JPH0747863Y2 - 電子ビ−ム露光装置 - Google Patents
電子ビ−ム露光装置Info
- Publication number
- JPH0747863Y2 JPH0747863Y2 JP7951384U JP7951384U JPH0747863Y2 JP H0747863 Y2 JPH0747863 Y2 JP H0747863Y2 JP 7951384 U JP7951384 U JP 7951384U JP 7951384 U JP7951384 U JP 7951384U JP H0747863 Y2 JPH0747863 Y2 JP H0747863Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- electron beam
- beam exposure
- disk
- exposure apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 発明の技術分野 本考案は半導体集積回路作成時のホトリソグラフィ工程
において用いられる電子ビーム露光装置に関するもので
ある。
において用いられる電子ビーム露光装置に関するもので
ある。
技術の背景 電子ビーム露光装置は、微細なパターンを含む全体とし
て大きな半導体集積回路のチップパターンを高速・高精
度で描くことを目的としている。
て大きな半導体集積回路のチップパターンを高速・高精
度で描くことを目的としている。
第１図は一般的な電子ビーム露光装置を説明するための
図である。この装置は上から電子を供給する電子銃１、
第１絞り２、アライナ３、第１電磁レンズ４、ブランキ
ング板５、第２絞り６、第２電磁レンズ７、第３電磁レ
ンズ８（対物レンズ）及び第３電磁レンズの前又は中、
後に偏向コイル９、スティグメータ10、等が配置され、
試料室12には試料13を固定した試料ホルダー14及び試料
台（Ｘ−Ｙステージ）15が設けられ排気口16から排気で
きるようになっている。また試料はゲートバルブ17,18
を通して搬送路19によって試料台に搬送される。
図である。この装置は上から電子を供給する電子銃１、
第１絞り２、アライナ３、第１電磁レンズ４、ブランキ
ング板５、第２絞り６、第２電磁レンズ７、第３電磁レ
ンズ８（対物レンズ）及び第３電磁レンズの前又は中、
後に偏向コイル９、スティグメータ10、等が配置され、
試料室12には試料13を固定した試料ホルダー14及び試料
台（Ｘ−Ｙステージ）15が設けられ排気口16から排気で
きるようになっている。また試料はゲートバルブ17,18
を通して搬送路19によって試料台に搬送される。
従来技術と問題点 このような電子ビーム露光装置において、その試料ホル
ダ14は第２図（ａは平面図、ｂはａ図のｂ−ｂ線におけ
る断面図）に示す如く、ウエハー固定板20,21,22を有す
るホルダーフレーム23と、ウエハー24を載せる円板25
と、該円板の位置決め用ばね26と押圧用ばね27とより構
成され、ホルダーフレーム23に設けられた穴の中を円板
25が摺動できるようになっている。ところが円板25に対
する押圧ばね27の押圧点がウエハー固定板20と21,22の
中間にあるため円板25が僅かではあるが湾曲し（中央で
８μｍ程度）、それに伴ってウエハー24が湾曲するため
電子ビーム露光像に歪を生ずるという欠点があった。
ダ14は第２図（ａは平面図、ｂはａ図のｂ−ｂ線におけ
る断面図）に示す如く、ウエハー固定板20,21,22を有す
るホルダーフレーム23と、ウエハー24を載せる円板25
と、該円板の位置決め用ばね26と押圧用ばね27とより構
成され、ホルダーフレーム23に設けられた穴の中を円板
25が摺動できるようになっている。ところが円板25に対
する押圧ばね27の押圧点がウエハー固定板20と21,22の
中間にあるため円板25が僅かではあるが湾曲し（中央で
８μｍ程度）、それに伴ってウエハー24が湾曲するため
電子ビーム露光像に歪を生ずるという欠点があった。
考案の目的 本考案は上記従来の欠点に鑑み、ウエハーに歪を与えな
い試料ホルダーを有する電子ビーム露光装置を提供する
ことを目的とするものである。
い試料ホルダーを有する電子ビーム露光装置を提供する
ことを目的とするものである。
考案の構成 そしてこの目的は本考案によれば、試料ホルダ上に保持
されたウエハーに対し電子ビームによりパターン描写を
行なう電子ビーム露光装置において、前記試料ホルダ
は、中央に円形の穴を設けた板状のフレームと、該穴の
中を摺動できる試料保持用の円板と、該円板上に載置さ
れたウエハーを押えるためにフレームに設けられた複数
個の固定板と、前記円板を固定板の方へ付勢する複数個
の引張コイルばねとにより構成され、該コイルばねき固
定板とウエハーの接する位置の近傍に配設され、その一
方の端部が固定板に、他端が円板に繋止されていること
を特徴とする電子ビーム露光装置を提供することによっ
て達成される。
されたウエハーに対し電子ビームによりパターン描写を
行なう電子ビーム露光装置において、前記試料ホルダ
は、中央に円形の穴を設けた板状のフレームと、該穴の
中を摺動できる試料保持用の円板と、該円板上に載置さ
れたウエハーを押えるためにフレームに設けられた複数
個の固定板と、前記円板を固定板の方へ付勢する複数個
の引張コイルばねとにより構成され、該コイルばねき固
定板とウエハーの接する位置の近傍に配設され、その一
方の端部が固定板に、他端が円板に繋止されていること
を特徴とする電子ビーム露光装置を提供することによっ
て達成される。
考案の実施例 以下、本考案実施例を図面によって詳述する。
第３図は本考案による電子ビーム露光装置用試料ホルダ
を説明するための図であり、ａはその試料ホルダーの上
面図、ｂはａ図のｂ−ｂ線における断面図、ｃはａ図の
ｄ−ｄ線における拡大断面図をそれぞれ示す。
を説明するための図であり、ａはその試料ホルダーの上
面図、ｂはａ図のｂ−ｂ線における断面図、ｃはａ図の
ｄ−ｄ線における拡大断面図をそれぞれ示す。
同図において、31はフレーム、32は該フレームに穿設さ
れた穴、33はウエハー、34〜37はウエハー固定板、38は
ウエハー載置用の円板、39はウエハー位置決め用ピン、
40は円板位置決め用板ばね、41〜44はウエハー固定用ば
ね機構、45は引張コイルばね、46,47はばね受けをそれ
ぞれ示す。
れた穴、33はウエハー、34〜37はウエハー固定板、38は
ウエハー載置用の円板、39はウエハー位置決め用ピン、
40は円板位置決め用板ばね、41〜44はウエハー固定用ば
ね機構、45は引張コイルばね、46,47はばね受けをそれ
ぞれ示す。
本実施例は第３図ａ〜ｃに示す如く、中央に円形の穴32
が形成され、その周囲に複数個のウエハー固定板34〜37
が配設されたフレーム31と、一端を該フレーム31に固定
された位置決め用の板ばね40,40′の他端に固定され
て、フレーム31の穴32の中を摺動可能に支持された円板
38と、各ウエハー固定板34〜37と円板38とを繋いで設け
られたウエハー固定用ばね機構41〜44とを具備して構成
されている。そして該ウエハー固定用ばね機構41〜44は
ウエハー固定板34〜37のウエハー接触点近傍にそれぞれ
設けられ、その構造は第３図ｄに示す如く、ウエハー固
定板34〜37側に設けられたばね受け46と、円板38側に設
けられたばね受け47との間に引張コイルばね45がはり渡
されている。
が形成され、その周囲に複数個のウエハー固定板34〜37
が配設されたフレーム31と、一端を該フレーム31に固定
された位置決め用の板ばね40,40′の他端に固定され
て、フレーム31の穴32の中を摺動可能に支持された円板
38と、各ウエハー固定板34〜37と円板38とを繋いで設け
られたウエハー固定用ばね機構41〜44とを具備して構成
されている。そして該ウエハー固定用ばね機構41〜44は
ウエハー固定板34〜37のウエハー接触点近傍にそれぞれ
設けられ、その構造は第３図ｄに示す如く、ウエハー固
定板34〜37側に設けられたばね受け46と、円板38側に設
けられたばね受け47との間に引張コイルばね45がはり渡
されている。
このように構成された本実施例は、第３図a,bの如く円
板38を下方に移動させておき、ウエハー33をフレーム31
の溝31a上を矢印Ｐ方向よりストッパピン39につきあた
るまで挿入したのち、円板38を解放すれば、円板38はば
ね45によりウエハー固定板34〜37に引付けられ、ウエハ
ー33を固定板34〜37との間に挟持することになる。この
場合、円板38に対する引張コイルばね45の作用点が、ウ
エハー固定板34〜37のウエハー接触点に近いため、円板
38には大きな曲げモーメントが作用せず、従って円板38
自身及びその上のウエハー33を湾曲せしめることはな
い。
板38を下方に移動させておき、ウエハー33をフレーム31
の溝31a上を矢印Ｐ方向よりストッパピン39につきあた
るまで挿入したのち、円板38を解放すれば、円板38はば
ね45によりウエハー固定板34〜37に引付けられ、ウエハ
ー33を固定板34〜37との間に挟持することになる。この
場合、円板38に対する引張コイルばね45の作用点が、ウ
エハー固定板34〜37のウエハー接触点に近いため、円板
38には大きな曲げモーメントが作用せず、従って円板38
自身及びその上のウエハー33を湾曲せしめることはな
い。
考案の効果 以上、詳細に説明したように本考案の電子ビーム露光装
置における試料ホルダーにおいて、ウエハーを載置した
円板をウエハー固定板の方向に付勢する引張コイルばね
をウエハー固定板のウエハーに接する点の近傍に設ける
ことにより、円板及びその上に載置したウエハーの湾曲
を防止し、これにより電子ビームによるパターン描画像
の歪を防止可能にするといった効果大なるものである。
またフレームにかかる力が小さくなるため試料ホルダー
の厚さを薄くすることができるといった利点も有する。
置における試料ホルダーにおいて、ウエハーを載置した
円板をウエハー固定板の方向に付勢する引張コイルばね
をウエハー固定板のウエハーに接する点の近傍に設ける
ことにより、円板及びその上に載置したウエハーの湾曲
を防止し、これにより電子ビームによるパターン描画像
の歪を防止可能にするといった効果大なるものである。
またフレームにかかる力が小さくなるため試料ホルダー
の厚さを薄くすることができるといった利点も有する。
第１図は従来の電子ビーム露光装置を説明するための
図、第２図はその試料ホルダーを説明するための図、第
３図は本考案による電子ビーム露光装置における試料ホ
ルダーを説明するための図である。 図面において、31はフレーム、32は穴、33はウエハー、
34〜37はウエハー固定板、38はウエハー載置用の円板、
39はウエハー位置決め用ピン、40,40′は円板位置決め
用板ばね、41〜44はウエハー固定用ばね機構、45は引張
コイルばね、46,47はばね受けをそれぞれ示す。
図、第２図はその試料ホルダーを説明するための図、第
３図は本考案による電子ビーム露光装置における試料ホ
ルダーを説明するための図である。 図面において、31はフレーム、32は穴、33はウエハー、
34〜37はウエハー固定板、38はウエハー載置用の円板、
39はウエハー位置決め用ピン、40,40′は円板位置決め
用板ばね、41〜44はウエハー固定用ばね機構、45は引張
コイルばね、46,47はばね受けをそれぞれ示す。
Claims (1)
- 【請求項１】試料ホルダ上に保持されたウエハーに対し
電子ビームによりパターン描写を行なう電子ビーム露光
装置において、前記試料ホルダは中央に円形の穴を設け
た板状のフレームと、該穴の中を摺動できる試料保持用
の円板と、該円板上に載置されたウエハーを押えるため
にフレームに設けられた複数個の固定板と、前記円板を
固定板の方へ付勢する複数個の引張コイルばねとにより
構成され、該コイルばねは固定板とウエハーの接する位
置の近傍に配置され、その一方の端部が固定板に、他端
が円板に繋止されていることを特徴とする電子ビーム露
光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7951384U JPH0747863Y2 (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | 電子ビ−ム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7951384U JPH0747863Y2 (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | 電子ビ−ム露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60192436U JPS60192436U (ja) | 1985-12-20 |
| JPH0747863Y2 true JPH0747863Y2 (ja) | 1995-11-01 |
Family
ID=30624497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7951384U Expired - Lifetime JPH0747863Y2 (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | 電子ビ−ム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0747863Y2 (ja) |
-
1984
- 1984-05-31 JP JP7951384U patent/JPH0747863Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60192436U (ja) | 1985-12-20 |
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