JPH0661640A - リフロー装置およびリフロー方法 - Google Patents

リフロー装置およびリフロー方法

Info

Publication number
JPH0661640A
JPH0661640A JP4211099A JP21109992A JPH0661640A JP H0661640 A JPH0661640 A JP H0661640A JP 4211099 A JP4211099 A JP 4211099A JP 21109992 A JP21109992 A JP 21109992A JP H0661640 A JPH0661640 A JP H0661640A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reflow
printed circuit
circuit board
furnace body
carrying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4211099A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3404768B2 (ja
Inventor
Masahiro Taniguchi
昌弘 谷口
Kazumi Ishimoto
一美 石本
Kimihito Kuwabara
公仁 桑原
Manabu Ando
学 安藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP21109992A priority Critical patent/JP3404768B2/ja
Publication of JPH0661640A publication Critical patent/JPH0661640A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3404768B2 publication Critical patent/JP3404768B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Tunnel Furnaces (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 プリント回路基板の加熱による酸化を防止し
ながら半田の再溶融を図ってリフロー方式の半田付けが
行えるリフロー装置およびリフロー方法を提供する。 【構成】 炉体部1と、この炉体部1のリフロー炉体内
1aにプリント回路基板3を通過させるコンベア2と、
リフロー炉体内1aに設けられて炉体部1内雰囲気を加
熱する加熱手段15,16と、リフロー炉体内1aに不
活性ガスを供給してリフロー炉体内1aを所定の不活性
ガス濃度に保つプレート21とを備えた構成とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント回路基板に電
子部品を半田付けして実装するためのリフロー装置およ
びリフロー方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、プリント回路基板に電子部品を実
装する技術は益々微細な電子部品の電極部とプリント回
路基板上に形成された回路との半田付け接合が必要とさ
れている。また近年、フロン洗浄の廃止にともない、無
洗浄での半田付けが必要とされている。
【0003】従来のリフロー装置は、所定の温度に加熱
した空気を熱媒体としてプリント回路基板を加熱し、半
田を溶融させて電子部品を半田付けするようにしてい
る。
【0004】図10は特開昭63−278668号公報
で知られる従来装置を示している。図で分かるように、
プリント回路基板aを搬送するコンベアbが横断する空
気循環路cをコンベアbの長手方向に隙間なく配し、各
空気循環路cにおいて2つのシロッコファンdにより内
部空気を循環させ、途中に設けられた2つのヒータeに
よって循環空気を加熱し、この加熱空気を空気循環路c
を横断するコンベアb上のプリント回路基板aに吹き付
けることによって、半田付けを行うようにしている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記従来のよう
な装置では、微細な電子部品の電極やプリント回路基板
a上に形成された回路、接合に用いるクリーム半田が前
記加熱中に酸化し、良好な半田付けができない問題があ
る。このため歩留まりが悪く製品がコスト高になってい
る。
【0006】本発明は、前記従来の問題を解決するもの
で、微細な電子部品の電極やプリント回路基板上に形成
された回路、接合に用いるクリーム半田の酸化を防止し
ながらクリーム半田の再溶融を図ったリフロー装置およ
びリフロー方法を提供することを目的とするものであ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のリフロー装置は、炉体部と、炉体部内に設け
た電子部品を搭載したプリント回路基板を加熱する加熱
部と、このプリント回路基板を搬送する搬送部と、加熱
手段の一つとして用いる熱風を循環するファンとを備
え、ファンの吸い込み口を搬送部の下側に備えたもので
ある。
【0008】ファンの吸い込み口を搬送部の下側に設定
する方法としてファンの吸い込み口と搬送部の間にプレ
ートを備えたものである。
【0009】また、搬送部を囲むように端部を折り曲げ
たプレートを備えたものである。さらにそのプレート
は、プレート面からプリント回路基板搬送面に向けた熱
風の吹き出し口と吹き出し口周辺以外の端部を折り曲げ
た断面コ字状としたものである。
【0010】炉体部への基板の搬出入口の少なくとも一
方の上部または下部に炉体内部から漏れるガスの強制排
気部をさらに備えたものである。
【0011】また、その強制排気部に強制排気量を調整
する調整弁をさらに備えたものである。
【0012】炉体部への基板の搬送出入口の少なくとも
一方にプリント回路基板の搬送面に向かって吹き出す不
活性ガスのカーテン部をさらに備えたものである。
【0013】プリント回路基板を加熱する加熱部と、冷
却する冷却部と、このプリント回路基板を搬送する搬送
部とからなるリフロー装置の冷却部において、雰囲気ガ
スを循環するファンから送風された雰囲気ガスがプリン
ト回路基板と熱交換した後、冷却用フィンを有する熱交
換器にて雰囲気ガス温度を再び冷却し、冷却後の雰囲気
ガスを再度ファンにて吸引し送風する雰囲気ガス循環経
路を備えたものである。
【0014】雰囲気ガス循環経路内にヒーターと、雰囲
気ガス中に浮遊するフラックスを分解する触媒とをさら
に備えたものである。
【0015】また、雰囲気ガス循環経路内に雰囲気ガス
中に浮遊するフラックスを吸着するフィルターをさらに
備えたのである。
【0016】炉体部へのプリント回路基板の搬送出入口
の少なくとも一方にプリント回路基板を搬送する搬送部
を取り囲むトンネルとを備えたものである。
【0017】また、プリント回路基板の搬送面に略直角
な方向に縦プレートを一つ以上設けたトンネルを備えた
ものである。
【0018】さらに、縦プレートが炉体部内またはプリ
ント回路基板の搬送出入口方向に湾曲しているものを採
用するものである。
【0019】プリント回路基板を搬送する搬送部と、搬
送部を外気より遮断するトンネルと、このトンネルとリ
フロー装置の出入口とを密着する接続構造とを備えた密
閉コンベアを連結するものである。
【0020】また、この密閉コンベアは不活性ガスの供
給部を備えたものである。また、本発明のリフロー方法
は、リフロー半田付け後の状態を認識する検査機を備え
たリフロー装置を用い、この検査機の検査結果を解析
し、リフロー装置のリフロー条件にフィードバックする
機能と、検査結果より最適リフロー条件を解析し設定す
るものである。
【0021】さらに、検査結果をクリーム半田の印刷条
件にフィードバックする機能と、検査結果より最適印刷
条件とリフロー条件を解析し設定するものである。
【0022】また、検査結果を電子部品のマウント条件
にフィードバックする機能と、検査結果より最適マウン
ト条件とリフロー条件を解析し設定するものである。
【0023】さらにまた、本発明のリフロー装置は、炉
体部と、この炉体部内に設けた電子部品を搭載したプリ
ント回路基板を加熱する加熱部と、このプリント回路基
板を搬送する搬送部と、不活性ガスの供給部と、プリン
ト回路基板の搬送面下に搬送方向と略直角方向に垂直に
縦プレートを一枚以上備えたものである。
【0024】また、縦プレートは複数枚設けられ、これ
ら縦プレートを搬送方向につなげる構造を備えたもので
ある。
【0025】
【作用】上記構成により、電子部品を搭載したプリント
回路基板は搬送部によって搬送されてリフロー炉体部内
を通過し、この通過する間リフロー炉体内に設けられた
加熱手段によって雰囲気を介し加熱され、この際半田が
再溶融することにより半田付けされるが、リフロー炉体
内の雰囲気は不活性ガス供給部からの不活性ガスの供給
によって所定の不活性ガス濃度に保たれるので、前記プ
リント回路基板における微細な電子部品の電極やプリン
ト回路基板上に形成された回路、接合に用いるクリーム
半田が酸化するのを防止し、前記半田付けが良好に行わ
れるようにすることができる。
【0026】プリント回路基板を加熱する加熱手段の一
つとして用いる熱風を循環するファンの吸い込み口をプ
リント回路基板の搬送部の下側に設定するものとする
と、プリント回路基板を搬送することによって生じる炉
体内の気流の乱れを少なくしリフロー炉体内の雰囲気を
不活性ガス供給部からの不活性ガスの供給によって所定
の不活性ガス濃度に保つことができる。
【0027】ファンの吸い込み口を搬送部の下側に設定
する方法としてファンの吸い込み口と搬送部の間にプレ
ートを有するものや、搬送部を囲むように端部を折り曲
げたプレートをさらに備えると、プリント回路基板を搬
送することによって生じる炉体内の気流の乱れを少なく
しリフロー炉体内の雰囲気を不活性ガス供給部からの不
活性ガスの供給によって所定の不活性ガス濃度に保つこ
とができる。
【0028】さらに、プレート面からプリント回路基板
の搬送面に向けた熱風の吹き出し口と吹き出し口周辺以
外の端部を折り曲げた断面コ字状のプレートを備えるこ
とにより、プリント回路基板の下面からの熱風の吹き出
しによる炉体部内の気流の乱れを少なくしリフロー炉体
内の雰囲気を不活性ガス供給部からの不活性ガスの供給
によって所定の不活性ガス濃度に保つことができる。
【0029】炉体部内へのプリント回路基板の搬送出入
口の少なくとも一方の上部または下部に炉体部内から漏
れるガスの強制排気と、強制排気量を調整する調整弁
と、プリント回路基板搬送面に向かって吹き出す不活性
ガスカーテン部とをさらに備えると、炉体部内への大気
巻き込みを抑えリフロー炉体内の雰囲気を所定の不活性
ガス濃度に保つことができる。
【0030】雰囲気ガスを循環するファンから送風され
た雰囲気ガスがプリント回路基板と熱交換した後、冷却
用フィンを有する熱交換器にて雰囲気ガス温度を再び冷
却、冷却後の雰囲気ガスを再度ファンにて吸引送風する
雰囲気ガス循環経路を備えたものであると、ファンの吸
い込みによる炉体部内への大気巻き込みを抑えリフロー
炉体内雰囲気を所定の不活性ガス濃度に保つことができ
るとともに、雰囲気ガス中に浮遊するフラックスを冷却
用フィンにて回収することができる。
【0031】プリント回路基板の冷却部の雰囲気ガス循
環経路内にヒーターと、雰囲気ガス中に浮遊するフラッ
クスを分解する触媒とを備えることによって、冷却部の
雰囲気ガス温度を昇温,凝固したフラックスを再度気
化、触媒による分解反応を生じさせ炉内雰囲気ガスの浄
化をすることができる。
【0032】また、雰囲気ガス循環経路内に雰囲気ガス
中に浮遊するフラックスを吸着するフィルターを備える
と、さらに炉内雰囲気ガスの浄化をすることができる。
【0033】炉体部へのプリント回路基板の搬送出入口
の少なくとも一方にプリント回路基板の搬送部を取り囲
むように設けたトンネル内に、プリント回路基板の搬送
面に略直角な方向に縦プレートを一つ以上ないしは、縦
プレートが炉体部内またはプリント回路基板の搬送出入
口方向に湾曲しているかたちで縦プレートを設けると、
炉体部内への大気巻き込みを抑えリフロー炉体内の雰囲
気を所定の不活性ガス濃度に保つことができる。
【0034】リフロー装置の出入口と密着する接続構造
と、不活性ガスの供給部を備えたコンベアを連結するこ
とで、炉体部内への大気巻き込みを抑えリフロー炉体内
の雰囲気を所定の不活性ガス濃度に保つことができる。
【0035】リフロー半田付け後の状態を認識する検査
機を備えたリフロー装置を用いたリフロー方法によりこ
の検査機の検査結果を解析し、リフロー装置のリフロー
条件,クリーム半田の印刷条件,電子部品のマウント条
件にフィードバックする機能と、検査結果より最適印刷
条件と最適マウント条件と最適リフロー条件を解析し設
定することで、半田付け品質を向上することができる。
【0036】プリント回路基板の搬送面下に搬送方向と
略直角方向に垂直に縦プレートを複数枚設け、これら縦
プレートを搬送方向につなげる構造を備えることで、炉
体部内に生じる搬送方向の気流の流れを抑えて炉体部内
への大気巻き込みを防止することでリフロー炉体内の雰
囲気を所定の不活性ガス濃度に保つことができる。
【0037】
【実施例】(実施例1)以下、本発明の実施例1のリフ
ロー装置について図面を参照して説明する。
【0038】図1,図2に示すように、炉体部1のリフ
ロー炉体内1aをコンベア2が縦通しており、電子部品
6を装着済みのプリント回路基板3が前工程から供給さ
れると、コンベア2はこれを搬送してリフロー炉体内1
aを入口トンネル4から出口トンネル5へ所定の速度に
て通過させる。
【0039】リフロー炉体内1aは入口トンネル4から
複数のプリント回路基板3を予熱する予熱室11と、予
熱されたプリント回路基板3を加熱する複数のリフロー
加熱室12と、リフロー後のプリント回路基板3を冷却
する一つの冷却室13に区画されている。
【0040】予熱室11のコンベア2の奥側部分には予
熱ヒータ15が、またリフロー加熱室12のコンベア2
の奥側部分にはリフロー加熱ヒータ16が、冷却室13
のコンベア2の奥側部分には冷却用の熱交換器17がそ
れぞれ設けられている。
【0041】また、各予熱室11,リフロー加熱室12
および冷却室13のコンベア2の下側部分にはそれぞれ
ファンの吸い込み口18aを介してシロッコファン18
が設けられている。
【0042】また、各予熱室11,リフロー加熱室12
および冷却室13の各底部には不活性ガス供給管24が
流量計22を経て接続され、不活性ガスであるN2ガス
をバルブ26を経て所定の流量にて各予熱室11,リフ
ロー加熱室12および冷却室13内に送り込み、リフロ
ー炉体内1aの雰囲気を所定の不活性ガス濃度に保つよ
うにしてある。
【0043】リフロー炉体内1aにはコンベア2の下面
にプレート21が設けられている。このプレート21に
よりリフロー炉体内1における気流は図2に示した矢印
19をたどることになる。
【0044】次に動作について説明する。各予熱室1
1,リフロー加熱室12および冷却室13の雰囲気は、
不活性ガス供給管24からのガス供給によって所定の不
活性ガス濃度に設定されるとともに、予熱ヒーター1
5,リフロー加熱ヒーター16および熱交換17によっ
て所定の温度に設定され、しかも雰囲気はシロッコファ
ン18の働きによって各室内全体におよぶ循環流をなす
ので、各予熱室11,リフロー加熱室12および冷却室
13内の全域が均一な不活性ガス濃度と温度に制御され
る。
【0045】また、プレート21の存在によりプリント
回路基板3が各室内に搬送されてきても各室内における
循環流の流れは大きく変化しないので、各予熱室11,
リフロー加熱室12および冷却室13内の全域が安定し
た均一な不活性ガス濃度に制御される。
【0046】これによってリフロー炉体内1aを通過す
るプリント回路基板3は、図3に示すように予熱室11
にて150℃程度に加熱された後、リフロー加熱室12
では、220℃まで加熱され、半田の再溶融によって半
田付けされる。ついで、冷却室13にて冷却される。
【0047】そして以上の工程が不活性ガスの所定の不
活性ガス濃度下で行われるので、微細な電子部品6の電
極やプリント回路基板3上に形成された回路、接合に用
いるクリーム半田などが加熱により酸化するのを終始防
止することができ、前記半田付けが良好に行われる。
【0048】なお、本実施例では、プレート21の両端
を折り曲げたが、この折り曲げはリフロー炉体内1aの
各室内における循環流の流れを安定させるために部分的
に削除してもよい。
【0049】(実施例2)図4は実施例2を示し、入口
トンネル4の入口に排気ダクト27と、排気量調整弁2
7と、排気ブロワ29と不活性ガスカーテン部30とを
有する強制排気部を備えることにより、炉体部1内への
大気巻き込みを防止しリフロー炉体内1aの雰囲気を所
定の不活性ガス濃度に保つとともに、炉体部1内から漏
れ出る不活性ガスを装置外の室内に放出することなく排
気ブロワ29にてまとめて工場排気へ送り込む。また、
排気量を調整弁28にて調整することによってより安定
した状態でリフロー炉体内の雰囲気を所定の不活性ガス
濃度に保つことができる。
【0050】(実施例3)図5は実施例3を示し、冷却
室13において、シロッコファン18にて送風された雰
囲気ガスは加熱されたプリント回路基板3の熱を奪った
後熱交換器17にて冷却され、再びシロッコファン18
にて送風が繰り返され循環流が作られる。熱交換器17
が背面にあるため、この循環流の経路内の雰囲気ガス中
に浮遊するフラックスを冷却用フィンを備えた熱交換器
17にて回収することができる。この熱交換器17は、
背面に取り出せる構造とすることで清掃作業の簡単化を
図っている。
【0051】(実施例4)図5は実施例4を示し、冷却
室13において、リフロー装置停止前にシロッコファン
18により循環する雰囲気ガスの循環流の経路内に設け
たヒーター31にて再度雰囲気ガスを加熱し凝固したフ
ラックスを気化、触媒32で燃焼反応をおこさせフラッ
クスを浄化除去することができる。
【0052】また、フラックスを除去するために循環流
の経路内にフィルタ33をプリント回路基板3を搬送す
るコンベア2の下方に設けても良い。
【0053】(実施例5)図6は実施例5を示し、入口
トンネル4において、基板搬送面に略直角な方向に炉体
1内部あるいはプリント回路基板3を搬送するコンベア
2の搬送出入口方向に湾曲しているかたちで縦プレート
34を設けると、縦プレート34に沿って気流の方向が
曲げられるので炉体内部からの不活性ガスの流出や炉体
1内部への大気巻き込みを抑えリフロー炉体内1aの雰
囲気を所定の不活性ガス濃度に保つことができる。
【0054】(実施例6)図7は実施例6を示し、リフ
ロー装置の出入口と密着する接続構造をもつ略密閉コン
ベア36を接続することによりプリント回路基板3を搬
送するコンベア2が縦通するリフロー炉体内1aへの大
気の巻き込みを抑止する。また、密閉コンベア36に不
活性ガスの供給部35を備えることでさらにリフロー炉
体内1aへの大気の巻き込みを抑止し、リフロー炉体内
1aの雰囲気を所定の不活性ガス濃度に保つことができ
る。
【0055】(実施例7)図8は本発明の実施例7のリ
フロー方法を示し、リフロー半田付け後の状態を認識す
る検査機を備えたリフロー装置を用い、この検査機の検
査結果をそれまでに収集している印刷状態の検査結果
と、電子部品装着状態の検査結果とをあわせて実装状態
を解析し、その解析結果を最適印刷条件と最適マウント
条件と最適リフロー条件として設定することで、半田付
け品質を向上することができる。
【0056】(実施例8)図9は実施例8を示し、搬送
部のプリント回路基板の搬送面下に搬送方向と略直角方
向に垂直に縦プレート37を複数枚設け、これら縦プレ
ート37を搬送方向につなげる構造を備えることで、炉
体部1内に生じる搬送方向の気流の流れを抑えて炉体部
1内への大気巻き込みを防止することでリフロー炉体内
1aの雰囲気を所定の不活性ガス濃度に保つことができ
る。また、この縦プレート37の連続体38は、コンベ
ア2から落下したプリント回路基板3を受けとめリフロ
ー炉体内1aから外に搬出するコンベア40としても用
いることができる。
【0057】
【発明の効果】以上の実施例の説明により明らかなよう
に、本発明のリフロー装置およびリフロー方法によれ
ば、プリント回路基板は搬送部によって搬送されてリフ
ロー炉体内を通過し、この通過する間リフロー炉体内に
設けられた加熱手段によって雰囲気を介し加熱され、こ
の際半田が再溶融することにより半田付けされるが、リ
フロー炉体内の雰囲気は不活性ガス供給部からの不活性
ガスの供給によって所定の不活性ガス濃度に保たれるの
で、前記プリント回路基板における微細な電子部品の電
極やプリント回路基板上に形成された回路、接合に用い
るクリーム半田が酸化するのを防止し、前記半田付けが
良好に行われるようにすることができるので歩留まりが
向上しコストを低減することができる。
【0058】プリント回路基板を加熱する加熱手段の一
つとして用いる熱風を循環するファンの吸い込み口をプ
リント回路基板の搬送部の下側に設定するものとする
と、プリント回路基板を搬送することによって生じる炉
体部内の気流の乱れを少なくしリフロー炉体内の雰囲気
を不活性ガス供給部からの不活性ガスの供給によって所
定の不活性ガス濃度に保つことができ、連続生産時も酸
化防止を保証しやすい。
【0059】ファンの吸い込み口を搬送部の下側に設定
する方法としてファンの吸い込み口と搬送部の間にプレ
ートを有するものや、搬送部を囲むように端部を折り曲
げたプレートをさらに備えると、プリント回路基板を搬
送することによって生じる炉体部内の気流の乱れを少な
くしてリフロー炉体内の雰囲気を不活性ガス供給部から
の不活性ガスの供給によって所定の不活性ガス濃度に保
ちやすく、酸化防止を確実に達成することができる。
【0060】さらに、プレート面からプリント回路基板
の搬送面に向けた熱風の吹き出し口と吹き出し口周辺以
外の端部を折り曲げた断面コ字状のプレートを備えるこ
とにより、プリント回路基板の下面からの熱風の吹き出
しによる炉体部内の気流の乱れを少なくしリフロー炉体
内の雰囲気を不活性ガス供給部からの不活性ガスの供給
によって所定の不活性ガス濃度に保ちやすく、酸化防止
を確実に達成することができる。
【0061】炉体部への基板の搬送出入口の少なくとも
一方の上部または下部に炉体部内から漏れるガスの強制
排気と、強制排気量を調整する調整弁と、プリント回路
基板の搬送面に向かって吹き出す不活性ガスのカーテン
部とをさらに備えると、炉体部内への大気巻き込みを抑
えリフロー炉体内の雰囲気を所定の不活性ガス濃度に保
ちやすく、酸化防止を確実に達成することができる。
【0062】雰囲気ガスを循環するファンから送風され
た雰囲気ガスがプリント回路基板と熱交換した後、冷却
用フィンにて雰囲気ガス温度を再び冷却、冷却後の雰囲
気ガスを再度ファンにて吸引送風する雰囲気ガス循環経
路を備えたものであると、ファンの吸い込みによる炉体
部内への大気巻き込みを抑えリフロー炉体内の雰囲気を
所定の不活性ガス濃度に保つことができるとともに、雰
囲気ガス中に浮遊するフラックスを冷却用フィンにて回
収することができるので、過不足ない不活性ガス濃度で
酸化防止を保証するとともに炉体部内のフラックス除去
を行うことができる、装置メンテ性が向上する。
【0063】基板冷却部の雰囲気ガス循環経路内にヒー
ターと、雰囲気ガス中に浮遊するフラックスを分解する
触媒とを備えることによって、冷却部の雰囲気ガス温度
を昇温,凝固したフラックスを再度気化、触媒による分
解反応を生じさせ炉内雰囲気ガスの浄化をすることがで
き、さらに装置メンテ性が向上するとともにプリント回
路基板の品質が向上する。
【0064】また、雰囲気ガス循環経路内に雰囲気ガス
中に浮遊するフラックスを吸着するフィルターを備える
と、さらに炉内雰囲気ガスの浄化をすることができ、装
置メンテ性が向上するともに、プリント回路基板の品質
が向上する。
【0065】炉体部へのプリント回路基板の搬送出入口
の少なくとも一方にプリント回路基板の搬送部を取り囲
むように設けたトンネル内に、プリント回路基板の搬送
面に略直角な方向に縦プレートを一つ以上ないしは、こ
の縦プレートが炉体部内またはプリント回路基板の搬送
出入口方向に湾曲しているかたちで縦プレートを設ける
と、炉体部内への大気巻き込みを抑えリフロー炉体内の
雰囲気を所定の不活性ガス濃度に保ちやすく、酸化防止
を確実に達成することができる。
【0066】リフロー装置の出入口と密着する接続構造
と、不活性ガスの供給部を備えた密閉コンベアを連結す
ることで、炉体部内への大気巻き込みを抑え、リフロー
炉体内の雰囲気を所定の不活性ガス濃度に保ちやすく、
酸化防止を確実に達成することができる。
【0067】リフロー半田付け後の状態を認識する検査
機を備えたリフロー装置を用い、この検査結果をリフロ
ー装置のリフロー条件,クリーム半田の印刷条件,電子
部品のマウント条件にフィードバックする機能と、検査
結果より最適印刷条件と最適マウント条件と最適リフロ
ー条件を解析し設定することで、半田付け品質が向上す
る。
【0068】プリント回路基板の搬送面下に搬送方向と
略直角方向に垂直に縦プレートを複数枚設け、これら縦
プレートを搬送方向につなげる構造を備えることで、炉
体部内に生じる搬送方向の気流の流れを抑えて炉体内部
への大気巻き込みを防止することでリフロー炉体内の雰
囲気を所定の不活性ガス濃度に保ちやすく、酸化防止を
確実に達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1のリフロー装置の構成を示す
正面断面略図
【図2】同リフロー加熱室の構成を示す側面断面略図
【図3】同プリント回路基板の処理行程中の温度変化を
示す特性図
【図4】同実施例2のリフロー装置の強制排気部の構成
を示す正面断面略図
【図5】同実施例3および実施例4の冷却室の構成を示
す側面断面略図
【図6】(a)同実施例5の出入口トンネルの構成を示
す平面断面略図 (b)同正面断面略図
【図7】同実施例6を示すプリント回路基板搬送コンベ
アの構成を示す正面断面略図
【図8】同実施例7のリフロー方法の工程を示すブロッ
ク図
【図9】同実施例8のリフロー装置の構成を示す正面断
面略図
【図10】従来のリフロー装置の構成を示す正面断面略
【符号の説明】
1 炉体部 1a リフロー炉体内 2 コンベア 3 プリント回路基板 4 入口トンネル 5 出口トンネル 6 電子部品 11 予熱室 12 リフロー加熱室 13 冷却室 15 予熱ヒータ 16 リフロー加熱ヒータ 17 熱交換器 18 シロッコファン 18a ファンの吸い込み口 21 プレート 22 流量計 24 不活性ガス供給管 26 バルブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安藤 学 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 炉体部と、この炉体部内に設けた電子部
    品を搭載したプリント回路基板を加熱する加熱部と前記
    プリント回路基板を搬送する搬送部と、加熱手段の一つ
    として用いる熱風を循環するファンとを備え、ファンの
    吸い込み口を前記搬送部の下側に備えたリフロー装置。
  2. 【請求項2】 ファンの吸い込み口と搬送部の間にプレ
    ートを備えた請求項1記載のリフロー装置。
  3. 【請求項3】 搬送部を囲むように端部を折り曲げたプ
    レートを備えた請求項1または2記載のリフロー装置。
  4. 【請求項4】 プレート面からプリント回路基板の搬送
    面に向けた熱風の吹き出し口と吹き出し口周辺以外の端
    部を折り曲げた断面コ字状のプレートを備えた請求項
    1,2または3記載のリフロー装置。
  5. 【請求項5】 炉体部と、この炉体部内に設けた電子部
    品を搭載したプリント回路基板を加熱する加熱部と、前
    記プリント回路基板を搬送する搬送部と、不活性ガス供
    給部と、前記炉体部へのプリント回路基板の搬送出入口
    とを備え、この搬送出入口の少なくとも一方の上部また
    は下部に炉体内部から漏れるガスの強制排気部を備えた
    リフロー装置。
  6. 【請求項6】 強制排気部に強制排気量を調整する調整
    弁を備えた請求項5記載のリフロー装置。
  7. 【請求項7】 プリント回路基板の搬送出入口の少なく
    とも一方に搬送部のプリント回路基板の搬送面に向かっ
    て吹き出す不活性ガスのカーテン部を備えた請求項5ま
    たは6記載のリフロー装置。
  8. 【請求項8】 炉体部と、この炉体部内に設けた電子部
    品を搭載したプリント回路基板を加熱する加熱部と、前
    記プリント回路基板を搬送する搬送部と、リフロー後の
    前記プリント回路基板を冷却する冷却部とを備え、前記
    冷却部に雰囲気ガスを循環するファンと、雰囲気ガス温
    度を冷却する冷却用フィンを有する熱交換器を設けたリ
    フロー装置。
  9. 【請求項9】 ファンから送風された雰囲気ガスがプリ
    ント回路基板と熱交換した後、冷却用フィンに雰囲気ガ
    ス温度を再び冷却し、冷却後の雰囲気ガスを再度前記フ
    ァンにて吸引し送風する雰囲気ガス循環経路を備えた請
    求項8記載のリフロー装置。
  10. 【請求項10】 雰囲気ガス循環経路内にヒーターと、
    雰囲気ガス中に浮遊するフラックスを分解する触媒とを
    備えた請求項8また9記載のリフロー装置。
  11. 【請求項11】 雰囲気ガス循環経路内に雰囲気ガス中
    に浮遊するフラックスを吸着するフィルターを備えた請
    求項8,9または10記載のリフロー装置。
  12. 【請求項12】 炉体部と、この炉体部内に設けた電子
    部品を搭載したプリント回路基板を加熱する加熱部と、
    前記プリント回路基板を搬送する搬送部と、不活性ガス
    の供給部と、前記炉体部へのプリント回路基板の搬送出
    入口とを備え、前記プリント回路基板の搬出入口の少な
    くとも一方に搬送部を取り囲むトンネルを備えたリフロ
    ー装置。
  13. 【請求項13】 搬送部のプリント回路基板の搬送面に
    略直角な方向に縦プレートを一つ以上設けたトンネルを
    備えた請求項12記載のリフロー装置。
  14. 【請求項14】 炉体内部またはプリント回路基板の搬
    送出入口方向に湾曲した縦プレートを備えた請求項12
    または13記載のリフロー装置。
  15. 【請求項15】 プリント回路基板を搬送する搬送部
    と、この搬送部を外気より遮断するトンネルと、このト
    ンネルとリフロー装置の出入口とを密着する接続構造を
    有する密閉コンベアとを備えたリフロー装置。
  16. 【請求項16】 不活性ガスの供給部を有する密閉コン
    ベアを備えた請求項15記載のリフロー装置。
  17. 【請求項17】 炉体部と、この炉体部内に設けた電子
    部品を搭載したプリント回路基板を加熱する加熱部と、
    このプリント回路基板を搬送する搬送部と、不活性ガス
    の供給部とを備え、前記搬送部のプリント回路基板の搬
    送面下に搬送方向と略直角方向に垂直に縦プレートを一
    枚以上備えたリフロー装置。
  18. 【請求項18】 プリント回路基板の搬送面下に縦送方
    向と略直角方向に垂直に複数枚の縦プレートと、これら
    縦プレートを搬送方向につなげた構造を備えた請求項1
    7記載のリフロー装置。
  19. 【請求項19】 リフロー半田付け後の状態を認識する
    検査機を備えたリフロー装置を用い、前記検査機の検査
    結果を解析し、前記リフロー装置のリフロー条件にフィ
    ードバックする機能と、前記検査結果より最適リフロー
    条件を解析し設定するリフロー方法。
  20. 【請求項20】 検査結果をクリーム半田の印刷条件に
    フィードバックする機能と、前記検査結果を解析し、最
    適印刷条件と最適リフロー条件を解析し設定する請求項
    19記載のリフロー方法。
  21. 【請求項21】 検査結果を電子部品のマウント条件に
    フィードバックする機能と、検査結果を解析し、最適マ
    ウント条件と最適リフロー条件を解析し設定する請求項
    19または20記載のリフロー方法。
JP21109992A 1992-08-07 1992-08-07 リフロー装置 Expired - Fee Related JP3404768B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21109992A JP3404768B2 (ja) 1992-08-07 1992-08-07 リフロー装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21109992A JP3404768B2 (ja) 1992-08-07 1992-08-07 リフロー装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0661640A true JPH0661640A (ja) 1994-03-04
JP3404768B2 JP3404768B2 (ja) 2003-05-12

Family

ID=16600398

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21109992A Expired - Fee Related JP3404768B2 (ja) 1992-08-07 1992-08-07 リフロー装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3404768B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5899737A (en) * 1996-09-20 1999-05-04 Lsi Logic Corporation Fluxless solder ball attachment process
EP1133219A1 (en) * 1998-10-13 2001-09-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Heating device and heating method
US6971571B2 (en) 2000-12-21 2005-12-06 Fujitsu Limited Reflow soldering apparatus and reflow soldering method
JP2013501618A (ja) * 2009-07-24 2013-01-17 フレクストロニクス エイピー エルエルシー 不活性環境用エンクロージャ
JP2020181861A (ja) * 2019-04-24 2020-11-05 株式会社タムラ製作所 搬送加熱装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH038564A (ja) * 1989-06-03 1991-01-16 Eiteitsuku Tekutoron Kk リフロー半田付け方法及び装置
JPH04182063A (ja) * 1990-11-14 1992-06-29 Tdk Corp はんだリフロー炉
JPH0475665U (ja) * 1990-11-15 1992-07-02

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH038564A (ja) * 1989-06-03 1991-01-16 Eiteitsuku Tekutoron Kk リフロー半田付け方法及び装置
JPH04182063A (ja) * 1990-11-14 1992-06-29 Tdk Corp はんだリフロー炉
JPH0475665U (ja) * 1990-11-15 1992-07-02

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5899737A (en) * 1996-09-20 1999-05-04 Lsi Logic Corporation Fluxless solder ball attachment process
EP1133219A1 (en) * 1998-10-13 2001-09-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Heating device and heating method
US6600137B1 (en) 1998-10-13 2003-07-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Heating device and heating method
EP1133219A4 (en) * 1998-10-13 2004-10-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd HEATING DEVICE AND HEATING METHOD
US6971571B2 (en) 2000-12-21 2005-12-06 Fujitsu Limited Reflow soldering apparatus and reflow soldering method
JP2013501618A (ja) * 2009-07-24 2013-01-17 フレクストロニクス エイピー エルエルシー 不活性環境用エンクロージャ
JP2020181861A (ja) * 2019-04-24 2020-11-05 株式会社タムラ製作所 搬送加熱装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP3404768B2 (ja) 2003-05-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5230460A (en) High volume convection preheater for wave soldering
JP2731665B2 (ja) リフローはんだ付け装置
JPH0661640A (ja) リフロー装置およびリフロー方法
JPH0587987U (ja) リフロー炉におけるフラックス除去兼プリント配線板冷却装置
JP3179833B2 (ja) リフロー装置
JPH11261209A (ja) 噴流はんだ付け装置
JP3445356B2 (ja) はんだ付け基板の冷却装置
JP3807890B2 (ja) はんだ付け装置
JPH055581B2 (ja)
JP4092258B2 (ja) リフロー炉およびリフロー炉の温度制御方法
JPH05161961A (ja) リフロー炉
JP3585702B2 (ja) リフローはんだ付け装置
WO2011125669A1 (ja) はんだ付け装置及び蓋体支持密閉構造
JP3933879B2 (ja) 水蒸気雰囲気による溶融はんだの酸化防止方法
JP3926084B2 (ja) フロー式はんだ付け装置
JP2001345550A (ja) はんだ付け用加熱炉
JP2502827B2 (ja) リフロ−はんだ付け装置
JP2847020B2 (ja) リフローはんだ付け装置
JP3582989B2 (ja) リフローはんだ付け装置
JPH06188556A (ja) リフロー装置
JPH1168303A (ja) リフローはんだ付け装置
JP3813027B2 (ja) はんだ付け装置
JPH08242075A (ja) 熱風吹き出しヒーター
JP3592033B2 (ja) リフローはんだ付け方法およびその装置
JPH11298135A (ja) はんだ付け用加熱炉

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080307

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090307

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees