JPH07287815A

JPH07287815A - 記録再生ヘッド用非磁性セラミックスおよびその製造方法

Info

Publication number: JPH07287815A
Application number: JP7032346A
Authority: JP
Inventors: Tsunehiko Nakamura; 恒彦中村
Original assignee: Kyocera Corp
Current assignee: Kyocera Corp
Priority date: 1994-02-25
Filing date: 1995-02-21
Publication date: 1995-10-31
Anticipated expiration: 2016-10-02
Also published as: JP3215000B2

Abstract

(57)【要約】【目的】加工時の変形を抑制できるとともに、加工時の
負荷が小さく、時間当たりの加工量が大きく、加工後の
凹凸も小さく、さらに、ディスクとの吸着力や摩擦力が
小さい摺動性に優れた非磁性セラミックスおよびその製
法を提供する。【構成】酸化チタンを１〜１７体積％と、アルミナを９
９〜８３体積％からなるもので、酸化チタンを１〜１７
体積％と、アルミナを９９〜８３体積％とからなる主成
分１００重量部に対して、ジルコニアを０．１〜５重量
部含有することが望ましい。このような非磁性セラミッ
クスは、例えば、原料の平均粒径が０．６μｍ以下の酸
化チタンを１〜１７体積％、アルミナを９９〜８３体積
％含有する混合粉末、またはこの混合粉末の成形体、或
いは前記混合粉末の焼結体をホットプレスまたは熱間静
水圧処理することにより得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば、薄膜磁気ヘッ
ド用セラミック基板，各種磁気ヘッド用スライダー，磁
気ヘッドのスペーサ，磁気記録用テープガイド等に使用
される記録再生ヘッド用非磁性セラミックスおよびその
製造方法に関するものであり、材料自体が大きな硬度、
ヤング率を有することから高い加工精度のヘッドを作製
でき、信頼性の優れた情報記録装置を提供できるととも
に、高密度化された記録媒体である記録ディスク及び記
録テープ等との摩擦力や吸着力が小さい記録再生ヘッド
用非磁性セラミックスおよびその製造方法に関するもの
である。

【０００２】

【従来技術】近年においては、磁気記録の高密度化は急
速な進歩を遂げているが、この高密度化に伴い、ハード
ディスク，８ｍｍＶＴＲ，電子スチルカメラ，ビデオフ
ロッピィーやデジタルオーディオ等の高保磁力媒体の記
録再生用磁気ヘッドとして、従来のフェライト等を使用
した磁気ヘッドに代わって、磁性薄膜を利用した磁気記
録の高密度化に好適な薄膜ヘッドが注目されている。

【０００３】磁性薄膜を利用した薄膜ヘッドは、例えば
以下のようにして作製される。先ず、直径６インチない
し直径３インチの基板の表面にアルミナのスパッタ膜を
絶縁膜として形成した後、このアルミナ膜の上面にリソ
グラフィ技術を用い数千個のトランスデューサを形成す
る。トランスデューサを形成した基板上に再び絶縁性ア
ルミナ膜を形成する。そして、スライダーとしての研磨
代を考慮して、基板から個々の磁気ヘッドを切り出すこ
とにより得られる。個々の薄膜ヘッドを含むバー材を切
り出した後、そのバー材の一面が摺動面として研磨加工
される。

【０００４】ところで、近年では、ウインチェスター型
の磁気ヘッドの記録密度の向上と共に、ディスク表面か
らの磁気ヘッドの浮上量はサブミクロン以下と小さくな
りつつあるが、磁気ディスクの内周及び外周における周
速の違いからスライダーの浮上量が変化する。この浮上
量の変化を小さくするために、浮上面に従来の正圧部を
設けるだけでなく、摺動面の一部に微小な溝（凹部）を
形成して負圧部を形成し、ディスクの内外周でヘッドの
浮上量を一定化することが提案されている。

【０００５】従って、上記のような理由から、基板から
切り出されたバー材の一面である摺動面を研磨した後、
この摺動面に溝（凹部）を形成する。この溝は、一般的
には機械加工されるが、その他数μｍの溝を有する負圧
スライダーを形成する場合はイオンビームによるミリン
グ，反応性イオンミリング，ケミカルエッチング等で加
工される。

【０００６】

【発明が解決しようとする問題点】従来の薄膜ヘッドで
は、上記切り出し加工の際にスライダー用バー材に長さ
５０ｍｍ当たり数ミクロンの反りが生じ、摺動面にある
磁気ギャップデプス（スロートハイト）の変化も数ミク
ロンとなるものの、再生記録に関する電気特性への影響
は少なかった。

【０００７】しかしながら、さらに高密度記録用の磁気
ヘッドでは、この反りによるギャップデプスのばらつき
は電気特性の低下の原因となる。そのため、スライダー
用バー材を切り出した状態での反りは長さ５０ｍｍ当た
りサブミクロン以下が必要となる。高密度記録用の磁気
ヘッド等には、従来スライダー材料としてアルミナ・炭
化チタン系材料が使用されているが、この材料系では、
スライダー用バー材を切りだした状態での反りをある程
度小さくすることはできるが、ダイヤモンド砥石による
切断加工時の負荷が大きく、短時間で精度良く切断加工
することが困難であるとの問題があった。

【０００８】更に、スライダー用バー材に溝を形成する
際には、イオンミリング等で摺動面の微細加工をする必
要もあるが、量産および精度という観点から、加工時間
と加工面の均一性は製造上重要な特性である。しかしな
がら、従来のアルミナ・炭化チタン複合材料ではイオン
ミリングによる時間当たり加工量が小さく、イオンミリ
ング後の加工面の凹凸も大きいという問題があった。即
ち、近年においてはイオンミリングによる加工速度が大
きく、加工面凹凸の小さな材料が要求されている。

【０００９】また、従来のアルミナ・炭化チタンからな
る薄膜ヘッド用スライダー材料では、ディスクとの吸着
力や摩擦力が大きく、ヘッドクラシュ等の故障の原因と
なり情報記録装置の信頼性を著しく低下させるという問
題があった。磁気ヘッドの信頼性を高める為にも、磁気
ヘッドとディスクの間に発生する摩擦力や吸着力の小さ
な、摺動特性の優れた材料が要求されていた。

【００１０】このような記録ディスクと記録または及び
再生ヘッドとの摩擦力や吸着力を軽減するために、ヘッ
ドの浮上面にクラウン等を形成して吸着力を軽減するこ
とが提案されているが、このクラウンの大きさは数ナノ
メータであり、これを精度良く作製するには加工治具、
装置の高精度化等が必要であり、この点から安価なヘッ
ドの量産を困難なものとしていた。

【００１１】本発明は、ダイヤモンド砥石等による研削
加工の変形を抑制できるとともに、精密加工が可能で研
削加工時の負荷が小さく、イオンミリング等による微細
加工において時間当たりの加工量が大きく、加工後の凹
凸も小さく、さらに、ディスクとの吸着力や摩擦力が小
さい摺動性に優れた非磁性セラミックスおよびその製造
方法を提供することを目的とする。

【００１２】

【問題点を解決するための手段】本発明者は、上記の問
題点に対して検討した結果、ヘッド用非磁性材料では、
材料自体のヤング率を大きくすることにより、スライダ
ー用バー材の加工時の変形を抑制することができるこ
と、また、記録再生ヘッド用非磁性セラミックスを、酸
化チタンを１〜１７体積％、アルミナを９９〜８３体積
％とから構成し、酸化チタンとしてルチル結晶相を含ま
せることにより、精密加工が可能で、研削加工負荷が小
さく、イオンミリングによる加工速度が大きく、微細加
工面における凹凸も小さく、ディスクとの摩擦力や吸着
力の小さな、摺動特性の優れた材料を得ることができる
ことを見いだし、本発明に至った。

【００１３】即ち、本発明の記録再生ヘッド用非磁性セ
ラミックスは、酸化チタンを１〜１７体積％と、アルミ
ナを９９〜８３体積％からなるもので、酸化チタンを１
〜１７体積％と、アルミナを９９〜８３体積％からなる
主成分と、この主成分１００重量部に対して、ジルコニ
アを０．１〜５重量部含有することが望ましい。このよ
うな記録再生ヘッド用非磁性セラミックスは、例えば、
原料の平均粒径が０．６μｍ以下の酸化チタンを１〜１
７体積％、アルミナを９９〜８３体積％含有する混合粉
末、またはこの混合粉末の成形体、或いは前記混合粉末
の焼結体をホットプレスまたは熱間静水圧処理すること
により得られる。或いは、例えば、原料の平均粒径が
０．６μｍ以下の酸化チタンを１〜１７体積％、アルミ
ナを９９〜８３体積％含有する混合粉末、またはこの混
合粉末の成形体、或いは前記混合粉末の焼結体をホット
プレスまたは熱間静水圧処理した後、酸化雰囲気中にお
いて８００〜１２００℃で熱処理することにより得られ
る。

【００１４】ここで、酸化チタンおよびアルミナを上記
の比率に限定したのは、酸化チタンが１体積％より少な
いと（アルミナが９９体積％よりも多いと）、酸化チタ
ンによる摺動特性及び焼結性の向上の効果が小さくなる
からであり、酸化チタンが１７体積％を越えると（アル
ミナが８３体積％よりも少なくなると）、ヤング率が小
さくなり、バー材の加工時の変形が大きくなり、スライ
ダーの浮上面を精度良く平面に加工することが困難とな
るからである。また、ミリング面粗度が大となる傾向に
あるからである。特に、摺動特性であるディスクとの摩
擦力、吸着力という点から、酸化チタンは１０〜１７体
積％、アルミナは９０〜８３体積％含有することが望ま
しく、さらには、スライダー用バー材の反り、または平
坦な摺動面を精度良く加工するという点から、酸化チタ
ンは３．６〜１０．１体積％、アルミナは９６．４〜８
９．９体積％含有することが望ましい。

【００１５】そして、本発明の非磁性セラミックスは、
酸化チタンとアルミナからなる主成分１００重量部に対
してジルコニアを０．１〜５重量部含有することが望ま
しいが、これは、ジルコニアを添加することで機械加工
時のチッピング特性を改善し、平坦な摺動面を得ること
ができるからである。ここで、主成分に対してジルコニ
アを０．１〜５重量部含有したのは、ジルコニアが０．
１重量部よりも少ない場合には、ダイヤモンドホイール
による加工、或いは溝加工で作製したエッジ部が欠け易
く、５重量部よりも多い場合には、材料のヤング率が低
下する傾向にあり好ましくないからである。酸化チタン
とアルミナからなる主成分１００重量部に対するジルコ
ニア量は、平坦な摺動面を得るという点からは３〜５重
量部、さらには高ヤング率という点からは０．１〜３重
量部含有することが望ましい。

【００１６】また、本発明の非磁性セラミックスは、体
積固有抵抗が１０¹⁰Ωｃｍ以上であることが望ましい
が、これは、体積固有抵抗が１０¹⁰Ωｃｍよりも小さい
場合には、導電材料に近くなり、電流がリークするから
である。体積固有抵抗は、絶縁材料という点からは１×
１０¹¹Ωｃｍ以上であることが望ましく、さらにはリー
ク電流の防止という点から１×１０¹²Ωｃｍ以上である
ことが最適である。本発明の非磁性セラミックスでは、
焼結体中における酸化チタンの平均結晶粒径は、１μｍ
以下であることが望ましい。これは、イオンミリングの
微細加工面の表面粗さを小さくすることができるからで
ある。酸化チタンの平均結晶粒径は、０．６μｍ以下で
あることが望ましく、特には０．３μｍ以下が望まし
い。

【００１７】さらに、本発明の非磁性セラミックスで
は、例えば、原料の平均粒径が０．６μｍ以下（マイク
ロトラックによる５０％粒径、ここで、マイクロトラッ
クによる５０％粒径とは粒径と積算体積分率のグラフに
おいて、積算体積分率５０％となる粒径をいう）の酸化
チタンとアルミナを含有する混合粉末をホットプレスま
たは熱間静水圧処理（ＨＩＰ）したり、前記混合粉末の
成形体をホットプレスまたは熱間静水圧処理したり、前
記混合粉末を上記のようにして成形、焼成した焼結体を
ホットプレスまたは熱間静水圧処理したりすることによ
り得られる。これらの中でも特に真空焼成炉、酸化雰囲
気焼成炉等により作製した予備焼結体を熱間静水圧処理
することが望ましい。

【００１８】尚、酸化チタンの原料の平均粒径を０．６
μｍ以下としたのは、０．６μｍよりも大きいと焼結温
度が高くなるため、アルミナ結晶の粒径が大きくなり、
焼結体中にポアが残存し、これを除去することが困難と
なるからである。また、焼結体が緻密化されてもイオン
ミリングにより微細加工した加工面の表面粗さＲａが１
００ｎｍ以上と大きくなり、例えばスライダー材料とし
て適切でないからである。この酸化チタンの原料粒径は
０．３μｍ以下、特には０．２μｍ以下であることが望
ましい。

【００１９】また、焼成するにホットプレスまたは熱間
静水圧処理を採用するのは、焼結体中の１μｍ以上のポ
アを除去できるからである。ホットプレス処理はカーボ
ン型において圧力５０〜５００ｋｇｆ／ｃｍ²、１１０
０〜１３００℃で０．５〜１時間行い、熱間静水圧処理
はアルゴンまたは窒素雰囲気において圧力５００〜２０
００ｋｇｆ／ｃｍ²、１０００〜１３００℃で１時間行
うのが適当である。

【００２０】本発明においては、ホットプレスまたは熱
間静水圧処理した後、酸化性雰囲気において８００〜１
２００℃で熱処理することが望ましいが、これは体積固
有抵抗を大きくするためである。ここで、８００〜１２
００℃で熱処理したのは、８００℃以下であると充分体
積固有抵抗を大きくすることができないからであり、１
２００℃よりも高い温度で熱処理するとポアを発生させ
るからである。

【００２１】

【作用】スライダーの浮上面を鏡面加工する際、ディス
クに対面する浮上面の平坦度はその浮上量の低下に従い
厳しくコントロールする必要が生じている。図１に、鏡
面加工時にワークに荷重をかけた状態でのワークの変形
量を有限要素法で計算した模式図を示す。このような状
態は、ワーク固定治具に、例えば、接着剤で固定した場
合、接着剤の効果により端部にｆの力が作用する。尚、
ワーク形状は４ｍｍ×１．３ｍｍ×２．５ｍｍであり、
荷重を１．０ｋｇｆとした。そして、ヤング率が１３０
００ｋｇｆ／ｍｍ²、２５０００ｋｇｆ／ｍｍ²、４０
０００ｋｇｆ／ｍｍ²と異なる材料についてそれぞれ計
算した結果、ワークの変形量Δｘは２．１９×１０^-4、
１．１４×１０^-4、７．１３×１０^-5であり、ヤング率
が大きい程変形が小さくなることが判る。これより、ヤ
ング率の大きな材料ほど変形が少なく平面度の小さい面
に加工できることが判る。

【００２２】そこで、本発明の記録再生ヘッド用非磁性
セラミックスは、ヤング率の大きいアルミナに対して、
摺動特性の優れた酸化チタンを均一に分散させることに
より、材料自体のヤング率を向上し、ダイヤモンド砥石
等による研削加工時の変形を抑制することが可能となる
とともに、精密加工が可能で研削加工時の負荷を小さく
し、イオンミリングによる加工速度が大きく、加工後の
凹凸も小さく、さらに、ディスクとの摩擦力や吸着力を
小さくすることが可能となる。

【００２３】また、上記酸化チタンとアルミナからなる
主成分に対してジルコニアを含有させることにより、機
械加工時のチッピング特性を改善し、加工後の表面粗さ
を向上することが可能となる。

【００２４】さらに、酸化チタンの原料粒径を０．６μ
ｍ以下（マイクロトラックによる５０％粒径）とするこ
とにより、ホットプレスまたはＨＩＰ処理をする前の予
備焼成時の温度範囲を１１７５〜１３００℃と広い範囲
に設定することができ、９５％以上の相対密度を有する
予備焼結体が得られ、その後のＨＩＰ処理が可能とな
る。しかも、このような原料粒径が０．６μｍ以下の酸
化チタンを用いることにより、焼結体の平均結晶粒径が
１．０μｍ以下の微細な結晶粒径を有するコンポジット
材料を作製できる。酸化チタンの原料粒径が０．６μｍ
以上では予備焼成温度の範囲が限られ、相対密度９５％
以上の安定した予備焼結体を得ることが困難となるから
である。予備焼成温度が高くなるに伴い酸化チタン結晶
の粒径が大きくなり、１３００℃を越えると酸化チタン
とアルミナは反応し、チタン酸アルミニウムを合成し、
硬度、ヤング率の低下を示すことから、チタン酸アルミ
ニウムはＸ線回折測定では検出されない程度であること
が必要である。また、予備焼成温度の高い、または原料
粒径が大きく焼結体の酸化チタンの平均結晶粒径が１μ
ｍ以上である材料は、イオンミリングにより微細加工し
た加工面の表面粗さＲａが１００ｎｍ以上と大きく、ス
ライダー材料として適切でなかった。

【００２５】また、スライダーの絶縁性を高めるために
はアルゴン雰囲気による熱間静水圧加圧処理（ＨＩＰ）
が望ましく、カーボン型ホットプレス処理で作製した材
料は体積固有抵抗が１０⁴Ωｃｍと小さい。さらに、絶
縁性を必要とする場合には、ホットプレス処理やＨＩＰ
処理した材料を酸化性雰囲気で熱処理することで体積固
有抵抗を１０¹⁰Ωｃｍ以上とすることができる。

【００２６】

【実施例】

実施例１酸化チタンとして平均粒径０．６μｍの原料とアルミナ
として平均粒径０．４４μｍの原料を、焼結体組成が表
１となるように秤量し、アルミナボールを媒体として粉
砕混合した。混合した原料を乾燥し、４０メッシュを通
し整粒した後、カーボン型に充填し３５０ｋｇｆ／ｃｍ
²の加圧力を加え１１５０℃〜１３００℃の温度でホッ
トプレス処理した。焼結体の特性を表１に示す。

【００２７】

【表１】

【００２８】ここで、密度はアルキメデス法を使い、硬
度はＡＶＫ（（株）明石製作所製）の硬度計を使い測定
した。測定条件はビッカース圧子により荷重２０ｋｇｆ
を１５秒間加えた後、その圧子による圧痕の大きさから
測定した。強度は３ｍｍ×４ｍｍの断面を有する試験片
を作製し、３０ｍｍのスパンで３点曲げ試験法により測
定した。この時のヘッドのスピードを０．５ｍｍ／ｍｉ
ｎとした。ヤング率は強度測定と同じ形状のサンプルを
作製し、パルスエコー法により測定した。ポアの有無は
１μｍのダイヤモンド砥粒を使い研磨した後、走査型電
子顕微鏡で研磨面を観察し１μｍ以上のポアの有無を観
察した。

【００２９】次に、体積固有抵抗を３ｍｍ×４ｍｍ×４
０ｍｍのテストピースの両端に銀ペーストを塗布して４
端子法で測定した。また、同時に酸化雰囲気中で１１０
０℃の温度で２時間熱処理した後の試料の体積固有抵抗
を測定した。また、熱処理前の試料をカウフマン型ミラ
トロン（コモンウェルス社製）のアルゴンソース源を使
いミリング加工し、ミリング速度およびミリング面粗度
を求めた。加速電圧は８００Ｖとし、試料の加工面の法
線と４５度となる角度からアルゴンビームを照射した。
比較のためにアルミナ・炭化チタンコンポジット材料
（ＴＦ７００Ｈ）を同時にミリング加工した。表面粗さ
はデジタルインスツルメンツ社製のナノスコープ２原子
間力顕微鏡（ＡＦＭ）を使用した。ＡＦＭにはオリンパ
ス（株）で製造した窒化珪素製の探針先端曲率Ｒ１０ｎ
ｍ〜Ｒ３０ｎｍの探針を使用した。

【００３０】また、この測定視野は１０μｍ角とした。
ミリング速度は表面粗さ計を使いミリングした面とカバ
ーした面の段差を測定することで測定した。

【００３１】この表１より、本発明の非磁性セラミック
スは、ヤング率が３８０ＧＰａ以上であり、焼結体中に
は１μｍ以上のポアが存在せず、ミリング速度も１００
Ａ／ｍｉｎ以上であり、しかもミリング面粗度も良好な
特性を有していることが判る。これに対して、従来のア
ルミナ・炭化チタンコンポジット材料では、ヤング率が
３９８ＧＰａと高いが、加工時の負荷が大きく、ミリン
グ速度も遅く、ミリング面粗さＲａが大きいことが判
る。

【００３２】次に、熱処理前の試料に１．６×２．２×
０．９ｍｍのサイズの２本のレールを有するスライダー
を作製し、榛名通信（株）製のＣＳＳテスタ−を使い、
ＣＳＳ回数とディスクのダメージ、ヘッドのダメージを
評価する試験を行った。試験方法は、ディスク上にスラ
イダーを摺動させることにより行い、ディスクの最大回
転速度を３６００ｒｐｍとし、停止時から３６００ｒｐ
ｍとなる時間を５秒間とし、３６００ｒｐｍで３秒間保
持した後、５秒後に停止し、停止状態を５秒間とした。
この動作をＣＳＳ回数１回とした。その結果、試料Ｎo.
１２の材料では、ＣＳＳ回数が３００００回でディスク
やヘッドに損傷を与えるのに対して、Ｎo.２〜５，７〜
１１の試料では、ＣＳＳ回数が４００００回でもディス
クやヘッドにおけるダメージがなく、優れた摺動特性を
示すことを確認した。

【００３３】実施例２酸化チタンとして平均粒径０．５５μｍの原料とアルミ
ナとして平均粒径０．４４μｍの原料を、焼結体組成が
表２となるように秤量し、アルミナボールを媒体として
粉砕混合した。混合した原料を乾燥し、４０メッシュを
通し整粒した後、バインダーとしてパラフィンワックス
を加え造粒した。そしてこれを成形した後、１１７５℃
から１３００℃で予備焼成した。予備焼成体の比重と組
成から計算した相対密度を表２に示す。

【００３４】

【表２】

【００３５】これらの予備焼結体をアルゴン雰囲気にお
いて１２００〜１３００℃で１時間ＨＩＰ処理し、実施
例１と同様に、密度、硬度、強度、ヤング率、ポアの有
無、ミリング速度、ミリング面粗度および体積固有抵抗
を測定し、表２に記した。体積固有抵抗は、ＨＩＰ後
と、実施例１と同様に酸化雰囲気中で１１００℃の温度
で、２時間熱処理した後の値を記した。尚、本発明の試
料１４〜２０のＨＩＰ後の相対密度は９９．５％以上で
あり、緻密な焼結体となっていた。また、実施例１と同
様にして熱処理前の試料について摺動特性を調べたとこ
ろ、試料Ｎo.１４〜２０では、ＣＳＳ回数が４００００
回でもディスクやヘッドにおけるダメージがなく、優れ
た摺動特性を示すことを確認した。

【００３６】比較例酸化チタンとして平均粒径１．５μｍの原料とアルミナ
として０．４４μｍの原料を、焼結体組成が表３になる
ように秤量し、アルミナボールを媒体として粉砕混合し
た。混合した原料を乾燥し、４０メッシュを通し整粒し
た後、バインダーとしてパラフィンワックスを加え造粒
した。成形した後、酸化性雰囲気において１１７５〜１
３５０℃で２時間予備焼成した。予備焼成体の比重と組
成から計算した相対密度を表３に示す。

【００３７】

【表３】

【００３８】これらの予備焼結体をアルゴン雰囲気にお
いて１２００〜１３５０℃で１時間ＨＩＰ処理した。し
かし、相対密度９９％以上の緻密な焼結体は作製できな
かった。このことから、酸化チタンの平均粒径が１．５
μｍの原料を用いた場合には、ＨＩＰ処理しても緻密な
焼結体を作製できないことが判る。

【００３９】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の記録再生ヘ
ッド用非磁性セラミックスでは、材料自体のヤング率を
高くすることができ、これにより、加工時の変形が小さ
く、浮上面の平坦度を精度良くコントロールでき、微細
加工が可能で、加工速度が大きく、微細加工面における
凹凸も小さく、ヘッドとディスクの間に発生する摩擦力
や吸着力の小さな、摺動特性の優れた材料を得ることが
できる。これにより、例えば、薄膜磁気ヘッド用セラミ
ック基板、各種磁気ヘッド用スライダー、磁気ヘッドの
スペーサ、磁気テープ用ガイド等に最適な記録再生ヘッ
ド用非磁性セラミックスを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】鏡面加工時にワークに荷重をかけた状態でのワ
ークの変形量を有限要素法で計算した模式図である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】酸化チタンを１〜１７体積％と、アルミナ
を９９〜８３体積％からなることを特徴とする記録再生
ヘッド用非磁性セラミックス。
【請求項２】酸化チタンを１〜１７体積％と、アルミナ
を９９〜８３体積％とからなる主成分と、この主成分１
００重量部に対して、ジルコニアを０．１〜５重量部含
有することを特徴とする記録再生ヘッド用非磁性セラミ
ックス。
【請求項３】原料の平均粒径が０．６μｍ以下の酸化チ
タンを１〜１７体積％、アルミナを９９〜８３体積％含
有する混合粉末、またはこの混合粉末の成形体、或いは
前記混合粉末の焼結体をホットプレスまたは熱間静水圧
処理することを特徴とする記録再生ヘッド用非磁性セラ
ミックスの製造方法。
【請求項４】原料の平均粒径が０．６μｍ以下の酸化チ
タンを１〜１７体積％、アルミナを９９〜８３体積％含
有する混合粉末、またはこの混合粉末の成形体、或いは
前記混合粉末の焼結体をホットプレスまたは熱間静水圧
処理した後、酸化雰囲気中において８００〜１２００℃
で熱処理することを特徴とする記録再生ヘッド用非磁性
セラミックスの製造方法。