JPH0737652B2 - Fe―Ni系高透磁率磁性合金の製造方法 - Google Patents

Fe―Ni系高透磁率磁性合金の製造方法

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JPH0737652B2 JP2084326A JP8432690A JPH0737652B2 JP H0737652 B2 JPH0737652 B2 JP H0737652B2 JP 2084326 A JP2084326 A JP 2084326A JP 8432690 A JP8432690 A JP 8432690A JP H0737652 B2 JPH0737652 B2 JP H0737652B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はFe-Ni系高透磁率磁性合金の製造方法に係り、
特に熱延工程省略材の材質改善を図ろうとするものであ
る。
〔従来の技術〕
Fe-Ni系高透磁率磁性合金は、磁気シールド部材、例え
ば磁気ヘッドのケース材やカセットテープの磁気遮蔽板
として広く用いられている。なかでもMo,Cr,Cu等を含む
高Niパーマロイ(JIS-PC)および低Niパーマロイ(JIS-
PB)が多く用いられている。前者は高透磁率、高耐食性
を有するが高価なNiを80%前後と多量に含むうえ、さら
に高価なMoも含有しているため価格が高いと云う欠点が
ある。また後者はNi量が45%前後で前者に比して安価で
あり、飽和磁束密度が15,000Gと高い反面、交流での透
磁率が前者に比して著しく劣ると云う欠点がある。ま
た、パーマロイは通常溶湯をインゴットに鋳込み、必要
に応じて1回以上の1000℃以上での高温加熱と熱間圧延
を行なって冷間圧延素材を得ている。ところが、このよ
うな高温加熱の際にインゴットあるいは中間厚みの板の
表面、特に粒界が著しく酸化し易く、熱間圧延の際に破
断が生じたり、表面研削が必要であるなど操業上特別の
配慮を必要として工程負荷が大きいばかりか、いわゆる
歩留りが著しく悪いなどの問題がある。さらに近年のNi
原価の高騰と相俟って、パーマロイ製造方法の抜本的な
見直しが望まれている。
使用Ni含有量の一部を廉価な他元素で置換する方法とし
て、例えばCuによる置換に関しては特開昭62-5973号公
報、特開昭62-5974号公報、特公平1-53338号公報に記載
の方法、Cr置換に関しては特願昭62-31849号、特開平1-
252756号公報記載の方法などがあるが、製造プロセスに
関しては従来の技術の熱延法によるものである。他方熱
延プロセス省略に関しては特開平1-290715号公報記載の
方法などが提案されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
前記特開平1-290715号公報記載の方法は、磁気特性を支
配する要因のひとつである結晶方位に着目し、{100}
集合組織の集積度の高い材料をいわゆる薄板直接鋳造法
により得、それを直接冷間圧延して磁性に有利な立方体
集合組織を良く発達させると共に、工程省略によるコス
ト低減を図ろうとしたものである。本発明者等も製造プ
ロセスの抜本改善策として薄板直接鋳造法について鋭意
検討実験を行って来た。その結果、特開平1-290715号公
報記載の方法は磁気特性の確保の点からはまだ不充分で
あることが判明した。即ち、特開平1-290715号公報記載
の方法は前述の如く、{100}集合組織の高い素材を薄
板直接鋳造法により得ることを前提としているが、現実
に得られる鋳片の集合組織は{100}面の強度はさ程高
くなく、むしろランダマイズされていること、また周知
の如くパーマロイPCでは結晶磁気異方性定数が殆ど零に
近いことから、前記特許公開公報に言う如き効果が殆ど
期待出来ず、逆に熱延法プロセス材よりも磁性が劣化す
る傾向にあることが判明した。かくして、本発明の目的
とするところは、製造プロセスの抜本改善策としての薄
板直接鋳造法によるパーマロイの磁性確保策を提供する
にある。
〔課題を解決するための手段〕 本発明者らは、かかる従来技術の問題点を解決すべく種
々の検討を重ねたところ、薄板直接鋳造法プロセス特有
の磁性劣化因子を見出し、且つかかる因子の原因を消去
する方法を見出すことにより、従来熱延法プロセス材と
同等以上の磁性を確保出来る様になった。
ところでパーマロイ製品の磁気特性は製品の結晶粒サイ
ズが所定のサイズ以上でないと著しく劣化することが知
られている。かかる点に着目し、熱延法プロセス材と薄
板直接鋳造法プロセス材を同一冷延、焼鈍した製品の結
晶粒を比較検討したところ、鋳造プロセス材の製品の結
晶粒は部分的に小さい粒からなる事実を見出した。圧延
再結晶の実験を重ねた結果、それは圧延素材、即ち薄板
直接鋳造法による鋳片の結晶粒サイズに起因する問題で
ある事を見出した。即ち薄板直接鋳造法の鋳片の結晶粒
は、熱延法による熱延板の結晶粒サイズの約数10〜数10
0倍も大きく、それを圧延した場合に粒内に蓄積される
加工歪に差が出るものと推定される。従来の熱延法によ
る熱延板は小さい結晶粒のため、冷延での加工歪、即ち
転位等の格子欠陥が均一に且つ次工程の、通常1100℃で
2時間の最終磁性焼鈍時に充分内部歪が解放され、粒成
長の駆動力になるだけの量の加工歪エネルギーが加わる
ものと推定される。他方薄板直接鋳造法の場合には結晶
粒が著しく大きいので、圧延時に転位の蓄積が少ない結
晶方位の個所では最終磁性焼鈍時にアニールアウトされ
るだけの駆動力が少なく、結果として製品に小さく結晶
粒からなる部分が残るものと推定した。
かかる欠点は本発明の請求項1記載の方法により消去出
来ることを見出したものである。
すなわち、本発明の要旨とするところは、重量でNi35〜
85%、並びにFe-Ni系磁性材として公知の合金元素を含
み、残部がFe及び不可避不純物からなる溶湯を、一面又
は二面から成る冷却面が移動更新する冷却体上に連続的
に供給して急冷凝固し、0.3〜7mm厚みの鋳片を得るこ
と、その際前記冷却体から出た鋳片は液体又は気体と液
体の混合噴流により強制冷却され、凝固後1200℃までの
間の冷却速度が75℃/秒以上であること、かくして強制
冷却された鋳片に圧化率20%以上の冷間圧延を施すこと
を特徴とする最終磁性焼鈍後の磁性の優れたFe-Ni系高
透磁率磁性合金の製造方法にある。
さらに本発明者らは、工業生産の際に必要となる鋳片コ
イルの巻取り温度を制御することにより前記磁性劣化因
子を消去出来ることを見出し、本発明の請求項2記載の
方法を提案する。すなわち請求項2記載の方法は、請求
項1記載の方法において、鋳片の冷却途上、1200℃以下
を急冷し、鋳片コイルの巻取り温度を850℃以下とする
ことを特徴とする。
また、前記特開平1-290715号公報記載の方法では、得ら
れた鋳片を直接冷間圧延しているが、本発明では、請求
項3として、鋳片を冷間圧延する前に700〜1200℃の温
度で、実質0秒以上の加熱処理を行ない、さらに必要に
応じ表面に存在するスケール層を、酸洗除去するか、あ
るいは鋳片表面に剛体小粒を衝突させるかあるいは表面
研削法等により除去する請求項1または2記載の方法を
提案する 省工程を旨とする薄板直接鋳造法の採用とは云うもの
の、特に冷間圧延率を50%以上とする特開平1-290715号
公報記載の方法に対し、本発明では20%以上の低い冷間
圧延率範囲までの磁性確保が可能であり、製品板厚範囲
が広がる利益は実質上極めて大きいものがある。
本発明では、さらに請求項4として、鋳片を加熱処理す
るに先立ち、鋳片表面に剛体小粒を衝突させ加工する請
求項3記載の方法を提案する。
これは、本発明者の一部が薄板直接鋳造法による鋳片を
素材とする圧延性金属一般の製造法としてさきに出願し
た特願平1-79981号発明の採用であるが、実際得られる
凹凸の多い鋳片から良好な圧延板を得る上で利点の多い
方法である。
上記の手段によれば、省工程等のメリットが大きいにも
拘らず磁性確保に難点のあった薄板直接鋳造法によるパ
ーマロイの磁性が、従来熱延法プロセス材によるものに
比し勝るとも劣らないものが得られる。
〔作用〕
次に本発明において製造条件を上述の様に限定した理由
を詳細に説明する。
Niは本発明対象合金の基本成分であり、Niが35%未満の
場合、または85%を越える場合は合金の磁気特性が低下
して軟質磁性材料としての特性を発揮出来なくなる。従
ってNiの範囲は35〜85%とした。これらは日本工業規格
C2531に規定されているPB,PC,PCS,PE並びにPD等であ
り、公知の合金元素としてはMo,Cu,Cr,Nb,Ti,Ta,V等が
良く知られて居り、また脱酸その他の目的で必要に応じ
て小量のAl,Si,Mg,Mn,C等が含まれているのが常であ
る。なお、製品の磁性にはC,O,S,N等は少く程良いこと
は良く知られている事実である。
本発明の溶湯成分元素は、かかるFe-Ni系磁性材料とし
て従来の熱延法等により公知のもので良い。
本発明法における冷間圧延素材の製造方法は、いわゆる
薄板直接鋳造法であり、双ロール式、片ロール式もしく
はベルト式などが有利に適合する。即ち前記溶湯を一面
又は二面から成る冷却面が移動更新する冷却体上に連続
的に供給して急冷凝固する内容のものであればいずれの
方式でも良い。
次に薄鋳片の板厚を0.3〜7mmとした理由であるが、7mm
を越える場合には省工程の利点が減少するので好ましく
ない。また0.3mmより薄い場合には安定した板厚の薄鋳
片が得難いので好ましくない。
上記移動更新する冷却体から出て来た鋳片は直ちに1200
℃までの間に75℃/秒以上の冷却速度で冷却される必要
がある。この場合の冷却は、水、塩水等の液体、あるい
は空気等の気体と液体との混合噴流を鋳片表面に当てる
ことにより実現される。
第1図には、薄板直接鋳造法によって得られた各種のFe
-46Ni並びに76%Ni-4%Mo-5%Cu-Fe薄鋳片を冷間圧延し
た後、水素中1100℃にて2時間の最終磁性焼鈍処理を施
し、得られた製品の最大透磁率(μm)を示す。その際
鋳造後1200℃まで各種量の気水噴流で鋳片を冷却した。
第1図から明らかな様に、本発明に従う、即ち鋳造後12
00℃までの冷却速度が75℃/秒以上の場合には、従来法
の空冷(第1図●印)又は冷却速度75℃/秒未満の場合
に比較し各段の磁性改善がなされていることが判る。
本発明では以上の様にして得られた薄鋳片を20%以上の
冷間圧延を施すことを前提としている。
第1図中には冷延率20%以上の例を示してある。20%未
満では所期の磁気特性が得られ難いので20%以上の冷延
率とした。
ところで、工業的にパーマロイを生産する場合には、得
られた薄鋳片をコイル状に巻取る。種々の検討の結果、
いわゆる巻取り温度が高い場合には最終磁性が劣化する
ことが判明した。その対策としては前記1200℃までの冷
却速度制御の他に、1200℃以下850℃までを必要に応じ
て強制冷却して鋳片コイルの巻取り温度を850℃以下に
することにより解決し得ることが判明した。
第2図は、薄板直接鋳造法によって得た板厚0.9〜2.5mm
のFe-46%Ni並びに76%Ni-4%Mo-5%Cu-Fe鋳片を、1200
℃までは200℃/秒で冷却した後、1200℃以下を気水噴
流による方法で冷却し、その後、巻取り温度保定状態を
シミュレートする意味で各温度に設定してある加熱炉の
中に2時間保定し、空冷後40〜90%の圧下率で冷間圧延
を行ない、さらに水素中1100℃にて2時間の熱処理を施
したものの量大透磁率(μm)を測定し、巻取温度に相
当する鋳片加熱の保定温度との関係を示したものであ
る。
第2図からも判る様に、巻取り温度が850℃より高温の
場合には磁性が劣化するので850℃以下にすべきことが
明らかである。
ところで、以上の様にして得られた鋳片を冷延するに際
し、実際上の鋳片には大なり小なり表面の凹凸が存在す
る。かかる鋳片を冷延すると、特に冷延率が低い場合に
は仕上った形状が劣化し易いことが判明した。かかる問
題は冷間圧延する前に700〜1200℃の温度で零秒以上の
加熱処理を行うことにより大幅に軽減されることが判明
した。例えば前記の様にして得られた鋳片を焼鈍無しで
40%の圧下率で冷延し、板厚1mm、幅80mm、長さ300mmの
サンプルを平らな定板の上に押付けた場合、側面が大き
くうねり、うねりの高さが20mmに達する場合があった。
同一鋳片サンプルを1000℃の炉中に30秒保定したものを
同様に冷延した場合には、うねりの高さ5mmに減少し
た。またかゝる鋳片加熱処理の前に鋳片両面にサンドプ
ラスチング処理(特願平1-79981号)したものに関する
同様な結果については、うねりは殆ど認められなかっ
た。
尚、加熱処理温度が700℃未満の場合には、かかる効果
が少なく、1200℃より高い温度での加熱処理は不経済な
ので、鋳片加熱処理温度を700〜1200℃の範囲とした。
以上の様にして、本発明法により産業上有用なパーマロ
イの製造が可能となる。
以下本発明の実施例について説明する。
実施例1 第1表にした各種Fe-Ni合金組成からなる溶湯を、7.5kg
電気炉にて溶解し、直径400mmの双ロール式薄板直接鋳
造法により0.7mm〜4mmの板厚の鋳片に連続鋳造した。
その際、双ロール直下から気水噴流を鋳片の両面に吹付
け、その吹付け量を制御することにより、1200℃までの
冷却速度を50〜250℃/秒まで取った。かかる鋳片を表
面研削によりスケール層を取除き、40〜98%の圧下率で
冷延した。JISによる磁性測定片を切出し、焼鈍分離剤
としてマグネシアを板間に介在させ、露点−60℃の水素
気流中1100℃で2時間の最終磁性焼鈍を行なった。かか
る試片の最大透磁率(μm)を1200℃までの冷却速度等
と共に第1表に示す。
PD(記号A,B,C),PB(D,E,F),PE(G,H,I),PC(J,K,
L)並びにPCS(M,N,O)共に、1200℃までの冷却速度が7
5℃/秒以上の本発明法による場合の方が良い磁性が得
られている。
実施例2 実施例1のPC成分系(記号J,K,L)に関し、600kg電気炉
で溶解後、直径400mmの双ロールにて20mmの鋳片コイル
A〜Gを得た。その際双ロール直下から実施例1と同じ
方法により1200℃までを200℃/秒にて冷却後、必要に
応じ適宜水冷して各種の巻取り温度となした。ただし、
Aサンプルについてはコイルに巻取らずに一部を切断
し、空冷したものを使用した。
鋳片コイルA〜Eは、圧下率75%にて冷間圧延した。コ
イルFは1100℃で30秒の加熱を行った後同様に冷間圧延
した。コイルGに関しては、両表面に直径0.5〜1.0mmの
鋼製グリッドをブラスチングし、全表面層に加工層を形
成させた後、Fと同様の加熱処理と冷間圧延処理を行な
った。その後各コイルから磁性測定試片を切出し、表面
にマグネシアを塗布した後、露点−60℃の水素気流中11
00℃で2時間均熱し、毎時80℃の速度で室温まで冷却し
た。その後測定した磁性測定結果を第2表中に、本発明
の各請求項毎に巻取り温度並びに冷延板形状結果と共に
示した。尚、この冷延板形状は、前節、作用の説明の項
で触れた方法により、◎が良好、○がまずまず、△は劣
とランクづけしたものである。
第2表のA〜Eの磁性結果から、鋳片コイルの巻取りの
場合には巻取り温度を850℃以下にすべきと云う請求項
2の方法の効果が明確である。またFの様に鋳片の加熱
処理の導入を行なう請求項3の方法、さらには、加熱処
理前の表層面加工処理の導入を行なう請求項4の方法に
より、冷延板の形状が大幅に改善されることが明らかで
ある。
実施例3 Ni45.6%,Si0.24%,Mn0.59%,Cr0.11%,C0.006%,S0.00
30%、残りFeからなる成分組成の板厚7〜1.5mmの鋳片
を、直径800mmの双ロール式薄板直接鋳造法により得
た。その際、双ロール直下から気水噴流を鋳片の両面に
吹付け、1200℃までの冷却速度を30〜250℃/秒にし
た。かかる鋳片を20〜92%の圧下率で冷間圧延し、実施
例1と同様の磁性焼鈍、磁性測定を行なった。
第3表にその結果を示す。
従来法A,C,Eに対し、本発明法B,D,Fでは磁性が向上して
いることが判る。
実施例4 実施例3と同一成分からなる溶湯を、直径70mmの双ロー
ルで鋳造し、板厚0.3〜0.7mmの薄鋳片を得た。その際鋳
造後、1200℃までの冷却速度は300℃/秒以上であっ
た。かかる鋳片を各圧下率で冷間圧延し、実施例1と同
様の磁性焼鈍、磁性測定を行なった。
第4表にその結果を示す。
冷延圧下率の範囲が外れるA,C,Eに対し、本発明法B,D,F
では磁性が良い事が判る。
〔発明の効果〕
以上の如く、本発明により製造されたFe-Ni系高透磁率
磁性合金板は、従来の製品よりさらに高度に優れた磁気
特性、並びに優れた冷延形状等の特長を有し、熱延工程
省略としての急冷凝固薄鋳片を素材とするプロセスの実
用性を拡大するため、省エネルギー、省設備投資額など
工業上極めて有用である。
【図面の簡単な説明】
第1図は鋳造後1200℃までの冷却速度と磁性との関係を
示す図、第2図は鋳片を所定温度に2時間保定した場合
の磁性の変化状況を示した図である(この保定温度は鋳
片を工業的規模で製造する際の鋳片コイルの巻取り温度
を想定したものである)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C22F 1/10 E H01F 1/14 (72)発明者 原勢 二郎 福岡県北九州市八幡東区枝光1―1―1 新日本製鐵株式會社第3技術研究所内 (56)参考文献 特開 昭63−121637(JP,A)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】重量でNi35〜85%、並びにFe-Ni系磁性材
    として公知の合金元素を含み、残部がFe及び不可避不純
    物からなる溶湯を、一面又は二面から成る冷却面が移動
    更新する冷却体上に連続的に供給して急冷凝固し、0.3
    〜7mm厚みの鋳片を得ること、その際前記冷却体から出
    た鋳片は液体又は気体と液体の混合噴流により強制冷却
    され、凝固後1200℃までの間の冷却速度が75℃/秒以上
    であること、かくして強制冷却された鋳片に圧下率20%
    以上の冷間圧延を施すことを特徴とする最終磁性焼鈍後
    の磁性の優れたFe-Ni系高透磁率磁性合金の製造方法。
  2. 【請求項2】鋳片の冷却途上、1200℃以下を急冷し、鋳
    片コイルの巻取り温度を850℃以下とする請求項1記載
    のFe-Ni系高透磁率磁性合金の製造方法。
  3. 【請求項3】鋳片を冷間圧延する前に700〜1200℃の温
    度で、実質0秒以上の加熱処理を行ない、さらに必要に
    応じ表面に存在するスケール層を、酸洗除去するか、あ
    るいは鋳片表面に剛体小粒を衝突させ、あるいは表面研
    削法等により除去する請求項1または2記載のFe-Ni系
    高透磁率磁性合金の製造方法。
  4. 【請求項4】鋳片を加熱処理するに先立ち、鋳片表面に
    剛体小粒を衝突させ加工する請求項3記載のFe-Ni系高
    透磁率磁性合金の製造法。
JP2084326A 1990-03-30 1990-03-30 Fe―Ni系高透磁率磁性合金の製造方法 Expired - Lifetime JPH0737652B2 (ja)

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