JPH07336041A - リフロー装置 - Google Patents
リフロー装置Info
- Publication number
- JPH07336041A JPH07336041A JP12286294A JP12286294A JPH07336041A JP H07336041 A JPH07336041 A JP H07336041A JP 12286294 A JP12286294 A JP 12286294A JP 12286294 A JP12286294 A JP 12286294A JP H07336041 A JPH07336041 A JP H07336041A
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- JP
- Japan
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- inert gas
- substrate
- board
- tubes
- conveyor
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- Pending
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板の有無による影響を受けにくい不活性ガ
スカーテンを備えたリフロー装置を提供する。 【構成】 炉体25の基板搬出口25a と冷却室部42の基板
搬入口42a との間に、基板Ｐを搬送するコンベヤ26を介
して対向する一対の不活性ガス吐出ノズル管43，44を配
置する。ノズル管43，44より吐出された不活性ガス（Ｎ
2 ）により不活性ガスカーテンを形成する。不活性ガス
吐出ノズル管43，44は、コンベヤ26を介して水平方向に
対向する位置に垂直に配置し、不活性ガスを水平方向に
吐出する。不活性ガス吐出ノズル管43，44は回り継手46
により回動可能に設ける。左右の不活性ガス吐出ノズル
管43，44の不活性ガス吐出孔45から水平方向に吐出され
た不活性ガスは、基板面と平行に移動して基板面に正面
から衝突することがない。このため、炉体25内のＮ2 濃
度や冷却室部42内の温度に影響を与えにくい。
スカーテンを備えたリフロー装置を提供する。 【構成】 炉体25の基板搬出口25a と冷却室部42の基板
搬入口42a との間に、基板Ｐを搬送するコンベヤ26を介
して対向する一対の不活性ガス吐出ノズル管43，44を配
置する。ノズル管43，44より吐出された不活性ガス（Ｎ
2 ）により不活性ガスカーテンを形成する。不活性ガス
吐出ノズル管43，44は、コンベヤ26を介して水平方向に
対向する位置に垂直に配置し、不活性ガスを水平方向に
吐出する。不活性ガス吐出ノズル管43，44は回り継手46
により回動可能に設ける。左右の不活性ガス吐出ノズル
管43，44の不活性ガス吐出孔45から水平方向に吐出され
た不活性ガスは、基板面と平行に移動して基板面に正面
から衝突することがない。このため、炉体25内のＮ2 濃
度や冷却室部42内の温度に影響を与えにくい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、不活性ガス中でリフロ
ーはんだ付けを行うリフロー装置に関するものである。
ーはんだ付けを行うリフロー装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２に示されるように、従来のリフロー
装置は、炉体11の基板搬出口11a と冷却室部12の基板搬
入口12a との間であって、コンベヤ13により搬送される
部品実装基板（以下、単に基板という）Ｐの上側および
下側に、不活性ガス（窒素Ｎ2）を上下方向に吐出する
不活性ガス吐出ノズル管14，15を上下に対向させて配置
し、このノズル管14，15より噴出した不活性ガスにより
不活性ガスカーテンを形成している。この不活性ガスカ
ーテンにより炉体11と冷却室部12との間を遮断し、この
両者間の相互干渉をなくすようにしている。
装置は、炉体11の基板搬出口11a と冷却室部12の基板搬
入口12a との間であって、コンベヤ13により搬送される
部品実装基板（以下、単に基板という）Ｐの上側および
下側に、不活性ガス（窒素Ｎ2）を上下方向に吐出する
不活性ガス吐出ノズル管14，15を上下に対向させて配置
し、このノズル管14，15より噴出した不活性ガスにより
不活性ガスカーテンを形成している。この不活性ガスカ
ーテンにより炉体11と冷却室部12との間を遮断し、この
両者間の相互干渉をなくすようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この従来の不活性ガス
カーテンでは、搬送された基板Ｐが上下のノズル管14，
15間に位置したときに、ノズル管14，15から吐出された
不活性ガスは基板面に衝突して水平方向（特にコンベヤ
方向）に向きを変え、炉体11の基板搬出口11a および冷
却室部12の基板搬入口12a から炉体内および冷却室部内
に侵入し、炉体11内の不活性ガス濃度（Ｎ2 濃度）や、
冷却室部12内の温度に影響を与える。
カーテンでは、搬送された基板Ｐが上下のノズル管14，
15間に位置したときに、ノズル管14，15から吐出された
不活性ガスは基板面に衝突して水平方向（特にコンベヤ
方向）に向きを変え、炉体11の基板搬出口11a および冷
却室部12の基板搬入口12a から炉体内および冷却室部内
に侵入し、炉体11内の不活性ガス濃度（Ｎ2 濃度）や、
冷却室部12内の温度に影響を与える。
【０００４】本発明は、このような点に鑑みなされたも
ので、基板の有無による影響を受けにくい不活性ガスカ
ーテンを備えたリフロー装置を提供することを目的とす
るものである。
ので、基板の有無による影響を受けにくい不活性ガスカ
ーテンを備えたリフロー装置を提供することを目的とす
るものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、炉体の基板搬出口と冷却室部の基板搬入口との間
に、基板を搬送するコンベヤを介して対向する一対の不
活性ガス吐出ノズル管を配置し、このノズル管より吐出
された不活性ガスにより不活性ガスカーテンを形成する
リフロー装置において、前記コンベヤを介して水平方向
に対向する位置にて、不活性ガスを水平方向に吐出する
不活性ガス吐出ノズル管を配置した構成のリフロー装置
である。
は、炉体の基板搬出口と冷却室部の基板搬入口との間
に、基板を搬送するコンベヤを介して対向する一対の不
活性ガス吐出ノズル管を配置し、このノズル管より吐出
された不活性ガスにより不活性ガスカーテンを形成する
リフロー装置において、前記コンベヤを介して水平方向
に対向する位置にて、不活性ガスを水平方向に吐出する
不活性ガス吐出ノズル管を配置した構成のリフロー装置
である。
【０００６】請求項２に記載の発明は、請求項１記載の
リフロー装置において、不活性ガス吐出ノズル管を回り
継手により回動可能に設けた構成である。
リフロー装置において、不活性ガス吐出ノズル管を回り
継手により回動可能に設けた構成である。
【０００７】
【作用】請求項１に記載の発明は、不活性ガス吐出ノズ
ル管から不活性ガスが水平方向に吐出されるから、その
不活性ガスは基板面と平行に移動し、基板面に正面から
衝突することがない。
ル管から不活性ガスが水平方向に吐出されるから、その
不活性ガスは基板面と平行に移動し、基板面に正面から
衝突することがない。
【０００８】請求項２に記載の発明は、不活性ガス吐出
ノズル管を回り継手により回動することにより、吐出ノ
ズル管からの不活性ガス吹出角度を変更調整する。
ノズル管を回り継手により回動することにより、吐出ノ
ズル管からの不活性ガス吹出角度を変更調整する。
【０００９】
【実施例】以下、本発明を図１に示される実施例を参照
して詳細に説明する。
して詳細に説明する。
【００１０】図１（Ａ）に示されるリフロー装置は、プ
リヒート用の複数の炉体21，22，23およびリフロー用の
複数の炉体24，25が一体的に設けられ、各炉体21，22，
23，24，25の中央部を貫通するようにして、部品実装基
板（以下、単に基板という）Ｐを搬送するコンベヤ26が
配置されている。このコンベヤ26は、一対のレール内で
それぞれ回行移動される無端チェンから相互に対向する
側にピンを突出し、このピン上に基板Ｐを係止して搬送
する。
リヒート用の複数の炉体21，22，23およびリフロー用の
複数の炉体24，25が一体的に設けられ、各炉体21，22，
23，24，25の中央部を貫通するようにして、部品実装基
板（以下、単に基板という）Ｐを搬送するコンベヤ26が
配置されている。このコンベヤ26は、一対のレール内で
それぞれ回行移動される無端チェンから相互に対向する
側にピンを突出し、このピン上に基板Ｐを係止して搬送
する。
【００１１】各炉体21，22，23，24，25の内部には、モ
ータ31により駆動される送風機（シロッコファン）32
と、窒素ガス（Ｎ2 ）に代表される炉内不活性雰囲気を
循環させるためにコンベヤ26の両側に対称に設けられた
送風案内板33と（なお、図ではコンベヤ26の一側のみの
送風案内板を示す）、この送風案内板33により炉体内の
上部に案内された後に炉体内中央で下向きに移動される
炉内不活性雰囲気を加熱して熱風とするヒータ34とが、
それぞれ配置されている。
ータ31により駆動される送風機（シロッコファン）32
と、窒素ガス（Ｎ2 ）に代表される炉内不活性雰囲気を
循環させるためにコンベヤ26の両側に対称に設けられた
送風案内板33と（なお、図ではコンベヤ26の一側のみの
送風案内板を示す）、この送風案内板33により炉体内の
上部に案内された後に炉体内中央で下向きに移動される
炉内不活性雰囲気を加熱して熱風とするヒータ34とが、
それぞれ配置されている。
【００１２】さらに、最後の炉体25にガスカーテン室部
41を介して冷却室部42が設けられている。すなわち、最
後の炉体25に開口された基板搬出口25a と冷却室部42の
基板搬入口42a との間であって、図１（Ｂ）に示される
ように前記コンベヤ26を介して水平方向に対向する位置
において、窒素ガス（Ｎ2 ）に代表される不活性ガスを
水平方向に吐出する一対の不活性ガス吐出ノズル管43，
44を垂直に配置する。
41を介して冷却室部42が設けられている。すなわち、最
後の炉体25に開口された基板搬出口25a と冷却室部42の
基板搬入口42a との間であって、図１（Ｂ）に示される
ように前記コンベヤ26を介して水平方向に対向する位置
において、窒素ガス（Ｎ2 ）に代表される不活性ガスを
水平方向に吐出する一対の不活性ガス吐出ノズル管43，
44を垂直に配置する。
【００１３】図１（Ａ）（Ｃ）に示されるように、この
不活性ガス吐出ノズル管43，44には、相互に対向する側
（コンベヤ側）に多数の不活性ガス吐出孔45が穿設さ
れ、上下方向に配列されている。この各不活性ガス吐出
孔45より吐出された不活性ガスにより不活性ガスカーテ
ンを形成する。
不活性ガス吐出ノズル管43，44には、相互に対向する側
（コンベヤ側）に多数の不活性ガス吐出孔45が穿設さ
れ、上下方向に配列されている。この各不活性ガス吐出
孔45より吐出された不活性ガスにより不活性ガスカーテ
ンを形成する。
【００１４】図１（Ｂ）に示されるように、前記不活性
ガス吐出ノズル管43，44は、回り継手46により図示され
ない外部の不活性ガス供給配管に対し回動可能に設けら
れている。
ガス吐出ノズル管43，44は、回り継手46により図示され
ない外部の不活性ガス供給配管に対し回動可能に設けら
れている。
【００１５】前記冷却室部42には、コンベヤ26を介して
上側および下側に冷却用フィンクーラ51が配置され、こ
のクーラ51により冷却される低温雰囲気を循環または撹
拌するファン52が上部に配置され、このファン52を回転
駆動するモータ53が上面に取付けられている。
上側および下側に冷却用フィンクーラ51が配置され、こ
のクーラ51により冷却される低温雰囲気を循環または撹
拌するファン52が上部に配置され、このファン52を回転
駆動するモータ53が上面に取付けられている。
【００１６】次に、この実施例の作用を説明する。
【００１７】図１（Ａ）に示されるように、炉体21，2
2，23，24，25内では送風機32および送風案内板33によ
り循環されヒータ34により加熱された高温の炉内不活性
雰囲気を、コンベヤ26により炉体内に搬入された基板Ｐ
に対し吹付けることにより、基板Ｐを予加熱および本加
熱して基板上のソルダペーストを溶融し、リフローはん
だ付けを行う。
2，23，24，25内では送風機32および送風案内板33によ
り循環されヒータ34により加熱された高温の炉内不活性
雰囲気を、コンベヤ26により炉体内に搬入された基板Ｐ
に対し吹付けることにより、基板Ｐを予加熱および本加
熱して基板上のソルダペーストを溶融し、リフローはん
だ付けを行う。
【００１８】炉体25の基板搬出口25a から搬出された高
温の基板Ｐは、ガスカーテン室部41を経て冷却室部42に
搬入され、この冷却室部42にて内部の低温雰囲気により
急冷される。
温の基板Ｐは、ガスカーテン室部41を経て冷却室部42に
搬入され、この冷却室部42にて内部の低温雰囲気により
急冷される。
【００１９】前記ガスカーテン室部41では、左右の不活
性ガス吐出ノズル管43，44の不活性ガス吐出孔45から、
図１（Ｂ）に示されるように不活性ガスが水平方向に吐
出されるから、その不活性ガスは基板面と平行に移動
し、基板面に正面から衝突することがない。
性ガス吐出ノズル管43，44の不活性ガス吐出孔45から、
図１（Ｂ）に示されるように不活性ガスが水平方向に吐
出されるから、その不活性ガスは基板面と平行に移動
し、基板面に正面から衝突することがない。
【００２０】このため、左右のノズル管43，44の間に基
板Ｐが位置した場合も、位置しない場合と同様の状況が
保たれ、従来のように上下のノズル管間に基板Ｐが位置
したときに基板面に正面から衝突して水平方向（特にコ
ンベヤ方向）に向きを変えた不活性ガスが炉体内や冷却
室部内に影響を与えるような問題が発生せず、基板Ｐの
有無により炉体25内の不活性ガス濃度（Ｎ2 濃度）や冷
却室部42内の温度が影響を受ける度合が少ない。
板Ｐが位置した場合も、位置しない場合と同様の状況が
保たれ、従来のように上下のノズル管間に基板Ｐが位置
したときに基板面に正面から衝突して水平方向（特にコ
ンベヤ方向）に向きを変えた不活性ガスが炉体内や冷却
室部内に影響を与えるような問題が発生せず、基板Ｐの
有無により炉体25内の不活性ガス濃度（Ｎ2 濃度）や冷
却室部42内の温度が影響を受ける度合が少ない。
【００２１】また、不活性ガス吐出ノズル管43，44を回
り継手46にて回動し、不活性ガス吐出孔45からの不活性
ガス吹出角度を、例えば図１（Ｃ）にて２点鎖線で示さ
れるように基板搬送方向に対し直角に設定したり、実線
で示されるように基板搬送方向に対し斜めに変更調整す
ることができる。このようにして、部品実装基板に応じ
て、その基板の有無による影響を受けにくい不活性ガス
吹出角度を探る。
り継手46にて回動し、不活性ガス吐出孔45からの不活性
ガス吹出角度を、例えば図１（Ｃ）にて２点鎖線で示さ
れるように基板搬送方向に対し直角に設定したり、実線
で示されるように基板搬送方向に対し斜めに変更調整す
ることができる。このようにして、部品実装基板に応じ
て、その基板の有無による影響を受けにくい不活性ガス
吹出角度を探る。
【００２２】
【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、コンベ
ヤを介して水平方向に対向する位置にて、不活性ガスを
水平方向に吐出する一対の不活性ガス吐出ノズル管を配
置したから、このノズル管の間に基板が位置した場合
も、炉体内の不活性ガス濃度や冷却室部内の温度に与え
る影響が少なく、基板の有無による影響を受けにくい利
点がある。
ヤを介して水平方向に対向する位置にて、不活性ガスを
水平方向に吐出する一対の不活性ガス吐出ノズル管を配
置したから、このノズル管の間に基板が位置した場合
も、炉体内の不活性ガス濃度や冷却室部内の温度に与え
る影響が少なく、基板の有無による影響を受けにくい利
点がある。
【００２３】請求項２に記載の発明によれば、不活性ガ
ス吐出ノズル管を回り継手により回動可能に設けたか
ら、部品実装基板に応じて、その基板の有無による影響
を受けにくい不活性ガス吹出角度を探ることができる。
ス吐出ノズル管を回り継手により回動可能に設けたか
ら、部品実装基板に応じて、その基板の有無による影響
を受けにくい不活性ガス吹出角度を探ることができる。
【図１】（Ａ）は本発明に係るリフロー装置の一実施例
を示す断面図、（Ｂ）は同上リフロー装置のガスカーテ
ン室部の垂直断面図、（Ｃ）はそのガスカーテン室部の
水平断面図である。
を示す断面図、（Ｂ）は同上リフロー装置のガスカーテ
ン室部の垂直断面図、（Ｃ）はそのガスカーテン室部の
水平断面図である。
【図２】従来のリフロー装置に設けられたガスカーテン
室部を示す断面図である。
室部を示す断面図である。
Ｐ 基板 25 炉体 25a 基板搬出口 26 コンベヤ 42 冷却室部 42a 基板搬入口 43，44 不活性ガス吐出ノズル管 46 回り継手
Claims (2)
- 【請求項１】 炉体の基板搬出口と冷却室部の基板搬入
口との間に、基板を搬送するコンベヤを介して対向する
一対の不活性ガス吐出ノズル管を配置し、このノズル管
より吐出された不活性ガスにより不活性ガスカーテンを
形成するリフロー装置において、 前記コンベヤを介して水平方向に対向する位置にて、不
活性ガスを水平方向に吐出する不活性ガス吐出ノズル管
を配置したことを特徴とするリフロー装置。 - 【請求項２】 不活性ガス吐出ノズル管を回り継手によ
り回動可能に設けたことを特徴とする請求項１記載のリ
フロー装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12286294A JPH07336041A (ja) | 1994-06-03 | 1994-06-03 | リフロー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12286294A JPH07336041A (ja) | 1994-06-03 | 1994-06-03 | リフロー装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07336041A true JPH07336041A (ja) | 1995-12-22 |
Family
ID=14846480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12286294A Pending JPH07336041A (ja) | 1994-06-03 | 1994-06-03 | リフロー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07336041A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6642485B2 (en) * | 2001-12-03 | 2003-11-04 | Visteon Global Technologies, Inc. | System and method for mounting electronic components onto flexible substrates |
| WO2012035943A1 (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-22 | 千住金属工業株式会社 | はんだ付け装置 |
-
1994
- 1994-06-03 JP JP12286294A patent/JPH07336041A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6642485B2 (en) * | 2001-12-03 | 2003-11-04 | Visteon Global Technologies, Inc. | System and method for mounting electronic components onto flexible substrates |
| WO2012035943A1 (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-22 | 千住金属工業株式会社 | はんだ付け装置 |
| JP2012064896A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Senju Metal Ind Co Ltd | はんだ付け装置 |
| CN102714923A (zh) * | 2010-09-17 | 2012-10-03 | 千住金属工业株式会社 | 焊接装置 |
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