JPH0733752A

JPH0733752A - ジフェニルピラジン誘導体及び除草剤

Info

Publication number: JPH0733752A
Application number: JP17652593A
Authority: JP
Inventors: Toshiaki Yanai; 利明矢内; Yoshihisa Tsukamoto; 芳久塚本; Takashi Sakamoto; 坂本　　隆; Masahiro Teramura; 正弘寺村; Toyokuni Honma; 豊邦本間
Original assignee: Sankyo Co Ltd
Current assignee: Sankyo Co Ltd
Priority date: 1993-07-16
Filing date: 1993-07-16
Publication date: 1995-02-03

Abstract

(57)【要約】【目的】本発明は新規なピラジン誘導体を提供すること
及び、当該ピラジン誘導体を有効成分として含有する水
田用除草剤を提供することを目的とする。【構成】一般式【化６】（Ｒ¹＝Ｈ、低級アルキル基等、Ｒ²＝低級アルキル基
等、Ｒ³＝Ｈ、低級アルキル基等、Ｒ⁴、Ｒ⁵＝水素原
子、ハロゲン原子等、Ａ＝Ｏ等、ｍ＝０、１）のジフェ
ニルピラジン誘導体および、当該誘導体を有効成分とし
て含有することを特徴とする除草剤組成物。【効果】当該誘導体は、殺草作用を有しており、除草剤
として使用することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の目的】本発明は新規なピラジン誘導体を提供す
ること及び、当該ピラジン誘導体を有効成分として含有
する水田用除草剤を提供することを目的とする。

【０００２】

【産業上の利用分野】本発明は、除草活性を有する新規
なジフェニルピラジン誘導体及びそれを有効成分として
含有する除草剤に関するものである。

【０００３】

【従来の技術】従来種々のピラジン誘導体が知られてお
り医薬，農薬，高分子電子材料，およびキレート剤等に
利用されている。しかし、２，３−又は５，６−ジフェ
ニルピラジン誘導体としてはＪ．ウェイジラードらのジ
ャーナルオブアメリカンケミカルソサエティー
（Ｊ．Ｗｅｉｊｌａｒｄｅｔａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．）第６７巻，８０２〜８０６頁（１９
４５年），Ｇ．カーマスらのジャーナルオブアメリ
カンケミカルソサエティー（Ｇ．Ｋａｒｍａｓｅ
ｔａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）第７８巻，
４０７１〜４０７７頁（１９５６年），Ａ．ヒルシュベ
ルグらのジャーナルオブヘテロサイクリックケミ
ストリー（Ａ．Ｈｉｒｓｃｈｂｅｒｇｅｔａｌ．，
Ｊ．ＨｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃＣｈｅｍ．）第６巻
９７５〜９７６頁（１９６９年），Ａ．オオタらのジャ
ーナルオブヘテロサイクリックケミストリー
（Ａ．Ｏｈｔａｅｔａｌ．，Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃ
ｌｉｃＣｈｅｍ．）第２１巻１０３〜１０６頁（１
９８４年）等に記載されているが、生理活性については
知られていない。また特開平１−１３５７７５号には血
小板凝集抑制作用ならびに抗炎症作用を有することが記
載されている。しかしながら、これらのジフェニルピラ
ジン誘導体が除草作用を有することは今日まで知られて
いない。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明者等は多くの新
規なピラジン誘導体を合成し、それらの生理活性を鋭意
研究した結果、近年、水田の雑草で問題になっているタ
イヌビエ、広葉、ホタルイに対して優れた除草効果を示
し、また、その他の雑草ミズガヤツリ等のカヤツリグサ
科、コナギ、アゼナ、アブノメ等の広葉雑草等に対して
も殺草作用を示すことを見い出し、本発明を完成した。

【０００５】

【発明の構成】

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（Ｉ）

【０００７】

【化３】

【０００８】（式中、Ｒ¹は水素原子、低級アルキル基
または低級アルコキシカルボニルメチル基を示し、Ｒ²
は１〜３個のハロゲン原子で置換されてもよい低級アル
キル基、Ｃ₁〜Ｃ₆のアルコキシ基、Ｃ₃〜Ｃ₄のアル
ケニルオキシ基、ヒドロキシ基、シクロヘキシルオキシ
基、フェノキシ基、ピリジル−シアノメトキシ基、基Ｎ
Ｒ⁷Ｒ⁸（Ｒ⁷は水素原子または低級アルキル基を示
し、Ｒ⁸は水素原子、１〜３個のハロゲン原子、１〜２
個の低級アルキル基、ニトロ基、シアノ基またはプロパ
ルギルオキシ基で置換されてもよいフェニル基、１〜２
個のハロゲン原子またはニトロ基で置換されてもよいフ
ェノキシ基で置換されてもよいピリジル基、１〜３個の
ハロゲン原子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ
で置換されていてもよいピリミジニル基またはトリアジ
ニル基、ヒドロキシ基、低級アルキル基、ベンジル基、
α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基、
シクロヘキシル基、低級アルキルスルホニル基、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基またはニトロ基で置換されてい
てもよいベンゼンスルホニル基、ハロゲン原子で置換さ
れていてもよいベンゾイルオキシ基、ハロゲン原子で置
換されていてもよいベンゾイル基、アニリノ基、ピリジ
ル−シアノメチル基、Ｒ⁷とＲ⁸が一緒になって酸素原
子または窒素原子を１〜２個含有する５〜６員複素環を
形成することができる。または基ＣＨ₂Ｂ（Ｂは酸素原
子、硫黄原子または窒素原子をそれぞれ独立に１〜２個
含有する５〜６員複素環基を示す。）を示し、Ｒ³は水
素原子、低級アルキル基、ニトロ基、アミノ基、シアノ
基、ハロゲン原子、ベンゾイル基、ベンジル基、低級ア
ルコキシカルボニル基または低級アルコキシカルボニル
メトキシ基を示し、Ｒ⁴およびＲ⁵は同一若しくは異な
って水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基または低
級アルコキシ基を示し、Ａは酸素原子、基Ｓ（Ｏ）
_n（ｎは０，１または２の整数を示す）、基−ＮＨＮＨ
−または基−ＮＨ（Ｒ⁶）（Ｒ⁶は水素原子またはメチ
ル基を示す。）を示し、ｍは０または１を示す。）で表
わされるジフェニルピラジン誘導体、及び、それを有効
成分として含有することを特徴とする除草剤組成物であ
る。

【０００９】上記記載中、Ｒ¹，Ｒ³，Ｒ⁴，Ｒ⁵，Ｒ
⁷およびＲ⁸における低級アルキルは、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル等でありえ、Ｒ¹
が低級アルコキシカルボニルメチル基である場合は、そ
れらは例えば、メトキシカルボニルメチル、エトキシカ
ルボニルメチル基でありえる。

【００１０】Ｒ²がＣ₁ 〜Ｃ₆ アルコキシ基である場合
はそれらは例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ
−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘ
キシルオキシ基でありえる。

【００１１】Ｒ²がＣ₃ 〜Ｃ₄ アルケニルオキシ基であ
る場合は、それらは例えばアリルオキシ、１−プロペニ
ルオキシ、１−ブテニルオキシ、２−ブテニルオキシ、
３−ブテニルオキシ基でありえる。

【００１２】Ｒ³，Ｒ⁴，Ｒ⁵およびＲ⁸におけるハロ
ゲン原子は弗素、塩素、臭素又は沃素でありえる。

【００１３】Ｒ²が１〜３個のハロゲン原子で置換され
ていてもよい低級アルキル基である場合は、例えば、ク
ロロメチル、トリフルオロメチル、２，２，２−トリフ
ルオロエチル、１，２−ジクロロエチル、１，２−ジフ
ルオロエチル、２，３，３−トリフルオロプロピル基で
ありえる。

【００１４】Ｒ³，Ｒ⁴およびＲ⁵が低級アルコキシ基
である場合は、例えばメトキシ、エトキシ基でありえ
る。

【００１５】Ｒ³が低級アルコキシカルボニル基である
場合は、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル基でありえる。

【００１６】Ｒ³が低級アルコキシカルボニルメトキシ
基である場合は、メトキシカルボニルメトキシ、エトキ
シカルボニルメトキシ、プロポキシカルボニルメトキ
シ、イソプロポキシカルボニルメトキシ基でありえる。

【００１７】Ｒ⁸が低級アルキルスルホニル基である場
合は、例えばメタンスルホニル、エタンスルホニル基で
ありえる。

【００１８】Ｒ⁸がハロゲン原子、低級アルキル基また
はニトロ基で置換されていてもよいベンゼンスルホニル
基である場合は、例えば、ベンゼンスルホニル、４−ク
ロロベンゼンスルホニル、２−クロロベンゼンスルホニ
ル、２−メチルベンゼンスルホニル、４−メチルベンゼ
ンスルホニル、４−ニトロベンゼンスルホニル基であり
得る。

【００１９】Ｒ⁸がハロゲン原子で置換されていてもよ
いベンゾイルオキシ基である場合は、例えば、ベンゾイ
ルオキシ、２−クロロベンゾイルオキシ、４−クロロベ
ンゾイルオキシ基であり得る。

【００２０】Ｒ⁸がハロゲン原子で置換されていてもよ
いベンゾイル基である場合は、例えば、２，６−ジクロ
ロベンゾイル、２，６−ジフルオロベンゾイル基であり
得る。

【００２１】Ｒ⁷とＲ⁸が一緒になって酸素原子または
窒素原子を１〜２個含有する５〜６員複素環を形成する
場合、例えば、１−ピラゾリル、モルホニル基であり得
る。

【００２２】Ｒ⁸が基ＣＨ₂ＢのＢが酸素原子、硫黄原
子または窒素原子を１〜２個含有する５〜６員複素環基
である場合、例えば、テトラヒドロフラノ基、２−フリ
ル基、２−チエニル基、ピリジル基であり得る。

【００２３】Ｒ⁸が１〜３個のハロゲン原子、低級アル
キル基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよ
いピリミジニル基またはトリアジニル基である場合、例
えば、４，６−ジメチル−２−ピリミジニル基、４−ク
ロロ−６−メチル−２−ピリミジニル基、４，６−ジメ
トキシ−２−ピリミジニル基、４，６−ジメトキシ−２
−トリアジニル基であり得る。

【００２４】本発明の代表的化合物としては、例えば表
１乃至１４に記載する化合物を挙げることができるが、
本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。

【００２５】

【化４】

【００２６】

【表１】

【００２７】

【表２】

【００２８】

【表３】

【００２９】

【表４】

【００３０】

【表５】

【００３１】

【表６】

【００３２】

【表７】

【００３３】

【表８】

【００３４】

【表９】

【００３５】

【表１０】

【００３６】

【表１１】

【００３７】

【表１２】

【００３８】

【表１３】

【００３９】

【表１４】

【００４０】上記例示化合物の核磁気共鳴スペクトル
を、以下に示す。

【００４１】化合物番号４¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):0.85(3H,t,J=7.2Hz),
4.10(2H,t,J=7.2Hz), 4.91(2H,s). 化合物番号５¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):1.20(6H,d,J=6.5Hz),
4.86(2H,s), 8.30(1H,s). 化合物番号６¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):4.91(2H,s), 8.29(1H,
s). 化合物番号９¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):1.42(9H,s), 4.81(2H,
s), 8.30(1H,s). 化合物番号１８¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ（ｐｐｍ）：１．２０（３
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ
＝７．０Ｈｚ），４．９２（２Ｈ，ｓ），８．４２
（１Ｈ，ｓ）．化合物番号１９^１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ(pp
m):1.28(3H,t,J=7.1Hz), 4.27(2H,q,J=7.1Hz), 4.95(2
H,s), 8.39(1H,s). 化合物番号２０¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):1.24(3H,t,J=7.1Hz),
4.24(2H,q,J=7.1Hz), 4.94(2H,s), 8.36(1H,s). 化合物番号２４¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):1.27(3H,t,J=7.2Hz),
4.27(2H,q,J=7.2Hz), 4.97(2H,s), 8.40(1H,s). 化合物番号２７¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):1.27(3H,t,J=7.0Hz),
2.33(6H,s), 4.23(2H,q,J=7.0Hz), 4.92(2H,s), 8.30(1
H,s). 化合物番号３１¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):3.70(3H,s), 4.02(2H,
s), 8.52(1H,s). 化合物番号３６¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):1.64(3H,d,J=7.8Hz),
4.35(1H,q,J=7.8Hz), 8.49(1H,s), 10.30(1H,brs). 化合物番号４０¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):1.22(3H,t,J=7.3Hz),
4.04(1H,d,J=14.1Hz), 4.20(1H,q,J=7.3Hz), 4.21(1H,
q,J=7.3Hz), 4.22(1H,d,J=14.1Hz). 化合物番号４２¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):1.19(3H,t,J=7.3Hz),
1.25(3H,t,J=7.3Hz), 4.00(2H,s), 4.15(2H,q,J=7.3H
z), 4.25(2H,q,J=7.3Hz). 化合物番号４３¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):1.18(3H,t,J=7.3Hz),
1.26(3H,t,J=7.3Hz), 3.05(1H,dd,J=16.9Hz,6.0Hz), 3.
20(1H,dd,J=16.9Hz,8.1Hz), 4.17(2H,q,J=7.3Hz). 化合物番号６５¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ（ｐｐｍ）：５．１１（２
Ｈ，ｓ），８．３１（１Ｈ，ｓ）．化合物番号１０９^１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ(pp
m):1.68(3H,d,J=7.3Hz), 4.51(1H,q,J=7.3Hz), 8.47(1
H,s), 9.30(1H,brs). 化合物番号１１４¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):4.88(2H,s), 8.37(1H,
s). 化合物番号１３５¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):1.60-2.10(4H,m), 3.5
5-4.28(5H,m), 5.01(2H,s). 化合物番号１３６¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):1.24(3H,t,J=7.2Hz),
4.24(2H,q,J=7.2Hz), 4.34(2H,s), 4.97(2H,s). 化合物番号１３７¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):1.25(3H,t,J=7.2Hz),
4.24(2H,q,J=7.2Hz), 5.01(2H,s). 化合物番号１４１¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):3.29(3H,s), 4.89(2H,
s). 化合物番号１４７¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):0.50-2.00(11H,m), 5.
05(2H,s). 化合物番号１５１¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):4.70(2H,d,J=5.5Hz),
4.98(2H,s). 化合物番号１５２¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):4.55(2H,d,J=5.5Hz),
5.03(2H,s). 化合物番号１５３¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):4.65(2H,d,J=5.5Hz),
5.03(2H,s). 化合物番号１６２¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):2.55(3H,s), 4.93(2H,
s). 化合物番号１６３¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):2.39(3H,s), 4.91(2H,
s). 化合物番号１６４¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):5.16(2H,s). 化合物番号１６５¹ H-NMR(270MHz,CDCl₃) δ(ppm):3.20(3H,s), 5.03(2H,
s). 本発明の化合物は、以下に示すように一般式（II）を有
するピラジン誘導体から製造される。

【００４２】

【化５】

【００４３】（上記式中、Ｒ¹，Ｒ³，Ｒ⁴，Ｒ⁵，Ｒ
⁷，Ｒ⁸およびＡは前記したものと同意義を示し、Ｒ⁹
はＣ₁〜Ｃ₄アルキル基を示し、Ｒ¹⁰はＣ₁〜Ｃ₆アル
キル基、Ｃ₃〜Ｃ₄アルケニル基、シクロヘキシル基、
フェニル基、ピリジル・シアノメチル基を示し、Ｒ¹¹は
１〜３個のハロゲンで置換されていてもよいＣ₁〜Ｃ₄
アルキル基を示す。）工程Ａは化合物（II）を脱酸剤の存在下、アルコキシカ
ルボニルアルキルハライドと反応させることによって化
合物（III)を製造する工程である。

【００４４】反応に使用される脱酸剤は、脱酸能を有す
るものであれば特に限定されないが、有機アミン、例え
ば、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ニリン、４−ジメチルアミノピリジン、１，４−ジアザ
シクロ〔２．２．２〕オクタン、または１，８−ジアザ
ビシクロ〔５．４．０〕ウンデク−７−エン、金属の水
素化物、例えば水素化ナトリウム、無機塩基、例えば炭
酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムがあげられ、好適には金属の水素化物で
ある。

【００４５】使用される不活性溶媒は、反応に関与しな
ければ特に限定されないが、好適には、メチルエチルケ
トンのようなケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類、アセトニトリル、プロピオニト
リルのようなニトリル類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキ
シド等或はこれらの混合溶媒があげられる。

【００４６】反応温度は−１０℃乃至１５０℃で行なわ
れるが、好適には５℃乃至１００℃である。

【００４７】反応時間は反応温度、原料化合物又は使用
される溶媒の種類によって異なるが、通常１時間乃至３
時間である。

【００４８】反応終了後、反応目的物は容易に反応混合
物から常法に従って採取することができる。例えば反応
混合物を水不混和性有機溶媒で希釈し、必要ならば不溶
物を濾別後水で洗い、溶媒を留去することによって得る
ことができる。更に、必要なら、常法、例えば再結晶、
カラムクロマトグラフィー等で精製することもできる。

【００４９】工程Ｂは化合物（III)を加水分解すること
によりカルボン酸、式（IV）の化合物を製造する工程で
ある。

【００５０】反応は通常は不活性溶媒中で行なわれ、そ
の溶媒としては例えば、メタノール、エタノールのよう
なアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエーテル類或はこれらの混合溶媒があげられる。

【００５１】加水分解に用いられる塩基としては、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウムのような無機塩基があげ
られる。

【００５２】反応温度は、−１０℃乃至８０℃で行なわ
れるが、好適には０℃乃至３０℃である。

【００５３】反応時間は３０分間乃至２時間である。

【００５４】反応終了後反応目的物は容易に反応混合物
から常法に従って採取することができる。例えば反応混
合物の有機溶媒を減圧下に留去し、残渣を水に溶出して
希塩酸等で酸性とした後、濾取又は水不混和性有機溶媒
で抽出後、溶媒を留去することによって得ることができ
る。

【００５５】工程Ｃは、化合物（IV）で表わされるカル
ボン酸もしくはその反応性誘導体とアルコール類および
フェノール類を反応させることにより、化合物（Ｖ）の
エステル体を製造する工程である。

【００５６】本Ｃ工程はカルボン酸（IV）とアルコール
類、フェノール類とのエステル化反応であって、それ
故、エステル化反応としてそれ自体知られた公知の方法
によって行なわれる。

【００５７】式（IV）のカルボン酸の反応性誘導体とし
ては、たとえば、酸ハライド（酸クロリド、酸ブロミド
等）、混合酸無水物、活性アミド等、エステル化に通常
用いられるものがあげられる。

【００５８】式（IV）のカルボン酸の酸ハライドを用い
る場合は、反応は好適には塩基の存在下で行なわれ、好
適な塩基としてはたとえば、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリン、ピリジン、４−ジメチルアミノピ
リジン、１，５−ジアザビシクロ〔４．３．０〕ノネン
または１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデク
−７−エンのような有機塩基があげられる。

【００５９】反応は、通常は溶媒中で行なわれる。溶媒
の種類は反応に関与しないものであれば特に限定はな
く、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホ
ルム、塩化メチレン等の炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類等があげられ
る。

【００６０】反応温度は、通常０℃乃至１００℃、好適
には０℃乃至５０℃であり、反応に要する時間は通常３
０分間ないし３時間である。

【００６１】工程Ｄは、化合物（IV）で表わされるカル
ボン酸もしくはその反応性誘導体とアミン類を反応させ
ることによって、化合物（VI）のアミド体を製造する工
程である。

【００６２】本Ｄ工程は、カルボン酸（IV）とアミン類
とのアミド化反応であって、それ故、アミド化反応とし
てそれ自体知られた公知の方法によって行なわれる。式
（IV）のカルボン酸の反応性誘導体としては、例えば、
工程Ｃで用いられたものと同様である。

【００６３】式（IV）のカルボン酸の酸ハライドを用い
る場合は、工程Ｃのときと、それぞれ同様である。

【００６４】式（IV）のカルボン酸を用いる場合は、好
適には、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、
硫酸等の脱水剤、または向山試薬（１−メチル−２−ク
ロロピリジニウムアイオダイド、ジイソプロピル・エ
チルアミン等）等の縮合剤が使用され、ことにＤＣＣが
よく使用される。ＤＣＣが使用される場合は、さらに好
適にはピリジン、４−ピロリジノピリジン等が触媒量併
用される。ＤＣＣが脱水剤として使用される場合その使
用量は通常１ないし５当量、好適には、１．５乃至３当
量である。

【００６５】反応は、通常は溶媒中で行なわれる。溶媒
の種類、反応温度、反応時間等は工程Ｃのカルボン酸の
酸ハライドを使用するときとそれぞれ同様である。

【００６６】工程Ｅは、化合物（II）を脱酸剤の存在
下、アシルハライドと反応させることによって、化合物
（VII)を製造する工程である。

【００６７】反応に使用される脱酸剤、溶媒の種類、反
応温度、反応時間等は工程Ａの条件とそれぞれ同様であ
る。

【００６８】本発明の化合物は、担体及び必要に応じて
他の補助剤と混合して、除草剤として通常用いられる製
剤形態、例えば粉剤、粗粉剤、粒剤、顆粒剤、水和剤、
水溶剤、乳剤、液剤等に調製して使用される。ここでい
う担体とは、有効成分化合物の植物への到達性を助け又
は有効成分の貯蔵、輸送若しくは取り扱いを容易にする
ために除草剤中に混合される。合成又は天然の無機又は
有機物質を意味する。

【００６９】適当な固体担体としては、例えば、カオリ
ナイト群、モンモリロナイト群、アタパルジャイト群等
で代表されるクレー類、タルク、雲母、葉ロウ石、軽
石、バーミキュライト、石膏、ドロマイト、けいそう
土、マグネシウム石灰、燐石灰、ゼオライト、無水ケイ
酸、合成ケイ酸カルシウム、カオリン、ベントナイト、
炭酸カルシウム等の無機物質、大豆粉、タバコ粉、クル
ミ粉、小麦粉、木粉、澱粉、結晶セルロース等の植物性
有機物質、クマロン樹脂、石油樹脂、アルキド樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリアルキレングリコール、ケトン樹
脂、エステルガム、コーパルガム、ダンマルガム等の合
成又は天然の高分子化合物、カルナバロウ、パラフィン
ロウ、蜜ロウ等のワックス類或は尿素等を挙げることが
できる。

【００７０】適当な液体担体としては、例えば、ケロシ
ン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィ
ン系若しくはナフテン系炭化水素、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、メチルナフタ
レン等の芳香族炭化水素、四塩化炭素、クロロホルム、
トリクロルエチレン、モノクロルベンゼン、クロルトル
エン等の塩素化炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、
ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノ
ン、イソホロン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸アミ
ル、エチレングリコールアセテート、ジエチレングリコ
ールアセテート、マレイン酸ジブチル、コハク酸ジエチ
ル等のエステル類、メタノール、ｎ−ヘキサノール、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、シクロヘキ
サノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、エチ
レングリコールエチルエーテル、エチレングリコールフ
ェニルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールブチルエーテル等のエーテル
アルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド等の極性溶媒或は水等を挙げることができる。

【００７１】乳化、分散、湿潤、拡展、結合、崩壊性調
節、有効成分安定化、流動性改良、防錆、植物への吸収
促進等の目的で使用される界面活性剤は、イオン性でも
非イオン性でもよい。

【００７２】適当な非イオン性界面活性剤としては、例
えば、脂肪酸の蔗糖エステル、ラウリルアルコール、ス
テアリルアルコール、オレイルアルコール等の高級脂肪
族アルコールの酸化エチレン重合付加物、イソオクチル
フェノール、ノニルフェノール等のアルキルフェノール
の酸化エチレン重合付加物、ブチルナフトール、オクチ
ルナフトール等のアルキルナフトールの酸化エチレン重
合付加物、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等
の高級脂肪酸の酸化エチレン重合付加物、ステアリル燐
酸ジラウリル燐酸等のモノ若しくはジアルキル燐酸の酸
化エチレン重合付加物、ドデシルアミン、ステアリン酸
アミド等の高級脂肪族アミンの酸化エチレン重合付加
物、ソルビタン等の多価アルコールの高級脂肪酸エステ
ル及びその酸化エチレン重合付加物並びに酸化エチレン
と酸化プロピレンの共重合体等を挙げることができる。

【００７３】適当な陰イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫
酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩、スル
ホコハク酸ジオクチルエステルナトリウム、オレイン酸
ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム等の脂肪酸塩類、
イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メチレ
ンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニンスル
ホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム等のアルキルアリールスルホン酸塩等を挙げること
ができる。

【００７４】適当な陽イオン性界面活性剤としては、例
えば、高級脂肪族アミン、第４級アンモニウム塩類、ア
ルキルピリジニウム塩類等を挙げることができる。

【００７５】さらに、本発明の除草剤には、製剤の性状
を改善し生物効果を高める目的で、他の成分として、例
えば、ゼラチン、アラビアゴム、カゼイン、アルブミ
ン、ニカワ、アルギン酸ソーダ、ポリビニルアルコー
ル、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、
ヒドロキシメチルセルロース等の高分子化合物、ポリリ
ン酸ナトリウム、ベントナイト等のチキソトロピー剤及
びその他の補助剤を含有することもある。

【００７６】上記の担体及び種々の補助剤は製剤の剤型
適用場面を考慮して、目的に応じてそれぞれ単独に或は
組み合わされて適宜使用される。

【００７７】粉剤は有効成分化合物を通常２乃至１０重
量部含有し、残部は固体担体である。

【００７８】水和剤は有効成分を通常１０乃至８０重量
部含有し、残部は固体担体、分散湿潤剤であって、必要
に応じて保護コロイド剤、チキソトロピー剤、消泡剤等
が加えられる。

【００７９】粒剤は有効成分化合物を通常０．１乃至１
０重量部含有し、残部は大部分が固体担体である。有効
成分化合物は固体担体と均一に混合されているか或は固
体担体の表面に均一に固着若しくは吸着されており、粒
の径は約０．２乃至１．５ｍｍ程度である。

【００８０】乳剤は有効成分を通常１乃至５０重量部含
有しており、これに約５乃至２０重量部の乳剤が含ま
れ、残部は液体担体であり、必要に応じて防錆剤が加え
られる。

【００８１】このようにして種々の剤型に調製された本
発明の化合物を、例えば、水田又は畑地において雑草の
発芽前又は発芽後に土壌処理するときは、１０ａあたり
有効成分として１乃至１０００ｇ好ましくは１０乃至３
００ｇを処理することにより、有効に雑草を駆除するこ
とができる。また、非農耕地、例えば、道路、グラン
ド、家屋敷地、線路等において非選択的に雑草を駆除し
ようとするときは、１０ａあたり有効成分として２００
乃至１０００ｇを投ずることにより、有効に雑草を駆除
できる。

【００８２】本発明の除草剤に対して、殺草スペクトラ
ムを広げるために他の除草剤が配合されることは好まし
く、場合によっては相乗効果を期待することもできる。

【００８３】本発明の除草剤は、もちろん他の植物成長
調節剤、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤或は肥料
等と混合して使用することができる。

【００８４】

【実施例】次に、実施例製剤例及び参考例によって、本
願発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに
限られるものではない。

【００８５】

【実施例１】エチル（５，６−ジフェニル−２−ピラジニルオキシ）
アセテート（化合物番号３）の製造（工程Ａ）６０％水素化ナトリウム（４０ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド（以下ＤＭＦと略す）（２ｍｌ）懸濁液
に、氷水冷却、攪拌下に２−ヒドロキシ−５，６−ジフ
ェニルピラジン（２４８ｍｇ）のＤＭＦ（６ｍｌ）溶液
をゆっくりと滴下した。次にブロモ酢酸エチル（０．１
３ｍｌ）を滴下して室温で１．５時間攪拌した後、反応
液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液は飽
和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を減圧下で留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロ
マトグラフィーにより精製し、目的のエチル（５，６−
ジフェニル−２−ピラジニルオキシ）アセテート３３４
ｍｇを得た。（収率１００％）¹ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ） 1.25(3H,t,J=7.0Hz),4.23(2H,q,J=7.0Hz),4.93(2H,s),
7.1-7.47(10H,m),8.34(1H,s)

【００８６】

【実施例２】５，６−ジフェニル−２−ピラジニルオキシ酢酸（化合
物番号１）の製造（工程Ｂ）工程Ａで得られた２−エトキシカルボニルメトキシ−
５，６−ジフェニルピラジン（２２４．５ｍｇ）をエタ
ノール（２ｍｌ）に溶かし、これに２Ｎ−水酸化ナトリ
ウム水溶液（０．４ｍｌ）を加えて、室温で４５分間攪
拌した。反応液を減圧下で留去し、得られた残渣を水に
溶かし、希塩酸で酸性にした。析出した結晶を酢酸エチ
ルで抽出し、抽出液は飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去して目的の
５，６−ジフェニル−２−ピラジニルオキシ酢酸１９
６．６ｍｇを得た。（収率９５．８％）¹ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ） 5.07(2H,s),7.2-7.39(10H,m),8.40(1H,s)

【００８７】

【実施例３】エチル（５，６−ジフェニル−２−ピラジニルチオ）
アセテート（化合物番号３２）（工程Ａ）５，６−ジフェニル−２−メルカプトピラジン（７８０
ｍｇ）のＤＭＦ（１０ｍｌ）溶液に、冷却下、６０％水
素化ナトリウム（１３０ｍｇ）を少量ずつ加えた。３０
分間攪拌したのち、ブロモ酢酸エチル（０．３６ｍｌ）
を加えて１時間攪拌した。反応液を氷水（２０ｍｌ）中
に注ぎ、酢酸エチル−ヘキサン（１：１）混合溶媒で抽
出した（３０ｍｌ×４）。抽出液は飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り精製し、目的のエチル（５，６−ジフェニル−２−ピ
ラジニルチオ）アセテート７５７ｍｇを得た。（収率７
３．２％）¹ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ） 1.20(3H,t,J=7.3Hz),4.01(2H,s),4.16(2H,q,J=7.3Hz),
7.24 〜7.32(6H,m),7.39 〜7.45(4H,m),8.52(1H,s)

【００８８】

【実施例４】エチル（５，６−ジフェニル−２−ピラジニルスルフィ
ニル）アセテート（化合物番号４０）実施例３で得られたエチル（５，６−ジフェニル−２−
ピラジニルチオ）アセテート（１５２ｍｇ）の塩化メチ
レン（３ｍｌ）溶液に氷冷、攪拌下、ｍ−クロロ過安息
香酸（９４ｍｇ）を加え、５時間攪拌した。反応液を氷
水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液は飽和亜硫酸
ナトリウム水溶液、次に飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去した。残渣を
薄層シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、目的
のエチル（５，６−ジフェニル−２−ピラジニルスルフ
ィニル）アセテート１５７ｍｇを得た。（収率９８．８
％）¹ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ） 1.22(3H,t,J=7.3Hz),4.04(1H,d,J=14.1Hz),4.21(1H,q,J
=7.3Hz),4.21(1H,q,J=7.3Hz),4.22(1H,d,J=14.1Hz),7.2
8 〜7.51(10H,m),9.18(1H,s)

【００８９】

【実施例５】エチル（５，６−ジフェニル−２−ピラジニルアミノ）
アセテート（化合物番号４５）（工程Ａ）２−アミノ−５，６−ジフェニルピラジン（５０．８ｍ
ｇ）のＤＭＦ（１ｍｌ）溶液に炭酸水素ナトリウム（２
６．３ｍｇ）とブロモ酢酸エチル（３４μｌ）を加え
て、攪拌下５０℃で１時間３０分、１００℃で４時間加
熱した。更にブロモ酢酸エチル（７８μｌ）を追加し、
１００℃で５時間３０分加熱した。冷却後、反応液を氷
水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液は飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下
に留去した。残渣を薄層シリカゲルクロマトグラフィー
により精製して目的のエチル（５，６−ジフェニル−２
−ピラジニルアミノ）アセテート２７．６ｍｇを得た。
（収率４０．２％）¹ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ） 1.30(3H,t,J=6.9Hz),4.26(2H,q,J=6.9Hz),4.26(2H,d,J=
5.2Hz),5.2(1H,brt,J=5.2Hz),7.22 〜7.48(10H,m),8.03
(1H,s)

【００９０】

【実施例６】２−（Ｎ−クロロアセチル−Ｎ−メチル）アミノ−５，
６−ジフェニル−ピラジン（化合物番号５４）（工程
Ｅ）２−メチルアミノ−５，６−ジフェニルピラジン（３
２．５ｍｇ）のＤＭＦ（１ｍｌ）溶液に、６０％水素化
ナトリウム（６．５ｍｇ）を加え、３０分間攪拌した
後、塩化クロロアセチル（８μｌ）を加えて２時間攪拌
した。更に塩化クロロアセチル（８μｌ）を追加し３０
分間室温で攪拌した。反応液を氷水中に注入し、酢酸エ
チルで抽出した。抽出液は飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去した。残渣
を薄層クロマトグラフィーにより精製して、目的の２−
（Ｎ−クロロアセチル−Ｎ−メチル）アミノ−５，６−
ジフェニルピラジン３６．７ｍｇを得た。（収率８７．
２％）¹ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ） 3.54(3H,s),4.37(2H,s),7.10〜7.55(10H,m),8.70(1H,s)

【００９１】

【実施例７】シクロヘキシル（５，６−ジフェニル−２−ピラジニル
オキシ）アセテート（化合物番号６４）（工程Ｃ）実施例２で得られた５，６−ジフェニル−２−ピラジニ
ルオキシ酢酸（１５３．２ｍｇ）に乾燥ベンゼン（１．
５ｍｌ）と塩化チオニル（６０μｌ）を加えて４時間加
熱還流した。冷却後、減圧下で溶媒を留去して、５，６
−ジフェニル−２−ピラジニルオキシ−酢酸クロリドを
得た。これのジクロロメタン（１．５ｍｌ）溶液をシク
ロヘキサノール（１４０μｌ）とトリエチルアミン（７
０μｌ）の溶液に氷水冷却下、滴下した。室温で一夜放
置した後、減圧下で溶媒を留去し、残渣は酢酸エチルで
抽出した。抽出液は飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、目的
のシクロヘキシル（５，６−ジフェニル−２−ピラジニ
ルオキシ）アセテート８６ｍｇを得た。（収率４４．３
％）¹ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ） 1.12〜1.99(10H,m),4.90(2H,s),7.11 〜7.48(10H,m),8.
31(1H,s)

【００９２】

【実施例８】Ｎ−（２−ピリジノ）５，６−ジフェニル−２−ピラジ
ニルオキシ−アセトアミド（化合物番号９０）（工程
Ｄ）実施例２の方法で得た５，６−ジフェニル−２−ピラジ
ニルオキシ酢酸（１５３．２ｍｇ）のジクロロメタン
（５ｍｌ）溶液に２−アミノピリジン（４７．１ｍｇ）
を加え、次に１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド
（ＤＣＣ）（１０３ｍｇ）を加えた。室温で３時間３０
分攪拌したのち、溶媒を減圧下で留去した。残渣に酢酸
エチルと水を加え、不溶物を濾去した。濾液の有機層は
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶
媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製して、目的のＮ−（２−ピリジ
ノ）５，６−ジフェニル−２−ピラジニルオキシ−アセ
トアミド９９．８ｍｇを得た。（収率５２．２％）¹ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ） 5.03(2H,s),6.88 〜8.41(15H,m)

【００９３】

【実施例９】Ｎ−イソプロピル−（３−クロロ−５，６−ジフェニル
−２−ピラジニルオキシ）アセトアミド（化合物番号１
４６）３−クロロ−５，６−ジフェニル−２−ピラジニルオキ
シ酢酸（１７３．５ｍｇ）のジクロロメタン（１．５ｍ
ｌ）溶液に２−クロロ−１−メチルピリジニウムアイ
オダイド（１５６．１ｍｇ）を加え、次にイソプロピル
アミン（４３μｌ）を滴下した。この反応液に、Ｎ，Ｎ
−ジイソプロピルエチルアミン（２１０μｌ）のジクロ
ロメタン（１ｍｌ）溶液を滴下し、５５℃で１時間加熱
還流した。冷却後、溶媒を減圧下に留去し、残渣を酢酸
エチルにとかして、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、目的
のＮ−イソプロピル−（３−クロロ−５，６−ジフェニ
ル−２−ピラジニルオキシ）アセトアミド１６７．７ｍ
ｇを得た。（収率８６．１％）¹ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ） 1.20(6H,d,J=6.5Hz),3.8〜4.4(1H,m),4.89(2H,s),6.90
〜7.60(10H,m)

【００９４】

【参考例】

【００９５】

【参考例１】５，６−ジフェニル−２−ヒドロキシピラジンの製造
（ＪＡＣＳ７４，１５８０（１９５２）法）ベンジル（６３ｇ），メタノール（７５０ｍｌ）および
グリシンアミド塩酸塩（３３．１５ｇ）の混合物を攪拌
下に加熱還流しながら１２．５Ｎ水酸化ナトリウム水溶
液（４８ｍｌ）を１．２５時間で滴下した。更に１．５
時間加熱還流した後、反応液を冷却し、これに濃塩酸
（３７．５ｍｌ）を滴下した。３０分間攪拌したのち、
炭酸水素ナトリウム（２５．２ｇ）を添加し、室温で２
時間攪拌した。結晶を濾取し、少量の水で洗浄後、結晶
は希水酸化ナトリウム水溶液に溶かし、不溶物は酢酸エ
チルに溶かした。水溶液は希塩酸で弱酸性とし、析出し
た結晶を濾取し、水洗、乾燥して融点２３８〜２３９℃
の目的化合物４９．４ｇを得た。（収率６６．４％）

【００９６】

【参考例２】５，６−ジフェニル−２−メルカプトピラジンの製造
（ＡｒｃｈＰｈａｒｍｏｚ，３００，４２１（１９６
７）法）参考例１で製造した５，６−ジフェニル−２−ヒドロキ
シピラジン（１．０９ｇ）の乾燥ピリジン（１０ｍｌ）
溶液に、窒素雰囲気下、五硫化リン（１．０９ｇ）を加
えて２時間加熱還流した。ピリジンを減圧下に留去し、
残渣に水（１８ｍｌ）を加えて４５分間加熱還流した。
冷却後結晶を濾取し、水洗して乾燥した。この粗結晶を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、
融点１８５〜１９５℃の目的化合物０．５７ｇを得た。
（収率４９％）

【００９７】

【参考例３】２−アミノ−５，６−ジフェニルピラジンの製造（ＪＡ
ＣＳ６７，８０２（１９４５）法）（ｉ）ベンジル（５５．８４ｇ），４，５−ジアミノ−
２，６−ジヒドロキシピリミジン・硫酸塩（５０．７８
ｇ），９３％水酸化ナトリウム（１１．４３ｇ），水
（２．４リットル）及びエタノール（２．４リットル）
の混合物に２８％アンモニア水（２６６ｍｌ）を加えて
４．５時間加熱還流した。反応液を熱いうちに濾過し、
濾液を２日間冷蔵庫中で冷却した。結晶を濾取し、冷
水、冷エタノールで洗浄して乾燥し、目的の６，７−ジ
フェニルルマジン５８．８１ｇを得た。（収率７０％）（ii）上で得られた６，７−ジフェニルルマジン（１５
ｇ）に８０％硫酸（２２５ｍｌ）を加えて３０分間加熱
還流した。反応液を冷却し、氷（１５００ｇ）と３０％
水酸化ナトリウム水溶液（７００ｍｌ）中に加えた。析
出した結晶を濾取し、１５％水酸化ナトリウム水溶液で
数回洗浄後、水（１リットル）中に加えた。結晶を濾取
し、水洗後乾燥して粗結晶３．７ｇを得た。シリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製して、融点２２５
〜２２９℃の目的化合物１．７４ｇを得た。（収率１
４．８％）

【００９８】

【参考例４】５，６−ジフェニル−２−ヒドロキシ−３−ニトロピラ
ジンの製造（ＪＡＣＳ７５，５５１７（１９５３）
法）氷酢酸（４５０ｍｌ）と５，６−ジフェニル−２−ヒド
ロキシ−ピラジン（３０ｇ）の混合物に、攪拌下１５〜
２０℃で発煙硝酸（６０ｍｌ）を滴下した。室温で２時
間攪拌後、反応液を氷水（２リットル）中に注入した。
一夜放置後、結晶を濾取し、水洗後乾燥した。粗結晶３
３．１ｇにアセトン（１．２リットル）を加えて不溶物
を濾去し、濾液は減圧下に留去し、残渣をエタノールで
洗浄し、乾燥して融点２１３〜２１６℃の目的化合物２
５．４５ｇを得た。（収率７１．８％）

【００９９】

【参考例５】３−クロロ−５，６−ジフェニル−２−ヒドロキシピラ
ジンの製造（ＪＡＣＳ７８，４０７１（１９５６）
法）参考例４で得られた５，６−ジフェニル−２−ヒドロキ
シ−３−ニトロピラジン（３ｇ）を塩化チオニル（３０
ｍｌ）に溶かし、１．５時間加熱還流した。反応液は冷
却し、減圧下に過剰の塩化チオニルを留去した。残渣を
２％水酸化ナトリウム水溶液（５００ｍｌ）中に加え
た。不溶物を濾去し、濾液にドライアイスを加えて中和
した。析出した結晶を濾取し、水洗後乾燥して粗結晶
２．９６ｇを得た。エタノールより再結晶して、融点２
２３〜２２４℃の目的化合物１．５ｇを得た。（収率５
２％）

【０１００】

【製剤例】

【０１０１】

【製剤例１】（水和剤）３番の化合物２５％、ドデシルベンゼンスル
ホン酸ナトリウム塩２．５％、リグニンスルホン酸カル
シウム塩２．５％及び珪藻土７０％をよく粉砕混合して
水和剤を得た。

【０１０２】

【製剤例２】（乳剤）７０番の化合物３０％、ドデシルベンゼンスル
ホン酸カルシウム塩２．６８％、ポリオキシエチレンア
ルキルエーテル４．９２％、ポリオキシエチレンノニル
フェニルエーテルリン酸カルシウム塩０．４％及びキシ
レン６２％をよく混合して乳剤を得た。

【０１０３】

【製剤例３】（粒剤）１３２番の化合物５％、ホワイトカーボン１
％、リグニンスルホン酸カルシウム塩５％、ベントナイ
ト２０％及びクレー６９％をよく粉砕混合し、水を加え
てよく練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得た。

【０１０４】

【発明の効果】前記一般式（Ｉ）の化合物は殺草作用を
有しており、除草剤として使用することができ、その作
用は一般に双子葉植物に対するよりも単子葉植物に対す
る方が強い。たとえば、水田においては、雑草の発芽前
または発芽後に湛水土壌処理することにより、水田の強
雑草であるタイヌビエ、ヒメタイヌビエ、ケイヌビエ等
のイネ科雑草を特に強力に駆除し、また通常の除草剤で
は防除が困難なマツバイ、ホタルイ、クログワイ、ミズ
ガヤツリ等のカヤツリグサ科多年生雑草並びにウリカ
ワ、オモダカ等のオモダカ科多年生雑草も駆除すること
ができ、さらに、アゼナ等のゴマノハグサ科雑草、キカ
シグサ、ヒメミソハギ、ミズマツバ等のミソハギ科雑
草、コナギ、ミズアオイ等のミズアオイ科雑草の広葉雑
草をも有効に駆除することができる。

【０１０５】一方、水稲に対しては選択性が大きく、移
植水稲は薬害をうけることはなく、殺草スペクトラムが
広いという利点が見出された。また、畑地においては雑
草の発芽前に土壌処理することにより、畑地の強雑草で
あるイヌビユ、アオビユ、イノコズチ等のヒユ科雑草、
スベリヒユ等のスベリヒユ科雑草、アカザ、シロザ、コ
アカザ等のアカザ科雑草、ツユクサ等のツユクサ科雑
草、ハコベ、ノミノフスマ、ミミナグサ、ツメクサ等の
ナデシコ科雑草、エノキグサ、コニシキソウ等のトウダ
イグサ科雑草等を有効に駆除することができるが、なか
でもカモジグサ、メヒシバ、コメヒシバ、イヌビエ、エ
ノコログサ、アキノエノコログサ、スズメノテッポウ、
スズメノカタビラ等のイネ科雑草を極めて強力に駆除す
ることができ、一方、トウモロコシ、ビート、ダイズ、
ワタ、ダイコン、トマト、ニンジン、ハクサイ、レタス
等の作物は薬害を受けることはない。

【０１０６】さらに、前記一般式（Ｉ）の化合物は非農
耕地、山林等においても除草剤として有効に使用するこ
とができる。

【０１０７】前記一般式（Ｉ）の化合物は、また、植物
の伸長を制御する作用を有しており、適当な時期、濃度
で植物体に処理するとき、その植物体は枯死することな
く伸長が制御されるので、伸長が好ましくない植物に対
する伸長抑制剤としても使用することができる。従っ
て、本発明の「除草剤」なる語には、植物伸長制御剤も
包含する。

【０１０８】特に、芝の伸長制御剤として有利に使用す
ることができ、シバ、ハリシバ、コウライシバ等の日本
芝も有効に伸長を抑止しうるが、特にバーミュダグラ
ス、ペントグラス、ブルーグラス、フェスキュ、ライグ
ラス等の西洋芝の伸長をより有効に防止することがで
き、一般庭園、緑地、ゴルフ場等において好適に使用さ
れる。

【０１０９】

【試験例】次に、生物試験例を挙げて、具体的にその効
果を示す。

【０１１０】

【試験例１】水田発芽前処理１００ｃｍ²ポットに水田土壌を充填し、休眠覚醒した
タイヌビエ、ホタルイの種子を表層１ｃｍに混和した。
また、休眠覚醒したミズガヤツリ、クログワイの塊茎及
びマツバイを植え、さらに２葉期の水稲の苗を移植して
湛水状態とし、温室で生育させた。３日後に製剤例１で
調製した水和剤を用いて所定の薬量を湛水土壌処理し、
２１日後に次に示す判定基準に従って調査を行なった。
その結果を表１５に示した。

【０１１１】（判定基準）０生育抑制率０−１０％１生育抑制率１１−３０％２生育抑制率３１−５０％３生育抑制率５１−７０％４生育抑制率７１−９０％５生育抑制率９１−１００％表１５において、ＥＯはタイヌビエを、ＢＬは広葉雑草
を、ＳＪはホタルイを、ＥＡはマツバイを、ＣＳはミズ
ガヤツリを、ＥＫはクログワイを、ＯＳは水稲を、それ
ぞれ示す。

【０１１２】

【表１５】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０７Ｄ 403/12 ２４１ 405/12 ２４１ 409/12 ２４１ (72)発明者寺村正弘滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会社内 (72)発明者本間豊邦滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式【化１】（式中、Ｒ¹は水素原子、低級アルキル基または低級ア
ルコキシカルボニルメチル基を示し、Ｒ²は１〜３個の
ハロゲン原子で置換されてもよい低級アルキル基、Ｃ₁
〜Ｃ₆のアルコキシ基、Ｃ₃〜Ｃ₄のアルケニルオキシ
基、ヒドロキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキ
シ基、ピリジル−シアノメトキシ基、基ＮＲ⁷Ｒ⁸（Ｒ
⁷は水素原子または低級アルキル基を示し、Ｒ⁸は水素
原子、１〜３個のハロゲン原子、１〜２個の低級アルキ
ル基、ニトロ基、シアノ基またはプロパルギルオキシ基
で置換されてもよいフェニル基、１〜２個のハロゲン原
子またはニトロ基で置換されてもよいフェノキシ基で置
換されてもよいピリジル基、１〜３個のハロゲン原子、
低級アルキル基もしくは低級アルコキシで置換されてい
てもよいピリミジニル基またはトリアジニル基、ヒドロ
キシ基、低級アルキル基、ベンジル基、α−メチルベン
ジル基、α，α−ジメチルベンジル基、シクロヘキシル
基、低級アルキルスルホニル基、ハロゲン原子、低級ア
ルキル基またはニトロ基で置換されていてもよいベンゼ
ンスルホニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい
ベンゾイルオキシ基、ハロゲン原子で置換されていても
よいベンゾイル基、アニリノ基、ピリジル−シアノメチ
ル基、Ｒ⁷とＲ⁸が一緒になって酸素原子または窒素原
子を１〜２個含有する５〜６員複素環を形成することが
できる。または基ＣＨ₂Ｂ（Ｂは酸素原子、硫黄原子ま
たは窒素原子をそれぞれ独立に１〜２個含有する５〜６
員複素環基を示す。）を示し、Ｒ³は水素原子、低級ア
ルキル基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、ハロゲン原
子、ベンゾイル基、ベンジル基、低級アルコキシカルボ
ニル基または低級アルコキシカルボニルメトキシ基を示
し、Ｒ⁴およびＲ⁵は同一若しくは異なって水素原子、
ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基
を示し、Ａは酸素原子、基Ｓ（Ｏ）_n（ｎは０，１また
は２の整数を示す）、基−ＮＨＮＨ−または基−ＮＨ
（Ｒ⁶）（Ｒ⁶は水素原子またはメチル基を示す。）を
示し、ｍは０または１を示す。）で表わされるジフェニ
ルピラジン誘導体。
【請求項２】一般式【化２】（式中、Ｒ¹は水素原子、低級アルキル基または低級ア
ルコキシカルボニルメチル基を示し、Ｒ²は１〜３個の
ハロゲン原子で置換されてもよい低級アルキル基、Ｃ₁
〜Ｃ₆のアルコキシ基、Ｃ₃〜Ｃ₄のアルケニルオキシ
基、ヒドロキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキ
シ基、ピリジル−シアノメトキシ基、基ＮＲ⁷Ｒ⁸（Ｒ
⁷は水素原子または低級アルキル基を示し、Ｒ⁸は水素
原子、１〜３個のハロゲン原子、１〜２個の低級アルキ
ル基、ニトロ基、シアノ基またはプロパルギルオキシ基
で置換されてもよいフェニル基、１〜２個のハロゲン原
子またはニトロ基で置換されてもよいフェノキシ基で置
換されてもよいピリジル基、１〜３個のハロゲン原子、
低級アルキル基もしくは低級アルコキシで置換されてい
てもよいピリミジニル基またはトリアジニル基、ヒドロ
キシ基、低級アルキル基、ベンジル基、α−メチルベン
ジル基、α，α−ジメチルベンジル基、シクロヘキシル
基、低級アルキルスルホニル基、ハロゲン原子、低級ア
ルキル基またはニトロ基で置換されていてもよいベンゼ
ンスルホニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい
ベンゾイルオキシ基、ハロゲン原子で置換されていても
よいベンゾイル基、アニリノ基、ピリジル−シアノメチ
ル基、Ｒ⁷とＲ⁸が一緒になって酸素原子または窒素原
子を１〜２個含有する５〜６員複素環を形成することが
できる。または基ＣＨ₂Ｂ（Ｂは酸素原子、硫黄原子ま
たは窒素原子をそれぞれ独立に１〜２個含有する５〜６
員複素環基を示す。）を示し、Ｒ³は水素原子、低級ア
ルキル基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、ハロゲン原
子、ベンゾイル基、ベンジル基、低級アルコキシカルボ
ニル基または低級アルコキシカルボニルメトキシ基を示
し、Ｒ⁴およびＲ⁵は同一若しくは異なって水素原子、
ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基
を示し、Ａは酸素原子、基Ｓ（Ｏ）_n（ｎは０，１また
は２の整数を示す）、基−ＮＨＮＨ−または基−ＮＨ
（Ｒ⁶）（Ｒ⁶は水素原子またはメチル基を示す。）を
示し、ｍは０または１を示す。）で表されるジフェニル
ピラジン誘導体を有効成分として含有することを特徴と
する除草剤組成物。