JPH0745575A - 半導体製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 シリコンあるいは成膜パーティクルがウエハ
上に付着するのを防止し、ブラシ洗浄等の処理工程を設
けなくてもマーキング深さを大きくすることができ、最
終プロセスでも容易にマーキングの判読が可能になる半
導体製造装置を提供する。 【構成】 ウエハ８を載せて回転するターンテーブル７
を傾斜させて設け、ウエハ８上に吐出された液体９が一
方向に流れるように構成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置、特に
ウエハの表面にレーザー加工によりマーキングを施すレ
ーザーマーキング部を改良してなる半導体製造装置に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の半導体製造装置における
マーキング部のマーキング処理は次のようになってい
る。 （１）まず、ウエハは、ウエハキャリア内に収納された
状態でエレベータユニットに載せられて上下方向よりタ
ーンテーブルの近傍まで搬送され、さらに搬送アームに
てターンテーブルに載せられ、このターンテーブル上で
センターリングユニットによりセンターリングが行われ
る。 （２）センターリング後、ウエハはターンテーブルの吸
着ユニットに真空吸着されてターンテーブルと一体に回
転する。そして、このウエハのオリエンテーションフラ
ット部がオリエンテーションフラット検出センサーによ
り検出されるとターンテーブルの回転は停止する。ま
た、微小の修正は押し当て板にて修正され、オリエンテ
ーションフラットの位置決めが終了する。 （３）位置決め終了後、近赤外レーザー光線等を用いて
ウエハ表面上あるいはオリエンテーションフラット部の
所定の位置に製品ナンバー及びウエハナンバー等を２μ
ｍ程度の深さに刻設してマーキングを行う。 （４）そして、マーキングを終了したウエハは搬送アー
ムにて元のエレベータユニット上におけるウエハキャリ
ア内に収納される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、レーザーマ
ーキング時にウエハに刻設されるマーキングの深さは、
余り大きくなるとシリコンあるいは成膜のパーティクル
飛散量が多くなり、これがウエハに付着して問題を生じ
る。そこで、マーキング深さを浅くして０．２〜０．３
μｍ程度にすることも考えられるが、余り浅くするとシ
リコンあるいは成膜のパーティクルの飛散量が少なくな
る反面、ウエハプロセスが進むにつれマーキングが薄れ
て判読しにくくなると言う問題点があった。

【０００４】そこで、上述したように従来装置では、最
終プロセスでも容易にマーキングの判読が可能なよう
に、深さ２μｍ程度でマーキングを施すようにしている
が、シリコンあるいは成膜のパーティクルの飛散量が多
くなり、この飛散したパーティクルがウエハ全面に付着
すると言う問題があった。

【０００５】このため、一般に、マーキング終了後にウ
エハを純水等で洗浄するようにしているが、ターンテー
ブルを水平にした状態で洗浄しているのでパーティクル
の付着が多い場合には純水洗浄だけではパーティクルの
全面除去が十分に行えない。そこで、ブラシ洗浄等の処
理工程が必要になり、処理工程が増える分だけコスト的
に不利になると言う問題点があった。

【０００６】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであり、その目的はシリコンあるいは成膜パーティク
ルがウエハ上に付着するのを防止し、ブラシ洗浄等の処
理工程を設けなくてもマーキング深さを大きくすること
ができ、最終プロセスでも容易にマーキングの判読が可
能になる半導体製造装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明は、ターンテーブル上に載せられたウエハの表面
に所定の処理としてレーザーを照射してマーキングを施
し、その後前記ターンテーブルを回転させながら洗浄用
の液体を前記ウエハの表面上に吐出させて洗浄するよう
にした半導体製造装置において、前記ターンテーブルを
傾斜させて設け、前記ウエハ上に吐出された前記液体が
一方向に流れるように構成したものである。また、前記
洗浄用の液体を液体吐出ノズルより吐出させるようにす
るとともに、前記ターンテーブルの側面を囲ってカップ
部を設け、ウエハより落下して来る液体等を前記カップ
部で受けるようにしても良い。さらに、前記ウエハの表
面にリンス液を滴下するリンス吐出ノズルを設けるよう
にしても良い。また、さらに前記ターンテーブルの傾斜
を調整自在に行うことができるターンテーブル傾斜機構
を設けるようにしても良い。

【０００８】

【作用】この構成によれば、ターンテーブルを傾斜させ
ているのでウエハ上に吐出された洗浄用の液体はウエハ
上を比較的勢い良く流れる。したがって、レーザーマー
キング時に発生したパーティクルはウエハ上に吐出され
た液体と共に流されてウエハ上に付着するのを防止する
ことができるので、マーキング深さを比較的大きくする
ことが可能になる。また、前記洗浄用の液体を液体吐出
ノズルより吐出させるようにするとともに、前記ターン
テーブルの側面を囲ってカップ部を設け、ウエハ上より
落下して来る液体等を前記カップ部で受けるようにする
と液体等の処理が簡略化できる。さらに、リンス吐出ノ
ズルを設けてリンス液を吐出させるようにした場合では
リンス効率を向上させることができる。また、さらにタ
ーンテーブル傾斜機構を設けた場合では、レーザーマー
キングを行う時に、必要な角度だけウエハ上における水
平面の角度を調整することができる。

【０００９】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
詳細に説明する。図１は本発明の第１の実施例として示
す半導体製造装置におけるレーザーマーキング部の概略
構成図である。

【００１０】図１において、このレーザーマーキング部
は、中心に孔１が形成されている底面４ａに排気管２及
び排液管３を設けてなるカップ４と、このカップ４の下
側に配設されたモーター５及びターンテーブル傾斜機構
６と、カップ４内に配設されたターンテーブル７と、カ
ップ４の上方に配設されていてターンテーブル７上にセ
ットされたシリコンウエハ８上に例えば純水等の洗浄用
の液体９を吐出させる液体吐出ノズル１０、及びこのウ
エハ８上にレーザー１１を照射して製品ナンバー，ウエ
ハナンバー等のマーキングを刻設するための図示せぬレ
ーザー照射手段等で構成されており、ターンテーブル７
はウエハ８を真空吸着して保持できる構造になってい
る。

【００１１】また、モーター５はターンテーブル傾斜機
構６に傾動調整可能にして保持されており、駆動軸５ａ
が孔１を貫通してカップ４内に突出された状態で配設さ
れている。なお、駆動軸５ａと孔１との間にはターンテ
ーブル傾斜機構６によるモーター５の傾動調整を可能に
するために隙間が形成されており、この隙間で駆動軸５
ａを数度（θ）程度傾けることができる。なお、この傾
動調整は図示しないが手動または自動にて行うことがで
きるようになっている。そして、駆動軸５ａの先端側に
はターンテーブル７が一体回転可能に取り付けられてお
り、ターンテーブル傾斜機構６によってモーター５の傾
動調整が行われて駆動軸５ａが傾くと、ターンテーブル
７も駆動軸５ａと一体に傾く構造になっている。

【００１２】このように構成されたレーザーマーキング
部では、ウエハ８はウエハキャリア内に収納された状態
でエレベータユニットに載せられて上下方向よりターン
テーブルの近傍まで搬送され、さらに図示せぬ搬送アー
ムによりターンテーブル７に載せられる。すると、ウエ
ハ８は、この数度（θ）程度の傾斜が持たされているタ
ーンテーブル７上に真空吸着される。

【００１３】次いで、液体吐出ノズル１０より液体９が
ウエハ８上に数秒間滴下され、その後モーター５が毎分
数回転で約１０秒程度、ターンテーブル７及びウエハ８
と共に回転する。また、停止する場合は、ウエハ８のオ
リエンテーションフラット部がオリエンテーションフラ
ット検出センサーにより検出された位置で停止され、液
体吐出ノズル１０が液体９を滴下する位置が後述するマ
ーキングが施される部分よりも下流に位置して停止す
る。

【００１４】そして、モーター５が停止すると、ウエハ
８上の液体９はレーザー１１のマーキング部以外に液盛
り、すなわち本実施例の場合ではレーザー１１を照射し
てマーキングを行っている部分よりも下側に液体９が吐
出される位置を設けているので、マーキング部分の下流
側に液盛りがされ、同時にウエハ８の所定の位置にレー
ザー１１により製品ナンバー及びウエハナンバー等が深
さ２μｍ程度刻設されてマーキングされる。

【００１５】さらに、マーキング終了後、液体吐出ノズ
ル１０より液体９をウエハ８上に吐出すると同時にモー
ター５を回転させてウエハ８上を洗浄する。このときウ
エハ８上に吐出された液体９は、ウエハ８がターンテー
ブル７と共に傾斜していることによって下流側に向かっ
て勢い良くパーティクルと共にウエハ８上の傾斜面を流
れてカップ４内に落下し、これが排液管３を通して排出
されて処理される。また、洗浄が終了次第、液体吐出ノ
ズル１０からの液体９の吐出を停止する。

【００１６】一方、モーター５の回転は液体９の吐出を
停止させた後も継続され、ウエハ８上の液体９を切りな
がらウエハ８の乾燥を行う。なお、この乾燥を行う場合
には、ターンテーブル傾斜機構６によるターンテーブル
７の傾斜角を無くしてターンテーブル７を水平位置まで
戻し、ターンテーブル７を水平にした状態で行うことも
できる。

【００１７】また、ウエハ８の乾燥が完了すると、ウエ
ハ８は上記搬送アームにより搬出されてウエハキャリア
内に収納され、代わりに次の新たなウエハ８が搬送され
て来て同様にして処理される。

【００１８】したがって、この第１の実施例の構造で
は、モーター５及びターンテーブル７と共にウエハ８を
傾斜させて、このウエハ８上における水平面の角度を調
整してマーキング部以外に液体９を滴下させることがで
きるので、ターンテーブル７を傾斜させたときにはウエ
ハ８上に吐出された洗浄用の液体９はウエハ８上を比較
的勢い良く流れることになる。これにより、レーザーマ
ーキング時に発生したパーティクルはウエハ８上に吐出
された液体９と共に流されてウエハ８上に付着するのを
防止することができるので、マーキング深さを比較的大
きくすることが可能になる。また、従来構成で行ってい
たブラシ洗浄等の作業を省略して工程数を減らすことも
可能になり、コストを下げることができる。

【００１９】なお、上記第１の実施例の構造では、ター
ンテーブル７の傾斜をターンテーブル傾斜機構６により
数度の範囲で自由に調整できるようにした構造を開示し
たが、例えば図２に示すようにウエハ８が載せられるタ
ーンテーブル７の載置面をモーター５の駆動軸５ａに対
して予め所定の角度（θ）傾斜させて設け、このターン
テーブル７を傾斜付ターンテーブルとし、この固定され
た傾斜角度（θ）を付与した状態で回転させる構造にし
ても差し支えないものである。したがって、図２に示す
ように傾斜角度を固定した場合では、ターンテーブル傾
斜機構を省略することができ、構造がさらに簡略化され
る。

【００２０】図３は本発明の第２の実施例として示す半
導体製造装置におけるレーザーマーキング部の概略構成
図である。また、図３において図１及び図２と同一符号
を付したものは図１及び図２と同一のものを示してい
る。

【００２１】そして、図１に示した第１の実施例におけ
るレーザーマーキング部と第２の実施例におけるレーザ
ーマーキング部と大きく異なる点は、ターンテーブル７
上にセットされたウエハ８上に純水等の液体９を吐出さ
せる液体吐出ノズル１０と並置させて、同じくウエハ８
上に例えばイソ・プロピル・アルコール（Ｉ．Ｐ．Ａ）
等のリンス液を吐出させるリンス吐出ノズル１２を設け
た点にある。なお、このリンス吐出ノズル１２がリンス
液を滴下する位置は、液体吐出ノズル１０と同様に、リ
ンス液を滴下する位置が後述するマーキングが施される
部分よりも下流に位置して、このリンス液が滴下された
ときにマーキングが施される部分に流れ込まない位置に
設けられている。

【００２２】次に、この第２実施例におけるレーザーマ
ーキング部の動作を説明すると、ウエハ８はウエハキャ
リア内に収納された状態でエレベータユニットに載せら
れて上下方向よりターンテーブルの近傍まで搬送され、
さらに図示せぬ搬送アームによりターンテーブル７に載
せられる。すると、ウエハ８は、この数度（θ）程度の
傾斜が持たされているターンテーブル７上に真空吸着さ
れる。

【００２３】次いで、液体吐出ノズル１０より液体９が
ウエハ８上に数秒間滴下され、その後モーター５が毎分
数回転で約１０秒程度、ターンテーブル７及びウエハ８
と共に回転する。

【００２４】そして、モーター５が停止すると、ウエハ
８上の液体９はレーザー１１のマーキング部以外に液盛
り、すなわち本実施例の場合においてもレーザー１１を
照射してマーキングを行っている部分よりも下側に液体
９が吐出される位置を設けているので、マーキング部分
の下流側に液盛りがされ、同時にウエハ８の所定の位置
にレーザー１１により製品ナンバー及びウエハナンバー
等が深さ２μｍ程度刻設されてマーキングされる。

【００２５】さらに、マーキング終了後、液体吐出ノズ
ル１０より液体９をウエハ８上に吐出すると同時にモー
ター５を回転させてウエハ８上を洗浄する。このとき、
ウエハ８上に吐出された液体９は、ウエハ８がターンテ
ーブル７と共に傾斜していることによって下流側に向か
って勢い良くパーティクルと共にウエハ８上の傾斜面を
流れてカップ４内に落下し、これが排液管３を通して排
出されて処理される。また、洗浄が終了次第、液体吐出
ノズル１０からの液体９の吐出を停止する。

【００２６】次いで、リンス吐出ノズル１２よりリンス
液をウエハ８上に吐出すると同時にモーター５を回転さ
せてウエハ８上をリンスする。このときウエハ８の傾斜
面を流れ下るリンス液はカップ４内に落下し、これが排
液管３を通して排出されて処理される。

【００２７】また、リンス時間が終了すると、リンス吐
出ノズル１２からのリンス液の吐出を停止する。

【００２８】一方、モーター５の回転はリンス液の吐出
を停止させた後も継続され、リンス等を切りながらウエ
ハ８の乾燥を行う。なお、この乾燥を行う場合には、タ
ーンテーブル傾斜機構６によるターンテーブル７の傾斜
角を無くしてターンテーブル７を水平位置まで戻し、タ
ーンテーブルを水平にした状態で行うこともできる。

【００２９】また、ウエハ８の乾燥が完了すると、ウエ
ハ８は上記搬送アームにより搬出されてウエハキャリア
内に収納され、代わりに次の新たなウエハ８が搬送され
て来て同様にして処理される。

【００３０】したがって、この第２の実施例の構造で
は、モーター５及びターンテーブル７と共にウエハ８を
傾斜させて、このウエハ８上における水平面の角度を調
整してマーキング部以外に液体９を滴下させることがで
きるので、ターンテーブル７を傾斜させたときにはウエ
ハ８上に吐出された洗浄用の液体９はウエハ８上を比較
的勢い良く流れることになる。これにより、レーザーマ
ーキング時に発生したパーティクルはウエハ８上に吐出
された液体９と共に流されてウエハ８上に付着するのを
防止することができるので、マーキング深さを比較的大
きくすることが可能になる。また、従来構成で行ってい
たブラシ洗浄等の作業を省略して工程数を減らすことも
可能になる。さらに、リンス吐出ノズル１２を設けてリ
ンス液を吐出させるようにしているのでリンス効率も向
上する。

【００３１】なお、上記第２の実施例の構造では、ター
ンテーブル７の傾斜をターンテーブル傾斜機構６により
数度の範囲で自由に調整できるようにした構造を開示し
たが、例えば図４に示すようにウエハ８が載せられるタ
ーンテーブル７の載置面をモーター５の駆動軸５ａに対
して予め所定の角度（θ）傾斜させて設け、このターン
テーブル７を傾斜付ターンテーブルとして形成し、この
固定された傾斜角度（θ）を付与した状態で回転させる
構造にしても差し支えないものである。したがって、図
４に示すように傾斜角度を固定した場合では、ターンテ
ーブル傾斜機構を省略することができ、構造がさらに簡
略化される。また、リンス吐出ノズル１２は、１本だけ
でなく複数本設けて各々からリンス液を吐出させるよう
にしてリンス時間を短縮させることも可能である。

【００３２】

【発明の効果】以上説明したとおり、本発明に係る半導
体製造装置によれば、ターンテーブルを傾斜させている
のでウエハ上に吐出された洗浄用の液体はウエハ上を比
較的勢い良く流れ、レーザーマーキング時等に発生した
パーティクルはウエハ上に吐出された液体と共に流され
てウエハ上に付着するのを防止することができる。ま
た、従来構成で行っていたブラシ洗浄等の作業を省略し
て工程数を減らすことも可能になり、コストを下げるこ
とができる。さらに、前記洗浄用の液体を液体吐出ノズ
ルより吐出させるようにするとともに、前記ターンテー
ブルの側面を囲ってカップ部を設けて、ウエハ上に落下
して来る液体等を前記カップ部で受けるようにした場合
には液体等の処理が簡略化できる。また、さらにリンス
吐出ノズルを設けてリンス液を吐出させるようにした場
合ではリンス効率を向上させることができる。さらに加
えて、ターンテーブル傾斜機構を設けた場合では、レー
ザーマーキングを行う時に、必要な角度だけウエハ上に
おける水平面の角度を調整することができる等の効果が
期待できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例として示す概略構成図で
ある。

【図２】上記第１の実施例の一変形例として示す概略構
成図である。

【図３】本発明の第２の実施例として示す概略構成図で
ある。

【図４】上記第２の実施例の一変形例として示す概略構
成図である。

【符号の説明】

４ カップ ５ モーター ６ ターンテーブル傾斜機構 ７ ターンテーブル ８ ウエハ ９ 純水（洗浄用液体） １０ 液体（純水）吐出ノズル １１ レーザー １２ リンス吐出ノズル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大島 勝雄 東京都港区虎ノ門１丁目７番12号 沖電気 工業株式会社内 (72)発明者 福元 利博 東京都港区虎ノ門１丁目７番12号 沖電気 工業株式会社内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ターンテーブル上に載せられたウエハに
   所定の処理を施し、その後前記ターンテーブルを回転さ
   せながら洗浄用の液体を前記ウエハの表面上に吐出させ
   て洗浄するようにした半導体製造装置において、 前記ターンテーブルを傾斜させて設け、前記ウエハ上に
   吐出された前記液体が一方向に流れるように構成したこ
   とを特徴とする半導体製造装置。
2. 【請求項２】 前記洗浄用の液体を液体吐出ノズルより
   吐出させるようにするとともに、前記ターンテーブルの
   側面を囲ってカップ部を設けた請求項１に記載の半導体
   製造装置。
3. 【請求項３】 前記ウエハの表面にリンス液を滴下する
   リンス吐出ノズルを設けた請求項１または２に記載の半
   導体製造装置。
4. 【請求項４】 前記ターンテーブルの傾斜を調整可能に
   するためのターンテーブル傾斜機構を設けた請求項１乃
   至３の中の何れか１つに記載の半導体製造装置。