JPH0744012Y2 - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH0744012Y2 JPH0744012Y2 JP1989098414U JP9841489U JPH0744012Y2 JP H0744012 Y2 JPH0744012 Y2 JP H0744012Y2 JP 1989098414 U JP1989098414 U JP 1989098414U JP 9841489 U JP9841489 U JP 9841489U JP H0744012 Y2 JPH0744012 Y2 JP H0744012Y2
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- substrate
- shower nozzle
- cleaning
- tank
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Description
【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案は、複数枚の板状に形成されたシリコンウェハー
やガラス基板等の基板を各処理槽に順次浸漬して洗浄処
理する基板の洗浄装置に関する。
やガラス基板等の基板を各処理槽に順次浸漬して洗浄処
理する基板の洗浄装置に関する。
［背景技術］ 従来、この種の洗浄装置による基板の洗浄工程では、複
数枚の板状に形成されたシリコンウェハーやガラス基板
等の基板が収納されたキャリアをロボットアーム（図示
せず）で移動させながら酸性槽で洗浄後、アルカリ槽で
洗浄した後に乾燥処理される。
数枚の板状に形成されたシリコンウェハーやガラス基板
等の基板が収納されたキャリアをロボットアーム（図示
せず）で移動させながら酸性槽で洗浄後、アルカリ槽で
洗浄した後に乾燥処理される。
前者の酸性槽は硫酸（H2SO4）過水（H2O2）及び純水か
らなり、この槽で浸漬洗浄された後、シャワー槽でリン
スされて洗浄される。後者のアルカリ洗浄では前者の洗
浄後になされるもので、アンモニア（NH4OH）、過水（H
2O2）及び純水よりなるアルカリ性液で浸漬洗浄された
後、シャワー槽でリンスされる。この後、遠心分離器等
で乾燥処理される。これら一連の洗浄工程によりシリコ
ンウェハーやガラス基板等の基板の表面に付着した金属
等を剥離して洗浄することができる。
らなり、この槽で浸漬洗浄された後、シャワー槽でリン
スされて洗浄される。後者のアルカリ洗浄では前者の洗
浄後になされるもので、アンモニア（NH4OH）、過水（H
2O2）及び純水よりなるアルカリ性液で浸漬洗浄された
後、シャワー槽でリンスされる。この後、遠心分離器等
で乾燥処理される。これら一連の洗浄工程によりシリコ
ンウェハーやガラス基板等の基板の表面に付着した金属
等を剥離して洗浄することができる。
また、リンス槽となるシャワー槽では酸性槽若しくはア
ルカリ槽で浸漬洗浄処理されたシリコンウェハーやガラ
ス基板等の基板の表面に付着している液体を除去する
他、基板の表面を常に濡らす働きもある。これは基板の
表面にしみ等が残らないようにするためである。
ルカリ槽で浸漬洗浄処理されたシリコンウェハーやガラ
ス基板等の基板の表面に付着している液体を除去する
他、基板の表面を常に濡らす働きもある。これは基板の
表面にしみ等が残らないようにするためである。
従来、このシャワー槽のシャワー噴き出し口となるシャ
ワーノズルは、実開昭60−30534号に示すものや第７図
に示すようにキャリア（図示せず）内に平行に収納され
た複数枚の基板と該基板の板面を十分洗浄できるように
設けられた複数のシャワーノズル40の先端も平行になる
ように配置されている。このシャワーノズル40を基板両
単側に対向して設け、このシャワーノズルの装着位置を
同じ線上にならないように交互に配設するようにしてい
る。これは基板の表面及び裏面側を洗浄及び濡らすため
である。
ワーノズルは、実開昭60−30534号に示すものや第７図
に示すようにキャリア（図示せず）内に平行に収納され
た複数枚の基板と該基板の板面を十分洗浄できるように
設けられた複数のシャワーノズル40の先端も平行になる
ように配置されている。このシャワーノズル40を基板両
単側に対向して設け、このシャワーノズルの装着位置を
同じ線上にならないように交互に配設するようにしてい
る。これは基板の表面及び裏面側を洗浄及び濡らすため
である。
［考案が解決しようとする課題］ しかしながら、従来の洗浄装置ではシャワーノズル先端
が基板の両端側に対向して交互に且つ基板とほぼ平行に
配置されているので、基板の表面及び裏面を効率良く洗
浄することができないという欠点がある。すなわち、キ
ャリアは複数枚の基板を収納することができるが、この
キャリアはテフロン処理が施されたものが通常用いられ
ており、このキャリアに収納可能なシリコンウェハーは
約0.6mm程度の厚さであるため、複数枚のウェハーをピ
ッチを狭くして収納することができるが、ガラス基板の
ように厚さが約２〜3mmのものでは重量が多くなり、キ
ャリア側壁がたわむ恐れ等もあるのでピッチを大きくし
て配置することがなされている。したがって、第７図で
示すように基板の両端に配置されたシャワーノズルがこ
れらピッチの変るような場合全てにおいて基板の両面の
洗浄を効率浴洗浄することができないという欠点が生ず
る。
が基板の両端側に対向して交互に且つ基板とほぼ平行に
配置されているので、基板の表面及び裏面を効率良く洗
浄することができないという欠点がある。すなわち、キ
ャリアは複数枚の基板を収納することができるが、この
キャリアはテフロン処理が施されたものが通常用いられ
ており、このキャリアに収納可能なシリコンウェハーは
約0.6mm程度の厚さであるため、複数枚のウェハーをピ
ッチを狭くして収納することができるが、ガラス基板の
ように厚さが約２〜3mmのものでは重量が多くなり、キ
ャリア側壁がたわむ恐れ等もあるのでピッチを大きくし
て配置することがなされている。したがって、第７図で
示すように基板の両端に配置されたシャワーノズルがこ
れらピッチの変るような場合全てにおいて基板の両面の
洗浄を効率浴洗浄することができないという欠点が生ず
る。
そこで、本考案は上記従来の欠点に鑑みてなされたもの
であって、種別が異なり、ピッチを変えてキャリア内に
配列された基板であっても常に基板の両面を効率良く、
かつ、全面に亘ってむらなく洗浄することのできる洗浄
装置を提供することを目的とする。
であって、種別が異なり、ピッチを変えてキャリア内に
配列された基板であっても常に基板の両面を効率良く、
かつ、全面に亘ってむらなく洗浄することのできる洗浄
装置を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］ 本考案による洗浄装置は、複数枚の板状に形成された基
板が縦に平行に並んで収納可能なキャリアと、該キャリ
アが収納されて載置可能な槽と、該槽の上方であって前
記基板の板面と交叉する方向に設けられた第１及び第２
のシャワーパイプと、該各シャワーパイプに装着され前
記各基板の板面を洗浄できるように前記基板の板面に対
してほぼ平行に配置された第１及び第２のシャワーノズ
ル群とを備え、 前記第１のシャワーノズル群と第２のシャワーノズル群
とは互い違いに並ぶように且つノズル先端がほぼ対向し
て配置され、前記各シャワーノズルは、前記基板の板面
に対して向くように所定角度傾斜して設けられ、且つそ
の先端角度を自由に可変できるように構成され、前記各
シャワーパイプは、前記基板の板面と交叉する方向に、
各基板にむらなくシャワーを噴射させうる距離にわたっ
て摺動可能に構成されたものである。
板が縦に平行に並んで収納可能なキャリアと、該キャリ
アが収納されて載置可能な槽と、該槽の上方であって前
記基板の板面と交叉する方向に設けられた第１及び第２
のシャワーパイプと、該各シャワーパイプに装着され前
記各基板の板面を洗浄できるように前記基板の板面に対
してほぼ平行に配置された第１及び第２のシャワーノズ
ル群とを備え、 前記第１のシャワーノズル群と第２のシャワーノズル群
とは互い違いに並ぶように且つノズル先端がほぼ対向し
て配置され、前記各シャワーノズルは、前記基板の板面
に対して向くように所定角度傾斜して設けられ、且つそ
の先端角度を自由に可変できるように構成され、前記各
シャワーパイプは、前記基板の板面と交叉する方向に、
各基板にむらなくシャワーを噴射させうる距離にわたっ
て摺動可能に構成されたものである。
［実施例］ 次に、本考案の実施例について図面を用いて詳細に説明
する。
する。
第１図は本考案に係る洗浄装置の正面図、第２図は第１
図の平面図、第３図は第１図の側面図である。なお、従
来の洗浄装置の洗浄工程と同じ処理工程についての詳細
な説明は省略する。
図の平面図、第３図は第１図の側面図である。なお、従
来の洗浄装置の洗浄工程と同じ処理工程についての詳細
な説明は省略する。
図において、外槽１はほぼ横長の箱形に形成されてお
り、この外槽１内には同じ形状の内槽２が収納されてい
る。この内槽２は外槽１のほぼ中央の４箇所に配置され
た丸棒よりなる支柱３に支持された内槽受台４に固定さ
れている。この内槽受台４に固定された内槽２の低部中
央には内部の液体を所定の時間毎に交換するための排水
用穴５が形成されている。この排水用穴５は円形形状に
形成されており、この排水用穴５の下部には排水弁24が
設けられている。この排水弁24は通常は排水用穴５を塞
ぐ方向、すなわち第１図の上方に付勢されている。とこ
ろが、エアー吸入口25から図示せぬ吸入手段によってエ
アーが排水弁内に吸入され仕切部24aが加圧されると、
排水弁24は24′の状態まで降下して排水用穴５が開くよ
うに構成されている。この排水用穴５から流出する液体
は排水口26から矢印で示すような経路で排水される。ま
た、この排水用穴５の上部には４個のスペーサ６を介し
てキャリア台底板７が固定されている。このキャリア台
底板７にボルト８でキャリア台９が螺合されている。こ
のキャリア台９はキャリア10を２つの収納載置できる構
成となっている。このキャリア台９にはキャリア10をガ
イドするキャリアガイド11がボルト12で固定されてい
る。このキャリアガイド11は第１図に示すように上方に
伸長させて形成されている。これは内部の液体の体積を
減らすためである。このキャリア10内には複数枚の板状
に形成されたシリコンウェハー13やガラス基板等の基板
が収納される。また、内槽２の上部周壁は支持アングル
14によって外槽１との間を支持されている。これは内槽
２内に満たされる液体によりテフロン処理を施されてい
る内槽２の変形を防ぐためである。この外槽１の上部周
壁にはシャワーパイプ受け15が取付けられており、この
シャワーパイプ受け15には第２図で示すような第１及び
第２のシャワーパイプ16及び17が内槽２の両側に平行に
配設されている。この第１及び第２のシャワーパイプ16
及び17には第１及び第２のシャワーノズル群（18a,18b
…18n及び19a,19b…19n）が互い違いに並ぶように且つ
ノズル先端がほぼ対向するように配置されている。これ
らのシャワーノズル18及び19のノズル先端は第４図に示
すようにキャリア10内に収納されたウェハー13の表面若
しくは裏面に対して向くように所定角度傾斜するように
構成されている。これはウェハー13の表面に付着した金
属等の洗浄を効率良く行うためである。このシャワーノ
ズル18及び19のノズル先端を所定角度傾斜させることに
より、キャリア10内に収納されたウェハー13のピッチの
大小に拘らず全体的に洗浄することができる。また、上
記シャワーパイプ16及び17には給水用パイプ20及び21に
より常時給水されるように構成されている。また、本装
置では、内槽２の低部からも効果的にウェハー13を洗浄
するためキャリア台底板７内に噴流用パイプ22及びバブ
リング用穴22aが設けられている。これは内槽２内の液
体を撹拌することにより洗浄効果を向上させようとする
ものである。また、第２図及び第３図図示のように槽内
の温度を検知する温度センサ23が配設されている。
り、この外槽１内には同じ形状の内槽２が収納されてい
る。この内槽２は外槽１のほぼ中央の４箇所に配置され
た丸棒よりなる支柱３に支持された内槽受台４に固定さ
れている。この内槽受台４に固定された内槽２の低部中
央には内部の液体を所定の時間毎に交換するための排水
用穴５が形成されている。この排水用穴５は円形形状に
形成されており、この排水用穴５の下部には排水弁24が
設けられている。この排水弁24は通常は排水用穴５を塞
ぐ方向、すなわち第１図の上方に付勢されている。とこ
ろが、エアー吸入口25から図示せぬ吸入手段によってエ
アーが排水弁内に吸入され仕切部24aが加圧されると、
排水弁24は24′の状態まで降下して排水用穴５が開くよ
うに構成されている。この排水用穴５から流出する液体
は排水口26から矢印で示すような経路で排水される。ま
た、この排水用穴５の上部には４個のスペーサ６を介し
てキャリア台底板７が固定されている。このキャリア台
底板７にボルト８でキャリア台９が螺合されている。こ
のキャリア台９はキャリア10を２つの収納載置できる構
成となっている。このキャリア台９にはキャリア10をガ
イドするキャリアガイド11がボルト12で固定されてい
る。このキャリアガイド11は第１図に示すように上方に
伸長させて形成されている。これは内部の液体の体積を
減らすためである。このキャリア10内には複数枚の板状
に形成されたシリコンウェハー13やガラス基板等の基板
が収納される。また、内槽２の上部周壁は支持アングル
14によって外槽１との間を支持されている。これは内槽
２内に満たされる液体によりテフロン処理を施されてい
る内槽２の変形を防ぐためである。この外槽１の上部周
壁にはシャワーパイプ受け15が取付けられており、この
シャワーパイプ受け15には第２図で示すような第１及び
第２のシャワーパイプ16及び17が内槽２の両側に平行に
配設されている。この第１及び第２のシャワーパイプ16
及び17には第１及び第２のシャワーノズル群（18a,18b
…18n及び19a,19b…19n）が互い違いに並ぶように且つ
ノズル先端がほぼ対向するように配置されている。これ
らのシャワーノズル18及び19のノズル先端は第４図に示
すようにキャリア10内に収納されたウェハー13の表面若
しくは裏面に対して向くように所定角度傾斜するように
構成されている。これはウェハー13の表面に付着した金
属等の洗浄を効率良く行うためである。このシャワーノ
ズル18及び19のノズル先端を所定角度傾斜させることに
より、キャリア10内に収納されたウェハー13のピッチの
大小に拘らず全体的に洗浄することができる。また、上
記シャワーパイプ16及び17には給水用パイプ20及び21に
より常時給水されるように構成されている。また、本装
置では、内槽２の低部からも効果的にウェハー13を洗浄
するためキャリア台底板７内に噴流用パイプ22及びバブ
リング用穴22aが設けられている。これは内槽２内の液
体を撹拌することにより洗浄効果を向上させようとする
ものである。また、第２図及び第３図図示のように槽内
の温度を検知する温度センサ23が配設されている。
次に、上記構成よりなる本実施例の作用について説明す
る。
る。
まず、本実施例の洗浄工程では、複数枚の板状に形成さ
れたウェハー13が収納されたキャリアをロボットアーム
（図示せず）で移動させながら硫酸（H2SO4）過水（H2O
2）及び純水からなる酸性槽で浸漬洗浄する。この酸性
槽で洗浄されたウェハー13はシャワー槽でリンスされて
洗浄される。このシャワー槽では図示せぬロボットアー
ムによりキャリアーが運搬されて所定の位置、すなわち
本実施例でいうキャリアガイド11に案内されてキャリア
台９上に載置される。その後、シャワーパイプ16（17）
に所定の間隔で設けられたシャワーノズル18（19）より
ウェハー13の表面及び裏面に所定量の水が噴射される。
このシャワーノズル18（19）のノズル先端がウェハー13
の面に向かうように所定の角度で傾斜されているので、
ウェハー13間のピッチの大小に拘わらずウェハー13の面
全体に亙って噴射することができる。このシャワー槽で
ウェハー13がリンスされた後、ロボットアームによりキ
ャリア10は引き上げられて次のアンモニア（NH4OH）、
過水（H2O2）及び純水よりなるアルカリ槽で浸漬洗浄さ
れる。このアルカリ洗浄された後も前記シャワー槽と同
じ構成よりなる槽でリンスされる。これらの槽では洗浄
槽内の液体の汚れ等を防ぐために所定時間毎に排水弁24
を開閉して溶液の交換作業を行う。この後、ウェハー13
は遠心分離器等で乾燥処理される。これら一連の洗浄工
程によりウェハー表面に付着した金属等を剥離して洗浄
することができる。
れたウェハー13が収納されたキャリアをロボットアーム
（図示せず）で移動させながら硫酸（H2SO4）過水（H2O
2）及び純水からなる酸性槽で浸漬洗浄する。この酸性
槽で洗浄されたウェハー13はシャワー槽でリンスされて
洗浄される。このシャワー槽では図示せぬロボットアー
ムによりキャリアーが運搬されて所定の位置、すなわち
本実施例でいうキャリアガイド11に案内されてキャリア
台９上に載置される。その後、シャワーパイプ16（17）
に所定の間隔で設けられたシャワーノズル18（19）より
ウェハー13の表面及び裏面に所定量の水が噴射される。
このシャワーノズル18（19）のノズル先端がウェハー13
の面に向かうように所定の角度で傾斜されているので、
ウェハー13間のピッチの大小に拘わらずウェハー13の面
全体に亙って噴射することができる。このシャワー槽で
ウェハー13がリンスされた後、ロボットアームによりキ
ャリア10は引き上げられて次のアンモニア（NH4OH）、
過水（H2O2）及び純水よりなるアルカリ槽で浸漬洗浄さ
れる。このアルカリ洗浄された後も前記シャワー槽と同
じ構成よりなる槽でリンスされる。これらの槽では洗浄
槽内の液体の汚れ等を防ぐために所定時間毎に排水弁24
を開閉して溶液の交換作業を行う。この後、ウェハー13
は遠心分離器等で乾燥処理される。これら一連の洗浄工
程によりウェハー表面に付着した金属等を剥離して洗浄
することができる。
次に、第５図は本考案の第２の実施例を示す図である。
第１図乃至第４図に示す第１実施例と同様の構成及び機
能を有するものについては詳細な説明を省略する。
第１図乃至第４図に示す第１実施例と同様の構成及び機
能を有するものについては詳細な説明を省略する。
図において、シャワーパイプ16（17）には、シャワーノ
ズル受部28が突設されており、このシャワーノズル受部
28の先端部には雄ねじが形成されている。このシャワー
ノズル受部28の先端部上面28aはシャワーノズル29の下
部に形成されたボール29aを受るように球面で形成され
ている。したがって、ボールで形成されているためノズ
ル29の先端を自由な角度に傾斜させることができる。こ
のシャワーノズル29はナット30により固定される。この
ナット30の内側下部に雌ねじが形成されており、このナ
ット30と前記シャワーノズル受部28とが螺合結合される
ように構成されている。
ズル受部28が突設されており、このシャワーノズル受部
28の先端部には雄ねじが形成されている。このシャワー
ノズル受部28の先端部上面28aはシャワーノズル29の下
部に形成されたボール29aを受るように球面で形成され
ている。したがって、ボールで形成されているためノズ
ル29の先端を自由な角度に傾斜させることができる。こ
のシャワーノズル29はナット30により固定される。この
ナット30の内側下部に雌ねじが形成されており、このナ
ット30と前記シャワーノズル受部28とが螺合結合される
ように構成されている。
上記構成を有する洗浄装置では、キャリア10内に収納さ
れているウェハー13のピッチを変えて配列したような場
合には効率良くシャワーがウェハー13の面に当らない場
合が生ずるので、シャワーノズル29の先端をウェハー面
に効率良く当るように所定の角度傾斜させて用いる。
れているウェハー13のピッチを変えて配列したような場
合には効率良くシャワーがウェハー13の面に当らない場
合が生ずるので、シャワーノズル29の先端をウェハー面
に効率良く当るように所定の角度傾斜させて用いる。
その他の洗浄工程は第１図乃至第４図に示す実施例と同
様である。
様である。
上記の構成の故、洗浄に供すべき基板の種類が変更され
てその大きさや形状が異なる場合でも、これらに応じて
シャワーノズルの先端角度を適宜設定することにより、
各種基板を全面に亘ってむらなく洗浄することができ
る。
てその大きさや形状が異なる場合でも、これらに応じて
シャワーノズルの先端角度を適宜設定することにより、
各種基板を全面に亘ってむらなく洗浄することができ
る。
次に、第６図は本考案の第３の実施例を示す図である。
第１図乃至第４図に示す第１の実施例と同様の構成及び
機能を有するものについては詳細な説明を省略する。
第１図乃至第４図に示す第１の実施例と同様の構成及び
機能を有するものについては詳細な説明を省略する。
図において、シャワーパイプ16（17）はシャワーパイプ
受け15に各基板にむらなくシャワーを噴射させうる距離
にわたって摺動可能に支持されており、このシャワーパ
イプ16（17）の一端は蛇腹に形成された可撓性を有する
連結ホース31に連結されている。この連結ホース31の他
端は給水管に連結されており、常時シャワーパイプ16
（17）に所定量の液体を供給するように構成されてい
る。また、シャワーパイプ16（17）の所定の箇所にエア
ーシリンダ32のロッド33が支持固定されている。このエ
アーシリンダ32が駆動されるとロッド33が矢印方向に吸
引されてロッド33に固定されているシャワーパイプ16
（17）も一体に矢印方向に摺動するように構成されてい
る。エアーシリンダ32の吸引動作が解除されると、ロッ
ド33及びシャワーパイプ16（17）も第６図図示の状態に
復帰するように構成されている。
受け15に各基板にむらなくシャワーを噴射させうる距離
にわたって摺動可能に支持されており、このシャワーパ
イプ16（17）の一端は蛇腹に形成された可撓性を有する
連結ホース31に連結されている。この連結ホース31の他
端は給水管に連結されており、常時シャワーパイプ16
（17）に所定量の液体を供給するように構成されてい
る。また、シャワーパイプ16（17）の所定の箇所にエア
ーシリンダ32のロッド33が支持固定されている。このエ
アーシリンダ32が駆動されるとロッド33が矢印方向に吸
引されてロッド33に固定されているシャワーパイプ16
（17）も一体に矢印方向に摺動するように構成されてい
る。エアーシリンダ32の吸引動作が解除されると、ロッ
ド33及びシャワーパイプ16（17）も第６図図示の状態に
復帰するように構成されている。
上記構成を有する洗浄装置では、エアーシリンダ32が駆
動されてロッド33が矢印方向に吸引されると、ロッド33
に固定されているシャワーパイプ16（17）も一体にウェ
ハー面と交叉する方向、すなわち本実施例では直交する
方向に摺動する。この状態でウェハー13の表面及び裏面
にむらなくシャワーを噴射させることによって、ウェハ
ー間のピッチが変った場合であっても効率良くウェハー
面全体に照射させることができる。このエアーシリンダ
32の吸引動作が解除されると、ロッド33及びシャワーパ
イプ16（17）も第６図図示の状態に復帰した状態で使用
することができる。また、本実施例の吸引動作を所定時
間毎に繰り変えして行うようにすればより一層洗浄効果
を上げることができる。
動されてロッド33が矢印方向に吸引されると、ロッド33
に固定されているシャワーパイプ16（17）も一体にウェ
ハー面と交叉する方向、すなわち本実施例では直交する
方向に摺動する。この状態でウェハー13の表面及び裏面
にむらなくシャワーを噴射させることによって、ウェハ
ー間のピッチが変った場合であっても効率良くウェハー
面全体に照射させることができる。このエアーシリンダ
32の吸引動作が解除されると、ロッド33及びシャワーパ
イプ16（17）も第６図図示の状態に復帰した状態で使用
することができる。また、本実施例の吸引動作を所定時
間毎に繰り変えして行うようにすればより一層洗浄効果
を上げることができる。
その他の洗浄工程は第１図乃至第４図に示す実施例と同
様である。
様である。
上記から明らかなように、当該洗浄装置においては、シ
ャワーノズルを基板の板面に対して向くように所定角度
傾斜して設けた構成と、該シャワーノズルが装着された
シャワーパイプを該基板の板面と交叉する方向に摺動可
能とした構成とを併用している。
ャワーノズルを基板の板面に対して向くように所定角度
傾斜して設けた構成と、該シャワーノズルが装着された
シャワーパイプを該基板の板面と交叉する方向に摺動可
能とした構成とを併用している。
かかる構成を採用したことによって、基板をその全面に
亘ってむらなく洗浄することができ、しかも洗浄水を節
約しつつこれを行い得る。
亘ってむらなく洗浄することができ、しかも洗浄水を節
約しつつこれを行い得る。
何んとなれば、この構成においては、上記シャワーパイ
プの摺動によりシャワーノズルが同方向に移動する。こ
の時、シャワーノズルから基板の板面に対して斜めに噴
射される洗浄水はシャワーノズルの移動によって該基板
の板面に沿って横切るような状態となる。これにより、
基板のある特定の部位には洗浄水が充分に行き渡らない
ということがなくなって基板の全面にまんべんなく吹き
つけられ、同時に、洗浄水の消費量も比較的少なく済む
のである。
プの摺動によりシャワーノズルが同方向に移動する。こ
の時、シャワーノズルから基板の板面に対して斜めに噴
射される洗浄水はシャワーノズルの移動によって該基板
の板面に沿って横切るような状態となる。これにより、
基板のある特定の部位には洗浄水が充分に行き渡らない
ということがなくなって基板の全面にまんべんなく吹き
つけられ、同時に、洗浄水の消費量も比較的少なく済む
のである。
なお、第１図、第５図及び第６図の実施例は夫々別のも
のとして説明しているが、これらの実施例を適宜組み合
せて用いてもよいことは勿論可能である。
のとして説明しているが、これらの実施例を適宜組み合
せて用いてもよいことは勿論可能である。
［考案の効果］ 以上説明したように本考案によれば、シャワーノズルが
基板の面に対して向くように所定角度傾斜して設けられ
ているので、基板がピッチを変えて配列されたような場
合であっても基板の表面及び裏面を効率良く洗浄できる
効果がある。
基板の面に対して向くように所定角度傾斜して設けられ
ているので、基板がピッチを変えて配列されたような場
合であっても基板の表面及び裏面を効率良く洗浄できる
効果がある。
また、本考案による洗浄装置においては、シャワーノズ
ルを基板の板面に対して向くように所定角度傾斜して設
けた構成と、該シャワーノズルが装着されたシャワーパ
イプを該基板の板面と交叉する方向に摺動可能とした構
成とを併用している。
ルを基板の板面に対して向くように所定角度傾斜して設
けた構成と、該シャワーノズルが装着されたシャワーパ
イプを該基板の板面と交叉する方向に摺動可能とした構
成とを併用している。
かかる構成を採用したことによって、基板をその全面に
亘ってむらなく洗浄することができ、しかも洗浄水を節
約しつつこれを行い得る。
亘ってむらなく洗浄することができ、しかも洗浄水を節
約しつつこれを行い得る。
何んとなれば、この構成においては、上記シャワーパイ
プの摺動によりシャワーノズルが同方向に移動する。こ
の時、シャワーノズルから基板の板面に対して斜めに噴
射される洗浄水はシャワーノズルの移動によって該基板
の板面に沿って横切るような状態となる。これにより、
基板のある特定の部位には洗浄水が充分に行き渡らない
ということがなくなって基板の全面にまんべんなく吹き
つけられ、同時に、洗浄水の消費量も比較的少なく済む
のである。
プの摺動によりシャワーノズルが同方向に移動する。こ
の時、シャワーノズルから基板の板面に対して斜めに噴
射される洗浄水はシャワーノズルの移動によって該基板
の板面に沿って横切るような状態となる。これにより、
基板のある特定の部位には洗浄水が充分に行き渡らない
ということがなくなって基板の全面にまんべんなく吹き
つけられ、同時に、洗浄水の消費量も比較的少なく済む
のである。
また、本考案による洗浄装置においては、上記構成を踏
えて更に、上記シャワーノズルの先端角度を自由に可変
できる構成をも付加している。この構成の故、洗浄に供
すべき基板の種類が変更されてその大きさや形状が異な
る場合でも、これらに応じてシャワーノズルの先端角度
を適宜設定することにより、各種基板を全面に亘ってむ
らなく洗浄することができる。
えて更に、上記シャワーノズルの先端角度を自由に可変
できる構成をも付加している。この構成の故、洗浄に供
すべき基板の種類が変更されてその大きさや形状が異な
る場合でも、これらに応じてシャワーノズルの先端角度
を適宜設定することにより、各種基板を全面に亘ってむ
らなく洗浄することができる。
第１図は本考案の一実施例を示す正面図、第２図は第１
図の平面図、第３図は第１図の側面図、第４図は本考案
に係るシャワーノズルの取付け状態を説明する説明図、
第５図は本考案の第２の実施例を示す図、第６図は本考
案の第３の実施例を示す図、第７図は従来のシャワーノ
ズルの取付け状態を説明する説明図である。 １……外槽、２……内槽、３……支柱（丸棒）、４……
内槽受台、５……排水用穴、６……スペーサ、７……キ
ャリア台底板、８……ボルト、９……キャリア台、10…
…キャリア、11……キャリアガイド、12……ボルト、13
……ウェハー、14……支持アングル、15……シャワーパ
イプ受け、16,17……第１及び第２のシャワーパイプ、1
8……シャワーノズル、18a,18b…18n……第１のシャワ
ーノズル群、19……シャワーノズル、19a,19b…19n……
第２のシャワーノズル群、20,21……給水用パイプ、22
……噴流用パイプ、22a……バブリング用穴、23……温
度センサ、24……排水弁、25……エアー吸入口、26……
排水口、28……シャワーノズル受部、29……シャワーノ
ズル、30……ナット、31……連結ホース、32……エアー
シリンダ、33……ロッド。
図の平面図、第３図は第１図の側面図、第４図は本考案
に係るシャワーノズルの取付け状態を説明する説明図、
第５図は本考案の第２の実施例を示す図、第６図は本考
案の第３の実施例を示す図、第７図は従来のシャワーノ
ズルの取付け状態を説明する説明図である。 １……外槽、２……内槽、３……支柱（丸棒）、４……
内槽受台、５……排水用穴、６……スペーサ、７……キ
ャリア台底板、８……ボルト、９……キャリア台、10…
…キャリア、11……キャリアガイド、12……ボルト、13
……ウェハー、14……支持アングル、15……シャワーパ
イプ受け、16,17……第１及び第２のシャワーパイプ、1
8……シャワーノズル、18a,18b…18n……第１のシャワ
ーノズル群、19……シャワーノズル、19a,19b…19n……
第２のシャワーノズル群、20,21……給水用パイプ、22
……噴流用パイプ、22a……バブリング用穴、23……温
度センサ、24……排水弁、25……エアー吸入口、26……
排水口、28……シャワーノズル受部、29……シャワーノ
ズル、30……ナット、31……連結ホース、32……エアー
シリンダ、33……ロッド。
Claims (1)
- 【請求項１】複数枚の板状に形成された基板が縦に平行
に並んで収納可能なキャリアと、該キャリアが収納され
て載置可能な槽と、該槽の上方であって前記基板の板面
と交叉する方向に設けられた第１及び第２のシャワーパ
イプと、該各シャワーパイプに装着され前記各基板の板
面を洗浄できるように前記基板の板面に対してほぼ平行
に配置された第１及び第２のシャワーノズル群とを備
え、 前記第１のシャワーノズル群と第２のシャワーノズル群
とは互い違いに並ぶように且つノズル先端がほぼ対向し
て配置され、前記各シャワーノズルは、前記基板の板面
に対して向くように所定角度傾斜して設けられ、且つそ
の先端角度を自由に可変できるように構成され、前記各
シャワーパイプは、前記基板の板面と交叉する方向に、
各基板にむらなくシャワーを噴射させうる距離にわたっ
て摺動可能に構成されたことを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989098414U JPH0744012Y2 (ja) | 1989-08-25 | 1989-08-25 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989098414U JPH0744012Y2 (ja) | 1989-08-25 | 1989-08-25 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0338628U JPH0338628U (ja) | 1991-04-15 |
| JPH0744012Y2 true JPH0744012Y2 (ja) | 1995-10-09 |
Family
ID=31647516
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989098414U Expired - Lifetime JPH0744012Y2 (ja) | 1989-08-25 | 1989-08-25 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0744012Y2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6025141U (ja) * | 1983-07-27 | 1985-02-20 | 富士通株式会社 | 洗浄ノズル |
| JPS6030534U (ja) * | 1983-08-05 | 1985-03-01 | 海上電機株式会社 | ウエフア洗浄用シャワ−槽 |
| JPS6346841U (ja) * | 1986-09-12 | 1988-03-30 |
-
1989
- 1989-08-25 JP JP1989098414U patent/JPH0744012Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0338628U (ja) | 1991-04-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |