JPH0743078B2 - 高純度ガス維持容器 - Google Patents
高純度ガス維持容器Info
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- JPH0743078B2 JPH0743078B2 JP61158716A JP15871686A JPH0743078B2 JP H0743078 B2 JPH0743078 B2 JP H0743078B2 JP 61158716 A JP61158716 A JP 61158716A JP 15871686 A JP15871686 A JP 15871686A JP H0743078 B2 JPH0743078 B2 JP H0743078B2
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- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、高純度ガスを維持する容器に関する。
さらに詳しくは、半導体工業,液晶ディスプレイ産業や
記録用各種薄膜形成産業等で要求される高純度ガス、特
に微細粒子および容器内表面でのガスの吸脱着や不純物
ガス放出を、減じる為に、ガス接触面を電解複合研磨し
た耐圧金属容器に関する。
記録用各種薄膜形成産業等で要求される高純度ガス、特
に微細粒子および容器内表面でのガスの吸脱着や不純物
ガス放出を、減じる為に、ガス接触面を電解複合研磨し
た耐圧金属容器に関する。
(従来の技術) 圧縮ガスや液化ガス充填用容器ボンベ(以下「ボンベ」
という。)は、ガスの貯蔵、運搬の手段として工業用を
はじめ、医療用、一般家庭用等に広く使用されている
が、ガスの需要量の伸長とともに、利用されるボンベの
種類及び数は、年々増加の傾向にある。
という。)は、ガスの貯蔵、運搬の手段として工業用を
はじめ、医療用、一般家庭用等に広く使用されている
が、ガスの需要量の伸長とともに、利用されるボンベの
種類及び数は、年々増加の傾向にある。
その中でも、近年半導体工業のめざましい発展につれ
て、高純度の多種類のガスが、大量に使われるようにな
ると同時にボンベ内でのガスの超高純度維持など、解決
すべき重大な問題が提起されるようになった。
て、高純度の多種類のガスが、大量に使われるようにな
ると同時にボンベ内でのガスの超高純度維持など、解決
すべき重大な問題が提起されるようになった。
高集積化、高性能化が進み、最小加工寸法が、サブミク
ロンオーダーの超LSIが製造される今日では、ガスその
もののさらなる超高純度化はもちろん、ガス供給系即ち
ボンベ、配管及びその部材等のシステムから混入する微
細な粒子パーティクル(以下「パーティクル」とい
う。)や、内表面から放出される水分や、空気成分、洗
浄液残等のガス不純物の混入がLSIの結晶欠陥、薄膜膜
質不良、成膜エッチングの均一性不良、パターン欠陥な
どの原因となり製品化率の低下をきたしたり、成膜スピ
ードがダウンし、生産性に影響を与えたり、LSIの高集
積化、高性能化が進むにつれて、深刻になりつつある。
ロンオーダーの超LSIが製造される今日では、ガスその
もののさらなる超高純度化はもちろん、ガス供給系即ち
ボンベ、配管及びその部材等のシステムから混入する微
細な粒子パーティクル(以下「パーティクル」とい
う。)や、内表面から放出される水分や、空気成分、洗
浄液残等のガス不純物の混入がLSIの結晶欠陥、薄膜膜
質不良、成膜エッチングの均一性不良、パターン欠陥な
どの原因となり製品化率の低下をきたしたり、成膜スピ
ードがダウンし、生産性に影響を与えたり、LSIの高集
積化、高性能化が進むにつれて、深刻になりつつある。
これらの問題を解決するため、ステンレス製のパイプ、
各種バルブ類、レギュレーター等、配管及びその部材の
接ガス面の平滑化、メインラインから配管系のガス滞留
部を一掃するなどの工夫が施されるなど、高性能材料、
高性能プロセスが開発され順次解決の方向に進んでい
る。
各種バルブ類、レギュレーター等、配管及びその部材の
接ガス面の平滑化、メインラインから配管系のガス滞留
部を一掃するなどの工夫が施されるなど、高性能材料、
高性能プロセスが開発され順次解決の方向に進んでい
る。
しかし、ガスが最も長時間滞留し、コンタミネーション
が最も起り易く超高純度ガスを供給するのに最も大きな
影響のあるボンベの適切なクリーン化技術がなく、従来
より使用されているボンベを何の工夫もなく、半導体高
純度ガス用として、使用しているのが現状である。
が最も起り易く超高純度ガスを供給するのに最も大きな
影響のあるボンベの適切なクリーン化技術がなく、従来
より使用されているボンベを何の工夫もなく、半導体高
純度ガス用として、使用しているのが現状である。
ボンベは、高圧ガス取締法の容器保安規則にのっとり、
マンガン鋼、ステンレス鋼、アルミニウム合金、クロム
モリブデン鋼等を材料として、エアハルト法やマンネス
マン法によって製作される。
マンガン鋼、ステンレス鋼、アルミニウム合金、クロム
モリブデン鋼等を材料として、エアハルト法やマンネス
マン法によって製作される。
しかし、ボンベの底部及び頭部の熱間加工による肌あ
れ、底部成形時の型押工具による傷、熱処理によりポー
ラスな表面酸化皮膜が形成されるなど微細なパーティク
ルや、ガス成分を包蔵、吸着しやすい表面になってい
る。
れ、底部成形時の型押工具による傷、熱処理によりポー
ラスな表面酸化皮膜が形成されるなど微細なパーティク
ルや、ガス成分を包蔵、吸着しやすい表面になってい
る。
また、バルブ取付ネジが、テーパー内ネジ式のため、バ
ルブ取付時にボンベ内に金属粉末が混入し、パーティク
ルや金属不純物発生の原因になるなど構造上も問題があ
る。
ルブ取付時にボンベ内に金属粉末が混入し、パーティク
ルや金属不純物発生の原因になるなど構造上も問題があ
る。
これらの問題を解決するために、ボンベの内面処理とし
て、テフロン系、塩化ビニル等の樹脂コーティング法な
どが試みられているが、樹脂とボンベ内壁との接着強度
が低く、使用中に剥離したりガス透過性が問題となった
り、樹脂中の可塑剤がガス中に溶解しガスの品質を低下
させたり、まだ幾多の欠点があり完成された技術とはい
いがたい。そのほかにも、リン酸亜鉛、リン酸マンガン
等のリン酸塩の浸漬又はスプレーによるコーティング、
即ちパーカーライジング法などもあるが、超高純度ガス
を充填するボンベに使用できる技術とはいえない。
て、テフロン系、塩化ビニル等の樹脂コーティング法な
どが試みられているが、樹脂とボンベ内壁との接着強度
が低く、使用中に剥離したりガス透過性が問題となった
り、樹脂中の可塑剤がガス中に溶解しガスの品質を低下
させたり、まだ幾多の欠点があり完成された技術とはい
いがたい。そのほかにも、リン酸亜鉛、リン酸マンガン
等のリン酸塩の浸漬又はスプレーによるコーティング、
即ちパーカーライジング法などもあるが、超高純度ガス
を充填するボンベに使用できる技術とはいえない。
(発明が解決しようとする問題点と手段) 本発明者らは、パーティクルの発生量及びガス吸着量の
少ないボンベの製作工程中に内表面を、電解複合研磨法
により鏡面仕上げすることによって、目的を達成できる
ことを感知した。
少ないボンベの製作工程中に内表面を、電解複合研磨法
により鏡面仕上げすることによって、目的を達成できる
ことを感知した。
本発明は、上記の発見に基づいてなされたもので、電解
複合研磨法によって、ボンベ内表面に極めて平滑な、緻
密な不働態化皮膜を形成することによって、微細なパー
ティクルが発生しにくく、しかもガス吸着量の少ないボ
ンベを提供することを目的とする。
複合研磨法によって、ボンベ内表面に極めて平滑な、緻
密な不働態化皮膜を形成することによって、微細なパー
ティクルが発生しにくく、しかもガス吸着量の少ないボ
ンベを提供することを目的とする。
本発明でいう容器は、一般的には、ボンベという名称で
販売されている耐圧金属容器である。その材質は、マン
ガン鋼、ステンレス鋼、アルミニウム合金、クロムモリ
ブデン鋼等の材料に適用され、金属容器であればこれら
に制限されるものではない。
販売されている耐圧金属容器である。その材質は、マン
ガン鋼、ステンレス鋼、アルミニウム合金、クロムモリ
ブデン鋼等の材料に適用され、金属容器であればこれら
に制限されるものではない。
容器に充填されるガスは、圧縮ガスと液化ガスの双方を
含み、容器から放出されるとガス状となるものである。
含み、容器から放出されるとガス状となるものである。
本発明により、高純度ガスを維持する為に、ガスとの接
触面(内表面)の少なくとも主要面積を電解複合研磨す
ることにより、内表面を鏡面化し、パーティクルを著し
く減少させ、かつ内表面に吸脱着されるガス量を減じ、
これらのガスによる汚染や腐食等を防止することが可能
となったのである。
触面(内表面)の少なくとも主要面積を電解複合研磨す
ることにより、内表面を鏡面化し、パーティクルを著し
く減少させ、かつ内表面に吸脱着されるガス量を減じ、
これらのガスによる汚染や腐食等を防止することが可能
となったのである。
又、ボンベの口金部を外ネジにすることは、微粒子の発
生の抑止に効果がある。
生の抑止に効果がある。
ボンベに使用される材料は先にも述べたように、高
圧ガス取締法の規定に基づく、容器保安規則に適合する
ものが用いられる。
圧ガス取締法の規定に基づく、容器保安規則に適合する
ものが用いられる。
すなわち、ステンレス鋼、炭素鋼、マンガン鋼、クロム
モリブデン鋼、アルミニウム合金(JIS H4000の種類505
2、及び5056と同一化学成分のもの)等の材料で、熱処
理材あるいは非熱処理材が用いられる。
モリブデン鋼、アルミニウム合金(JIS H4000の種類505
2、及び5056と同一化学成分のもの)等の材料で、熱処
理材あるいは非熱処理材が用いられる。
高圧ガスボンベ、液化ガスボンベの製作方法は、熱
処理材を用いた場合は次の工程を経る。
処理材を用いた場合は次の工程を経る。
イ.継目なし鋼管→ロ.定尺切断→ハ.底部熱間加工 →ニ.底部型押→ホ.頭部熱間加工→ヘ.熱処理 →ト.ネックリング取付→チ.ネジ部切削→リ.内部洗
浄 →ヌ.耐圧テスト なお、非熱処理材を用いる場合には、熱処理を必要とし
ない。又、ビレットからボンベを製作する場合には、穿
孔、熱伸、頭部熱間加工を経て、前記への工程に入る。
浄 →ヌ.耐圧テスト なお、非熱処理材を用いる場合には、熱処理を必要とし
ない。又、ビレットからボンベを製作する場合には、穿
孔、熱伸、頭部熱間加工を経て、前記への工程に入る。
しかし、この方法で製作するボンベは、内表面が極めて
凸凹がひどく多くのひだが存在し、パーティクルを包蔵
し、ガス吸着量が膨大であり、充填高純度ガスの品質低
下の原因となる。
凸凹がひどく多くのひだが存在し、パーティクルを包蔵
し、ガス吸着量が膨大であり、充填高純度ガスの品質低
下の原因となる。
そこで、これらの欠点を改善するため、ニ、底部型押と
ホ.頭部熱間加工、(非熱処理材の場合は頭部加工)の
工程の間に電解複合研磨工程を加えて内表面が完全な平
滑面を有するボンベの製作法を開発した。
ホ.頭部熱間加工、(非熱処理材の場合は頭部加工)の
工程の間に電解複合研磨工程を加えて内表面が完全な平
滑面を有するボンベの製作法を開発した。
本発明で適用する電解複合研磨方法とは、電解によ
り陽極性の被研磨金属を電解溶出させると共に、被研磨
金属の表面に生成された、不働態化酸化皮膜を研磨砥粒
による擦過作用で表面を鏡面加工する方法で研磨砥粒に
一定以上の速度を与えて研磨面を擦過すると同時に、不
働態化型、電解液を介して数A/cm2以下の電解電流速度
で、研磨面に溶出と酸化の陽極反応を発生させることを
特徴とする方法である。(特公昭57−47759,同58−1940
9)。
り陽極性の被研磨金属を電解溶出させると共に、被研磨
金属の表面に生成された、不働態化酸化皮膜を研磨砥粒
による擦過作用で表面を鏡面加工する方法で研磨砥粒に
一定以上の速度を与えて研磨面を擦過すると同時に、不
働態化型、電解液を介して数A/cm2以下の電解電流速度
で、研磨面に溶出と酸化の陽極反応を発生させることを
特徴とする方法である。(特公昭57−47759,同58−1940
9)。
さらに具体的に第一図で説明する。第一図は、この発明
の鏡面加工法に使用される工具の、一例を示し1は駆動
軸に接続され駆動装置により回転される工具、2は、工
具1の下部に形成された銅板からなる円板状の陰極、3
は陰極2の下面に十字状に形成された露出面、4は陰極
2の中央に透設された電解液5の流出口、6は陰極2の
下面の露出面3及び流出口4を除いて前面貼付された研
磨砥粒、7は電気的に絶縁性をもつ塗料などの薄膜であ
り、陰極2の周面および工具1の周面から無益な漏れ電
流の流出を防止し、電解液5は、工具1の駆動軸を介し
て、電解液供給装置から圧送され、流出口4から露出面
3と、被研磨金属(図示せず)との間隙に供給され、工
具の外へ放出される。そして工具1の陰極2と被研磨金
属に直流あるいはパルス性の電圧の陰極側と陽極側がそ
れぞれ接続される。
の鏡面加工法に使用される工具の、一例を示し1は駆動
軸に接続され駆動装置により回転される工具、2は、工
具1の下部に形成された銅板からなる円板状の陰極、3
は陰極2の下面に十字状に形成された露出面、4は陰極
2の中央に透設された電解液5の流出口、6は陰極2の
下面の露出面3及び流出口4を除いて前面貼付された研
磨砥粒、7は電気的に絶縁性をもつ塗料などの薄膜であ
り、陰極2の周面および工具1の周面から無益な漏れ電
流の流出を防止し、電解液5は、工具1の駆動軸を介し
て、電解液供給装置から圧送され、流出口4から露出面
3と、被研磨金属(図示せず)との間隙に供給され、工
具の外へ放出される。そして工具1の陰極2と被研磨金
属に直流あるいはパルス性の電圧の陰極側と陽極側がそ
れぞれ接続される。
そして、研磨加工に際し、工具1の陰極2と被研磨金属
間に前記のとおり電圧を印加するとともに、その間に電
解液5を供給し、陰極2を被研磨金属に押付けつつ回転
することにより、電解作用で被研磨金属の陽極溶解を行
い、かつ被研磨金属の表面の凸凹部に生成された不働態
化酸化皮膜のうち、その凸部を研磨砥粒6により、擦過
除去し被研磨金属の凸部を優先的選択的に電解溶出し鏡
面に仕上げる。
間に前記のとおり電圧を印加するとともに、その間に電
解液5を供給し、陰極2を被研磨金属に押付けつつ回転
することにより、電解作用で被研磨金属の陽極溶解を行
い、かつ被研磨金属の表面の凸凹部に生成された不働態
化酸化皮膜のうち、その凸部を研磨砥粒6により、擦過
除去し被研磨金属の凸部を優先的選択的に電解溶出し鏡
面に仕上げる。
研磨する一例を述べると、#120〜#1500のSiC系砥粒で
初期表面粗さが、5〜10μmRmaxのSUS.316ボンベ内表面
を擦過する場合、不働態化型電解液に20%NaNO3水溶液
を用いて電解電流密度を0〜6A/cm2の範囲で変えて、研
磨した結果、粗さを0.1μmRmaxの内表面を得た。電解複
合研磨された表面は、と粒の大きさに対応する太さの条
こんが一方的に並列に並んでおり、ステンレスのグレイ
ン構造は、表面顕微鏡観察では見えない。同時に最表面
には、100オングストローム粒径以下のファイングレイ
ンが形成されている。
初期表面粗さが、5〜10μmRmaxのSUS.316ボンベ内表面
を擦過する場合、不働態化型電解液に20%NaNO3水溶液
を用いて電解電流密度を0〜6A/cm2の範囲で変えて、研
磨した結果、粗さを0.1μmRmaxの内表面を得た。電解複
合研磨された表面は、と粒の大きさに対応する太さの条
こんが一方的に並列に並んでおり、ステンレスのグレイ
ン構造は、表面顕微鏡観察では見えない。同時に最表面
には、100オングストローム粒径以下のファイングレイ
ンが形成されている。
又、同様の方法でマンガン鋼、アルミニウム合金等も研
磨することが出来る。内表面のうち、最も問題となるの
は、ボンベバルブ取付け口を形成するためのしぼり部で
ある。内表面は亀裂の深い梨地形状となり、汚染物の実
効吸着表面積が極めて大きくなる。少なくともこの部分
の研摩は、この電解複合研摩でなければ行えない。
磨することが出来る。内表面のうち、最も問題となるの
は、ボンベバルブ取付け口を形成するためのしぼり部で
ある。内表面は亀裂の深い梨地形状となり、汚染物の実
効吸着表面積が極めて大きくなる。少なくともこの部分
の研摩は、この電解複合研摩でなければ行えない。
従来、ガスボンベのバルブ取付孔にテーパー雌ネジ
を切り、一方ボンベバルブの脚部にテーパー雄ネジを切
り、ボンベ口のバルブ取付孔にバルブの脚部をテーパー
ネジ嵌合することにより高圧下で気密に確保するのが一
般的な方法であるが、ネジの嵌合面が非常に高い面圧で
摺擦して、金属磨耗微粉を発生し、高純度ガスの品質低
下の一因となっている。
を切り、一方ボンベバルブの脚部にテーパー雄ネジを切
り、ボンベ口のバルブ取付孔にバルブの脚部をテーパー
ネジ嵌合することにより高圧下で気密に確保するのが一
般的な方法であるが、ネジの嵌合面が非常に高い面圧で
摺擦して、金属磨耗微粉を発生し、高純度ガスの品質低
下の一因となっている。
そこでボンベ内表面を電解複合研磨により鏡面仕上げす
ると同時に、ボンベの口金部を外ネジタイプとし、例え
ば実願昭61−67875に示されるバルブを使用することに
よって相乗効果がありさらにパーティクルの発生を抑止
することが出来る。
ると同時に、ボンベの口金部を外ネジタイプとし、例え
ば実願昭61−67875に示されるバルブを使用することに
よって相乗効果がありさらにパーティクルの発生を抑止
することが出来る。
(実施例) 以下に実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明す
る。
る。
実施例1 第2図に示した装置を用いて、電解研磨法により内表面
を鏡面仕上げしたクリーンボンベ(以下「クリーンボン
ベ」という。)、通常のSUSボンベ(比較例1)、通常
のマンガン鋼のボンベ(比較例2)から発生するパーテ
ィクルを測定した。
を鏡面仕上げしたクリーンボンベ(以下「クリーンボン
ベ」という。)、通常のSUSボンベ(比較例1)、通常
のマンガン鋼のボンベ(比較例2)から発生するパーテ
ィクルを測定した。
測定法を第2図にしたがって説明する。
0.01μm以上のパーティクルを保留出来るラインフ
ィルター12,14,バルブ13,15,17,18,及びダスト計19を結
ぶラインに、ボンベ11に充填したマザーガス、即ち高純
度窒素ガス、又はフロン14を流しダスト計でパーティク
ルが、カウントされなくなるまで洗浄した。
ィルター12,14,バルブ13,15,17,18,及びダスト計19を結
ぶラインに、ボンベ11に充填したマザーガス、即ち高純
度窒素ガス、又はフロン14を流しダスト計でパーティク
ルが、カウントされなくなるまで洗浄した。
次に、バルブ17を閉、バルブ20,21,を開とし、テス
トボンベラインを十分に洗浄した。
トボンベラインを十分に洗浄した。
引続き、バルブ17,21,を閉、テストボンベ22,の元
バルブを開とし、テストボンベ22に圧力計16を見ながら
マザーガスを30kg/cm2.Gの圧力に達するまで充填した。
バルブを開とし、テストボンベ22に圧力計16を見ながら
マザーガスを30kg/cm2.Gの圧力に達するまで充填した。
なお、測定に先立つて、ボンベ22に30kg/cm2.Gまで充填
するのに要する時間が、20分になるようにあらかじめニ
ードルバルブ13の開度を調節した。
するのに要する時間が、20分になるようにあらかじめニ
ードルバルブ13の開度を調節した。
次に、バルブ15を閉とし、バルブ17を開とし、ダス
ト計にて、ガス中のパーティクルを10分間測定した。な
お、バルブ18はニードルバルブで、テストボンベ22の圧
力が30kg/cm.Gのとき、10L/minの流量になるようにあら
かじめ調節しておいた。また、ダスト計19を通過し24の
ラインから放出されるガス量は、300mL/minで一定であ
り、残りのガスはバイパスライン23を経由しブローされ
る。
ト計にて、ガス中のパーティクルを10分間測定した。な
お、バルブ18はニードルバルブで、テストボンベ22の圧
力が30kg/cm.Gのとき、10L/minの流量になるようにあら
かじめ調節しておいた。また、ダスト計19を通過し24の
ラインから放出されるガス量は、300mL/minで一定であ
り、残りのガスはバイパスライン23を経由しブローされ
る。
テストボンベ22の充填圧力、30kg/cm2.Gを開始点と
するパーティクルを測定後、つづいて圧力10kg/cm2.Gを
開始点とする、パーティクルを測定した。
するパーティクルを測定後、つづいて圧力10kg/cm2.Gを
開始点とする、パーティクルを測定した。
測定結果は、第1表に示したように著しいクリーン効果
(パーティクルの個数の減少)が認められた。
(パーティクルの個数の減少)が認められた。
比較例1 通常のSUSボンベを、テストボンベに選び実施例1と同
様に、発生するパーティクルを測定し、結果を第1表に
しめした。
様に、発生するパーティクルを測定し、結果を第1表に
しめした。
比較例2 通常のマンガン鋼ボンベを、テストボンベに選び実施例
2と同様に、発生するパーティクルを測定し、結果を第
1表にしめした。
2と同様に、発生するパーティクルを測定し、結果を第
1表にしめした。
実施例2 クリーンボンベ内表面から真空系で放出されるガスのそ
れぞれの分圧を測定した。第3図により測定法を説明す
る。測定ボンベ31に真空排気系として排気速度300l/sec
のターボ分子ポンプ34と排気速度230l/secをもつ拡散ポ
ンプ35を直結させ、さらに90l/minの油回転ポンプ36を
用いて装置を構成した。真空度はヌードイオンゲージ33
で測定し分圧は質量分析計32で測定した。測定時の温度
は、20℃で1〜2時間真空排気し、続いて160〜180℃に
加熱し60Hrベーキングし、室温に冷却する方法によっ
た。測定結果を第4図,第5図に示したが、第4図は、
たて軸に放出ガス中のH2O分圧、横軸に時間をとり、H2O
分圧の経時変化を示したもので放出ガス量が少ないほど
高真空度に達する。第5図には、(CO+N2)分圧の時間
的変化を示した。なおベーキングし室温冷却後のH2O分
圧は7.9×10-12Torr,(CO+N2)の分圧は1.0×10-11Tor
rの高真空度に到達し、ボンベの内表面からの脱ガス量
が極めて少いことを示している。
れぞれの分圧を測定した。第3図により測定法を説明す
る。測定ボンベ31に真空排気系として排気速度300l/sec
のターボ分子ポンプ34と排気速度230l/secをもつ拡散ポ
ンプ35を直結させ、さらに90l/minの油回転ポンプ36を
用いて装置を構成した。真空度はヌードイオンゲージ33
で測定し分圧は質量分析計32で測定した。測定時の温度
は、20℃で1〜2時間真空排気し、続いて160〜180℃に
加熱し60Hrベーキングし、室温に冷却する方法によっ
た。測定結果を第4図,第5図に示したが、第4図は、
たて軸に放出ガス中のH2O分圧、横軸に時間をとり、H2O
分圧の経時変化を示したもので放出ガス量が少ないほど
高真空度に達する。第5図には、(CO+N2)分圧の時間
的変化を示した。なおベーキングし室温冷却後のH2O分
圧は7.9×10-12Torr,(CO+N2)の分圧は1.0×10-11Tor
rの高真空度に到達し、ボンベの内表面からの脱ガス量
が極めて少いことを示している。
比較例3 通常のSUS304ボンベ内表面から真空系で放出されるガス
の分圧を実施例2と同一条件で測定した。
の分圧を実施例2と同一条件で測定した。
室温冷却後のH2O分圧は1.3×10-10Torr,(CO+N2)の分
圧は1.9×10-10Torrまでしか到達しなかった。
圧は1.9×10-10Torrまでしか到達しなかった。
又測定時間とH2Oの分圧変化を第4図,測定時間と(CO
+N2)分圧変化を第5図に示した。
+N2)分圧変化を第5図に示した。
(本発明の効果) 本発明の容器を用いることにより、パーティクルの発生
量が極めて少なく、しかも内表面から放出されるガス量
も著るしく減少することが可能となり、高純度ガスが維
持されるのである。
量が極めて少なく、しかも内表面から放出されるガス量
も著るしく減少することが可能となり、高純度ガスが維
持されるのである。
第1図(a)図はこの発明に使用される工具の1例の下
面図、同(b)図は(a)図のS−S′断面図、第2図
はパーティクル測定装置、第3図はガス分圧測定装置、
第4図はベーキングによるH2O分圧の変化図、第5図は
ベーキングによるCO+N2分圧の変化図である。 1…工具、2…陰極、3…露出面、4…流出口、5…電
解液、6…研磨砥粒、11…マザーガス、19…ダスト計、
22…テストボンベ、31…測定ボンベ、32…質量分析計、
34…ターボ分子ポンプ。
面図、同(b)図は(a)図のS−S′断面図、第2図
はパーティクル測定装置、第3図はガス分圧測定装置、
第4図はベーキングによるH2O分圧の変化図、第5図は
ベーキングによるCO+N2分圧の変化図である。 1…工具、2…陰極、3…露出面、4…流出口、5…電
解液、6…研磨砥粒、11…マザーガス、19…ダスト計、
22…テストボンベ、31…測定ボンベ、32…質量分析計、
34…ターボ分子ポンプ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三浦 利明 神奈川県川崎市川崎区大川町5−1 昭和 電工株式会社工学研究センター内 (72)発明者 馬場 吉康 神奈川県横浜市戸塚区戸塚町1988−5 (72)発明者 千葉 清伍 神奈川県川崎市中原区上平間1152 (56)参考文献 特開 昭54−13060(JP,A) 実開 昭57−45375(JP,U)
Claims (1)
- 【請求項1】耐圧金属容器のガス接触面の少なくとも主
要部を電解複合研摩したことを特徴とする高純度ガス維
持容器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61158716A JPH0743078B2 (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 高純度ガス維持容器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61158716A JPH0743078B2 (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 高純度ガス維持容器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6319499A JPS6319499A (ja) | 1988-01-27 |
JPH0743078B2 true JPH0743078B2 (ja) | 1995-05-15 |
Family
ID=15677788
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61158716A Expired - Fee Related JPH0743078B2 (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 高純度ガス維持容器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0743078B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH05133855A (ja) * | 1991-02-18 | 1993-05-28 | Osaka Oxygen Ind Ltd | ガスサンプリング装置 |
JP4035581B2 (ja) * | 1995-07-12 | 2008-01-23 | 日本エア・リキード株式会社 | 高圧ガス容器の内面処理方法 |
KR20080053411A (ko) * | 2004-03-10 | 2008-06-12 | 제온 코포레이션 | 가스 제조 설비, 가스 공급 용기, 및 전자 장치 제조용가스 |
JP4457359B2 (ja) * | 2006-12-13 | 2010-04-28 | トヨタ自動車株式会社 | 圧力容器 |
US8590705B2 (en) | 2010-06-11 | 2013-11-26 | Air Products And Chemicals, Inc. | Cylinder surface treated container for monochlorosilane |
JP6729628B2 (ja) * | 2018-04-25 | 2020-07-22 | 東横化学株式会社 | 貯蔵容器 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5413060A (en) * | 1977-06-30 | 1979-01-31 | Sato Kikuo | Liquid insulating vessel |
JPS5745375U (ja) * | 1980-08-28 | 1982-03-12 |
-
1986
- 1986-07-08 JP JP61158716A patent/JPH0743078B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6319499A (ja) | 1988-01-27 |
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