JPH07503806A - ブロックコポリマーから誘導された非平坦裏面コーティングを有する磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

プロッタコポリマーから誘導さ堵また）１甲用裏面−Ｊ　テ（＞グをｆｌする磁 気配録媒体 産業上の利用分野 本発明は、磁気記録媒体に関し、高分子販ブロックコポリマーから誘導された裏 面コーティングをイ１する改良さ嗜また磁気記録媒体？ご関する、。 角型ｐ茸景 ）ｌノキシプルな磁気記録１１ｗ体は、一般に、非磁性の支持体の十に支持され た磁性被覆を有する。磁気的に配録されｔ、二または再生さ第１た信号は、１Ｌ 行時（すなわち、ブレイバノ人記録、す送りおよび巻戻し）の媒体の精密で１″ 確なトラツキングに依存する。ｌ・ラッキングにおＵる不規則ｔ’ｔが、磁気記 録信りの記録および再生に悪影響する。加えて、磁気記録媒体は、繰り返し７て 情報を記１１および再生できるように耐久性でなければならない。こ第１らのこ とを考慮すれば、媒体の導電性、耐久性およびトラッキング特ｔｊを改良するよ 領こ、裏面コ・−ティングを非磁性支持体に適用しでもよいと考えられる。 トラツキ〉グ特性に影響する１つの要因は、裏面コーディングの表面粗さに関す る。表面があまりに滑らかであ第１ば、磁気記録媒体が移動づ”るとともに空気 が磁気配録媒体の下に捕捉される傾向にある。こわが生じた場合に、トラツギ： ／グを制御するのが困難になる。捕捉された空気によ７て、媒体の張力ががなり 変化するようになるからである。テープの滑りが通常生じる。この問題を解決す るように、裏面コーティングの表面は１１い組織をｆ１″るように形成されてお り、移動するテープの下から空気を逃がすことができる。 例えば、アメリカ合衆国特許第４．３２８．９３５号は、粗い組織を侑する表面 を有する裏面コーディングを開示している。この用い組織は、かなり大きな「同 等１粒子を使用することによって得ることができる。しかし、粗い組織を得るた めに入きなｔ、＋＞、”ｒを付：用することには不都合がある。、特に、かなり 大きな粒子は、ｔｔｉｔ＜＋コーディングに押り、　？ｌけられる傾向にあり、 媒体が次いで表面処理される場合お、Ｊ、び、／または「１−ルとして貯蔵され る場合にまたはリールにに巻き付けられる場合に、磁性コーティングにおけるく ぼみを残す。結Ｗ的に、磁性コーティングの清らかさに（ｋ荏する媒体の電磁気 的性質、例えば、信号／雑音（ＳＮ）比、感度、最大出力

【ノベルなどは、劣化 する傾向にある。 アメリカ合衆国特ｎ第４，６・１５．７２３号は、粗い組織を有する裏面コーチ インゲラ開示し、でいるが、歪のよ・）な組織を得るためにがなり大きな粒子を 使用し。 τいない。裏面コーチインクは、溶媒中の、相互に相溶りない２種ま１．−はそ れ以りのバインダー成分の溶液から製造されている。３溶媒１ｆｌ−ｅ’ｉ物は 、異なった温度で沸騰する２種またはそれ以１の溶媒から形成されており、バイ ンダー成分は、高い方の沸点をＮする溶媒に灯して非溶解性である。溶液が乾燥 し、た場＃、（１、バイ〉グー成分は溶液から／を股上分離する。この特ｊによ れば、これは、ｔＩｌい組織をｒｉする表面を有するコーディングにつながる３ 、シかし、このアプローチには欠ｔ、飄がある３、２種のハｒンダー成分の使用 は、製造二Ｉ−稈時における仕込みミスの＝Ｓ能性を増加さ刊る傾向にある。Ｉ ｘ＋えて、２種の非相溶性の成分のブレンドは、乏しい耐久性をｆｉするマトリ ックスを与え得る。 磁気記録媒体は、広い範囲の温度にさらされることがしばし、ばあるので、裏面 コーティングの耐久性に影響する１つの要因は、広い温度範囲にオ）たる均一な 物理的性質を維持することに関する。不幸なことには、既知の裏面バインダー（ ４料の釜くには、温度変化に（ｆう物理的性質の変化がある。極端な場合には、 温度が増加（るとともに、裏面コーティング材料は、剛直で脆弱な材料から軟質 で粘着Ｈの４４料に変化する。そのような物理的性質の変化は、裏面コーティン グの耐久性を減少させＩする。従来技術−ｒ知られている通常の裏面コーティン グｌ１を使用することに１十う他の問題は、湿気による裏面コーテイング材ｆ、 １の劣化および裏面コーティングキ拝１の加水分解を包へする。 従来の裏面コーティングの大部分は、かなり低分子量の出発材料から誘導さねて いる。そのような低分子量の材木１は、硬什、即ち、を橋を・ｌイ・要と（−５ １、適切な物理的性質を有する裏面コーティングをりえる。例えば、裏面コーテ ィングは、一般に、非６１Ｈ’ｌ　Ｊ、１；４４１に未硬化のプレポリマー１容 液を−ｊ−ティ゛／グすること（−よ、−。 て形成されている。次いで、ブ１ノポリマー溶液を乾燥（，５、硬化さけ１、強 靭−Ｃ耐久性のある裏面コーチ仁／グを１ｉ−える。ブｌ／ポリマー材料を硬化 させるために、最も普遍的な材料は、ポリイソシアネーＩ−を橋剤とプレポリマ ーのヒドロキシル官能基との化学反応に頼っている。典型的には、架橋剤は、二 １−ティ゛／グの直前に、プレポリマー溶ｌルに添加される。 しかし、化やＹ的硬化］−稈に対する必要性は、複雑であり、磁気記録媒体製造 のコストを増加させる１、加えて、を橋剤をプレポリマー溶液に添加し７ｊ、− 後、を橋反応がｉｊわれるとともに、溶液の粘度は徐々に増ＩＪＩＩする。成る 時間のｔｅｌ、−、溶液の粘度が充分に高くなるので、基＋１−１に溶液をコー ティングするのが極端に１（１難になる。従って、プレポリマー溶液は、架橋剤 の添加の後のｆｌ限のボンドライフを有する。プレポリマー溶液の有限のボッ） ・ライフは、多くの心配事を生じさせる。 硬化反応があまりに速い場合に、短いボンドライフは、コーディングプロセスに 時間の拘束を課し、均一な裏面コーティングを得るのがより困難になる。他方、 硬化反応があまりに〃い場合に、硬化反応が充分に進むまで、裏面コーティング は、弱い生強度をｆｌする。結果的に、不都合でかつ高価な時間の遅１１が製造 ブｌ】セスにおいて行わなければ、裏面コーティングは、後の加圧王稈時に破損 し易い。 ｎ層ｊ記のようなボッＩ・ライフの考慮に加えて、硬化性の低分子量の出発材ｆ １を使用することによって、曲の問題が生じる。いずれの理由［しろ、硬化反応 が不充分である場合に、低分子−単材ｔ■が裏面コーティングの中に残る。その ような低分子量材料は、裏面コーティングを可塑化し、裏面コーティングの耐久 性を減少させる。さらに、低分子量材料は、裏面コーティングの表面に移動する 傾向にある。 そのような移動は、摩擦、スティクンヨン（ｓｔｉｃｔｉｎｎ）　、ヘッドへの 付着を増加させ、および／または耐ブロッキング性を乏【バさせる。 ブロックコポリマーを使用した磁気記録媒体は知ら第１ている。例えば、アメリ 力合衆国特許第５，１２８，２１５号は、ブロックコポリマーを含有する磁性層 を有する磁気記録媒体を開示している。同様に、アメリカ合衆国特許第４．４４ ８゜８４６号、第３．９７５．５６９号および第３．９２９．　（３５９号は、 磁気記録媒体におけるバインダーマトリックスの成分としてランダムなスチレン ／ジエンコポリマーを使用することを開示している。 発明の要旨 本発明は、向かい合う第１主表面および第２主表面を有する非磁性支持体、該第 １主表面−にのｆａ４１化可能なコーティングおよび該第２主表面上の裏面コー ティングを有する改良された磁気記録媒体を提供する。裏面コーティングは、式 。 （△−１３）。−Ｙ ［式中、Ｙは多官能性カンブリング残基；ｎは平均値２〜１５の数；Ａは、約７ ０℃よりも高い′■”ｇを有するポリマーブロック；およびＢは約２５℃よりも 低いＴｇを有するポリマーブロックであり、Ｂは八と非相溶性である。］で示さ れるブロックコポリマーを含んでなる。好ましい態様において、裏面コーティン グの表面は、該表面に粗い組織を与えるための複数の突起であって、コポリマー と一体である突起を有する。 ガラス転移温度ｒＴｇＪは、ポリマーが硬質のガラス状の物質からゴム状または 粘稠な物質に変化する温度を意味する。本発明において、Ｔｇの値は、示差走査 熱量法に従って測定する。この方法は、例えば、オールフック（Δ１ｌｃｏｃｋ ）およびランペ（Ｌａｍｐｅ）の「コンテンポラリー・ポリマー・ケミストリー （Ｃｏｍｔｃｍｐｏｒａｒｙ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）　Ｊ　、 第４３６〜４３７頁（１９８１年）、ウンダーリッチ（Ｗｕｎｄｅｒｌ　１ｃｈ ）およびガウアー（Ｇａｕｒ）の「ディファレンシャル・スキャニング・カロリ メトリー・オブ・フレキンプル・リニアー・マクロモレキコールズ（Ｄｉｆｆｅ ｒｅｎｔｉａｌ　Ｓｃａｎｎｉｎｇ　Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ　ｏｆ　Ｆｌｅｘ ｉｂｌｅ、ＬｉｎｅａｒＭａｃｒｏｍｏｌｃｃｕｌｅｓ）　Ｊ　、ポリマー・キ ャラクタライゼーンヨン（Ｐ　ｏｌ　ｙｍｅｒＣｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏ ｎ）　スペクトロスコピック・クロマトグラフインク・アンド・フィンカル−イ ンストルメント−メリンス（Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｉｃ、Ｃｈｒｏｍａｔｏｇ ｒａｐｈｉｃａｎｄ　Ｐｈｙｓｉｃａｌ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ　Ｍｅｔｈｏｄ ｓ）、第１９５〜１９９頁（１９８３年）；ロドリグエツ（Ｒｏｄｒｊｇｕｅｚ ）のプリンシブルズ・オブ・ポリマー・システムズ（１’ｒｉｎｃｊｐｌｃｓ　 ｏｒ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｙｓｔｅｍｓ）、第２版、第４８６〜４８８頁（１９ ８２年）に記載されている。 突起に関する用語「一体」とは、突起がブロックコポリマーの部分から形成され ていることを意味する。 用語「非相溶」とは、溶媒の無い場合に、ＡブロックとＢブロックが相分離する ことを意味する。 本発明の裏面コーティングは、粗い組織を達成するためにかなり大きな粒子を使 用することに頼ることなく、テープ走行時に空気の捕捉を減少させるための粗い 組織の表面を達成する。結果として、磁気記録媒体がロールとして貯蔵される場 合に、本発明の裏面コーティングは、磁性層にダメージを与える傾向を示すこと は少ない。 本発明のブロックコポリマーは、磁気記録媒体の裏面コーティングにおいて使用 するのに特に良好に適するような多くの他の特徴を有する。例えば、本発明のプ ロンクコポリマーは、ポリマーセグメント（Ａ）およびポリマーセグメント（Ｂ ）を注意深く選択することによって広い温度範囲にわたって、かなり安定した物 理的性質を有するように誂えることができる。かなり高いＴｇを有する八を選択 しかつかなり低いＴｇを有するＢを選択することによって、得られるブロックコ ポリマーは、２つのガラス転移温度の開の実質的に均一な物理的性質を示す。例 えば、Ａが少なくとも７０℃のＴｇを有し、Ｂが２５℃以下のＴｇを有する場合 に、得られるブロックコポリマーは、２５〜７０℃の温度範囲にわたって実質的 に均一な物理的性質を示す。 加えて、本発明のブロックコポリマーは、乾燥した場合に、架橋しているかの如 く挙動するが、熱可塑性材？４の溶融加工特性および溶解性を保っている。架橋 効果は、ＡおよびＢブロックの分離ドメインへの分離によって生じる。そのよう な相分離は、裏面コーティングの化学的架橋を不要にする「物理的架橋」と当技 術において呼ばれている。本発明のこの特徴によって、硬化反応に伴った問題、 例えば、ポットライフ拘束、加工遅延などを避けることができる。さらに、単一 の裏面コーティング材料は、最もよく市販されている磁気記録媒体において使用 されている２成分の裏面コーチインゲンステ１１に代えて、本発明において使用 することができる。単一の裏面ブロックコポリマー材料の使用は、そうでなけれ ば製造１捏時に生じ得る仕込みミスの可能性を減少させる。本発明の好ましい態 様において、かなり高分子量のブロックコポリマーの使用によって、低分子量出 発物質に伴ったこれら問題を避けることができる。 本発明のム「ましい裏面コーティングは、改良された環境的安定性をも示す。ブ ロックコポリマーの炭化水素主鎖かへテロ原子を持たないようにΔおよびＢを選 択することによって、得られるブロックコポリマーは加水分解に付されなくなる ものと考えられる。 図面の簡単な説明 図１は、１００倍の倍率で本発明の裏面コーティングを示す光学顕微鏡写真であ る。 図２は、１００倍の倍率で本発明の裏面コーティングを示す光学顕微鏡写真であ る。 図３は、１００倍の倍率で本発明の裏面コーティングを示す光学顕微鏡写真であ る。 好ましい態様の説明 本発明の非磁性支持体は、当技術において知られているいずれかの好適な基材材 ｔ」であってよい。好適な基材材料の例は、例示すれば、ポリエチレンテレフタ レート（ＰＥＴ）のようなポリエステル、ポリプロピレンのようなポリオレフィ ン：セルローストリアセテートまたはセルロースジアセテートのようなセルロー ス誘導体、ポリマー、例えば、ポリカーボネート、ポリビニルクロライド、ポリ イミド、ポリフェニレンスルフィト、ポリアクリレート、ポリエーテルスルホン 、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、アラミド フィルム、ポリエチレン２．６−ナフタレートフィルム、フッ素化ポリマー、液 晶ポリエステル、ポリアミド、またはポリヒドリック酸；紙：またはいずれかの 好適な物質を包含する。 本発明において使用する特定の磁性コーティングは、限定されず、当技術におい て既知であるいずれかの好適な磁性コーティングであってよい。例えば、磁性コ ーティングは、種々の化学的または物理的蒸着法を使用して、非磁性支持体上に 付着される薄膜磁性コーティングであってよい。あるいは、磁性コーティングは 、ポリマーバインダー中に分散した磁性着色剤粒子を含んでなってよい。 本発明の裏面コーティングは、式： ％式％） ［式中、セグメントＡは、約７０℃を越える、好ましくは約８０℃を越える、よ り好ましくは約９０℃を越えるＴｇを有する。］で示されるブロックコポリマー を含んでなる。セグメントＡは、ビニル置換芳香族モノマーから誘導されたセグ メン］・であることが好ましい。本発明に好適なビニル置換芳香族モノマーの例 は、スチレン：３−メチルスチレン：４−メチルスチレン：４−イソプロピルス チレン、２−エチル−４−ベンジルスチレン：４−ｐ−トリルスチレン：４（４ −フェニル−ｎ−ブチル）スチレン：２，４−ジメチルスチレン；２．４．６− １−ジメチルスチレン：３−メチル−５ｎ−へキンルスチレン；スルホン化スチ レン；１−ビニルナフタレン＝２−ビニルナフタレン。 ビニルナフタレンのアルキル、ンクロアルキル、アリール、アルクアリールおよ びアラルキル誘導体：ビニルピリジンなどを包含する。これら物質の中で、スチ レンの使用が最も好ましい。 ソフトセグメントＢは、約２５℃未満、好ましくは約０℃未満、より好ましくは 約−３０℃未満のＴｇを有する。ソフトセグメントＢは、炭素原子数４〜１２の ジエンモノマー、より好ましくは炭素原子数４〜１２の共役ジエンモノマーから 誘導されたセグメントであることが好ましい。本発明に好適なジエンの例は、１ ．３−ブタジェン、イソプレン、１．３−ペンタジェン（ピペリレン）、２．３ −′メ千ルー１，３−ブク、５エン、３−ブ千ルー１．３−オクタ１．乏エン、 １−−ノ□−二ｌト−１，３−ブタ：）、に・、１．コトへキサジエン、１．３ −オクタンエ゛／、４−Ｊ。 デル−１，３−ヘキ（ノンーｒ、ン・などを包含する。）゛タジエンまｔこはイ ソブ１ノンの使用が好ま］５い３、 ブロックコポリマーの製造は、当技術においてＪ、く知られている。プリンク１ ポリ−１・−の典型的な製造方法は、アメリカ合衆国特許第４．７８０．３６７ −Ｑ：アメリカ合衆国特ｎ’ｒ第３．９８５．８３０号：フエツ々−ズ（Ｆｅｔ ｔｅｒｓ、！、、Ｊ、’）のジエイ・ポリマー・勺イ（Ｊ、Ｐｎｌｙｍｅｒ　５ ｃｉ）、バー１−　（Ｐａｒｔ）　Ｃ，Ｎｏ、２６、第１−３５Ｑ　（１９６９ 年）６マクグラス（ＭａｃＧｒａｔｈ、Ｊ　、［’：、　）、編古。 アニオニソク・ポリメリゼーンヨン（Δｎ１ｏｎｉｃ　ｌ’ｏｌｙｍｃｒｉｚａ ｔｉｏｎ）　：カイネティ。 クス・メカニズムズ・アンド・シンセンス（Ｋｉｎｅｔｉｃｓ、　Ｍｅｃｈａｎ ｉｓｍｓ、　ａｎｄＳ　ｙｎｔｈｃｓｉｑ）ΔＣ３Ｓｙｍｐｏｓｉ＋ｎ＋＋　５ ｃｒｉｃｓ、第４１−４７頁（１９８１年）：レノゲ（１＝ｅｇｇｅ、Ｎ、Ｒ， ）ら９編者、サーモプラスデック・エラストマーズ（ＴｈＣｒｍｏｐ［ａｓｔｉ ｒ　Ｅｌａｓｔｏｍｅｒｓ）、ア・コンブリヘンンブ・１ノビユ（ａＣｎｍｐｒ ｅｈｅｎｓｉｖｐ　Ｒｅｖｉｅｗ）、第６７−７］頁および第４６６−４７１頁 （１９８７年）に記載され−Ｃいる。例えば、ハードセグメン１−Ａｔ；ｌ以下 のようにして合成することができる。 Ａ＊＋Ａ−＝ＡＡ＊ Ａ　Ｉ’ｌブロックは、ＡＡ＊随にＢを添加する。−とによって以上のようにし て形成することが［きる。 ＡＡ＊　４−　ＩＩ　争　（Ａ　−Ｉ−３）　一本発明によれば、ぞれぞ第１の アーム（Δ−Ｂ）−は、隣接ブ［１ソクフボリマ一分子の間に立体用Ｆｉ作用１ 【ｉＴ　ＩＩ日＝するように充分に高い数平均分子量をイ１することが好ま１、 い０、そオｌぞれのアーム（Ａ−［３）−は少なくとも約３００００の数平均分 子ｍｌ　’ｒ　ＴＴ　ｔ’ることが好まＩ、５い１、しかし、ブロックコポリマ ーの溶を夜があまりに粘稠にならないように、ぞれぞｈのアーム（、Ａ１−、− １１　）−の数平均分子量は、約１０００００よりも小さいことが好ましい。そ れぞれのアーム（Ａ−１３）−は、４５０００〜８００００の数平均分子量を有 することが好まし７い。ゲルバー：］−一ソヨンクロマトグラフ仁−によれば、 多分計竹、即ち、アーム（Δ−１３）−の分子量分布は一般に１５未満、好まし くは１，２未満である。 セゲメン＋７ＡおよびＢが分離ドメインを形成するように、セグメン］・Δネ、 ；よびＢのそれぞれは、充分に高い分子量を有するＪとが好まＩ、７い。セグメ ：７１・Ａまたはセグメンｌ−Ｂのいずれかがあまりに低い分子量をｈする場△ に、相分離は生じない。本発明の好ましいかなり高い分子量のブロックコポリマ ーにおいて、ハードセメントΔは約１ｏｏｏｏ〜７００００の平均分子量をずｊ し、ソフ］・セグメントＢは約１５０００〜７５０００の分子量を有する。 好ましい聾様において、それぞれのアーム（Ａ−Ｉ３）−は、３０〜８０重限％ 、好ま（バは４０〜７０重量％、より好ま（バは６０〜・７（）重量％のハード セグメンｌ−Ａを有する。ハードセグメンｌ−Ａがあまりに少ない場合に、ブロ ックコポリマーはあまりにゴ１１状になりすぎる。、　ｆｔｋ方、ハードセグメ ン［・八があまりに多い場合に、ブロックコポリマーから形成される得られる裏 面コーティングはあまりに剛直になりすぎる。 多官能性プノノブリング剤がアー４．　（Ａ、−、、−１３）−と反応１−、て 、複数の（Ａｌ１）−アームが多官能性プＪツブリング残基Ｙによって結合【２ ｒいる、特￥ｆ請求されＣいるブロック配置をａするコポリマーが形成する。、 Ｙのｍ造は、１φす１１する多丁ｒｆｌＥＭカソブリンゲ削の種類によって決ま る。しかし、多官能す１カツプリング残基Ｙは少なくとも３官能性であることが 好ましい１、使用する特定の多官能性カップリング剤は限定されず、既知の多官 能性カンブリンク物質のいすねであってもよい６、本発明に好適な多官能性カッ プリング剤の例は、ポリエポキサイド、ポリイソノアネ−１・、ポリアンハイド ライド、ンヵルポン酸エステル、ソリコンハライド、ｒルギルハラ、イドｉ；よ びジ＋Ｘ：ニルベンゼン・を包含する。好ま（，５い多官能性カップリング剤の 例は、）ｌ−ざ−ルベンゼン、ノリコンテトラクロライド、およびエチし／ンジ ブロマ、イト′を包含４る。こ第１らの物質の中で、ジビニルベンゼン（ＤＶＢ ）が好ましい。例えば、ｒメリヵ合衆国特ｇ’１第３．９８５．８３０号を参照 できる。 好まｌ、７いＩ）Ｖｌｌは、ダウ・ケミカルからＩ）　Ｖ　１３−５５として１ １１販されている。 典型的にはＩ）　Ｖ　［３−５５は５５８％のジビニルベンゼン、４３０％の１ ヂルヒニルベンゼン、０５％の′）ｒ−デルベンゼン、０．７％のナフクレン、 および９゜Ｏ〜１．１１００ｐｐの１−ブチルカテコール禁止剤を＾′んでなる 。メタ　パラ異性体の比はジビニルベンゼンおよびゴヂルビニルベンゼンの両方 に関して、２３である。ダウ・ケミカルからＩ）ＶＦ６−１１Ｐとして市販され ている高純度１）Ｖ！１をも、本発明において使用することができる。典型的に は、Ｉ）ＶＢ−１１Ｐは、８０５％のジビニルベンゼン／、１８．３％のエチー Ｊレヒニルベンゼン、ｏ、２％のジーｒ−’ｆ−ＩＬベヘンｉ　ン、１．０９６ ノ＋フタ１ノン、および９００−１１．００ｐｐｍのｔ　−ブチルカテコール禁 止剤を含んでなる。メタ、パラ異性体の比はジビニルベンゼンおよび１千ルビニ ルベンゼンの両刃に関して、２．３である。 一般的に、多回１止性カップリング剤は、カッ１１尺／グ残糸と（Ａ−Ｂ）−ア ー１、のモル当隈比が３１へ２０１、好まし７くは４：１〜１２：１、より好ま しくは約４５・１でなるような量で使用する。このようにして、それぞれのブロ ックコポリマーが、多官＃ｉ：Ｍカップリング残基に結合した３〜２０、好まし くは１１〜１２、より好まし、べは約８のアームを有するように、本発明のブロ ックコポリマーは、アーＩ、（Ａ−Ｂ）−の数！１を有する。カップリング残基 の重量％が無視てきる程度に、ブロックコポリマーの全重量に対して生重量で、 カップリング残基が存在する。 実際、本発明の裏面コーティングは、アームの数ｎが全体としての母集団に関し て数甲均値を有するよ・）なブロックコポリマーの非均質な母集団を有する。１ つの手法に従えば、ブロックコポリマーの母集団のためのアームの平均値は、ａ ｔ角（９）レーザー光分散検出を用いたサイズ・イクスクルージョン・クロマト グラフィー（ＳＥＣ／１．、ＡＬ、ＬＳ）　Ｌ−ヨッｔｌＪ！ＰＩ定すルコとが テキル。ＳＥＣ／ＬＡＬＬＳ手法は、ジョーダン（Ｒ，Ｃ，Ｊｏｒｄａ口）らの ［−サイズ・イクスクルージョン・クロマトグラフィー・ウィズ・ローアングル ・レーザー・ライト・スキャタリング―ディテクン１ン（Ｓｉｚｅ　Ｅｘｃｌｕ ｓｉｏｎ　Ｃｈｒｎｍａｔｎｇｒａｐｈｙ　ｗＨｈ　Ｌｏｗ−ＡｎｇｌｅＬａｓ ｅｒ　Ｌｉｇｈｔ−Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ　Ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ）　Ｊ、ΔＣＳ ノンボジウムノリーズ、Ｎ０２４５．１．９８４年に記載されている。 本発明のブ［コツクコポリマーは、いずれかの残ｒｊする不飽和を実質的に除去 するように、ｆｆ爾ｔｉ＆に、水素化されてよい。そのような水素化は、水素化 を（−ｉわない場合に生じることがある、好ましくない化学的を橋および分断の 反応を防■するのを助ける。水素化の方法は、よく知られており、例えば、アメ リカ合衆国特に′Ｆ第４．４５２．９５０す、イギリス国公開第２．．１３４． ９０９Δ号；バイウォーター（１３ｙｗａｔｅｒ）ら、ジェイ・ポリ・サイ・ポ リ・ケム・ニド（Ｊ　、Ｐｏｎｙ、５ｃｉＰｏｌｙ、　Ｃｈｅｍ、　Ｅｄ、　） 、第２２巻５第６６９〜６７２頁（１９８４年）、ハラリ（Ｉｌａｌａｓａ）ら 、ジェイ・ポリ・サイ・ポリ・ケム・ニド（Ｊ　、Ｉ’ｏｌｙ、５ｃｉＰｏｌｙ 、　Ｃｈｅｍ、Ｅｄ、　）、第１９巻、第１３５７〜１３６０頁（１，、９８１ 年）：オーケノト（Δｕｋｅｔｔ）ら、ジェイ・オイル・コル・ケム・アッソク （Ｊ、　Ｏｉｌ　ＣｏｔＣｈｅｖＡ、　Ａｓ５ｏｃ、　）　、第６０巻、第１７ ３〜１８０頁（１９７７年）：およびアントコウィアノク（Δｎｔｋｏｗｉａｋ ）ら、′）Ｌイ・ポリ・サイ（Ｊ　、Ｐｏ１ｙ、Ｓｃｉ、　）。 バートム−１，第１０巻、第１３１９〜１３３４頁（１，９７２５Ｆ）に記載さ ねている。 特許請求されたブロックコポリマーに加えて、本発明の裏面コーティングは、裏 面コーティングの性能を向」ニさせるように種々の添加剤をυすれば含ａｌ＝、 ていてもよい。そのような添加剤の使用は、当技術でよく知られており、例えば 、潤滑剤、酸化防止剤、界面活性剤、ヘッドクリーニング剤、殺カビ剤、殺バク テリア剤、帯電防止剤などを包含する。 本発明の裏面コーティングを形成する好まし、い方法に従えば、（γを存する可 能性のある）カーホンブラックを除く裏面コーティングの成分の全てを溶媒また は溶媒混合物と一緒にし、高スピード、例えば１５００ｒｐｍで、約３０分〜約 ５時間の時間にわたって、充分にμ合する。嬰すれば使用する力・〜ボンブラッ クを、そのような混合時に他の成分とゆ−クくりと一緒にする。一般に、溶媒ま たは溶媒混合物は、裏面分散物が７０〜９０重景％の溶媒または溶媒混合物を含 有するような量で使用することが好ましい。 溶媒または溶媒混合物の適切な選択によって、裏面コーティングの表面粗さが容 器に制御できる。コーティングしたコポリマーが滑らかな表面を有する裏面コー ティングを形成するため、単一の溶媒を使用してもよい。例えば、４０重量％ま たはそれ以上のポリスチレンを含有するコポリマーにおいて、滑らかなコーティ ングしたコポリマーを形成するために、トルエンまたはキシレンのようなコーテ ィング溶媒を使用してよい。６０．１１ｊ最％またはそれ以上のポリブタジェン またはポリイソプレンを含有するコポリマーにおいて、ＴＩＩＦまたはジグライ ムエーテルのようなエーテル溶媒を使用して、滑らかなコーティングしたコポリ マーを形成してよい。 他方、コーティングしたポリマーが、粗い組織を与えるための一体の複数の突起 を有する裏面コーティングを形成するように、適切な溶媒混合物を使用してよい 。一般に好適な溶媒混合物は、コポリマーのＡセグメントを優先的に溶解する１ 〜２０重景部の第１溶媒、およびコポリマーのＢブロックを優先的に溶解する１ 〜２０重量部の第２溶媒を含んでなる。例えば、Ａがポリスチレンセグメントで ありＢがポリブタンエンまたはポリイソプレンセグメントであるコポリマーにお いて、好適な第１溶媒は、トルエン、キシレンなどから選択してよく、好適な第 ２溶媒は、ＴＩＩＦ、ジグライムエーテルなどから選択してよい。 約４０重量％またはそれ以上のポリスチレンを含有するポリスチレン／ポリブタ ノエンまたはポリスチレン／ポリイソプレンコポリマーにおいて、溶媒混合物は 主要量の第１１′Ｂ媒を含有することが好ましい。約４０重量％未満のポリスチ レンを含有するポリスチレン／ポリブタノエンまたはポリスチレン／ポリイソプ レンコポリマーにおいて、溶媒混合物は主要量の第２溶媒を含有することが好ま しい。本発明の目的において、「主要量」とは、溶媒混合物が、特定の溶媒を５ ０重量％を越える量で含有することを意味する。 混合後に、得られた混合物を高速で、例えば、１５００ｒｐｍで２〜３０時間に わたって粉砕し、裏面分散物を形成する。粉砕のために使用する粉砕媒体は、当 技術において既知であるいずれかの粉砕媒体、例えば、ガラス、ステンレス鋼ま たはセランミック媒体であってよい。同様に、粉砕のために使用する特定の装置 は限定されない。−例として、羽根を有する粉砕ブレードを使用するウォタージ ャケソトイガラシミルが、本発明において好適であることがわかっている。粉砕 後、一体突起を有する裏面コーティングが望ましい場合に、要すれば、追加的な 溶媒を裏面分散物に添加して第１溶媒と第２溶媒の重量比を望ましいように調節 する。一般的に、多い量の第２溶媒を使用することによって、裏面コーティング には突起が多くなる。 粉砕後、裏面分散物をふるいに通し、粉砕媒体から裏面分散物を分離する。次い で、通常のコーティング法、例えば、グラビア、逆グラビアまたはナイフコーテ ィング法を使用して、裏面分散物を非磁性支持体に適用する。真面分敷物を非磁 性支持体にコーティングした後、非磁性支持体上のコーティングを大気条件下で 空気乾燥し、非磁性支持体に裏面コーティングを形成する。裏面コーティングを 形成するために好適な溶媒混合物を使用した場合に、コーティングした分散物が 乾燥するとともに、ブロックコポリマーと一体である突起が裏面コーティングの 表面に形成される。 以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明する。 実施例１ 本発明のブロックコポリマーの調製 ４７５ボンドのシクロヘキサンを７５ガロンのステンレス調圧力容器に仕込んだ 。２０ボンドのシクロヘキサンを留去した。容器を１０５°Ｆに冷却し、不活性 雰囲気下にした。４５．０ボンドのスチレンをシリカゲルを通過して容器中に住 込んだ。発熱が観測され、溶液が薄黄色を示すまで、１２重量％のＳ−ブチルリ チウムのシクロヘキサン溶液約２００ｍ１を５０ｍ１部分て添加した。すぐに、 １２重量％のＳ−ブチルリチウムのシクロヘキサン溶Ｍ０．８ボンドをｉ＋Ｘ］ した。 発熱がピークになった後、容器を１４０°Ｆで９０分間保った。４５．０ポンド のブタジェンを７リカゲルを通して２５ガロンのステンレス調圧力容器中に仕込 み、９０分間の保持の終わりまで５０６Ｆで保持した。次いで容器を１０５°Ｆ に冷却し、７５ガロン容器にへと２５ガロン容器からの不活性ガスでブタジェン を圧入した。次いて、発熱がピークになった後、容器を１６５°Ｆで４時間保っ た。容器を１５０″Ｆに冷却し、次いで、１６ボンドのシリカゲル処理５５％ジ ヒニルベンゼンを容器に添加した。容器を１５０°Ｆで２時間保ち、次いで、０ ．０８ポンドのメタノールてクエンチした。０９ボンドのイルガノックス（Ｉ　 ｒｇａｎｏｘ）（登録開−）１．０７６酸化防止剤を容器に添加した。 中間紙１１および最終ポリマーのＧＰＣ結果は、スチレンブロックが２８０００ の重量平均分子量および２６９００の数平均分子量を有し、スヂレンーｂ−ブタ ジェンアームが、６５５００の補正重量平均分子量（ブタジェンＱファクター２ ８）および６３０００の補正数平均分子！（ブタジェンＱファクター２８）をＷ し、およびカップルしたブロックコポリマーが５８２９５０の補正重量平均分子 Ｉｔ（ブタノエンＱファクター２８）および５６１６００の補正数平均分子量（ ブタノエンＱファクター２８）を有することを示した。激しく撹拌しながら、３ 部の２−プロパツールに１部の前記溶液を徐々に添加することによって、ポリマ ーを、使用するために調製した。使用前に、得られた沈殿した剛直な可塑性ポリ マーを真空炉において乾燥した。得られたコポリマーのスチレンブロックは約９ ７℃のＴｇｌおよびコポリマーのブタジエンブロックは約−６５℃のＴｇを有し ていた。 実施例２ 裏面コーティングの調製 裏面コーティングを以下の成分から調製した。 成分　重量（ｇエ アセチレンカーボンブラック”　３０．９７ホスホリル化ポリオキンアルキルポ リオール　０．８３エムコール（Ｅｍｃｏｌ）アセテート　０．９３（Ｗｉｔｃ ｏ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ、　Ｏｒｇａｎｉｃｓ　Ｄｉｖｉｓｉｏｎ）ポリマー溶液 （以下のものを含有） ａ、実施例１のプロンクコポリマー　４７４初めに、ポリマー溶液およびテトラ ヒドロフランを一緒にし、高せん断ブレードを使用して１５００ｒｐｍで約５分 間混合した。カーボンブラック、ホスホリル化ポリオキンアルキルポリオールお よび次いでエムコールアセテートを、混合しながら、徐々に添加した。全ての成 分を添加した後、混合物を１５００ｒｐｍで２時間にわたって混合した。次に、 ３５０ｇの１．３ｍｌ１１のガラス粉砕媒体を添加し、粉砕羽根を使用して混合 物を１５０Ｏｒｐｍで２５時間にわたって粉砕した。得られた分散物におけるト ルエンとＴＩＩＦの重量比は５５・４５であった。 得られた分散物の１つのアリコート（試料２Ａ）を１．５ミルのポリエステルフ ィルム上にナイフコーティングし、空気乾燥し、次いで、１３０°Ｆおよび１５ ００ＰＬＩてカレンダーがけした。得られた分散物の他のアリコート（試料２Ｉ Ｎ）に、トルーＬンとＴ［ＩＦの重量比を４０：６０１こ調節するよう（ご、充 分なＴｌ＋１・′を添加した３、試料２１３の分散物を１５ミルのポリニスナル フィルム上に子１′−１ｉ−、ｆ４ング１１５、空気乾燥（７５、次Ｌｌｒ、１ ３０′′Ｆ′および１５００Ｐｉ、Ｉｒ力裏面コー　デ゛イ゛グを以−トの成分 から調製した１、−味外　−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− −−−−−−−−１鷹−（名−）−ｒ　＋　−ｖ−Ｌ、　二、カーーｔｔ゛ブ９ 　＝）り１１３０．９７ホスホリル化ポリＡギソアルキルボリイール　０．９５ 、ｒ−１，ｈコー・ル（Ｅ　ｌｌ１ｃｏｌ　）ア打テート　０，９３（Ｗｉｔｃ ｎ　Ｃ１＋Ｃｍ１ｔ：ａｌ、　Ｏｒｇａｎｉｃｓ　Ｉ）ｉｖｉｓｉｏｎ）実施例 １　（１）　””、、Ｆ’　（、＋　７クコポリマー　４７４（固形分１００％ ） ｚ、−−−Ｂ）、ブタ／νをｈ、（全ての成分を一緒に１５、高且ん１ぜ■力） −ドを使用しこ約５分間混合１．．．．７′：、次いで、混合１，５ながら、カ ーボンブラックを徐々に添加した。 ２ノー＝−ホンブーラックを添加しｊ、−ｉＬ　Ｒｅｉ物を１５００ｒｐｍで２ 時間混合した。次（、′、３５０２この１　、　、ｉ　ｍ　ｍのカラス粉砕媒体 を添加し、粉砕羽根を使用して混合物を１５０（１ｒｐｍ′ｒ５時間ニｔ〕た。 −（粉砕ｊ、た７、得られ１５分敷物はトルエ：）を含んＶいｊよかった３、 Ｉ！ｉ　Ｉ−・ねた分散物の１・−）σＹｉ’リーノー１・（試Ｈ３Ａ）庖１５ ミルのポリエステルブイノｌ１２土ｉＪ：　Ｊ１’−７−１−一〜−Ｆ’　ｉ” 、ｙり′Ｌ５、空気乾燥し、次い−（゛、＋　３０’　Ｆおよび１５００　Ｐ　 １．、、　ｌで勺［、二、ターがけしｊ：。ｉ！１らイまた分触物の２つの他の γリコート（ぞレソｔｖＡｔＬ＋３１．Ｊ：ヒ３　（ｊ　１．：、ｌ・ルチン１ １　Ｔ”　１１　Ｆ　］重［ｔヲＵＬ１　、Ｅ　Ｂ　Ｕｋ；ｔ　ｖｉ、１９：８ １、試Ｈ３Ｃ１，″おい−Ｃ１０・＜−）　０１−調節する。）、−）に、充分 なＴ１１Ｆ６−添加しまた７、次いで、試料３１３および３Ｃを１．５１’ニル のポリニスナルフィルム上にナイフコーティングし、空気乾燥し、次いで、Ｌ３ ０’Ｆおよび１５００）’＋１−１τカレンダーがけし、た。 木嵐咋４ 本実施例は、２５重量％のブタジエ゛／炙含有するブ「ラック゛−７ポリマーか ら誘導さ第１た裏面コーティングの調製を説明する。 ４７５ポンドのンクロヘキサンを７５ガロンのステ゛２／レス調圧力容器中に（ −１込んだ。次いで２０ボンドのンクロへ４Ｉナンを留去した。容器を１０５° Ｆｌご？全都し、不？Ｊｔ’ｌ雰囲気Ｆにした。６７５ボンドのスチレンをシリ カゲルを通過して容器中に仕込んだ。発熱が観測され、溶液が薄黄色を示４−： ＋：で、１２重量％のＳブチルリチウムのソクロヘキサン溶液約２００　ｍ　ｌ を５０ｍ１部分で添加した。 すぐに、１２２重丸のＳ−ブチルリチウムのノクロヘギＷ＞溶液０．８ボンドを 添加した。発熱がピークになった浚、容器を１４０６Ｆで９０分間保った。２２ ゜５ポンドのブタジェンをシリカゲルを通しで２５ガロンのステンレス調圧力容 器中に仕込み、９０分間の保持の終わりまで５０°ＦＴＩ’保持した。容器を１ ０５’Ｆに冷却し、次いで、ブタジェンを、不活性ガスで７５が［ｌンの容器中 にＬＬ人した。、発熱がピークにな−、た復、容器を１６５°Ｔ’Ｔ４時間保− ）を二。容器を１５０’Ｆに冷却し、次いで、１６ポンドのノリ力ゲル処理５５ ％ンヒエルベンゼンを容器に添加した。容器を１５０°Ｆで２時間保ち、次いで 、０．（１８ボンドのメタノールでクエンチした１、０．９ポンドのイルガノッ クス（Ｉ　ｒｇａｎｏｘ）　（登録商標）１０７６酸化防止剤を容器に添加した 。 中間試料および最終ポリマーのＧＰＣ結里は、スヂレンブロソクが５０００　！ ’、１の重量平均分子量および４６８００の数平均分子量をｉＮ　ｌ、　；スチ レン−ｂ　ブタノＪ−ンアームが、６７３００の補正重量平均分子量（ブタンエ ンリフアクタ−２８）および６１９００の補正数平均分子量（ブタンエンリフア クタ−２８）を有し１．お１１、びカップル（５，たブ［）・Ｉり−ｊポリマー が５８５５００の補正車量平１−ノ分子ｌ！ｌＩ（ブタにエンＣ’ＪＴ）ｒ’） ター２８’）および５３８５００　（７）補正数・Ｖ均分子１１ｊ（ブク行−゛ ／Ｑ）ｒククー２８）を＋１オる、−とを示し、　ｆ、−、ｃ１激（２＜撹拌し ７ながら、３部の２−ブＦｉｒバへ−ルに１部の前記＋８液を徐／、仁添加する ことによ、て、ポリマーを、使用するために調製ｊた３、１φ川ｎ１１に、得ら ４１だ沈殿しｊ１剛ｉＥＸな可塑（う１ポリマーを真空炉においτ乾燥ｉ３．た 。得られｊ、ニコボリマ・−のスチレンブロックは約９７℃の’Ｔ’　、　、お にびフポリマーのブクノー丁６シ・ブ［Ｉツクは約−６５℃のＴｇをイ■してい ｊ、気、その（Ｌ（’３られｆ＝　ｆ　ｏ　ツクポリマーをＩ・ルエン中固形分 １６．６％に溶解］、７か５． １゛↓十のようメ１表追加的／ｊ成分↓９Ｊび得られたポリマー溶液苓使１１１ シ、で、裏面コーティ゛、・ν′を製Ｉｊ〜した。 、士、ス、１、リル化ボリイキ”７・アルキノ１ポリ−号−ル　１．２４ポリマ ー溶液（ｆＪＦのものを含ＦＴ）２１　本実施例のｆＤ、、クコポリマー　５１ ８ノｒ−：＋普７ブシＩ泗１炙除く全一［の成分イー　緒ｌ−１、高−１，ｊ゛ ん断ブし一斗苓使用１ブＣ約５分間４イ、合１．、、、ｔ、：　、、次いＣ゛、 Ｉ（？、菖！２．なｌ自二１、ノノー−−１５ブラツクを徐メ！に１トノ１ｊシ た。 カーボンブタツクを１ＫＩＮｌ　ｌ−、、／、ｌＬ　Ｋｄ合特浅ｔ　５００　ｒ 　［）　ｍＴ’　２時間ｉ！’ｉ’菖Ｉ２．た１、次に、３５（１＋ｒｃ７）１ ．３ｍｍのカラｙ＜粉砕媒体を添加し、粉砕羽根ヲ１φ用し、ｖｉｒｙｇ物を１ ．５０（ｌｒｐｍで２５時間にわたって粉砕した。１１１られｊ、−分散物にお いてＩ・ルエンと１’ｌｌＦのｆｆｊＦＦｔ比は４８・５２てあった。 得られた分散物の１つのアリコー　ト（試ｔ１４Δ）を１５ミルのポリニスデル フィルム」−にナイフコーティングし、空気乾燥し、次いで、１．３０’Ｆおよ び１５００１’ＬＩτ力Ｌ／ンダーがけした。得られた裏面コーティングは滑ら かであり、実施的に突起を持たｆ、ｇ、かった。 害脚稗用 試料２Ａ、２Ｂ、３Δ、３Ｂ、３Ｃおよび４Δの・１５°光沢値および空気ブリ ート時間を測定した。当技術において知られているように、空気ブリー　ド時間 は、−コールティングの表面１１１さを測定するために１ＩＪｉ用できる。例え ば、アメリカ合衆国特約第４．６９８．７０１号；特開昭６２−１ＬＬ＋３８す ：特公昭８３−００　（１０９（３号公報などを参照できる。一般的に、低い空 気ブリード時間は、より粗いコーティングに対応する。結里は以下のとおりであ 、）た。 ２Ａ　５５・４５　１．０　５ ２ｉ３　４０：６０　１．．３　６ ３！３　１９：８１　９．８　１８ ３ＣｉＯ：９０　１０．７　３４ 試＄４．２　Ａ。２＋３，３Ｂ、３Ｃおよび３ＡＩ−おい１、）″−弓１−は、 試料の４５’）ｖ、８値および空気ブリー　ド時間が、トルＪル・１”１ｌＦｆ ｆｉ量比が増Ｊｕｌするとともに、減′−レすることを示り、？″いる。特に、 ｌ・ルチンとＴｌ（Ｆとを組み合わＭると、特に、トル丁−：、　、　１’ｌｌ Ｆ重量比が４０　：　６０へ−５５：４５である場ハに、４５°″Ａ′、、沢お よび空気ブリードに劇的な減少が見られる。低い４５°光沢値および低い空気ブ リード時間は、粗い表面に対応するので、データーは、トルエンとＴＩＩＦの溶 媒Ｍ合物を使用することが、ＴＩＩＦのみを使用する場合よりも、粗い表面を有 する裏面コーティングを与えることを示している。試料４Δは高いスチレン金員 を有するので、他の試料よりも明らかに滑らかであると考えられる。 実施例６ ２Ａ、３△および３Ｃの光学顕微鏡写真を１００倍の倍率で撮影した。図１は試 料２Δを、図２は試料３Ｃを、図３は３Δを示す。図１〜３かられかるように、 試料は以下のような表面特性を有する。 試料　図　トルエンのＴＩＩＦ　突起 に対する重員比 試料２Δ　Ｉ　５５：４５　有り 試料３Ｃ２１０：９０　有り 試料３Ａ　３　０　無し 従って、トルエンおよびＴＴＩＦの溶媒混合物を使用して調製した本発明の裏面 コーティングは、ブロックコポリマーの部分から形成されている突起を有してお り、これら突起は裏面コーティングの表面から突出している。対照的に、溶媒と してＴ’ｌｌＦのみを使用して調製した裏面コーティングには突起が無かった。 突起は、テープ送行時の空気捕捉を減少させるための粗い組織を加える。好都合 なことには、突起はコポリマーと一体であるので、Ａ　Ｉ　２０．またはカーボ ンブラックのような硬質のかなり大きな粒子によって形成される突起に比較して 磁性化層に損傷をりえるより少ない傾向を示すと考えられる。 実施例７ ４７５ボンドのシクロヘキサンを７５ガロンのステンレス爛圧力容器中に仕込ん だ。次いて２０ボンドのシクロヘキサンを留去した。容器を１０５°Ｆに冷却し 、不活性雰囲気下にした。６１．２ボンドのスチレンをシリカゲルを通過して容 器中に仕込んだ。発熱が観測され、溶液が薄黄色を示すまで、１２重隋書のＳ− ブチルリチウムのシクロヘキサン溶液約０．２ボンドを０．０５ボンド部分で添 加した。すぐに、１２重量％のＳ−ブチルリチウムのシクロヘキサン溶液０，８ ボンドを添加した。発熱がピークになった後、容器を１４０°Ｆで９０分間保っ た。２８８ポンドのイソプレンをシリカゲルを通して２５ガロンのステンレス調 圧力容器中に仕込み、９０分間の保持の終わりまで５０°Ｆで保持した。容器を １０５°Ｆに冷却し、次いで、イソプレンを、不活性ガスで７５ガロンの容器中 のポリスチレン溶液に圧入した。発熱がピークになった後、容器を１６５°Ｆで ４時間保った。容器を１５０°Ｆに冷却し、次いで、１．６ボンドのシリカゲル 処理５５％ジビニルベンゼンを容器に添加した。容器を１５０°Ｆで２時間保ち 、次いで、０．０８ボンドのメタノールでクエンチした。０．９ポンドのイルガ ノックス（Ｉ　ｒｇａｎｏｘ）　（登録商［）１．０７６酸化防止剤を容器に添 加した。 中間試料および最終ポリマーのＧＰＣ結果は、スチレンブロックが３１．８００ の重量平均分子量および２９５００の数平均分子量を有し、スチレン−ｂ−イソ プレンアームが、４７３００の補正重量平均分子量（イソプレンリフアクタ−） および４４１００の補正数平均分子量（イソプレンリフアクタ−３０）を有し： およびカップルしたブロックコポリマーが３３７４００の補正重量平均分子量（ イソプレンリフアクタ−３０）および３１４５００の補正数平均分子量（イソプ レンリフアクタ−２８）を有することを示した。 使用するコポリマーを調製するために、バッチを１３０〜１４０℃に加熱し、反 応器を真空にして、約２００ボンドのシクロヘキサンを容器から留去した。２０ ０ポンドのトルエンを容器に添加した。約２００ポンドのシクロヘキサン／トル エンを除去するまで、蒸留を続けた。シクロヘキサンの残留％をガスクロマトグ ラフィーによってめた。残留シクロヘキサンが１％またはそれ以下になるまで、 溶媒反転を繰り返した。固形分の重量％を］・ルエンによって１５〜３０％に調 整した。 実施例８ 裏面コーティングを以下の成分から調製した。 成分　重１　（ｇ） アセチレンカーボンブランク　１０００（４２ｎ　ｍの甲均粒子直ｉｆ） アルミナ　９２ ポリアミン／ポリエステル分散剤”　６．０ポリマー溶液（以下のものを含有） ａ　実施例７のブロックコポリマー　１４７．９ｂ、トルエン　５４３１ トルエン　８６９０ 注１）：ＩＣＩ　スベ／ヤルティ”ケミカルズ（Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ　Ｃｈｅｍ ｉｃａｌｓ）　［レザーヘッド（ＬｃａＬｈｅｒｈｅａｄ）イギリス国花］から ハイパー７−（Ｉｌｙｐｅｒｍｅｒ）　ＭＴ−１として入手。 成分の全てを一緒にし、０．８〜１．０ｍｍのジルコニア含有セラミック粉砕媒 体を使用して、８時間にわたって、水平媒体ミルにおいて粉砕した。粉砕の後、 種々の溶媒を、わ）枠外散液の異なった部分（試２４８Δ、８Ｂ、８Ｃ１８Ｄ、 ８Ｅ、８Ｆおよび８Ｇ）に添加した。そのような追加溶媒を添加した後、マニュ アルナイフコーク−を使用して、得られた試料を、５６ゲーンポリエチレンテレ フタレート（１）ＥＴ）フィルム」−に厚さ５ミクロンでコーティングした。コ ーティングを大気条１’ｌ下で乾燥させた。それぞれの試料の空気ブリー１・時 間を測定した。結果を以下の表に示す。 試料　追加溶媒　追加溶媒り量％盲）　宮Ａス生、上鮪ｒ＝’ｌ　（練と８Δ　 無　０　２２１ ８１３　）ルエン　５％　２３８ ８Ｃ）ルエン　１０％　２０３ ８Ｄ　／クロヘキサノン　５％　２６６８Ｅ　シクロへキサノン　１０％　２２ ７８Ｆ　ＴＩＩＦ　５％　８５ これら結果は、分散物へのＴＩＩＦの添１ｎが、裏面コーティングの粗さを顕著 ；こ増加させることを示している。 ７５°ノボ・グロス（Ｎｏｖｏ−ｇｌｏｓｓ）　［ローポイント社（Ｒｈｏｐｏ ｉｎｔ、Ｌｔｄ、）　］ハンド・ベルト装置を使用して、試料８Ａ、８Ｆおよび ８Ｇの７５°光沢をも測定した。結果を次の表に示す。 試料　追加溶媒　追加溶吸省叫鳳に凭−一一一工互フ！（８Ａ　無し　０　５５ ８Ｆ　ＴＩＩＦ　５％　４０ 試料８Ｆおよび８Ｇの光沢の減少は、粉砕した分散液へＴｌ（Ｆを添加すること によって生じた表面粗さの増加を明らかに示している。 実施例９ トルエン、シクロヘキサンおよびＴＩＩＦに代えて追７１３溶媒として別のエー テル溶媒、ジグリムエーテル（沸点：１６２℃）を添加する以外１；！、実施１ ｆｆｉ＋８の手岡６を繰り返した。得ら第１た試料の空気ブリード時間を以下の 表に示す。 試料　追加溶媒　追加溶媒の重量％ｌ′　空気ブリード時間（秒）８Ａ　無　０ 　２２２ ９Ｂ　ジグリムエーテル　１０％　１６４９Ｃジグリムエーテル　２０％　１３ ８データーは、別のエーテル溶媒、ジグリムエーテルを使用して裏面コーティン グの空気ブリード時間を低トさせ（することを示り、ている。試料の空気ブリー ド時間が、高ぜん断条件十において追加溶媒を添加することによってさらに減少 できるＪ−とをも観測した。例えば、高せん新条件において２０％のジグリムエ ーテルを添加“４′る場合に、得られた裏面コーティング（試料９Ｅ）は、試料 ９Ｃよりも１’７％低い空気ブリード時間を示した。 実施例１０ 以トの成分を使用する以外は、実施例８に（１−）王、裏面コーティングを調製 しｆ、−。 成分　車量部 アセヂレニ２カーボンブラック　１．００．０（・ｌ　２　ｎ　ｍの平均もγ子 直径）アルミｔ−９２ ハイパーマー（＋Ｉｙｐｅｒｍｅｒ）　ＭＴ−１分散剤　６．０クウトン・（Ｋ ｒａｔｏｎ’ｌ　Ｇ　１６５０−コポリマー”　１４７．９（固形分１００９６ ’） 注１）ンエルケミカル（Ｓｈｅｌｌ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏ、）から市販され ているクラトン（Ｋｒａｔｏｎ）　０１６５０は、２９％のスチレンおよび７１ ％の水素化ブタジェンを念有する線状ブロックコポリマーである、。 １）ＥＴフィルムＬに分散物をコーティングする前に、粉砕分散物の異なった部 分に、種々の量のＩ−ルエンを添加した。得られたコーティングの空気ブリード 時間を測定した。結呆を以下の表に示す。 試料　追加溶媒　追加溶媒の重量％１′　空気ブリード時間（秒）１０Ａ　無　 ０　３２８ ｉ　ｏ　ｏ　ｒ−ルエン　５％　２９・１このデーターは、分数物に）・ルエン を添加することによって、得らｔｘ、ｆ、＝コーティングの表面粗さが顕河に増 ＋７１１することを示している３、本発明の他の態様は、本明細書を４慮すれば 、または本明細書目１Ｓト＃Ｌでいる不ｆこ明を太施ずｈば、当業古に明１′１ である。本明細書に記載さｉｔ”ｒいる１１；１則に対する種々の省略、改ＩＡ および猛虎は、木切細市に添１・ｔシｊ二特ａ’ｌＶＩ！・ｋの範囲に小された 本発明の真の範囲および思（μから逸脱することらく、当業古によ）て行−）− とができる。 田島損審報牛 フロントページの続き （８１）指定国　ＥＰ（ＡＴ、ＢＥ、ＣＨ，ＤＥ。 ＤＫ、ＥＳ、ＦＲ，ＧＢ、ＧＲ，ＩＥ、ＩＴ、ＬＵ、ＭＣ，ＮＬ、　ＰＴ、ＳＥ ）、ＪＰ、　ＫＲ（７２）発明者　七ホン、ラッセル・ディーアメリカ合衆国　 ５５１３３−３４２７　ミネソタ州、セント・ポール、ポスト・オフィス・ボッ クス　３３４２７番（番地の表示なし）（７２）発明者　工ヴアンズ、クリスト ファー・エムアメリカ合衆国　５５１３３−３４２７　ミネソタ州、セント・ポ ール、ピー・オー・ボックス　３３４２７番（番地の表示なし） （７２）発明者　ノーマン、コリン・エフ・ダブリューアメリカ合衆国　５５１ ３３−３４２７　ミネソタ州、セント・ポール、ピー・オー・ボックス　３３４ ２７番（番地の表示なし）

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. １．向かい合う第１主表面および第２主表面を有する非磁性支持体、該第１主ｋ 表面上の磁性化可能なコーティングおよび該第２主表面上の裏面コーティングを 有ずる磁気記録媒体であって、 裏面コーティングは、式： （Ａ−Ｂ）ｎ−Ｙ ［式中、Ｙは多官能性カップリング残基；ｎは平均値２〜１５の数； Ａは、約７０℃よりも高いＴｇを有するポリマーブロック；およびＢは約２５℃ よりも低いＴｇを有するポリマーブロックであり、ＢはＡと非相溶性である。］ で示されるブロックコポリマーを含んでなる磁気記録媒体。
2. ２．裏面コーティングの表面は、該表面に粗い組織を与えるための複数の突起を 有しており、該突起はブロックコポリマーと一体てある請求の範囲第１項に記載 の磁気記録媒体。
3. ３．Ｙはジビニルベンゼンから誘導されている請求の範囲第１項に記載の磁気記 録媒体。
4. ４．Ａがスチレンブロックである請求の範囲第１項に記載磁気記録媒体。
5. ５．Ｂがポリブタジェンブロックである請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体 。