JPH0750371A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH0750371A
JPH0750371A JP5193273A JP19327393A JPH0750371A JP H0750371 A JPH0750371 A JP H0750371A JP 5193273 A JP5193273 A JP 5193273A JP 19327393 A JP19327393 A JP 19327393A JP H0750371 A JPH0750371 A JP H0750371A
Authority
JP
Japan
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solder
semiconductor device
heat dissipation
package
lsi
Prior art date
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Pending
Application number
JP5193273A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiji Miyamoto
誠司 宮本
Toshihiko Sato
俊彦 佐藤
Tetsuya Hayashida
哲哉 林田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0750371A publication Critical patent/JPH0750371A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73253Bump and layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8338Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/83385Shape, e.g. interlocking features

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 はんだがパッケージ等の側面からはみ出さな
いようにし、かつ放熱効果を低下させることのない技術
を提供する。 【構成】 パッケージの表面にはんだプリフォーム7を
介して放熱用フィン4が取り付けられる半導体装置であ
って、接合部に連結させて、放熱用フィン4の周縁にテ
ーパ部5を設け、接合部の内部からはみ出したはんだが
テーパ部5内に溜まるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、半導体装置における放熱フィン
やキャップの接合技術、特に、放熱フィン等を本体側に
接合する為に用いて効果のある技術に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】例えば、特開平4−234153号及び
特開平4−123441号公報に示されるように、放熱
部材としての冷却用放熱フィンを備えた半導体装置にあ
っては、アルミ、窒化アルミ等の放熱フィンを接着剤に
よりパッケージ表面に接着している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明者の検討によれ
ば、放熱フィンの接着剤として熱伝導性に優れる素材で
あるはんだを用いる場合、そのはんだ供給手段として、
メッキ、はんだ蒸着、クリームはんだ、はんだプリフォ
ーム(薄い板状のはんだであり、接合面の形状に合わせ
て切断してある)等がある中で、そのはんだ供給量を厳
密に管理してLSI及び放熱フィンの側面からはみ出る
はんだ量を抑制し且つ熱抵抗を低減するためには、はん
だプリフォームが最も適し、かつ薄膜化することが望ま
しいと考えられる。
【0004】しかし、はんだプリフォームは、薄膜化す
るには取扱性の面から限界(90Pb/10Snはんだ
の場合、現状では60μm)があり、はんだ接合部が厚
くなるために熱抵抗が大きくなって放熱効果を低下させ
るほか、加圧溶融時に接合部からはんだがはみ出し、基
板実装密度を下げると共に商品性を損なうという問題が
ある。
【0005】そこで、本発明の目的は、はんだがパッケ
ージ等の側面からはみ出さないようにし、かつ放熱効果
を低下させることのない技術を提供することにある。
【0006】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかにな
るであろう。
【0007】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下の通りである。
【0008】すなわち、パッケージまたはベース材の表
面に接合部材を介して放熱部材またはキャップが取り付
けられる半導体装置であって、前記パッケージまたは前
記ベース材もしくは前記放熱部材または前記キャップの
周縁にテーパ部または段差部を接合部に連結させて設け
るようにしている。
【0009】
【作用】上記した手段によれば、加熱雰囲気内で接合処
理を行う際、パッケージ(またはベース材)と放熱用フ
ィン(またはキャップ)を相対押圧することによって接
合面から外部へはみ出すはんだが周縁に設けられたテー
パ部または段差部内に進入し、このテーパ部または段差
部が溜まり部となってパッケージ等の側面から突出する
ことがない。したがって、基板実装密度を低下させるこ
とがないばかりか、放熱効果を損なうこともない。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。
【0011】(実施例1)図1は本発明による半導体装
置の一実施例を示す正面断面図である。
【0012】LSI(大規模集積回路)1は片面(裏
面)にバンプ電極2が設けられ、他面(表面)にはメタ
ライズ3が施されている。一方、LSI1に装着される
放熱用フィン4(放熱部材)は、LSI1のサイズにほ
ぼ等しいサイズを有し、その外周縁の下部は斜めにカッ
トされたテーパ部5(連続した三角断面の溝形状)が設
けられている。そして、このカット面及び接着面の全面
にはメタライズ6が施されている。
【0013】ここで、メタライズ3及びメタライズ6
は、スパッタ、メッキ等により形成される。また、放熱
用フィン4には、窒化アルミ等の熱伝導性に優れ、かつ
LSI1との間の熱膨張係数の小さい材料が用いられ
る。
【0014】LSI1と放熱用フィン4の接合は、LS
I1の表面に接合部材としてのはんだプリフォーム7
(そのサイズは、放熱用フィン4の接着面の面積相当で
ある)をセットし、このはんだプリフォーム7上に接着
面を下向きにして放熱用フィン4を載置する。ここで、
はんだプリフォーム7の厚さは、取扱性を考慮すると、
90Pb/10Snはんだであれば、60μm以上が必
要である。
【0015】ついで、加熱炉に入れてLSI1と放熱用
フィン4を相対加圧しながら炉内温度を上げていくと、
はんだプリフォーム7は溶融し、LSI1と放熱用フィ
ン4の接合が行われる。接合に際して圧力を加えている
ため、図2に示すように、接合面に介在していた余分な
はんだがテーパ部5へ流出する。内部からはみ出したは
んだはテーパ部5内を埋め、LSI1の側面と放熱用フ
ィン4の側面とがほぼ同一平面になり、はんだ8のはみ
出しは生じない。
【0016】そして、接合面におけるはんだの厚みは、
例えば15μm程度にすることができる。この厚みは、
溶融温度、荷重、溶融時間等により可変することができ
る。このように、最も放熱性が要求されるLSI1の中
心部のはんだ厚みを薄くでき、かつ余分なはんだをLS
I1及び放熱用フィン4の外側にはみ出さないため、高
発熱LSIを高密度で基板実装が行えるようになる。
【0017】(実施例2)図3は本発明の第2実施例を
示す部分断面図である。
【0018】前記実施例が内部からはみ出すはんだの受
け部がテーパ部5であったのに対し、本実施例は段差部
9にしたところに特徴がある。この段差部9は、テーパ
部5の場合と同様に放熱用フィン4の周辺下部に“L”
字形のカット(連続した角形の溝断面形状)を施すこと
により形成することができる。段差部9の断面積は、接
合面のサイズ等に応じて決定する。
【0019】本実施例によれば、前記実施例と同一の効
果が得られ、内部からはみ出してくるはんだ8は段差部
9に埋め込まれ、LSI1及び放熱用フィン4の表面か
ら突出することはない。
【0020】(実施例3)図4は本発明の第3実施例を
示す正面図である。
【0021】前記各実施例がLSI1と放熱用フィン4
の外形が同一であったのに対し、本実施例は、放熱用フ
ィン4のサイズをLSI1の表面積よりも大きくし、放
熱用フィン4にテーパ部や段差部を設けないようにした
ところに特徴がある。この実施例の場合、接合面の内部
からはみ出すはんだ8は表面張力で放熱用フィン4の下
面に展開し、はんだ部に段差等を生じることがない。ま
た、放熱面積も大きくとれることから、放熱効果も向上
する。ただし、実装スペースは広くなるので実装効率の
点では不利になる。
【0022】この場合、放熱効果が多少落ちてもよけれ
ば、放熱用フィン4の外形をLSI1の表面積より小さ
くとり、はんだをLSI1の表面に表面張力で展開させ
る構成にすることもできる。
【0023】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。
【0024】例えば、上記各実施例においては、テーパ
部5及び段差部9は、1周する連続溝であるとしたが、
図5に示すように、断続的な凹部10であってもよい。
この凹部10は、図5では矩形としたが、三角形などで
あってもよい。
【0025】また、上記実施例においては、テーパ部
5、段差部9あるいは凹部10はすべて放熱用フィン4
側に設けるものとしたが、図6に示すように、LSI1
側に設けてもよい。
【0026】さらには、図7に示すようなハーメチック
型の半導体装置にも適用可能である。ここに示す半導体
装置は、はんだバンプ13を介してベース材(基板)1
1に半導体チップ12を搭載し、この半導体チップ12
を覆うようにして“コ”の字形断面を有するキャップ1
4をベース材11上に接合(低融点のはんだプリフォー
ム15を用いて行われる)し、内部を封止する構成にな
っている。このような半導体装置にあって、はんだプリ
フォーム15による接合部のベース材11またはキャッ
プ14にテーパ、段差または凹部を設けることで上記各
実施例と同様の効果を得ることができる。
【0027】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
【0028】すなわち、パッケージまたはベース材の表
面に接合部材を介して放熱部材またはキャップが取り付
けられる半導体装置であって、前記パッケージまたは前
記ベース材もしくは前記放熱部材または前記キャップの
周縁にテーパ部または段差部を接合部に連結させて設け
るようにしたので、基板実装密度を低下させることがな
く、しかも、放熱効果の低下を招くことがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による半導体装置の一実施例を示す正面
断面図である。
【図2】図1の実施例の接合後の状態を示す部分断面図
である。
【図3】本発明の第2実施例を示す部分断面図である。
【図4】本発明の第3実施例を示す正面図である。
【図5】図1の実施例の変形例を示す正面図である。
【図6】図1の実施例の他の変形例を示す正面図であ
る。
【図7】本発明の適用が可能なハーメチック型の半導体
装置の概略構成を示す断面図である。
【符号の説明】
1 LSI 2 バンプ電極 3 メタライズ 4 放熱用フィン 5 テーパ部 6 メタライズ 7 はんだプリフォーム 8 はんだ 9 段差部 10 凹部 11 ベース材 12 半導体チップ 13 はんだバンプ 14 キャップ 15 はんだプリフォーム

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 パッケージまたはベース材の表面に接合
    部材を介して放熱部材またはキャップが取り付けられる
    半導体装置であって、前記パッケージまたは前記ベース
    材もしくは前記放熱部材または前記キャップの周縁にテ
    ーパ部または段差部を接合部に連結させて設けることを
    特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記接合部材は、接合面の形状及びサイ
    ズに準じた大きさのはんだプリフォームであることを特
    徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記テーパ部または段差部を連続または
    断続的に設けることを特徴とする請求項1記載の半導体
    装置。
  4. 【請求項4】 はんだを介して放熱部材がパッケージの
    表面に取り付けられる半導体装置であって、前記パッケ
    ージ及び前記放熱部材は、他方に対して接合面の面積を
    異ならせることを特徴とする半導体装置。
JP5193273A 1993-08-04 1993-08-04 半導体装置 Pending JPH0750371A (ja)

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JP5193273A JPH0750371A (ja) 1993-08-04 1993-08-04 半導体装置

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019207992A (ja) * 2018-05-30 2019-12-05 京セラ株式会社 電気素子搭載用パッケージおよび電気装置
JP2020027719A (ja) * 2018-08-10 2020-02-20 東京特殊電線株式会社 高周波同軸ケーブル接続用コネクタ及び高周波同軸ケーブル接続用コネクタと実装基板との接続構造

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JP2019207992A (ja) * 2018-05-30 2019-12-05 京セラ株式会社 電気素子搭載用パッケージおよび電気装置
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