボニル]−N3−メチル−2,3−ピリジンスルフ
オンアミド; である。
本発明はまた、下記式 式中、XaはCl、NH2、HNC(CH33及びNHCOOC6H5を表
す で表される新規化合物に関し、それは除草性スルホニル
ウレアの中間体として有用である。
特別に好適な物は; 3−エチルスルフオニル−2−ピリジンスルフオンア
ミド;及び N3−メチル−2,3−ピリジンジスルフオンアミド;で
ある。
発明の詳細な説明 合成 式Iの化合物は、米国特許第4,456,469号記載の方法
の一つ或はそれ以上により、又は下記反応式1に示され
るごとく等モル量の第三級アミン塩基、例えば1,8−ジ
アザビシクロ[5.4.0]ウンデセ−7−エン(DBU)の存
在下、スルフオンアミド類IIと適当なカルバミン酸のフ
ェニルエステルIIIとの反応によって合成することがで
きる。
反応式1 式中、J、R、及びAは前記定義のとうりである。
反応式1に示される反応は、欧州特許(EP−A)第7
0,804号(1983年1月26日公開)に記載されている如
く、不活性雰囲気下、ジオキサンやアセトニトリルの如
き溶媒中、25℃、1−2時間で最良に実施される。式I
で表される所望の生成物は、反応溶液を塩酸水溶液で酸
性化することによって手軽に単離することができる。他
方、水層はメチレンクロライドや酢酸エチルの如き溶媒
で抽出することができる。乾燥及び溶媒蒸発により所望
の生成物を得ることができる。フェニルカーバメート類
は、触媒量の4−ジメチルアミノピリジンと共に塩基例
えば水素化ナトリウム、ピリジン、又は炭酸カリウムの
存在下、式A−NHRで表される対応する複素環アミンを
ジフェニルカーボネート又はフェニルクロロフォーメー
トで処理することにより合成することができる。該混合
物はテトラヒドロフランの如き適当な溶媒中、25℃〜65
℃の温度で12−36時間攪拌される。
式IIで表される所望のスルホンアミド類は、下記反応
式2及び3で示される方法のいずれか一方で合成するこ
とができる。
反応式2は式IVで表されるスルホニルクロライド類を
アンモニアと反応させて式IIで表されるスルホンアミド
類を与える反応を表している。
反応式2 反応式2のアミノ化は、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン又はメチレンクロライドの如き適当な溶媒によ
るスルフオニルクロライドIV溶液に、少なくとも2モル
当量の無水アンモニア或は濃縮水酸化アンモニウムを、
−30〜25℃の温度下添加することにより簡便に達成され
る。式IIで表される所望のスルフオンアミド類は濾過に
より(その際、副生物の塩化アンモニウムは水洗により
除去される)、或は、メチレンクロライドや酢酸エチル
の如き適当な有機溶媒中への抽出により単離される。乾
燥及び溶媒蒸発により、通常次の工程に直接移行するに
充分な純度の生成物IIが得られる。
式IIで表されるスルホンアミド類は、反応式3に示さ
れているように、対応するN−t−ブチルスルフオンア
ミド類VIを適当な酸、例えばトリフルオロ酢酸(TF
A)、ポリリン酸(PPA)またはp−トルエンスルホン酸
(p−TSA)で処理することによって得ることもでき
る。
反応式3 式中、Jは前記定義のとおりである。
反応式3の反応は、過剰のトリフルオロ酢酸(約0.3
M)中の式VIで表される化合物溶液を25℃で1−72時間
攪拌することによって、簡便に実施される。所望の式II
で表されるスルフオンアミド類は、真空中での揮発成分
の除去及び適当な溶媒、例えばジエチルエーテル、1−
クロロブタン又は酢酸エチルからの晶析により単離する
ことが出来る。他方、式VIで表されるN−t−ブチルス
ルフオンアミド類をトルエン又はキシレンの如き溶媒
中、還流温度、1−6時間、触媒量のp−トルエンスル
フオン酸1水和物で処理することも出来る。所望の生成
物は、それから上記した方法と類似の方法で単離され
る。N−t−ブチルスルフオンアミド類の脱保護におけ
るポリリン酸の使用については、J.G.Lombardino,J.Or
g.Chem.,36,1843(1971);を、トルフルオロ酢酸の使
用についてはJ.D.Catt及びW.L.Matier,J.Org.Chem.,38,
1974(1973)を参照のこと。
式VIで表されるスルフオンアミド類は、反応式4に示
されているように、式IVで表されるスルホニルクロライ
ド類と過剰のt−ブチルアミンとの反応によって得るこ
とができる。
反応式4 式中、Jは前記定義のとおりである。
式IVで表されるスルホニルクロライド類は、米国特許
第4,456,469号に記載された方法によって得ることがで
きる。他方、南アフリカ特許出願84/8844号は、次亜塩
素酸塩溶液での処理によるメルカプト又はアリールメチ
ルチオ化合物のスルフオニルクロライドへの転換を記載
しており、その方法を利用することが出来る。
式IVaで表されるスルホニルクロライド類は、式5に
示される如く、T.Gungor、F.Marsais及びG.Quequiner,
J.Organomet.Chem.,1981,215、139−150の手順に従うリ
チウムジイソプロピル アミド(LDA)での2−フルオ
ロピリジン誘導体類のメタレイション(metallatio
n),二酸化硫黄及びN−クロロサクシニミド(NCS)で
の処理によっても得ることが出来る。
反応式5 式中、R1は前記定義のとおりである。
式IVbで表されるスルフオニルクロライド類は、反応
式6に示され、且つ米国特許第4、420,325号に記載さ
れた如く、式VIIで表される化合物から製造することが
できる。
反応式6 式中、Jは前記定義のとおりである。また、[X]は
適切な塩素化剤であり、当業者には自明である。
式VIIIで表される硫化物類は、米国特許第4,456,469
号に記載され、且つ反応式7に示された如く、塩基の存
在下に、式IXで表されるハロピリジン化合物と適当なメ
ルカプタンとの反応によって製造することができる。
反応式7 式中、X′はF,Cl又はBrであり、R′はC1−C4アルキ
ル又はベンジルである。
式VIIIaで表される硫化物は、反応式8に示される如
く、P.Breant,F.Marsais,及びG.Queguiner,Synthesis,1
983,822−824に記載された如き、2当量の強塩基、例え
ばn−ブチルリチウム又はリチウムジイソプロピルアミ
ド(LDA)での式Xで表されるピリジン化合物のメタレ
イション(metallation),それに続く適切な二硫化物
での処理によって製造することが出来る。
反応式8 式中、R′はC1−C4アルキル、C3−C5シクロアルキル
又はベンジルであり、R1は前記定義のとおりである。
類似の手順で、式VIIIbで表される硫化物は、反応式
9に示される如く製造することが出来る。
反応式9 式中、R′はC1−C4アルキル、C3−C5シクロアルキル
又はベンジルであり、 R1は前記定義のとおりである。
式VIIIcで表される硫化物は、反応式10に示される如
く、前記のごとき2−フルオロピリジン誘導体のメタレ
イション(metallation),再度後続する適切な二硫化
物での処理によって製造することが出来る。
反応式10 式中、R′はC1−C4アルキル、C3−C5シクロアルキル
又はベンジルであり、 R1は前記定義のとおりである。
一般式XIで表されるスルホン類及びスルホキサイド類
は、反応式11に示される如く、過酸化水素や過酸類の如
き当該技術分野で公知の多数の酸化剤[O]のいずれか
を用いて、式VIIIbで表される対応する硫化物類から製
造することが出来る。
反応式11 式中、R′は前記定義のとおりであり、R′はC1−C4
アルキル又はC3−C5シクロアルキルであり、nは1又は
2である。
一般式IXaで表されるクロロピリジンは、反応式12に
示される如く、3−アミノ−クロロピリジンのジアゾ
化、それに続くシアン化第一銅を用いた変位によって製
造することが出来る。ジアゾニウム基は、当業者によれ
ば、文献公知の方法により、SO2ClやN3の如き他の基に
よって置換することも出来る。
反応式12 式中、R1は前記定義のとおりである。
一般式VIIIfで表される硫化物類は、反応式13に示さ
れた如く製造することができる。種々の塩基類、例えば
炭酸カリウム又はカリウムt−ブトキサイドを用いての
ハロゲン化アルキルでの3−ヒドロキシ−2−メルカプ
トピリジン誘導体のアルキル化は、式VIIIeで表される
硫化物類を与え、それは、酸受容体、例えばトリエチル
アミンの存在不適当なスルフオニルクロライド類で処理
することによって式VIIIfで表される硫化物を与えた。
反応式13 式中、R′はC1−C4アルキル又はベンジルであり、
X′はCl、Br又はIであり、R1及びR8は前記定義のとお
りである。
式VIIIg,VIIIh及びVIIIjで表されるエステル類は、反
応式14に示される二種の方法のいずれかで製造すること
が出来る。始めの方法は、既に反応式5に記述した如く
2−フルオロピリジン誘導体のメタライゼイションと、
それに続くエチルまたはメチルクロロフォーメイトでの
処理を含み、式VIIIで表されるエステル類を与えた。反
応式7に記載されたメルカプト体変位は、式VIIIgで表
されるエステル類に帰着した。適当なアルコールを溶媒
として用いての酸触媒エステル転位(transedterificat
ion)は、式VIIIhで表されるエステル類を与えた。
第二の方法は、種々の塩基類、例えば炭酸カリウム又
はカリウムt−ブトキサイドを用い、ハロゲン化アルキ
ルで2−メルカプトニコチン酸誘導体VIIIiをアルキル
化し、それに続き何種類かの標準試薬、例えばチオニル
クロライド、フォスフォラストリクロライド又はペンタ
クロライド或はオギザリルクロライド酸ハライド類へ転
換することを含む。そして該酸クロライド類は、酸受容
体、例えばトリエチルアミンの存在下適当なアルコール
で処理され、式VIIIhで表されるエステル類を与えた。
該硫化物類VIIIhのスルホンアミド類VIIIjへの転換は、
記述の如く実施された。
反応式14 式中、R′はC1−C4アルキル又はベンジルであり、R9
はR9′でもあることが出来、 X′,R′,R1,R9及びR9′は前記定義のとおりであ
る。
一般式XIIaで表されるスルフオンアミド類は、反応式
15で示されたようにして製造することが出来る。しかし
ながら、一級又は非妨害(unhindered)二級スルフオン
アミド類の製造のためには、一連の合成反応における後
段の反応のために保護基が必要である。代表的例が反応
式16に示され、そこではt−ブチル保護基がスルフオン
アミドIIaの合成のために用いられる。
反応式15 式中[D]はRdRe、R7R8、R7′R8,又はH2であり、
R1,Rd,Re,R7,R8及びR7′は前記定義のとおりである。
反応式16 式中R1は前記定義のとおりである。
反応式17における式XIVaで表されるジフルオロ化合物
類は、既に記載された反応を用いることによって製造す
ることが出来る。種々のR1親核性物質(当業界で入手出
来る物)の一当量での処理は、分離し得る混合生成物を
与える。反応性親核性物質としてナトリウムメトキサイ
ドを用いる例を示す。中間物質XIVb及びXIVcは分離出
来、そして更に前記のごとく誘導される。
反応式17 式中R2は前記定義のとおりである。
式XVdで表されるエステル類を製造する他の方法を反
応式18に示す。2,6−ジハロピリジンのメルカプチド置
換は、前述のごとく引き続けスルフオンアミドXVaへの
転換を伴って達成される。P.Breant,F.Marsalis,及びG.
Queguiner,Synthesis,1983,822−824に記載されたのと
同様にして、n−ブチルリチウムの如き強塩基の二当量
で処理し、続いて二酸化炭素で処理することにより式XV
bで表される酸類が得られる。そして、該酸類をアルコ
キシド、メルカプチド又はアミンの如き種々のR1親核性
類で処理して式XVcで表される酸類を得(例としてナト
リウムメトキサイドを使用)、それを更に標準の1,3−
ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)カップリング
条件を用いて適当なアルコールでエステル化し、式XVd
で表されるエステル類を得ることが出来る。
反応式18 式中R9はR9′であり得、X′はF又はC1であり、
R′,R9及びR9′は前記定義のとおりである。
類似の方法で、一般式XVIbで表されるスルフオンアミ
ド類を反応式19に示されるようにして製造することが出
来る。XVaを強塩基で処理し、更に適当な硫化物で処理
することにより、式XVIaで表される硫化物類を得ること
が出来る。既に述べた化学を利用して更に工夫すること
により、式XVIbで表されるスルフオンアミド類が得られ
る。
反応式19 式中X′はF又はClであり、R′及び[D]は前記定
義のとおりである。
式Iで表される化合物の製造のために適当な方法を当
業者が選択するに当たっては、R1からR11、及びRdからR
gの置換機の性質並びに反応式1から19の反応条件との
それらの化学的適合性を考慮しなければならない。
上記反応式1に於ける式A−NHRで表される複素環式
アミンは、当業者であれば文献公知の方法で、或はそれ
の簡単な修正で製造することが出来る。例えば、欧州特
許(EP−A)第84,224号(1983年7月27日公開)及びW.
Braker et al.,J.Chem.Soc.,69,3072(1947)には、他
の基の内、ジアルキルメチル又は1,3−ジオキソラン−
2−イルの如きアセタール基で置換されたアミノピリジ
ン類及びトリアジン類の製造方法が記載されている。ま
た例えば南アフリカ特許出願Nos.82/5045及び82/5671号
には、他の基の内、OCH2CH2F,OCH2CF3,SCF2H又はOCF2
Hの如きハロアルキル又はハロアルキルチオ基で置換さ
れたアミノピリミジン類及びトリアジン類の製造方法が
記載されている。南アフリカ特許出願No.83/7434号(19
83年10月5日公開)には、アルキル、ハロアルキル、ア
ルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルアミノ、ジアルキ
ルアミノ又はアルコキシアルキルの如き基で置換された
シクロプロピルピリミジン類及びトリアジン類の合成方
法が記載されている。
5.6−ジヒドロフロ[2.3−d]ピリミジン−2−アミ
ン類、シクロペンタ[d]ピリミジン−2−アミン類
(AはA−2)、及び6,7−ジヒドロ−5H−ピラノ[2.3
−d]ピリミジン−2−アミン類(AはA−3)は、欧
州特許(EP−A)第15,683号に記載されたようにして製
造することが出来る。フロ[2.3−d]ピリミジン−2
−アミン類(AはA−4)は欧州特許(EP−A)第46,6
77号に記載されている。
AがA−5である式A−NHRで表される化合物は欧州
特許(EP−A)第73,562号に記載されている。AがA−
6である化合物は欧州特許(EP−A)第94,260号に記載
されている。
更にアミノピリミジン類及びトリアジン類の一般的製
造方法は、下記の出版物中にレビューされている。
・複素環化合物の化学(The Chemistory of Heterocycl
ic Compounds)Interscience Publishers,Inc.,New Yor
k and London発行のシリーズ ・ピリミジン類(Pyrimidines),同シリーズVol.16.D.
J.Brown ・s−トリアジン類及び誘導体類(s−Triazines and
Derivatives)同シリーズVol.13,E.M.Smolin及びL.Rapp
oprt並びに ・F.C.Schaefer,米国特許第3,154,547号及びトリアジン
類の合成を記述したJ.Org.Chem,28,1812(1963),K.R.H
uffman及びF.C.Schaefer。
上記観点からの製造方法は当業者にとって自明であろ
う。式Iで表される化合物の農業上好適な塩もまた有用
な除草剤であり、当該技術分野で知られた多くの方法で
製造することが出来る。例えば、金属塩は式Iで表され
る化合物を充分な塩基性アニオンを有するアルカリ又は
アルカリ土類金属塩(例えば水酸化物、アルコキサイド
物、炭酸塩又は水酸化物)の溶液と接触させることによ
って作ることが出来る。第四級アミン塩も同様な技術で
作ることが出来る。
式Iで表される化合物の塩も、ひとつのカチオンを他
のものと交換することによって製造することが出来る。
カチオン交換は、式Iで表される化合物の塩(例えばア
ルカリ又は第4級アミン塩)の水溶液を、交換されるべ
きカチオンを含む溶液と直接接触させることによって達
成することができる。この方法は交換されるカチオンを
含む所望の塩が水に不溶であるときに最も効果的であ
り、濾過により分離することができる。
交換は、式Iで表される化合物の塩(例えばアルカリ
金属又は第4級アミン塩)の水溶液を、当初の塩と交換
されるべきカチオンを含むカチオン交換樹脂で充填され
たカラムを通過させることによって達成され、そして所
望の生成物をカラムから溶出させる。この方法は、所望
の塩が水溶性、例えばカリウム、ナトリウム又はカルシ
ウム塩であるとき特に有用である。
本発明において有用である酸付加塩は、式Iで表され
る化合物を適当な酸、例えばp−トルエンスルホン酸、
トリクロロ酢酸等と反応させることによって得ることが
出来る。
本発明の化合物の製造方法を、下記の特定した実施例
によって更に説明する。温度は摂氏度であり、核磁気共
鳴(NMR)の略号は、S=singlet,d=doublet,t=tripl
et,m=multipletであり、ピーク位置は内部標準テトラ
メチルシランからの低領域ppmである。赤外(IR)ピー
ク位置はセンチメートル逆数(cm-1)で与えられる。
実施例1 2−フルオロ−3−(プロピルチオ)ピリジンの製造方
法 窒素雰囲気下、−70℃に冷却された無水テトラヒドロ
フラン150ml中に、1.9モル濃度のリチウムジイソプロピ
ルアミド(ヘキサン中)59ml(0.113モル)を加えた攪
拌溶液に、−65℃に維持された無水テトラヒドロフラン
30ml中10.0g2−フルオロピリジン(0.103モル)溶液を
滴加した。該溶液を−70℃で4時間攪拌し、無水テトラ
ヒドロフラン45ml中17gのn−プロピルジスルフィド
(0.113モル)溶液を、温度を−65℃に維持しながら滴
下した。更に1時間−70℃で攪拌したのち、該溶液を水
に注ぎ、エーテルで抽出した。合体した有機相を、塩水
で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発して14.5g(8
2%)の赤色油: NMR(CDCl3,200MHz),1.0(3H,m),1.7(2H,m),2.9(2
H,m),7.1(1H,m),7.7(1H,m),8.0(1H,m); IR(neat)1585,1560,1410,1245cm-1 を得た。
実施例2 2−(フェニルメチルチオ)−3−(プロピルチオ)ピ
リジンの製造方法 無水ジメチルホルムアミド20ml中、ヘキサン洗浄され
た0.62gの50%水素化ナトリウム(鉱物油中)の、窒素
雰囲気下−5℃に冷却された攪拌懸濁液に、1.6g(0.01
3モル)のベンジルメルカプタンを、温度を−5℃以下
に維持して滴下した。懸濁液を室温で1時間攪拌し、0
℃に冷却し、そして実施例1で得られた生成物2.0g(0.
012モル)の溶液を、温度0℃と5℃の間に維持して滴
下した。室温に暖めた後、該溶液を水に注ぎ、エーテル
で抽出した。合体した有機層を、水洗し、更に塩水で洗
い、硫酸マグネシウム上で乾燥し、油状まで蒸発し、フ
ラッシュクロマトグラフィー(flash chromatography)
で精製して0.9g(27%)の油: NMR(CDCl3,200MHz),1.02(3H,t,J=7Hz),1.6(2H,
m),2.9(2H,t,J=7Hz),4,45(2H,s),6.9−7.6(7H,
m),8.3(1H,m); IR(neat)1560,1370cm-1 を得た。
実施例3 N−(1,1−ジメチルエチル)−2−(プロピルスルフ
ィニル)−2−ピリジンスルホンアミドの製造方法 9mlのメチレンクロライド中の0.5g(0.0018モル)の
実施例2の生成物と0℃に冷却された水との混合物を激
しく攪拌しつつ、それに温度が0から5℃に保たれるよ
うにして、0.7ml(0.008モル)の濃塩酸を、更に8.9ml
(0.006モル)の5%次亜塩素酸ナトリウム溶液を滴下
した。0℃で30分間攪拌した後、該反応液を水に注ぎ、
メチレンクロライドで抽出した。合体した有機層を、塩
水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。濾液
を窒素雰囲気下攪拌して−70℃に冷却し、0.53g(0.007
2モル)のt−ブチルアミンを滴下し、混合物を室温に
なるまで放置した。該反応液を水に注ぎ、メチレンクロ
ライドで抽出した。有機層を合体し、塩水で洗い、硫酸
マグネシウム上で乾燥し、蒸発して得られた混合物をフ
ラッシュクロマトグラフィー(flash chromatography)
で精製して0.4g(69%)の白色固体: m.p.138−140゜; NMR(CDCl3,200MHz)1.09(3H,m),1.7(1H,m),2.0(1
H,m),2.8(1H,m),3.3(1H,m),5.2(NH),7.7(1H,
m),8.6(1H,m),8.8(1H,m); IR(nujol)3400,1375,1325,1160,1065,1015cm-1 を得た。
実施例4 3−(プロピルスルフオニル)−2−ピリジンスルフオ
ンアミドの製造方法 窒素雰囲気下で攪拌され−5℃に冷却された、400ml
メチレンクロライド中8.8g(0.029モル)の実施例3の
生成物の攪拌溶液に、6.6g(0.038モル)の3−クロロ
過安息香酸を添加し、室温で20時間攪拌した。該反応混
合物を水に注ぎ、メチレンクロライドで抽出した。有機
層を合体し、飽和亜硫酸水素ナトリウム及び塩水で洗
い、硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発して固体混合物
を得、それをヘキサンで洗浄して白色固体を得た。該固
体を150mlのトリフルオロ酢酸に溶解し、72時間攪拌し
た。該溶液を蒸発し、エーテルを用いてすり潰し、5.3g
(46%)の白色固体: m.p.153−157゜; NMR(CDCl3,200MHz)1.06(3H、t,J=7Hz),1.8(2H,
m),3.7(2H,m),5.8(NH2),7.8(1H,m),8.6(1H,
m),8.95(1H,m); IR(nujol)3390,3180,1360,1310,1175,1150cm-1 実施例5 N−[(4.6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミ
ノカルボニル]−3−(プロピルスルフオニル)−2−
ピリジンスルフオンアミドの製造方法 4mlアセトニトリル中0.4g(0.0015モル)の実施例4
の生成物と0.63g(0.0023モル)のフェニル(4,6−ジメ
トキシピリミジン−2−イル)カーバメートとの攪拌懸
濁液に、0.35g(0.0023モル)の1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]エンデセ−7−エンを加え、30分攪拌した。
該溶液を水で希釈し、1規定の塩酸で酸性化した。生成
した沈澱を集め水とエーテルで洗浄し、0.45g(67%)
の白色固体: m.p.168−170゜; NMR(CDCl3,200MHz)1.07(3H、t,J=7Hz),1.85(2H,
m),3.7(2H,m),3.97(6H,s),5.8(1H,s),7.26(N
H),7.8(1H,m),8.6(1H,m),8.9(1H,m),12.9(N
H); IR(nujol)3320,1740,1610,1580,1375,1195,1170cm-1 を得た。
実施例6 3−エチルチオ−2−フルオロピリジンの製造方法 実施例1の方法を用いて、40.0gの2−フルオロピリ
ジン(0.412モル)を転換して、46.5g(72%)の油状の
標記化合物: NMR(CDCl3,200MHz)1.3(3H、t,J=7Hz),2.95(2H,q,
J=7Hz),7.1(1H,m),7.7(1H,m),8.0(1H,m); IR(neat)1585,1565,1410,1230cm-1 を得た。
実施例7 3−エチルチオ−2−(フェニルメチルチオ)ピリジン
の製造方法 実施例2の方法を用いて、25.0g(0.160モル)の実施
例6の生成物を転換して、44.8g(100%)の黄色液状の
標記化合物: NMR(CDCl3,200MHz)1.28(3H、t,J=7Hz),2.9(2H,q,
J=7Hz),4.45(2H,s),7.0−7.6(7H,m),8.35(1H,
m); IR(neat)1610,1405cm-1 を得た。
実施例8 N−(1,1−ジメチルエチル)−3−エチルスルフィ
ニル−2−ピリジンスルフオンミドの製造方法 実施例3の方法を用いて、35.0g(0.134モル)の実施
例7の生成物を転換して、21.2g(56%)の標記化合
物: m.p.129−131゜; NMR(CDCl3,200MHz)1.23(9H,s),1.28(3H、t,J=7H
z),2.9(1H,m),3.3(1H,m),5.2(NH),7.7(1H,m),
8.55(1H,m),8.75(1H,m); IR(nujol)3100,1320,1155cm-1 を得た。
実施例9 N−(1,1−ジメチルエチル)−3−エチルスルフォニ
ル−2−ピリジンスルフオンアミドの製造方法 実施例4の前半の方法(即ち3−クロロ過安息香酸反
応)を用いて、9.0g(0.033モル)の実施例8の生成物
を転換して、10.1g(100%)の標記化合物: m.p.58−63゜; NMR(CDCl3,200MHz)1.2(3H、t,J−7Hz),1.2(9H,
s),3.7(2H,q,J=7Hz),6.1(NH),7.7(1H,m),8.55
(1H,m),8.95(1H,m); IR(nujol)3300,1560,1350,1300,1170,1140cm-1 を得た。
実施例10 3−エチルスルフォニル−2−ピリジンスルフオンアミ
ドの製造方法 実施例4の後半の方法(即ちトリフルオロ酢酸反応)
を用いて、9.0g(0.029モル)の実施例9の生成物を転
換して、4.2g(58%)の標記化合物: m.p.211−212.5゜; NMR(DMSO−d6,200MHz)1.15(2H,t,J=7Hz),3.4(N
H2),3.7(2H,q,J=7Hz),7.9(1H,m),8.5(1H,m),8.
95(1H,m); IR(nujol)3370,3190,1350,1310,1180cm-1 を得た。
実施例11 N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミ
ノカルボニル]−3−(エチルスルフオニル)−2−ピ
リジンスルフオンアミドの製造方法 実施例5の方法を用いて、0.60g(0.0024モル)の実
施例10の生成物を転換して、0.70g(70%)の標記化合
物: m.p.160−162゜; NMR(CDCl3,200MHz)1,35(3H,t,J=7Hz),3.7(2H,q,J
=7Hz),3.97(6H,s),5.8(1H,s),7.3(NH),7.75(1
H,m),8.6(1H,m),8.9(1H,m),12.95(NH); IR(nujol)3260,1740,1610,1360,1195,1175cm-1 を得た。
実施例12 2,6−ジフルオロ−3−ピリジンカルボン酸メチルエス
テルの製造方法 無水テトラヒドロフラン20mlの中リチウムジイソプロ
ピルアミド2.0モル(ヘキサン中)溶液の窒素雰囲気下
−70℃に冷却された91ml(0.182モル)の攪拌溶液に、
−60℃に維持された無水テトラヒドロフラン75ml中20.2
g2,6−ジフルオロピリジン(0.174モル)溶液を滴加し
た。該溶液を−70℃で3時間攪拌し、窒素雰囲気下−70
℃で冷却された、無水テトラヒドロフラン100ml中21.7g
(0.230モル)のクロロ蟻酸メチル溶液を、カニューラ
を通して添加した。更に1時間−70℃で攪拌したのち、
該混合物を水に注ぎ、エーテルで抽出した。合体した有
機相を、塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発
して半固体とし、フラッシュクロマトグラフィー(flas
h chromatography)で精製して13.0g(43%)の橙色
油: NMR(CDCl3,200MHz)3.95(3H,s),6.9(1H,m),8.5(1
H,m); IR(neat)1745,1730,1610,1415,1290cm-1 を得た。
実施例13 2−フルオロ−6−メトキシ−3−ピリジンカルボン
酸、メチルエステルの製造方法 −78℃に冷却された、無水テトラヒドロフラン240ml
中15.0g(0.0867モル)の実施例12の生成物の攪拌溶液
に、22.7ml(0.0993モル)の25%ナトリウムメトキシド
/メタノール溶液を、45分かけて滴下した。−20℃に昇
温した後、該混合物を氷水に注ぎ、1規定塩酸で酸性化
し、エーテルで抽出した。合体した有機層を、塩水で洗
い、硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発して半固体と
し、フラッシュクロマトグラフィー(flash chromatogr
aphy)で精製して3.2g(17%)の淡黄色固体: m.p.81−82゜; NMR(CDCl3,200MHz)3.9(3H,s),3.98(3H,s),6.67
(1H,d,J=9Hz),8.25(1H,m); IR(nujol)1715,1615,1290cm-1 を得た。
実施例14 6−メトキシ−2−(フェニルメチルチオ)−3−ピリ
ジンカルボン酸、メチルエステルの製造方法 無水ジメチルホルムアミド20ml中、ヘキサン洗浄され
た0.8g(0.0161モル)の50%水素化ナトリウム(鉱物油
中)の、窒素雰囲気下−5℃に冷却された攪拌混合物
に、1.9ml(0.0161モル)のベンジルメルカプタンを滴
下した。懸濁液を室温で1時間攪拌し、0℃に冷却し、
そして実施例13で得られた生成物3.2g(0.0147モル)の
無水ジメチルホルムアミド20ml中溶液を滴加した。室温
で暖めた後、該溶液を水に注ぎ、エーテルで抽出した。
合体した有機層を、水洗し、更に塩水で洗い、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、油状まで蒸発し、フラッシュクロ
マトグラフィー(flash chromatography)で精製して3.
0g(64%)の黄色固体: m.p.67−71゜; NMR(CDCl3,200MHz)3.88(3H,s),3.96(3H,s),4.46
(2H,s),6.44(1H,d,J=9Hz),7.2−7.5(5H,m),8.1
(1H,d,J=9Hz); IR(nujol)1700,1580,1305,1255cm-1 を得た。
実施例15 2−[(1,1−ジメチルエチル)アミノスルフォニル]
−6−メトキシ−3−ピリジンカルボン酸、メチルエス
テルの製造方法 79mlのメチレンクロライド中の3.7g(0.0129モル)の
実施例14の生成物と0℃に冷却された41mlの水との混合
物の激しく攪拌された中に、温度が5℃以下に保たれる
ようにして、6.3ml(0.0759モル)の濃塩酸を加え、更
に79ml(0.053モル)の5%次亜素酸ナトリウム溶液を
滴下した。該混合物を0℃で30分間更に攪拌した後、該
反応液を水に注ぎ、メチレンクロライドで抽出した。合
体した有機層を、塩水で洗い、硫酸マグネシウム上で乾
燥し、濾過した。濾液を窒素雰囲気下攪拌して−70℃に
冷却し、4.7g(0.0645モル)のt−ブチルアミンを滴下
した。該反応混合物を−20℃になるまで放置し、水に注
ぎ、1規定塩酸で酸性化し、メチレンクロライドで抽出
した。合体有機層を塩水で洗い、硫酸マグネシウム上で
乾燥し、蒸発して半固体を得、それをフラッシュクロマ
トグラフィー(flash chromatography)で精製して3.0g
(77%)の黄色固体: m.p.128−130゜; NMR(CDCl3,200MHz)1.27(9H,s),3.94(3H,s),4.05
(3H,s),5.75(NH),6.9(1H,d,J=9Hz),7.95(1H,d,
J=9Hz); IR(nujol)3260,1740,1605,1325,1125cm-1 を得た。
実施例16 2−(アミノスルフォニル)−6−メトキシ−3−ピリ
ジンカルボン酸、メチルエステルの製造方法 実施例15の生成物2.9g(0.0096モル)の溶液を、50ml
のトリフルオロ酢酸中室温で20時間攪拌した。該溶液を
蒸発し2.4g(100%)の白色固体: m.p.142.5−144.5゜; NMR(CDCl,200MHz)3.97(3H,s),4.1(3H,s),5.6(NH
2),6.9(1H,d,J=9Hz),8.1(1H,d,J=9Hz); IR(nujol)3305,3205,1715,1590,1355,1320,1175cm-1 を得た。
実施例17 2−[[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)ア
ミノカルボニル]アミノスルフオニル]−6−メトキシ
−3−ピリジンカルボン酸、メチルエステルの製造方法 4mlアセトニトリル中0.4g(0.0016モル)の実施例16
の生成物と0.54g(0.002モル)フェニル(4,6−ジメト
キシピリミジン−2−イル)カーバメートとの攪拌懸濁
液に、0.30g(0.002モル)の1,8−ジアザビシクロ[5.
4.0]ウンデセ−7−エンを滴加し、30分間攪拌した。
該溶液を水で希釈し、1規定塩酸で酸性化した。生成し
た沈澱を集め水で、及びエーテルで洗浄し、0.57g(84
%)の白色固体: m.p.194−196゜; NMR(CDCl3,200MHz)3.83(3H,s),3.95(9H,s),5.8
(1H,s),6.95(1H,d,J=9Hz),8.1(1H,d,J=9Hz),1
2.8(NH); IR(nujol)3140,1740,1720,1640,1360,1195,1140cm-1 を得た。
実施例18 N−(1,1−ジメチルエチル)−2−フルオロ−3−ピ
リジンスルフオアミドの製造方法 窒素雰囲気下、−70℃に冷却された、無水テトラヒド
ロフラン1.5l中リチウムジイソプロピルアミド1.9モル
(ヘキサン中)の396ml(0.740モル)の攪拌溶液に、−
65℃以下に維持しながら、無水テトラヒドロフラン150m
l中に65g(0.670モル)の2−フルオロピリジン溶液を
滴加した。該懸濁液を−70℃で3.5時間攪拌し、86g(1.
34モル)の二酸化硫黄を、温度を−65℃に維持しながら
滴下した。更に15分間−70℃で攪拌したのち、該反応を
放置して0℃まで昇温し、初期容積の半分まで蒸発し、
エーテルで希釈した。窒素雰囲気下白色沈澱を集め、エ
ーテル洗浄し乾燥した。該固体800mlの酢酸に溶解し、1
0−20℃に冷却した。この攪拌溶液に、温度を20℃以下
に維持しつつ、99.4g(0.740モル)のN−クロロサクシ
ニミドを一部づつ加えた。更に30分攪拌した後、該懸濁
液を蒸発し、水で希釈し、メチレンクロライドで抽出し
た。合体した有機層を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液で
ガス放出がなくなるまで洗浄し、塩水で洗い、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、濾過した。濾液を窒素雰囲気下、−
70℃に冷却し、この攪拌溶液に199g(2.7モル)のt−
ブチルアミンを滴加した。該懸濁液を水に注ぎ、濃塩酸
で酸性化し、メチレンクロライドで抽出した。合体有機
層を塩水で洗い、硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発し
て油を得、それをフラッシュクロマトグラフィー(flas
h chromatography)で精製して29.1g(19%)の褐色固
体を得、それを更に冷n−ブチルクロライドで洗浄し、
22.4g(14.5%)の白色固体: m.p.95−97゜; NMR(CDCl3,200MHz)1.25(9H,s),4.9(NH),7.35(1
H,m),8.3−8.5(2H,m)を得た。
実施例19 N−(1,1−ジメチルエチル)−2−フルオロ−N−メ
チル−3−ピリジンスルフオンアミドの製造方法 窒素雰囲気下−0℃に冷却された、無水ジメチルホル
ムアミド120ml中、ヘキサン洗浄された3.4g(0.071モ
ル)の50%水素化ナトリウム(鉱物油中)の攪拌懸濁液
に、120ml無水ジメチルホルムアミド中15.0g(0.065モ
ル)の実施例18の生成物溶液を滴加した。室温で1時間
攪拌後、該混合物を0℃に冷却し、12.2g(0.086モル)
のヨー化メチルを滴加した。室温に暖めた後、該反応液
を氷水に注ぎ、エーテルで抽出した。合体した有機層を
塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発して15.9
g(99%)の油: NMR(CDCl3,200MHz)1.32(9H,s),3.1(3H,s),7.3(1
H,m),8.3−8.4(2H,m); IR(neat)1590,1570,1335,1155cm-1 を得た。
実施例20 N(1,1−ジメチルエチル)−N−メチル−2−(フェ
ニルメチルチオ)−3−ピリジンスルホンアミドの製造
方法 実施例14と同じ方法を用いて、15.9g(0.065モル)の
実施例19の生成物を転換して、19.5g(86%)の黄色固
体: m.p.92−94゜; NMR(CDCl3,200MHz)1.26(9H,s),3.1(3H,s),4.5(2
H,s),7.0−7.5(6H,m),8.2(1H,m); IR(nujol)1570,1385,1315,1150,1120cm-1 を得た。
実施例21 N2,N3−ビス(1,1−ジメチルエチル)−N3−メチル−2,
3−ピリジンジスルフオンアミドの製造方法 実施例15と同じ方法を用いて、19.5g(0.056モル)の
実施例20の生成物を転換して黄褐色固体を得、それをn
−ブチルクロライドで洗浄して13.1g(66%)の白色固
体: m.p.155−156.5゜; NMR(CDCl3,200MHz)1.23(9H,s),1.33(9H,s),3.1
(3H,s),6.0(NH,1H,m),8.5(1H,m),8.8(1H,m); IR(nujol)3320,1340,1325,1160,1120cm-1 を得た。
実施例22 N3−メチル−2,3−ピリジンスルフオンアミドの製造方
法 トリフルオロ酢酸150ml中13.1g(0.036モル)の実施
例21の生成物の攪拌溶液を5時間還流した。室温まで冷
却後、該溶液を蒸発して固体とし、それをエーテルデ洗
浄して9.6g(100%)の白色固体: m.p.220−223゜; NMR(DMSO−d6,200MHz),2.5(3H,d),6.9(NH)7.65
(NH2),7.85(1H,m),8.45(1H,m),8.9(1H,m); IR(nujol)3380,3320,3180,1355,1170cm-1 を得た。
実施例23 N2−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミ
ノカルボニル]−N3−メチル−2,3−ピリジンジスルフ
オンアミドの製造方法 50mlアセトニトリル中4.15g(0.0165モル)の実施例2
2の生成物と5.0g(0.018モル)のフェニル(4,6−ジメ
トキシピリミジン−2−イル)カーバメートとの攪拌懸
濁液に、2.8g(0.018モル)の1,8−ジアザビシクロ[5.
4.0]ウンデセ−4−エンを加え、30分間攪拌した。該
溶液を水で希釈し、1規定の塩酸で酸性化した。生成し
た沈澱を集め、水とエーテルで洗浄し、6.4g(82%)の
白色固体: m.p.147−148.5゜; NMR(CDCl3,200MHz)2.7(3H,d,J=7Hz),3.97(6H,
s),5.8(1H,s)6.15(1H,m),7.3(NH),7.7(1H,m),
8.55(1H,m),8.8(1H,m).13.1(NH); IR(nujol)3310,1740,1610,1340,1190,1165cm-1 を得た。
実施例1から23、及び反応式1から19の方法を適用す
ることにより、当業者ならば表IからX中の化合物を製
造することが出来る。
表のための一般式 一般式1 一般式2 一般式3 一般式4 一般式5 一般式6 一般式7 一般式8 一般式9 一般式10 調製物 式1の化合物の有用な調製物は通常の方法で製造しう
る。それらは、粉剤、粒剤、錠剤、液剤、懸濁液、乳
剤、水和剤、濃厚乳剤などを含む。これらの多くのもの
は直接施用できる。噴霧用調製物は、適当な媒体中で増
量でき、数リットル〜数百リットル/haの墳霧容量で用
いられる。高強度組成物は主にその後の調合用の中間物
として使用される。概述すると調製物は、活性成分約0.
1〜99重量%、及びa)表面活性剤約0.1〜20%及びb)
固体又は液体希釈剤約1〜99.9%の少くとも1種を含有
する。更に特に調製物はこれらの成分を凡そ以下の割合
で含有するであろう。
勿論より低量又は高量の活性成分も、意図する用途及
び化合物の物性に応じて存在しうる。活性化合物にたい
する表面活性剤の高割合は時に望ましく、調製物中への
混入、又はタンク混合により達成される。
代表的な固体希釈剤は、ワトキンス(Watkins)ら著
“Handbook of Insecticide Dust Diluents and Carrie
rs"、第2版、ドランドブックス社(Dorland Books、Ca
ldwell、New.Jersey.)に記載されているが、他の固
体、即ち天然及び合成固体も使用しうる。水和剤及び濃
厚粉剤には更に吸着性の希釈剤が好適である。代表的な
液体希釈剤及び溶媒は、マースデン(Marsden)著、“S
olvents guide"、第2版、インターサイエンス社(Inte
rsience,New York、1950年)に記載されている。0.1%
以下の溶解度は濃厚懸濁剤に好適であり、濃厚液剤は好
ましくは0℃での相分離に対して安定である。“Mc Cut
cheon′s Detergents and Emulsifiers Annual"、MC出
版社(MC Publishing Corp.,Ridgwood,New Jeriey)、
並びにシスリ(Sisely)及びウツド(Wood)著、“Ency
clopedia of Surface Active Agenes"、ケミカル出版社
(Chemical Publ.Co.Inc.New York、1964年)は、表面
活性剤及びその推奨される用途を表示している。すべて
の調製物は、泡立ち、ケーク化、腐蝕、微生物の生長な
どを減ずるために少量の添加剤を含有してもよい。
そのような組成物の製造法は十分公知である。液剤は
各成分を単に混合することによって製造される。微細な
固体組成物は、ハンマーミルまたは流体エネルギーミル
中で混合し、普通粉砕することによって製造される。懸
濁剤は、湿式ミル処理によって製造される[リトラ−
(Littler)の米国特許第3,060,084号]。粒剤及び錠剤
は、活性物質を予備成形した粒状担体上に噴霧すること
により又は凝集法により製造しうる。(J・E・ブロウ
ニング(Browning)署・“Agglomeration"・Chemical E
ngineering・12月4日号・147日頁(1967)・及びペリ
ー(Perry)著・Chemical Engneer′s Handbook・第5
版・8〜57頁・マッグロウ・ヒル社(McGraw−Hill・Me
w York・1963年参照) 更に調整の技術に関する文献については・例えば次の
ものを参照; H.M.ルークス(Loux)、米国特許第3,235,361号、(1
966年2月15日)第6欄16行〜第7欄19号及び実施例10
〜41; R.W.ルッケンバウ(Luckenbaugh)、米国特許第3,30
9,192号、(1967年3月14日)第5欄43行〜第7欄62行
及び実施例8.12.15.39.41.52.53.58.132.138〜140.162
〜164.166.167.169〜182; H.ジシン(Gysin)及びE.ヌスリ(Knusli)、米国特
許第2,891,855号(1959年6月23日)第3欄66行〜第5
欄17行及び実施例1〜4; G.C.クリングマン(Klingman)著、“Weed Contral a
s a Science"、ジョン・ウイリー・アンド・サンズ(Jo
hn Wiley and sons,Inc.New York.)、1961年、81〜96
頁; J.D.フライヤ(Fryer)及びS.A.エバンス(Evans)著
“Weed Control Handbook"、第5番ブラックウェル・サ
イエンティフィック・パブリケーションズ(Blackwell
Scientific Publications、Oxford)、1968年、101〜10
3頁。
次に実施例において、すべての部は断らない限り重量
によるものとする。
実施例24 高強度濃厚物 N2−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミ
ノカルボニル]−N3−メチル−2,3−ピリジンジスルホ
ンアミド 99% トリメチルノニル ポリエチレン グリコール エーテ
ル 1% 界面活性剤はブレンダー中で活性成分上に散布され、
該混合物は包装前に米国標準篩40号(開口0.42mm)に通
した。更に実際の使用のために、濃厚液を調整しても良
い。
実施例25 水和剤 N2−[[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)ア
ミノカルボニル]アミノスルフオニル]−3−ピリジン
カルボン酸メチルエステル 65% ドデシルフェノール ポリエチレン グリコール エー
テル 2% リグニンスルホン酸ナトリウム 4% シリコアルミン酸ナトリウム 6% モントモリロナイト(焼成) 23% 各成分を完全に配合する。液状界面活性剤は、ブレン
ダー中の固体成分上に散布して添加される。ハンマーミ
ル中で本質的に全部が100μ以下の粒子になるように粉
砕した後、材料を再配合し、米国標準篩50号(開口0.3m
m)を通し、包装する。
実施例26 水性懸濁剤 N2−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミ
ノカルボニル]−N3−メチル−2,3−ピリジンジスルフ
オンアミド 50.0% ポリアクリル酸濃化剤 0.3% ドデシルフェノール ポリエチレン グリコール エー
テル 0.5% りん酸二ナトリウム 1% りん酸一ナトリウム 0.5% ポリビニルアルコール 1.0% 水 56.7% 各成分を配合し、サンドミル中で本質的に全部が5μ
以下の粒子になるように一緒に粉砕する。
実施例27 油性懸濁剤 N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミ
ノカルボニル]−3−(1−プロピルスルフオニル)−
2−ピリジンスルフオンアミド メチルエステル 35% ポリアルコールイカルボン酸エステル類と油溶性石油ス
ルホネート類との混合物 6% キシレン 59% 各成分を配合し、サンドミル中で本質的に全部が3μ
以下の粒子になるように一緒に粉砕する。生成物は直接
適用することも、油で延ばすことも、又は水中で乳化す
ることも出来る。
実施例28 油性懸濁剤 N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミ
ノカルボニル]−3−(1−メチルスルフオニルオキ
シ)−2−ピリジンスルフオンアミド メチルエステル
25% ポリオキシエチレン シルビトール ヘキサオレエート
5% 高脂肪族炭化水素油 70% 各成分をサンドミル中で固形粒子が約5μ以下に減少
する迄一緒に粉砕する。得られる濃厚懸濁液は直接適用
することも出来るが、好ましくは油で延ばすか、又は水
中に乳化した後で適用される。
実施例29 水性懸濁剤 N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミ
ノカルボニル]−3−(1−エチルスルフオニル)−2
−ピリジンスルフオンアミドメチルエステル 25% 水和アタパルガイト 3% 粗製リグニンスルホン酸カルシウム 10% りん酸二水素ナトリウム 0.5% 水 61.5% 各成分をポール又はローラーミル中で固形粒子の径が
10μ以下に減少する迄一緒に粉砕する。
実施例29′ 水和剤 N2−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミ
ノカルボニル]−N3−メチル−2,3−ピリジンスルフオ
ンアミド 40.0% スルホ琥珀酸ジオクチルナトリウム 1.5% リグニンスルホン酸ナトリウム 3% 低粘度メチルセルロース 1.5% アタパルガイト 54% 各成分を完全に配合し、平均りゅうけい15μ以下にす
るためにエアーミルを通し、再配合し、包装前に米国標
準篩50号(開口0.3mm)に通す。
本発明の全化合物は同じ方法で調整出来る。
実施例30 顆粒剤 実施例29の水和剤 15% 石膏 69% 硫酸カリウム 16% 各成分を回転ミキサー中で配合し、顆粒化が達成され
るよう水を散布する。ほとんどの材料が1.0〜0.42cm
(米国標準篩18〜40号)の所望の範囲に達したら、顆粒
を取り出し、乾燥し、篩にかける。超過径の材料は所望
範囲の材料を追加製造するために粉砕される。これらの
顆粒は%の活性成分を含有する。
実施例31 水和剤 N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミ
ノカルボニル]−3−(エチルスルフオニル)−2−ピ
リジンスルフオンアミドメチルエステル 50% アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム 2% 低粘度メチルセルロース 2% けいそう土 46% 各成分を配合し粗くハンマーミルで処理し、次いでエ
アーミルで本質的に全部の径が10μ以下の粒子を製造す
る。生成物は包装前に再配合される。
実施例32 押し出し錠剤 N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミ
ノカルボニル]−3−(エチルスルフオニル)−2−ピ
リジンスルフオンアミド 25% 無水硫酸ナトリウム 10% 粗製リグニンスルフオン酸カルシウム 5% アルキルナフタレンスルフオン酸ナトリウム 1% カルシウム/マグネシウムベントナイト 59% 各成分を配合し、ハンマーミルで処理し、次いで約12
%の水で付湿した。この混合物を直系約3mmの円柱状に
押し出し、これを切断して長さ約3mmのペレットとし
た。これは乾燥後直接使用出来、乾燥ペレットは粉砕し
て米国標準篩20号(開口0.84mm)に通すことも出来る。
米国標準篩40号(開口0.42mm)上に残る粒状物は使用の
ために包装され、微細な物は循環される。
実施例33 水和剤 N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミ
ノカルボニル]−3−(1−エチルスルフオニル)−2
−ピリジンスルフオンアミド 80% アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム 2% リグニンスルホン酸ナトリウム 2% 合成非晶質シリカ 3% カオリナイト 13% 各成分を配合し、ハンマーミルで処理し、平均粒子径
が直系で25μ未満の粒子を製造する。材料を再配合し、
包装前に米国標準篩50号(開口0.3mm)に通す。
実施例34 高強度濃厚物 N−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミ
ノカルボニル]−3−(1−エチルスルフオニル)−2
−ピリジンスルフオンアミド 98.5% シリカエアロゾル 0.5% 合成非晶質微細シリカ 1.0% 各成分を配合し、ハンマーミルで処理し、本質的に全
部が米国標準篩50号(開口0.3mm)を通過する高強度濃
厚物を製造する。この材料は各種の態様に調整出来る。
実施例35 水和剤 2−[[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)ア
ミノカルボニル]アミノスルフオニル]−3−ピリジン
カルボン酸,メチルエステル 80% アルキルナフタレンスルフォン酸ナトリウム 2% リグニンスルフオン酸ナトリウム 2% 合成非晶質シリカ 3% カオリナイト 13% 各成分を配合し、ハンマーミルで処理し、平均粒子径が
直系で25μ未満の粒子を製造する。材料を再配合し、包
装前に米国標準篩50号(開口0.3mm)に通す。
実施例36 高強度濃厚物 N2−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミ
ノカルボニル]−N3−メチル−2,3−ピリジンジスルフ
オンアミド 98.5% シリカエアロゾル 0.5% 合成非晶質微細シリカ 1.0% 各成分を配合し、ハンマーミルで処理し、本質的に全
部が米国標準篩50号(開口0.3mm)を通過する高強度濃
厚物を製造する。この材料は各種の態様に調整出来る。
用途 試験の結果、本発明の化合物は高活性の発芽前又は発
芽後除草剤あるは植物成長調節剤であることが示され
た。それらの多くはすべての植物の完全な駆除が望まれ
る場所、例えば燃料貯蔵タンク付近、工業貯蔵区域、駐
車場、野外劇場、広告板付近、高速道路、及び鉄道区域
における広いスペクトルの発芽前及び/又は発芽後雑草
駆除の用途を有している。幾つかの化合物は農園作物中
の選択的雑草防除の用途を有している。
ナス科作物例えば、トマト類、ジャガイモ類及び胡椒
類や他の作物例えば、小麦、大麦、トウモロコシ、綿、
又はまめ類及びそれらの休閑地。特に本発明の幾つかの
化合物は、穀物に重大な損傷を与える事なく、発芽前及
び発芽後の双方においてトウモロコシ(corn,maize)中
の雑草を防除する。本発明の幾つかの化合物は、穀物に
重大な損傷を与える事なく、ジャガイモ(Solanum tube
rosum)及びトマト(Lycopersicon esculentum)中の雑
草をも防除する。それらは特にエノコロ草(Setaria sp
p.)、オオクサキビ(Panicum dichotomiflorum)、イ
ヌビエ(Echinochloa crusqalli)、実生セイバンモロ
コシ(Sorghum halepense)、及びシャッターケイン(S
orghum bicolor)の如き問題雑草の防除に特に有用であ
る。それらは発芽前又は発芽後に用い得るが、発芽後幼
若雑草に提要するのが最も効果的である。それらはある
種の広葉雑草、例えばシロザ(Chenopodium album)、
ヒユ(Amaranthus spp.)及びイチビ(Abutilon theoph
rasti)にも有効である。
一方、本主題の化合物は植物成長を修正するのにも有
効である。
本発明の化合物の適用量は、多数の要因で決定され、
それには植物成長調節剤又は除草剤のいずれの用途か、
関係する作物の種類、防除される雑草の類型、天候及び
気候、選択した調整物、適用の型、存在する葉群の量、
などが含まれる。一般的に言って、本化合物は約0.001
〜20Kg/haの量で施用すべきであり、低いほうの施用割
合は、軽い土壌で及び/又は低い有機物顔料の土壌での
使用、植物成長調節剤としての使用、又は短時間の持続
性しか要求されない状況での使用に推奨される。
本発明の化合物は、他の市販の除草剤例えばトリアジ
ン、トリアゾール、イミダゾリン、ウラシル、尿素、ア
ミド、ジフェニルエーテル、シネオレ、カーバメート及
びビピリジリウム型の物と組み合わせて使用しても良
い。それらは特に下記除草剤との組み合わせが有用であ
る。
試験A オオヒメシバ(Digitaria sanguinalis)、イヌビエ
(Echinocholoa crus−galli)、オオエノコログサ(Se
taria faberi)、カラスムギ(Avena fatua)、カラス
ノチヤヒキ(Bromus secalinus)、イチビ(Abutilon t
heophrasti)、栽培アサガオ(Ipomoea coccinea,Scarl
et O′Hara種)、オナモミ(Xanthium pensylvanicu
m)、G522 モロコシ(Sorghum vulgare,Funk G522
種)、G4646 トウモロコシ(Zea mays,Funk G4646
種)、ウイリアムズ大豆(Glicine max,Williams種)、
USH11 テンサイ(Beta vulgaris,Union Sugarbeet Co.
USH11種)、コーカー綿(Gossypium hirstum,Coker 31
5種)、陸稲(Oryza sativa,California Rice Coop.M10
1種)、エラ小麦(Triticum aestivum,Era spring
種)、クレイグス大麦(Hordeum vulgare,Klages sprin
g種)の種、及びムラサキハマスゲ(Cyperus rotundu
s)塊茎を植え込み、植物に無害な溶剤に溶解した試験
化合物で発芽前処置をした。同時にこれらの作物及び雑
草種を土壌/葉への施用により発芽後処置した。この処
置の時期には、植物の高さは2〜18cmの範囲であった。
次いで処置植物及び対照植物を16日間温室中に保ち。そ
の後すべての種を対照植物と比較し、処置に対する応答
を肉眼で評価した。第A表に要約する評価は、0=損傷
なし〜10=完全な死滅に亙る数値尺度に基づくものであ
る。これに付随する文字記号は次の意味を有する。
C=黄化又は壊死 B=やけど D=落葉 E=発芽阻止 G=成長遅延 H=形成への影響 U=異常な色素形成 X=軸刺激 S=色素欠乏 6Y=腫瘍の出来た蕾又は花 表Aの“POSOL"及び“PRSOL"はそれぞれ発芽後及び発
芽前処置を示している。
幾つかの化合物、例えば化合物6,19,20,26,32,37−3
9,44,49,54−59,76−78及び88は、本試験量では殆ど、
あるいは全く除草活性を示さなかった。更に高い量では
もっと除草活性を示すものと思われる。
試験B 発芽後 三個の丸井皿(直径25cm、深さ12.5cm)に、ササフラ
ス(Sassafras)−砂ローム土壌を満たした。一つの皿
にはハマスゲ(Cyperus rotundus)塊茎、オオヒメシバ
(Digitaria sanguinalis)、エビスグサ(Cassia obtu
sifolia)、シロバナチョウセンアサガオ(Datura stam
onium)、イチビ(Abutilon theophrasti)シロザ(Che
nopodim album)、陸稲(Oryza sativa,California Ric
e Coop.M101種)、及びアメリカキンコジカ(sida spin
osa)を植えた。二番目の鉢には、エノコログサ(Setar
ia viridis)、オナモミ(Xanthium pensylvanicum)、
栽培アサガオ)(Ipomoea coccinea,Scarlet O′Hara
種)、コーカー綿(Gossypium hirsutum,Coker315
種)、セイバンモロコシ(Sorghum halepense、イヌビ
エ(Echinochloa crus−galli)、G4646トウモロコシ
(Zea mays,Funk G4646種)、ウイリアムズ大豆(Glyci
ne max,Williams種)、及びオオエノコログサ(Setaria
faberi)を植えた。三番目の鉢には、エラ小麦(Triti
cum aestivum,Era spring種)、クレイグス大麦(Horde
um vulgare,Klages sping種)、野生ソバカズラ(Polgo
num convolvulus)、カラスノチャヒキ(Bromus secali
nus)、USH11テンサイ(Beta vulgaris,Union Sugarbee
t Co.USH11種)カラスムギ(Avena fatua)スミレ(Vio
la arvensis)、ブラックグラス(Alopecurus myosuroi
des)、及びセイヨウアブラナ(Brassica napus,Altex
種)を植えた。上記植物を約14日成長させ、そして非毒
性溶媒に溶かした化合物で発芽後散布した。
発芽前 三個の丸皿(直径25cm、深さ12.5cm)に、ササフラス
(Sassafras)−砂ローム土壌を満たした。一つの皿に
はハマスゲ塊茎、オオヒメシバ、エビスグサ、シロバナ
チョウセンアサガオ、イチビ、シロザ、陸稲、及びアメ
リカキンコジカを植えた。二番目の鉢には、エノコログ
サ、オナモミ、アサガオ、綿、セイバンモロコシ、イヌ
ビエ、トウモロコシ、大豆、及びオオエノコログサを植
えた。三番目の鉢には、小麦、大麦、野生ソバカズラ、
カラスノチャヒキ、テンサイ、カラスムギ、スミレ、ブ
ラックグラス、及びセイヨウアブラナを植えた。上記三
個の皿を非毒性溶媒に溶かした化合物で発芽前散布し
た。
処置した植物及び対照を温室で24日保ち、全ての処置
植物を対照と比較し、植物の応答を肉眼で評価した。
応答割合は0〜100の尺度に基づき、0=効果なし、1
00=完全防除である。ダッシュ(−)は無試験を示す。
応答割合は表Bに示した。
試験C 発芽後 六個の丸鉢(直径17cm、深さ15cm)を植物を処理段階
まで成長させるために用いた。成長媒体としてサッサフ
ラス−砂ロームを用い、四個にはそれぞれに四種の種又
は塊茎を植え、他の一つに大豆を植えた。六番目の鉢に
はタマ シルト ロームを用いてトウモロコシを植え
た。
散布の間この鉢の土のパーライトで仮覆いし、その後除
去して、検知される影響が経葉摂取からのみになるよう
にした。サッサフラス−砂ロームで成長させた別のトウ
モロコシの鉢(直径25.5cm、深さ19.5cm)も、植物成長
への葉/土壌処理の効果を決定するために用いた。植物
を10〜20日成長させ、本発明の化合物で発芽後散布され
たときは2〜5葉段階であった。含められた種は以下の
とおりである:G4646トウモロコシ(Zea mays,Funk G464
6種)、ウイリアムズ大豆(Clycine max,Williams
種)、エノコログサ(Setaria viridis)、オオエノコ
ログサ(Setaria faberi)、オオクサキビ(Panicum di
chotomiflorum)、ヒメシバ(Digitaria sanquinali
s)、イヌビエ(Echinochloa crus−galli)、セイバン
モロコシ(Sorghum halepense)、G522モロコシ(Sorgh
um vulgare,Funk G522種)、ハマスゲ(Cyperus rotund
us)、イチビ(Abutilon theophrasti)、オナモミ(Xa
nthium pensylvanicum)、ハルタデ(Polygonum persic
aria)、シロザ(chenopodium album)、アオゲイトウ
(Amaranthus retroflexus)、マルバアメリカアサガオ
(Ipomoea hederacea)、シロバナチョウセンアサガオ
(Datura stramonium)、ブタクサ(Ambrosia artemisi
ifolia)。
発芽前 植え付けは全部がタマ シルト ロームである以外
は、上記と同様にしてなされた。化合物は植え付けの翌
翌日に発芽前散布され、全ての鉢に凝態降雨で散水し
た。処理後全植え付けを温室で約20日間維持し、植物応
答を視覚的に評価した。評価は0〜100の尺度に基づ
き、0=効果無し、100=完全防除を示す。応答評価を
表Cに示す。
試験D ジャガイモ(Solanum tuberosum,cult.′Green Mount
ain′)を20cmプラスチック鉢中、メトロ(Metro)350
培地中で成長させた。散布時ジャガイモは17日経ってい
た。イヌビエ(Echinochloa crus−galli),セイバン
モロコシ(Sorghum halepense),オオエノコログサ(S
etaria faberii),ヒメシバ(Digitaria sanguinali
s),紫ハマスゲ(Cyperus rotundus),シロバネチョ
ウセンアサガオ(Datura stramonium),イチビ(Abuti
lon theophrasti),オナモミ(Xanth ium pensylvanic
um),及びアサガオ(Ipomea hederacea)を、一列に並
べたプラスチック製25cm鉢中、サッサフラス−砂ローム
(pH6.5,1%有機物)で成長させた。散布時これらの植
物は9日経っていた。
化合物は62,16,4及び1g/haで散布された。化合物はそ
れぞれの量でジヤガイモ植物を有する鉢1個、及び同時
に残りの種を有する鉢1個上に散布された。化合物は非
毒性溶媒に4%に溶かし、374l/haで撤かれた。植物は
温室中に維持し、散布後11日に評価した。
全ての処理植物を対照植物と比較して障害を評価し
た。障害は0〜100%尺度で肉眼で評価し、0=効果な
し、100=完全防除である。結果を表Dに示した。
試験E トマト(Lycopersicon esculentum cult,′Rutger
e′)及び胡椒(Capcium frutescens cult,′Yolo′)
を10cmプラスチック鉢中、メトロ(Merro)350培地中で
成長させた。散布時トマト及び胡椒は19日経っていた。
紫ハマスゲ(Cyperus rotundus),ヒメシバ(Digitari
a saguinalis),エビスグサ(Cassia tora),アメリ
カキンコジカ(Sida spinosa),シロバナチョウセンア
サガオ(Datura stramonium),イチビ(Abutilon theo
phrasti),シロザ(Chenopodium album),エノコログ
サ(Setaria viridis)、オナモミ(Xanthium pendylva
nicum),アサガオ(ipomea hederacea)、セイバンモ
ロコシ(Sorghum halepense),イヌビエ(Echinochloa
crus−galli),オオエノコログサ(Setaria faberi
i),野生ソバカズラ(Polygonum convolvnlus)、ダウ
ニーブロム(Bromus tectorum)、カラスムギ(Avena f
atua)、コハコベ(Stellaria spp.)、及びブラックグ
ラス(Alopecurus myosuroides)を、一列に並べたプラ
スチック製25cm鉢中、サッサフラス−砂ローム(pH6.5,
1%有機物)で成長させた。散布時これらの植物は7〜1
1日経っていた。
化合物は62,16,4及び1g/haで散布された。化合物はそ
れぞれの量でトマトを有する鉢1個、胡椒を有する鉢1
個、及び同時に残りの種を有する鉢3個上に散布され
た。化合物は非毒性溶媒に溶かし、374l/haで撒かれ
た。植物は温室中に維持し、散布後16日に評価した。全
ての処理植物を対照植物と比較して障害を評価した。障
害は0〜100%尺度で肉眼で評価し、0=効果なし、100
=完全防除である。結果を表Eに示した。
フロントページの続き (31)優先権主張番号 101,148 (32)優先日 1987年9月25日 (33)優先権主張国 米国(US)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式 で示されるN−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−
    イル)アミノカルボニル]−3−(エチルスルホニル)
    −2−ピリジンスルホンアミド及びその農業上適する
    塩。
  2. 【請求項2】式 で示されるN−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−
    イル)アミノカルボニル]−3−(エチルスルホニル)
    −2−ピリジンスルホンアミド又はその農業上適する塩
    を有効成分として含有することを特徴とする除草剤。
  3. 【請求項3】式 で示される3−エチルスルホニル−2−ピリジンスルホ
    ンアミドを式 で示されるフエニル(4,6−ジメトキシピリミジン−2
    −イル)カーバメートと反応させることを特徴とする式 で示されるN−[(4,6−ジメトキシピリミジン−2−
    イル)アミノカルボニル]−3−(エチルスルホニル)
    −2−ピリジンスルホンアミド又はその農業上適する塩
    の製造方法。
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