JPH0749486A - 表示材料用透明基材 - Google Patents
表示材料用透明基材Info
- Publication number
- JPH0749486A JPH0749486A JP19366393A JP19366393A JPH0749486A JP H0749486 A JPH0749486 A JP H0749486A JP 19366393 A JP19366393 A JP 19366393A JP 19366393 A JP19366393 A JP 19366393A JP H0749486 A JPH0749486 A JP H0749486A
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- JP
- Japan
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- thickness
- plastic
- layer
- glass
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- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】表面が傷つきにくく、機密性が高く、熱による
変形や分解・酸化劣化の起こりにくい軽量な表示材料用
複層透明基板を製造することを目的とする。 【構成】１０μｍ以上、５００μｍ以下の厚みの無機ガ
ラス層と２００μｍ以上、１５ｍｍ以下の厚みのプラス
チック層とからなることを特徴とする表示材料用透明基
材。 【効果】本発明は、液晶セルやプラズマディスプレイ、
ＣＲＴ用の材料として有望な、表面硬度が高く、機密性
に優れ、耐熱性に優れた材料を得ることができる。
変形や分解・酸化劣化の起こりにくい軽量な表示材料用
複層透明基板を製造することを目的とする。 【構成】１０μｍ以上、５００μｍ以下の厚みの無機ガ
ラス層と２００μｍ以上、１５ｍｍ以下の厚みのプラス
チック層とからなることを特徴とする表示材料用透明基
材。 【効果】本発明は、液晶セルやプラズマディスプレイ、
ＣＲＴ用の材料として有望な、表面硬度が高く、機密性
に優れ、耐熱性に優れた材料を得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶セルやプラズマデ
ィスプレイ、ＣＲＴ用の材料などとして好適に用いられ
る表示材料用透明基材に関する。
ィスプレイ、ＣＲＴ用の材料などとして好適に用いられ
る表示材料用透明基材に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在、液晶セルやプラズマディスプレ
イ、ＣＲＴに用いられている素材は、大半がガラスであ
る。
イ、ＣＲＴに用いられている素材は、大半がガラスであ
る。
【０００３】ガラスは、割れ易いため、一定の耐衝撃強
度を持たせようとすると、ある程度の厚みを持たせるこ
とが必要である。 また、ガラスは比重が大きいため、
厚みが大きくなると重量が非常に重くなる。
度を持たせようとすると、ある程度の厚みを持たせるこ
とが必要である。 また、ガラスは比重が大きいため、
厚みが大きくなると重量が非常に重くなる。
【０００４】近年、軽量化を目的として、プラスチック
素材を用いることが検討されている。しかしながら、プ
ラスチックを用いる場合、表面の傷つき易さが問題にな
る。この表面の傷つき易さを改良するために、種々のハ
ードコートが検討されてきた。
素材を用いることが検討されている。しかしながら、プ
ラスチックを用いる場合、表面の傷つき易さが問題にな
る。この表面の傷つき易さを改良するために、種々のハ
ードコートが検討されてきた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ハード
コートによって、表面の傷つき易さはかなり改善できる
ものの、ガラス基板を用いた場合に比べて、まだまだ、
傷つき易いという問題点がある。
コートによって、表面の傷つき易さはかなり改善できる
ものの、ガラス基板を用いた場合に比べて、まだまだ、
傷つき易いという問題点がある。
【０００６】また、ハードコートが施されたプラスチッ
ク基板では機密性にも問題がある。これは、多くのハー
ドコート層が有機化合物を含んでいることに起因してい
る。
ク基板では機密性にも問題がある。これは、多くのハー
ドコート層が有機化合物を含んでいることに起因してい
る。
【０００７】また、無機化合物を蒸着法によってコーテ
ィングした場合も、生産効率上、厚みを厚くすることが
できない為に、十分な機密性を確保することができな
い。
ィングした場合も、生産効率上、厚みを厚くすることが
できない為に、十分な機密性を確保することができな
い。
【０００８】さらに、近年、表示材料の高機能化にとも
ない、基板上に種々の加工が施されることが多いが、こ
の加工の際に比較的高温の環境にさらされることが多
く、熱による基板プラスチックの変形や分解・酸化劣化
が問題になることが多い。
ない、基板上に種々の加工が施されることが多いが、こ
の加工の際に比較的高温の環境にさらされることが多
く、熱による基板プラスチックの変形や分解・酸化劣化
が問題になることが多い。
【０００９】本発明は、かかる従来技術の欠点を解消し
ようとするものであり、表面の傷つき易さを改善し、機
密性が高く、熱による変形や分解・酸化劣化の起こりに
くい軽量な表示材料用複層透明基板を製造することを目
的とする。
ようとするものであり、表面の傷つき易さを改善し、機
密性が高く、熱による変形や分解・酸化劣化の起こりに
くい軽量な表示材料用複層透明基板を製造することを目
的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】我々は、かかる問題点を
解決するために、表面に連続したガラス層を有するプラ
スチック素材を検討した。
解決するために、表面に連続したガラス層を有するプラ
スチック素材を検討した。
【００１１】本発明は、以下の構成よりなる。
【００１２】「１０μｍ以上、５００μｍ以下の厚みの
無機ガラス層と２００μｍ以上、１５ｍｍ以下の厚みの
プラスチック層とからなることを特徴とする表示材料用
透明基材。」本発明に用いる１０μｍ〜５００μｍの厚
みの無機ガラス層とは、ガラス層の平均厚みが、１０μ
ｍ〜５００μｍであるガラス層を意味する。
無機ガラス層と２００μｍ以上、１５ｍｍ以下の厚みの
プラスチック層とからなることを特徴とする表示材料用
透明基材。」本発明に用いる１０μｍ〜５００μｍの厚
みの無機ガラス層とは、ガラス層の平均厚みが、１０μ
ｍ〜５００μｍであるガラス層を意味する。
【００１３】表面の傷つき易さ・機密性を向上するため
には、ガラス厚みは、１０μｍ以上であることが必要で
あり、さらには、５０μｍ以上であることが好ましい。
また、扱い易さの点からも、５０μｍ以上であることが
好ましい。
には、ガラス厚みは、１０μｍ以上であることが必要で
あり、さらには、５０μｍ以上であることが好ましい。
また、扱い易さの点からも、５０μｍ以上であることが
好ましい。
【００１４】一方、プラスチックを用いることによって
得られる十分な軽量性を確保するためには、無機ガラス
の厚みは５００μｍ以下であることが必要である。さら
には、２００μｍ以下であることが好ましい。
得られる十分な軽量性を確保するためには、無機ガラス
の厚みは５００μｍ以下であることが必要である。さら
には、２００μｍ以下であることが好ましい。
【００１５】用いる無機ガラスの素材としては、公知の
透明な無機ガラス素材であれば特に限定はなく、ソーダ
ガラスやホウ珪酸ガラス、あるいは、鉛ガラスに代表さ
れる金属原子を含有するフリントガラスを用いても良
い。
透明な無機ガラス素材であれば特に限定はなく、ソーダ
ガラスやホウ珪酸ガラス、あるいは、鉛ガラスに代表さ
れる金属原子を含有するフリントガラスを用いても良
い。
【００１６】ただし、十分な機密性を確保するために連
続的に欠陥のないガラスを用いる必要がある。つまり、
割れやヒビ等の欠陥があってはならない。
続的に欠陥のないガラスを用いる必要がある。つまり、
割れやヒビ等の欠陥があってはならない。
【００１７】２００μｍ〜１５ｍｍの厚みのプラスチッ
ク層としては、十分な形状保持性を確保するためには、
ガラス転移点あるいは熱変形温度が５０℃以上のプラス
チック素材を用いて、２００μｍ以上の平均厚みのプラ
スチック層を用いる必要がある。
ク層としては、十分な形状保持性を確保するためには、
ガラス転移点あるいは熱変形温度が５０℃以上のプラス
チック素材を用いて、２００μｍ以上の平均厚みのプラ
スチック層を用いる必要がある。
【００１８】また、プラスチック層の平均厚みとして
は、１５ｍｍ以下であることが必要であり、さらには、
５ｍｍ以下であることが好ましい。
は、１５ｍｍ以下であることが必要であり、さらには、
５ｍｍ以下であることが好ましい。
【００１９】本発明のプラスチック層として用いるプラ
スチック素材としては、公知の透明プラスチックであれ
ば特に限定はなく、ポリカーボネート、ポリスチレン、
ポリメチルメタクリレート、ＭＳ樹脂（メチルメタクリ
レート−スチレン共重合体）等の熱可塑性樹脂、また、
ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（Ｃ
Ｒ−３９）、架橋性ポリウレタン等の熱硬化性樹脂を用
いることができる。
スチック素材としては、公知の透明プラスチックであれ
ば特に限定はなく、ポリカーボネート、ポリスチレン、
ポリメチルメタクリレート、ＭＳ樹脂（メチルメタクリ
レート−スチレン共重合体）等の熱可塑性樹脂、また、
ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（Ｃ
Ｒ−３９）、架橋性ポリウレタン等の熱硬化性樹脂を用
いることができる。
【００２０】無機ガラス層とプラスチック層とからなる
基材の厚みとしては、２５０μｍ〜１５ｍｍが好まし
い。
基材の厚みとしては、２５０μｍ〜１５ｍｍが好まし
い。
【００２１】複層化する方法としては、公知の接着剤で
接合する方法を用いることができるが、好ましい複層化
方法としては、２枚の厚み１０μｍ〜５００μｍの薄膜
ガラスに、一定のギャップを持たせた後、その間に樹脂
の原料を流し込み、熱を加えるか紫外線や可視光線・Ｘ
線等のエネルギー線を照射することによって硬化させる
方法を用いることができる。
接合する方法を用いることができるが、好ましい複層化
方法としては、２枚の厚み１０μｍ〜５００μｍの薄膜
ガラスに、一定のギャップを持たせた後、その間に樹脂
の原料を流し込み、熱を加えるか紫外線や可視光線・Ｘ
線等のエネルギー線を照射することによって硬化させる
方法を用いることができる。
【００２２】この際、２枚の薄膜ガラスの外側から、２
枚の５００μｍ以上の厚みのガラスを用いて、薄膜ガラ
スをサポートすることによって、用いるガラスが割れる
ことを防ぐことができる。
枚の５００μｍ以上の厚みのガラスを用いて、薄膜ガラ
スをサポートすることによって、用いるガラスが割れる
ことを防ぐことができる。
【００２３】また、ギャップを持たせる方法としては、
塩化ビニル等の樹脂製のガスケットを用いることが好ま
しく、大面積のものを製造する場合には、スペーサーを
用いてギャップを一定に保つこともできる。
塩化ビニル等の樹脂製のガスケットを用いることが好ま
しく、大面積のものを製造する場合には、スペーサーを
用いてギャップを一定に保つこともできる。
【００２４】ただし、スペーサーを用いる場合、得られ
る透明材料の透明性を高めるためには、プラスチック層
に用いる樹脂の屈折率とスペーサーに用いる材料の屈折
率を近づけることが好ましい。
る透明材料の透明性を高めるためには、プラスチック層
に用いる樹脂の屈折率とスペーサーに用いる材料の屈折
率を近づけることが好ましい。
【００２５】また、プラスチック層とガラス層の接着性
を高くするために、これらの層の間にプライマー層を設
けても良い。
を高くするために、これらの層の間にプライマー層を設
けても良い。
【００２６】本発明によって得られた透明複層材料は、
スパッタリングなどの方法で、表面にＩＴＯや酸化錫等
の層を設けることによって、導電性を付与することがで
きる。
スパッタリングなどの方法で、表面にＩＴＯや酸化錫等
の層を設けることによって、導電性を付与することがで
きる。
【００２７】また、蒸着などの方法で金属酸化物等の反
射防止膜を設けることによって、光線透過率の高い透明
基板を製造することができる。
射防止膜を設けることによって、光線透過率の高い透明
基板を製造することができる。
【００２８】また、顔料を印刷法等で表面につけること
によってカラーフィルター基板を製造することも可能で
ある。
によってカラーフィルター基板を製造することも可能で
ある。
【００２９】
【実施例】以下に実施例を用いて、本発明を具体的に説
明する。
明する。
【００３０】ただし、本発明は、この実施例に限定され
るものではない。
るものではない。
【００３１】また、本実施例において、表面硬度は鉛筆
硬度で、耐熱性は、２５０℃の加熱を１５分間行った場
合の変形の有無、及び、黄色度の変化を測定した。
硬度で、耐熱性は、２５０℃の加熱を１５分間行った場
合の変形の有無、及び、黄色度の変化を測定した。
【００３２】黄色度は、スガ試験機製のカラーコンピュ
ーターを用いて評価を行い、黄色度変化を△ＹＩとして
示した。
ーターを用いて評価を行い、黄色度変化を△ＹＩとして
示した。
【００３３】気体透過性は、mocon 社製のOX-TRAN2/20
を用いて測定した。
を用いて測定した。
【００３４】実施例１ 平均厚み７０μｍ、１００ｍｍ×１００ｍｍのガラス板
の間に塩化ビニル製のガスケット（６８０μｍφ）を挟
んで、その外側から、３ｍｍの厚みの１００ｍｍ×１０
０ｍｍのガラスでサポートした後、クリップで固定しし
てモールド型を作成した。
の間に塩化ビニル製のガスケット（６８０μｍφ）を挟
んで、その外側から、３ｍｍの厚みの１００ｍｍ×１０
０ｍｍのガラスでサポートした後、クリップで固定しし
てモールド型を作成した。
【００３５】ヘキサメチレンジイソシアネート６５重量
部とトリメチロールプロパン３５重量部を９０℃で１０
分間撹拌した後、前述のモールドに、あらかじめ、差し
込んであった注射針を用いて、注入した後、１１０℃で
１８時間熱重合を行った。
部とトリメチロールプロパン３５重量部を９０℃で１０
分間撹拌した後、前述のモールドに、あらかじめ、差し
込んであった注射針を用いて、注入した後、１１０℃で
１８時間熱重合を行った。
【００３６】重合終了後、３ｍｍ厚のサポート用のガラ
ス板を取り除き、周囲をダイヤモンドカッターで切り取
り、厚み約７００μｍ、８０ｍｍ×８０ｍｍの大きさの
複層透明基板が得られた。
ス板を取り除き、周囲をダイヤモンドカッターで切り取
り、厚み約７００μｍ、８０ｍｍ×８０ｍｍの大きさの
複層透明基板が得られた。
【００３７】得られた基板の重量、表面硬度、耐熱性、
気体透過性の評価を行った結果を表１に示す。
気体透過性の評価を行った結果を表１に示す。
【００３８】比較例１ 実施例１で用いたガラス板に代えて、厚み７００μｍ、
８０ｍｍ×８０ｍｍの大きさのガラス板を用いた以外は
実施例１と同様にして、複層透明基板を得た。評価を行
った結果を表１に示す。
８０ｍｍ×８０ｍｍの大きさのガラス板を用いた以外は
実施例１と同様にして、複層透明基板を得た。評価を行
った結果を表１に示す。
【００３９】比較例２ 実施例１に示した、樹脂原料を用いて７００μｍの厚み
の樹脂板をキャスト重合法によって成型した。
の樹脂板をキャスト重合法によって成型した。
【００４０】実施例１で用いたガラス板に代えて、得ら
れた７００μｍ、８０ｍｍ×８０ｍｍの大きさの樹脂板
を用いた以外は、実施例１と同様にして複層透明基板を
得た。評価を行った結果を表１に示す。
れた７００μｍ、８０ｍｍ×８０ｍｍの大きさの樹脂板
を用いた以外は、実施例１と同様にして複層透明基板を
得た。評価を行った結果を表１に示す。
【００４１】
【表１】
Claims (3)
- 【請求項１】１０μｍ以上、５００μｍ以下の厚みの無
機ガラス層と２００μｍ以上、１５ｍｍ以下の厚みのプ
ラスチック層とからなることを特徴とする表示材料用透
明基材。 - 【請求項２】該無機ガラス層の平均厚みが、該プラスチ
ック層の平均厚みよりも小さいことを特徴とする請求項
１記載の表示材料用透明基材。 - 【請求項３】該プラスチック層の両側に該無機ガラス層
が複層化されていることを特徴とする請求項１記載の表
示材料用透明基材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19366393A JPH0749486A (ja) | 1993-08-04 | 1993-08-04 | 表示材料用透明基材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19366393A JPH0749486A (ja) | 1993-08-04 | 1993-08-04 | 表示材料用透明基材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0749486A true JPH0749486A (ja) | 1995-02-21 |
Family
ID=16311706
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19366393A Pending JPH0749486A (ja) | 1993-08-04 | 1993-08-04 | 表示材料用透明基材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0749486A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000195338A (ja) * | 1998-12-21 | 2000-07-14 | Agfa Gevaert Nv | 電気伝導性ガラス積層体 |
| JP2005521193A (ja) * | 2001-09-11 | 2005-07-14 | デュポン テイジン フィルムズ ユー．エス．リミテッド パートナーシップ | 可撓性電子および光電子素子用の熱安定化されたポリ（エチレンナフタレート）フィルム |
| JP2007310417A (ja) * | 2007-08-06 | 2007-11-29 | Toshiba Corp | アクティブマトリクス型表示装置及びその製造方法 |
| JP2008026910A (ja) * | 2007-08-06 | 2008-02-07 | Toshiba Corp | アクティブマトリクス型表示装置 |
-
1993
- 1993-08-04 JP JP19366393A patent/JPH0749486A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000195338A (ja) * | 1998-12-21 | 2000-07-14 | Agfa Gevaert Nv | 電気伝導性ガラス積層体 |
| JP2005521193A (ja) * | 2001-09-11 | 2005-07-14 | デュポン テイジン フィルムズ ユー．エス．リミテッド パートナーシップ | 可撓性電子および光電子素子用の熱安定化されたポリ（エチレンナフタレート）フィルム |
| JP2007310417A (ja) * | 2007-08-06 | 2007-11-29 | Toshiba Corp | アクティブマトリクス型表示装置及びその製造方法 |
| JP2008026910A (ja) * | 2007-08-06 | 2008-02-07 | Toshiba Corp | アクティブマトリクス型表示装置 |
| JP4550871B2 (ja) * | 2007-08-06 | 2010-09-22 | 株式会社東芝 | アクティブマトリクス型表示装置 |
| JP4621713B2 (ja) * | 2007-08-06 | 2011-01-26 | 株式会社東芝 | アクティブマトリクス型表示装置 |
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