JPH07283088A - 処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 不純ガスによる被処理体の汚染を低減させる
ことができると共に、処理室内の雰囲気をキャリア処理
空間部と被処理体処理空間部とに容易に隔絶することが
できる処理装置を提供する。 【構成】 処理室内１を、複数枚の被処理体Ｗを収容し
たキャリア７の搬入搬出、保管及び搬送等を行うキャリ
ア処理空間部２３と、熱処理炉２を収容し、この熱処理
炉２内に搬入搬出される被処理体保持具５と前記キャリ
ア７との間での被処理体Ｗの移載等を行う被処理体処理
空間部２４とに分ける。これらキャリア処理空間部２３
と被処理体処理空間部２４とにクリーンエアを導入、循
環及び排気するクリーンエア循環系２５，２６を独立し
て設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体装置の製造工程において
は、被処理体である半導体ウエハに酸化、拡散、ＣＶＤ
などの各種の処理を施す工程があり、この処理工程にお
けるスループットの向上、無塵化及び省スペース化等を
図る観点から、種々の処理装置が提案されている（特開
平４−１３３４２２号公報、特開平４−１４８７１７号
公報、特開平４−１４８１４０号公報等参照）。

【０００３】例えば、特開平４−１３３４２２号公報に
記載された処理装置は、被処理体保持具であるウエハボ
ートを介して一度に多数枚の半導体ウエハの熱処理が可
能な縦型の熱処理炉を箱状の処理室内の後部上方に収容
し、この処理室内の前部に複数枚の半導体ウエハを垂直
に収容したキャリアを搬入搬出するためのキャリア搬出
入口を設けている。この場合、半導体ウエハを前記熱処
理炉内に搬入搬出されるウエハボートに水平状態で多数
枚移載する必要があることから、前記搬出入口の近傍に
はキャリアを半導体ウエハが垂直から水平になるように
姿勢変換する姿勢変換機構が設けられ、この姿勢変換機
構の上方には姿勢変換されたキャリアを処理に必要な個
数だけ収容保管するキャリア保管部が設けられている。
そして、このキャリア保管部からキャリアを搬送機構に
より熱処理炉側に順次搬送し、そのキャリア内の半導体
ウエハを移載機構により前記ウエハボートに順次移載す
るようになっている。

【０００４】また、前記処理室内には、その上方外部か
ら導入したクリーンエアを前記キャリア保管部に水平に
吹き出す第１の空気清浄部と、この第１の空気清浄部か
ら吹き出されたクリーンエアを吸い込んで前記キャリア
搬出入口に沿って下方へ吹き出す第２の空気清浄部と、
この第２の空気清浄部から吹き出されて下方に至ったク
リーンエアを底部ダクトを介して吸い込んで前記熱処理
炉側の一側壁部から他側壁部に向って水平に吹き出す第
３の空気清浄部と、その他側壁部に至ったクリーンエア
を処理室の後方外部へ排気する排気ダクトとが設けられ
ている。これにより前記処理室内の雰囲気を清浄化して
塵埃を低減させ、半導体ウエハに対する塵埃（パーティ
クル）の付着を抑制して、超微細化傾向にある半導体素
子の歩留りの向上を図っている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記処
理装置においては、処理室内においてクリーンエアを空
気洗浄部に何回も通過させるため、塵埃による半導体ウ
エハの汚染を十分に防止することが可能であるが、空気
洗浄部の除塵用フィルタから発生するボロン化合物等の
有機化合物の不純ガスによる汚染が微量ではあるが増大
する傾向があり、その防止対策を施す必要がある。

【０００６】また、クリーンエアを処理室内の全体に順
次連続的に循環させるように構成されているため、処理
室内の雰囲気をキャリアの搬入搬出、保管及び搬送等を
行うキャリア処理空間部と、熱処理炉を収容し、キャリ
アとウエハボートの間での半導体ウエハの移載等を行う
ウエハ処理空間部（被処理体処理空間部）とに隔絶する
ことが困難である。

【０００７】そこで、本発明の目的は、不純ガスによる
被処理体の汚染を低減させることができると共に、処理
室内の雰囲気をキャリア処理空間部と被処理体処理空間
部とに容易に隔絶することができる処理装置を提供する
ことにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に請求項１記載の処理装置は、処理室内を、複数枚の被
処理体を収容したキャリアの搬入搬出、保管及び搬送等
を行うキャリア処理空間部と、熱処理炉を収容し、この
熱処理炉内に搬入搬出される被処理体保持具と前記キャ
リアとの間での被処理体の移載等を行う被処理体処理空
間部とに分け、これらキャリア処理空間部と被処理体処
理空間部とにクリーンエアを導入、循環及び排気するク
リーンエア循環系を独立して設けたことを特徴とする。

【０００９】また、請求項２記載の処理装置は、請求項
１記載の処理装置において、前記キャリア処理空間部の
クリーンエア循環系が、前記処理室の上方外部から導入
したクリーンエアをキャリア処理空間部の上方に設けら
れたキャリア保管部に水平に吹き出す第１の空気清浄部
と、この第１の空気清浄部から吹き出されたクリーンエ
アを吸い込んで前記処理室の前部に設けられたキャリア
搬出入口に沿って下方へ吹き出す第２の空気清浄部と、
この第２の空気清浄部から吹き出されて下方に至ったク
リーンエアを上方外部へ排気する排気ダクト部とを備え
たことを特徴とする。

【００１０】更に、請求項３記載の処理装置は、請求項
１記載の処理装置において、前記被処理体処理空間部の
クリーンエア循環系が、前記処理室の後方外部から導入
したクリーンエアを前記被処理体処理空間部の一側壁部
から他側壁部に向って水平に吹き出す第３の空気清浄部
と、この第３の空気清浄部から吹き出されて他側壁部に
至ったクリーンエアを後方外部へ排気する排気部とを備
えたことを特徴とする。

【００１１】

【作用】請求項１記載の処理装置によれば、処理室内を
キャリア処理空間部と被処理体処理空間部とに分け、こ
れら処理空間部にクリーンエア循環系を独立してそれぞ
れ設けたので、クリーンエアを空気清浄部に何回も通過
させて処理室内の全体を連続的に循環させる従来の処理
装置と比べて、クリーンエアを空気清浄部に通過させる
回数が減り、空気清浄部の除塵用フィルタから発生する
不純ガスによる被処理体の汚染を特別な防止対策を必要
とせずに簡単な構成で低減させることが可能となる。ま
た、処理室内の雰囲気をキャリア処理空間部と被処理体
処理空間部とに容易に隔絶することが可能となるため、
被処理体処理空間部のみを不活性ガス雰囲気にするなど
の所望の処理方法を容易に適用することが可能となる。

【００１２】請求項２記載の処理装置によれば、前記キ
ャリア処理空間部のクリーンエア循環系が、前記処理室
の上方外部から導入したクリーンエアを第１の空気清浄
部を介してキャリア処理空間部上方のキャリア保管部に
水平に吹き出し、この吹き出されたクリーンエアを第２
の空気清浄部を介して前記処理室前部のキャリア搬出入
口に沿って下方へ吹き出し、この吹き出されて下方に至
ったクリーンエアを排気ダクト部を介して上方外部へ排
気するため、キャリア処理空間部の雰囲気を独立して効
率よく清浄化することが可能となる。

【００１３】請求項３記載の処理装置によれば、前記被
処理体処理空間部のクリーンエア循環系が、前記処理室
の後方外部から導入したクリーンエアを第３の空気清浄
部を介して前記被処理体処理空間部の一側壁部から他側
壁部に向って水平に吹き出し、この吹き出されて他側壁
部に至ったクリーンエアを排気部を介して後方外部へ排
気するため、被処理体処理空間部の雰囲気を独立して効
率よく清浄化することが可能となる。

【００１４】

【実施例】以下に、本発明の一実施例を添付図面に基づ
いて詳述する。

【００１５】処理装置の側断面図構成を示す図１におい
て、１は処理装置のハウジングを形成する例えば鉄板等
により箱状に形成された処理室であり、この処理室１内
の後部上方には下部に炉口を有する円筒状の反応管、そ
の周囲を覆うように配置されたヒータ及び断熱材等から
なる縦型の熱処理炉２が設置されている。

【００１６】この熱処理炉２の下方の空間部（ローディ
ングエリア）には図５にも示すように炉口を開閉する蓋
体３が昇降機構４により昇降可能に設けられ、この蓋体
３上には被処理体である半導体ウエハＷを水平状態で上
下方向に所定の間隔を存して多数枚例えば１５０枚程度
保持する被処理体保持具である例えば石英製のウエハボ
ート５が保温筒６を介して載置されている。半導体ウエ
ハＷを保持したウエハボート６は、蓋体３の昇降に伴っ
て保温筒６と共に前記熱処理炉２内に搬入搬出（ロー
ド、アンロード）されるように構成されている。

【００１７】一方、前記処理室１の前部には半導体ウエ
ハＷを垂直に複数枚例えば２５枚程度収容するプラスチ
ック容器であるキャリア７を搬入搬出するために図示し
ない透明材質製のスライドドアを備えたキャリア搬出入
口８が設けられ、処理室１内のキャリア搬出入口８近傍
にはキャリア７を載置する載置台９を有し、この載置台
９を介してキャリア７をキャリア７内の半導体ウエハＷ
が垂直から水平になるように姿勢変換する姿勢変換機構
１０が設けられている。なお、この姿勢変換機構１０と
しては、例えば特開平４−１４８７１７号公報に記載さ
れているような公知のものが適用可能であり、前記載置
台９には半導体ウエハＷの周縁部に形成されたオリエン
テーションフラット等の切欠部が所定方向に向くように
半導体ウエハＷを整列させる整列機構、半導体ウエハＷ
の枚数等を検知するウエハセンサ等が設けられていても
よい。また、前記載置台９等には載置台９の上方から下
方へ流れるクリーンエアの気流を通過させるための多数
の図示しない通気孔が形成されている（図示省略）。

【００１８】そして、姿勢変換機構１０の上方領域には
姿勢変換されたキャリア７を複数個収容する棚状のキャ
リア保管部１１が設けられと共に、熱処理炉２側には前
記キャリア７を半導体ウエハＷの移載のために載置する
移載部１２が設けられ、キャリア保管部１１と移載部１
２との間にはキャリア７の搬送を行う搬送機構１３が、
移載部１２とローディグエリアのウエハボート５との間
には半導体ウエハＷの移載を行う移載機構１４がそれぞ
れ設けられている。

【００１９】本実施例のキャリア保管部１１は前記載置
台９と平行に走行可能に設けられた搬送機構１３の走行
空間部を挟んで前後に設けられ、後部キャリア保管部１
１Ａには左右及び上下に計１２個のキャリア７を、前部
キャリア保管部１１Ｂには左右及び上下に計４個のキャ
リア７をそれぞれ収容保管できるように構成されてい
る。また、本実施例の移載部１２は後部キャリア保管部
１１Ａの下方に配置され、キャリア７を上下に２個載置
できるように構成されている。

【００２０】前記搬送機構１３は、支柱１５を有する走
行部１６と、その支柱１５に昇降可能に設けられた昇降
フレーム１７と、この昇降フレーム１７に水平方向に屈
伸可能に設けられてキャリア７の下部を支持する搬送ア
ーム１８とを備えている。この搬送機構１３は、載置台
９とキャリア保管部１１との間、キャリア保管部１１と
移載部１２との間、及び載置台９と移載部１２との間で
キャリア７の受取り受渡しができるように構成されてい
る。

【００２１】また、前記移載機構１４は、昇降可能に設
けられた昇降フレーム１９と、この昇降フレーム１９上
に水平回動可能に設けられた矩形の回動フレーム２０
と、この回動フレーム２０上にその長手方向に沿って往
復移動可能に設けられた移動体２１と、この移動体２１
の移動方向一端に設けられ、複数枚例えば５枚程度の半
導体ウエハＷを上下方向に適宜間隔で支持する平板状の
移載アーム２２とを備えている。この移載機構１４は、
処理前の半導体ウエハＷを移載部１２のキャリア７内か
ら順次取り出してウエハボート５に移載し、また、処理
後の半導体ウエハＷをウエハボート５から順次取り出し
てキャリア７内に移載するように構成されている。

【００２２】このように処理室１内は、キャリア７の搬
入搬出、保管及び搬送等を行うキャリア処理空間部２３
と、熱処理炉２を収容し、この熱処理炉２内に搬入搬出
されるウエハボート５と前記キャリア７との間での半導
体ウエハＷの移載等を行うウエハ処理空間部（被処理体
処理空間部）２４とに分けられている。そして、これら
キャリア処理空間部２３とウエハ処理空間部２４とに
は、図２ないし図３に示すようにクリーンエアを導入、
循環及び排気するクリーンエア循環系２５，２６が互に
独立して設けられている。

【００２３】前記キャリア処理空間部２３のクリーンエ
ア循環系２５は、前記処理室１の上方外部から導入した
クリーンエアをキャリア処理空間部２３上方のキャリア
保管部１１に水平に吹き出す第１の空気清浄部２７と、
この第１の空気清浄部２７から吹き出されたクリーンエ
アを吸い込んで前記処理室１前部のキャリア搬出入口８
に沿って下方へ吹き出す第２の空気清浄部２８と、この
第２の空気清浄部２８から吹き出されて下方に至ったク
リーンエアを上方外部へ排気する排気ダクト部２９とを
備えている。前記第１の空気清浄部２７は、前記後部キ
ャリア保管部１１Ａの背面部に設置された箱状のケーシ
ング３０を備えており、図４に示すようにこのケーシン
グ３０の上端部には処理室１外であるクリーンルーム内
に開口した吸気口３１が設けられ、この吸気口３１には
通気性に優れたスポンジ状或いはメッシュ状のプレフィ
ルタ３２が取付けられている。

【００２４】前記ケーシング３０の前面部はキャリア保
管部１１に臨んで開放されており、この開放部にクリー
ンルームから導入されたクリーンエアに含まれている塵
埃を除去する例えばＨＥＰＡフィルタ等からなる第１の
除塵用フィルタ３３が取付けられている。また、ケーシ
ング３０内には吸気口３１からクリーンエアを吸い込ん
で前記第１の除塵用フィルタ３３を介してキャリア保管
部１１に水平に吹き出すための例えばシロッコファン等
からなる送風性に優れた複数個の送風機３４が取付けら
れており、これにより後部キャリア保管部１１Ａから前
部キャリア保管部１１Ｂに向うクリーンエアの水平気流
Ｘが形成され、キャリア保管部１１に保管されたキャリ
ア７内に水平に収容されている半導体ウエハＷ間の雰囲
気を清浄に維持できるように構成されている。

【００２５】前記前部キャリア保管部１１Ｂの下部で前
記キャリア搬出入口８の上部には、前記第２の空気清浄
部２８が設けられている。この第２の空気清浄部２８
は、下部が開放され、上部に前部キャリア保管部１１Ｂ
の背面部に立上がった偏平な吸気ダクト部３５を有する
ケーシング３６を備えており、その吸気ダクト部３５の
キャリア保管部１１に臨む面にはパンチング加工された
多数の吸気孔３７が形成されている。また、ケーシング
３６の下部開放部には前記第１の除塵用フィルタ３３と
同様の第２の除塵用フィルタ３８が取付けられ、ケーシ
ング３６内には前記吸気孔３７から吸い込んだクリーン
エアを第２の除塵用フィルタ３８を介して下方へ吹き出
すための送風機３９が取付けられている。これにより前
部キャリア保管部１１Ｂからキャリア搬出入口８に沿っ
て下方へ向うクリーンエアの垂直気流Ｙが形成され、姿
勢変換機構１０の載置台９上に載置されたキャリア７内
に垂直に収容されている半導体ウエハＷ間の雰囲気を清
浄に維持できるように構成されている。

【００２６】前記垂直気流Ｙの下流で移載部１２の下部
には、前記排気ダクト部２９が設けられている。この排
気ダクト部２９は、処理室１内の底部を横断する如く水
平に配置されたダクト本体４０と、このダクト本体４０
の一側部に連通接続され、上端部が処理室１の上方外部
に排気口４１として開口された垂直ダクト４２とから主
に構成されており、ダクト本体４０の前面部には複数の
排気用送風機４３が取付けられている。

【００２７】一方、前記ウエハ処理空間部２４のクリー
ンエア循環系２６は、前記処理室１の後方外部から導入
したクリーンエアを前記ウエハ処理空間部２４の一側壁
部から他側壁部に向って水平に吹き出す第３の空気清浄
部４４と、この第３の空気清浄部４４から吹き出されて
他側壁部に至ったクリーンエアを後方外部へ排気する排
気部４５とを備えている。具体的には、処理室１の後部
には保守点検用の開口部及びこれを開閉するドア４６が
設けられ、このドア４６の下側に吸気口４７が形成され
ており、前記第３の空気清浄部４４はその吸気口４７を
介して処理室１の後方外部からクリーンエアを導入する
ようになっている。この第３の空気清浄部４４は、図５
に示すようにローディングエリアの一側壁部に取付けら
れた偏平なケーシング４８を備え、このケーシング４８
の前面下部に吸込口４９が形成されている。このケーシ
ング４８の吸込口４９上方の前面部は開放されており、
この開放部に前記第１の除塵用フィルタ３３と同様の第
３の除塵用フィルタ５０が取付けられている。

【００２８】また、前記吸込口４９内には吸気口４７か
ら導入したクリーンエアを吸い込んで前記第３の除塵用
フィルタ５０を介してローディングエリアに水平に吹き
出すための送風機５１が取付けられており、これにより
ローディングエリアで対向する一側壁部から他側壁部に
向うクリーンエアの水平気流Ｚが形成され、ウエハボー
ト５に水平に移載される半導体ウエハＷ間の雰囲気を清
浄に維持できると共に、熱処理炉２から搬出されたウエ
ハボート５及び熱処理後の半導体ウエハＷを冷却できる
ように構成されている。そして、処理室１の後壁下部に
おける前記他側壁部近傍には、例えば排気ファンからな
る前記排気部４５が設けられ、他側壁部に至ったクリー
ンエアを処理室１の後方外部へ排気するようになってい
る。

【００２９】次に、実施例の作用を述べる。先ず、キャ
リア７を例えば搬送ロボット等により処理装置のキャリ
ア搬出入口８から姿勢変換機構１０の載置台９上に載置
した後、この載置台９を介してキャリア７を９０度回動
させて半導体ウエハＷが垂直から水平になるように姿勢
変換する。そして、このキャリア７を搬送機構１３によ
りキャリア保管部１１へ搬送し、以上の動作を繰り返し
て所望個数のキャリア７をキャリア保管部１１に収容す
る。

【００３０】しかる後、順次キャリア保管部１１のキャ
リア７を搬送機構１３により移載部１２に搬送し、移載
機構１４によりこのキャリア７内の半導体ウエハＷをロ
ーディングエリアに降ろされているウエハボート５に移
載する。この場合、空になったキャリア７は搬送機構１
３により順次キャリア保管部１１へ戻される。

【００３１】そして、所望枚数の半導体ウエハＷの移載
が終了すると、昇降機構４によりウエハボート５及び保
温筒６を熱処理炉２内に搬入すると共に炉口を蓋体３で
閉じ、所定時間、所定温度、所定雰囲気で所望の熱処理
を実施し、熱処理が終了すると、ウエハボート５を熱処
理炉２内からローディングエリアへ搬出する。なお、処
理後の半導体ウエハＷは冷却後、前記とは逆の手順で順
次ウエハボート５からキャリア７内に移載され、そのキ
ャリア７はキャリア保管部１１に搬送されて保管され、
その後、姿勢変換機構１０の載置台９を介してキャリア
搬出入口８から処理室１外へ搬出される。

【００３２】このようなキャリア７及び半導体ウエハＷ
の搬送、移載等の処理工程において、キャリア処理空間
部２３では先ず第１の空気清浄部２７により処理室１の
上方外部からプレフィルタ３２を介して導入したクリー
ンエアを第１の除塵フィルタ３３を介して水平気流Ｘと
してキャリア保管部１１に吹き出し、次いで第２の空気
清浄部２８により前記水平気流Ｘのクリーンエアを吸気
ダクト部３５の吸気孔３７から吸込んで第２の除塵用フ
ィルタ３８を介して垂直気流Ｙとして下方へ吹き出し、
次いで排気ダクト部３５により前記垂直気流Ｙのクリー
ンエアをダクト本体４０に吸込んで垂直ダクト４２を介
して処理室１の上方外部へ排気する。従って、前記クリ
ーンエアの水平気流Ｘにより前後のキャリア保管部１１
Ａ，１１Ｂに保管されたキャリア７内に水平に収容され
ている半導体ウエハＷ間の雰囲気を清浄に維持すること
ができると共に、前記クリーンエアの垂直気流Ｙにより
姿勢変換機構１０の載置台９上に載置されたキャリア７
内に垂直に収容されている半導体ウエハＷ間の雰囲気を
清浄に維持することができる。

【００３３】また、ウエハ処理空間部２４では先ず第３
の空気清浄部４４により処理室１の後方外部から吸気口
４７を介して導入したクリーンエアを第３の除塵用フィ
ルタ５０を介して水平気流Ｚとしてローディングエリア
に吹き出し、次いで排気部４５により前記水平気流Ｚの
クリーンエアを処理室１の後方外部に排気する。従っ
て、前記クリーンエアの水平気流Ｚによりウエハボート
５に水平に移載される半導体ウエハＷ間の雰囲気を清浄
に維持することができると共に、熱処理炉２からローデ
ィングエリアに搬出されたウエハボート５及び熱処理後
の半導体ウエハＷを効率よく冷却することができる。

【００３４】特に、処理室１内をキャリア処理空間部２
３とウエハ処理空間部２４とに分け、これらキャリア処
理空間部２３とウエハ処理空間部２４とにクリーンエア
循環系２５，２６を互に独立して設けたので、クリーン
エアを空気清浄部に何回も通過させて処理室内の全体を
連続的に循環させる従来の処理装置と比べて、クリーン
エアを空気清浄部に通過させる回数を減らすことがで
き、空気清浄部の除塵用フィルタから発生する不純ガス
による半導体ウエハの汚染を特別な防止対策を必要とせ
ずに簡単な構成で十分に低減させることができる。しか
も、独立したクリーンエア循環系２５，２６によりキャ
リア処理空間部２３とウエハ処理空間部２４とに個別に
クリーンエアを供給、循環させるため、各クリーンエア
循環系２５，２６の送風量は少なくて済み、送風機３
４，３９，４３，５１の小型化、延いては処理装置の小
型化が図れる。

【００３５】また、このようにキャリア処理空間部２３
とウエハ処理空間部２４とにクリーンエア循環系２５，
２６を独立して設けたことから、例えばキャリア処理空
間部２３とウエハ処理空間部２４とを開閉シャッター等
で仕切ることにより処理室１内の雰囲気をキャリア処理
空間部２３とウエハ処理空間部２４とに容易に隔絶する
ことができるため、ウエハ処理空間部２４のみを不活性
ガス雰囲気例えば窒素（Ｎ₂）ガス雰囲気にするなどの
所望の処理方法を容易に適用することが可能となる。な
お、この場合には、前記吸気口４７及び排気部４５は遮
蔽され、ウエハ処理空間部２４には不活性ガス専用の給
排手段によって不活性ガスが給排されることになる。更
に、前記処理装置においては、キャリア処理空間部２３
のクリーンエア循環系２５の吸気口３１及び排気口４１
が処理室１の上部に配設されていると共に、ウエハ処理
空間部２４のクリーンエア循環系２６の吸気口４７及び
排気部４５が処理室１の後部に配設されているため、複
数台の処理装置を隣接して設置した場合でも、クリーン
エアの吸排を支障なく行うことができる。

【００３６】なお、本発明は、前記実施例に限定される
ものではなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施
が可能である。例えば、実施例における第１〜第３の空
気清浄部２７，２８，４４に第１〜第３の除塵用フィル
タ３３，３８，５０と共に不純ガスを吸着除去する例え
ば活性炭フィルタを設けてもよく、これにより不純ガス
による半導体ウエハＷの汚染を防止することが可能とな
る。また、前記実施例ではウエハ処理空間部２４のクリ
ーンエア循環系２６がドア４６に設けた吸気口４７から
クリーンエアを導入するようになっているが、この吸気
口４７の代りに第３の空気清浄部４４に吸込口４９の他
に処理室１の後方外部からクリーンエアを直接導入する
吸気口を設けてもよい。更に、本発明の処理装置に適用
される被処理体としては、半導体ウエハＷ以外に、例え
ばＬＣＤ基板等が適用可能である。

【００３７】

【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果が得られる。

【００３８】（１）請求項１記載の処理装置によれば、
処理室内をキャリア処理空間部と被処理体処理空間部と
に分け、これら処理空間部にクリーンエア循環系を独立
してそれぞれ設けたので、クリーンエアを空気清浄部に
何回も通過させて処理室内の全体を連続的に循環させる
従来の処理装置と比べて、クリーンエアを空気清浄部に
通過させる回数が減り、空気清浄部の除塵用フィルタか
ら発生する不純ガスによる被処理体の汚染を特別な防止
対策を必要とせずに簡単な構成で低減させることができ
る。また、処理室内の雰囲気をキャリア処理空間部と被
処理体処理空間部とに容易に隔絶することができるた
め、被処理体処理空間部のみを不活性ガス雰囲気にする
などの所望の処理方法を容易に適用することができる。

【００３９】（２）請求項２記載の処理装置によれば、
前記キャリア処理空間部のクリーンエア循環系が、前記
処理室の上方外部から導入したクリーンエアを第１の空
気清浄部を介してキャリア処理空間部上方のキャリア保
管部に水平に吹き出し、この吹き出されたクリーンエア
を第２の空気清浄部を介して前記処理室前部のキャリア
搬出入口に沿って下方へ吹き出し、この吹き出されて下
方に至ったクリーンエアを排気ダクト部を介して上方外
部へ排気するため、キャリア処理空間部の雰囲気を独立
して効率よく清浄化することができる。

【００４０】（３）請求項３記載の処理装置によれば、
前記被処理体処理空間部のクリーンエア循環系が、前記
処理室の後方外部から導入したクリーンエアを第３の空
気清浄部を介して前記被処理体処理空間部の一側壁部か
ら他側壁部に向って水平に吹き出し、この吹き出されて
他側壁部に至ったクリーンエアを排気部を介して後方外
部へ排気するため、被処理体処理空間部の雰囲気を独立
して効率よく清浄化することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である処理装置を示す断面図
である。

【図２】キャリア処理空間部のクリーンエア循環系を示
す斜視図である。

【図３】ウエハ処理空間部のクリーンエア循環系を示す
斜視図である。

【図４】キャリア処理空間部のクリーンエア循環系を示
す断面図である。

【図５】ウエハ処理空間部のクリーンエア循環系の一部
分を示す断面図である。

【符号の説明】

Ｗ 半導体ウエハ（被処理体） １ 処理室 ２ 熱処理炉 ５ ウエハボート（被処理体保持具） ７ キャリア ８ キャリア搬出入口 １１ キャリア保管部 ２３ キャリア処理空間部 ２４ ウエハ処理空間部（被処理体処理空間部） ２５，２６ クリーンエア循環系 ２７ 第１の空気清浄部 ２８ 第２の空気清浄部 ２９ 排気ダクト部 ４４ 第３の空気清浄部 ４５ 排気部

フロントページの続き (72)発明者 渡辺 伸吾 神奈川県津久井群城山町町屋１丁目２番41 号 東京エレクトロン東北株式会社相模事 業所内 (72)発明者 高野 恵治 岩手県江刺市岩谷堂字松長根52番地 東京 エレクトロン東北株式会社東北事業所内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理室内を、複数枚の被処理体を収容し
   たキャリアの搬入搬出、保管及び搬送等を行うキャリア
   処理空間部と、熱処理炉を収容し、この熱処理炉内に搬
   入搬出される被処理体保持具と前記キャリアとの間での
   被処理体の移載等を行う被処理体処理空間部とに分け、
   これらキャリア処理空間部と被処理体処理空間部とにク
   リーンエアを導入、循環及び排気するクリーンエア循環
   系を独立して設けたことを特徴とする処理装置。
2. 【請求項２】 前記キャリア処理空間部のクリーンエア
   循環系が、前記処理室の上方外部から導入したクリーン
   エアをキャリア処理空間部の上方に設けられたキャリア
   保管部に水平に吹き出す第１の空気清浄部と、この第１
   の空気清浄部から吹き出されたクリーンエアを吸い込ん
   で前記処理室の前部に設けられたキャリア搬出入口に沿
   って下方へ吹き出す第２の空気清浄部と、この第２の空
   気清浄部から吹き出されて下方に至ったクリーンエアを
   上方外部へ排気する排気ダクト部とを備えたことを特徴
   とする請求項１記載の処理装置。
3. 【請求項３】 前記被処理体処理空間部のクリーンエア
   循環系が、前記処理室の後方外部から導入したクリーン
   エアを前記被処理体処理空間部の一側壁部から他側壁部
   に向って水平に吹き出す第３の空気清浄部と、この第３
   の空気清浄部から吹き出されて他側壁部に至ったクリー
   ンエアを後方外部へ排気する排気部とを備えたことを特
   徴とする請求項１記載の処理装置。