JPH07281170A - カラーフィルタ製造装置 - Google Patents
カラーフィルタ製造装置Info
- Publication number
- JPH07281170A JPH07281170A JP6881094A JP6881094A JPH07281170A JP H07281170 A JPH07281170 A JP H07281170A JP 6881094 A JP6881094 A JP 6881094A JP 6881094 A JP6881094 A JP 6881094A JP H07281170 A JPH07281170 A JP H07281170A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- color filter
- treating
- time
- manufacturing apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 複数種類の処理装置を直列配置してなるカラ
ーフィルタ製造装置の処理能力を、処理能力が高い処理
装置に合せて向上させる。 【構成】 洗浄装置２、乾燥装置３、冷却装置４、塗布
装置５，６をこの順に直列配置し、しかも塗布装置５，
６に対応させてバイパスコンベア群７−１，７−２，・
・・，７−６を配置した。
ーフィルタ製造装置の処理能力を、処理能力が高い処理
装置に合せて向上させる。 【構成】 洗浄装置２、乾燥装置３、冷却装置４、塗布
装置５，６をこの順に直列配置し、しかも塗布装置５，
６に対応させてバイパスコンベア群７−１，７−２，・
・・，７−６を配置した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はカラーフィルタ製造装
置に関し、さらに詳細にいえば、液晶ディスプレイ（以
下、ＬＣＤと称する）用のカラーフィルタの製造に好適
なカラーフィルタ製造装置に関する。
置に関し、さらに詳細にいえば、液晶ディスプレイ（以
下、ＬＣＤと称する）用のカラーフィルタの製造に好適
なカラーフィルタ製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＣＤ用のカラーフィルタを製造するに
当っては、ガラス基板上への格子状のブラックマトリク
ス膜の形成、３原色の各色のパターン加工等が必須であ
り、全体として加工工程が長く、複雑である。特に、パ
ターン加工にフォトリソグラフィ技術を用いると、塗布
工程、セミキュア工程、露光工程、現像工程、ポストベ
ーク工程等が必要になり、パターン加工を実現するため
に各種処理装置が必要であり、しかも、これら処理装置
の配列を予め定められた順序に設定しておくことが必要
になる。
当っては、ガラス基板上への格子状のブラックマトリク
ス膜の形成、３原色の各色のパターン加工等が必須であ
り、全体として加工工程が長く、複雑である。特に、パ
ターン加工にフォトリソグラフィ技術を用いると、塗布
工程、セミキュア工程、露光工程、現像工程、ポストベ
ーク工程等が必要になり、パターン加工を実現するため
に各種処理装置が必要であり、しかも、これら処理装置
の配列を予め定められた順序に設定しておくことが必要
になる。
【０００３】したがって、カラーフィルタ製造装置のう
ち、上記パターン加工を行なう部分についてみれば、塗
布装置、セミキュア装置、露光装置、現像装置、ポスト
ベーク装置等がこの順に配列されることになる。この結
果、処理対象物としてのガラス基板をこれら各種装置に
順次供給することにより、ガラス基板に対する何れかの
色のパターン加工を達成することができる。
ち、上記パターン加工を行なう部分についてみれば、塗
布装置、セミキュア装置、露光装置、現像装置、ポスト
ベーク装置等がこの順に配列されることになる。この結
果、処理対象物としてのガラス基板をこれら各種装置に
順次供給することにより、ガラス基板に対する何れかの
色のパターン加工を達成することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の構成の
カラーフィルタ製造装置を採用した場合には、カラーフ
ィルタ製造装置全体としての処理能力が、処理時間が長
く、スループットが低い処理装置により規定されてしま
い、処理能力が高い処理装置を十分には活用することが
できないという不都合がある。
カラーフィルタ製造装置を採用した場合には、カラーフ
ィルタ製造装置全体としての処理能力が、処理時間が長
く、スループットが低い処理装置により規定されてしま
い、処理能力が高い処理装置を十分には活用することが
できないという不都合がある。
【０００５】さらに詳細に説明する。例えば、上記カラ
ーフィルタ製造装置のパターン加工工程のうち、塗布装
置がスピンコータである場合には、処理対象となるガラ
ス基板を１枚ずつハンドリングすることになるので、ハ
ンドリングのためのメカニカルタクトタイムが約３０秒
であり、実塗布時間を含めると、１枚のガラス基板当り
約６０秒の処理時間が必要になる。また、ローラ搬送に
よる連続処理を行なうようにして処理時間を短縮して
も、３０秒程度に短縮できるだけである。これに対し
て、例えば、露光装置は、塗布された塗膜の全範囲に対
する光学的走査を行なうだけでよいから、上記塗布装置
の処理時間よりも著しく短い処理時間がかかるだけであ
る。また、他の処理装置についても、それぞれ処理時間
が異なっている。
ーフィルタ製造装置のパターン加工工程のうち、塗布装
置がスピンコータである場合には、処理対象となるガラ
ス基板を１枚ずつハンドリングすることになるので、ハ
ンドリングのためのメカニカルタクトタイムが約３０秒
であり、実塗布時間を含めると、１枚のガラス基板当り
約６０秒の処理時間が必要になる。また、ローラ搬送に
よる連続処理を行なうようにして処理時間を短縮して
も、３０秒程度に短縮できるだけである。これに対し
て、例えば、露光装置は、塗布された塗膜の全範囲に対
する光学的走査を行なうだけでよいから、上記塗布装置
の処理時間よりも著しく短い処理時間がかかるだけであ
る。また、他の処理装置についても、それぞれ処理時間
が異なっている。
【０００６】そして、これら処理時間が互に異なる複数
の処理装置が直列に配列され、１枚のガラス基板がこれ
ら複数の処理装置に順次供給されるのであるから、カラ
ーフィルタ製造装置全体として、約６０秒に１枚の処理
しか達成できず、処理時間が短い処理装置を十分には活
用することができないという不都合がある。
の処理装置が直列に配列され、１枚のガラス基板がこれ
ら複数の処理装置に順次供給されるのであるから、カラ
ーフィルタ製造装置全体として、約６０秒に１枚の処理
しか達成できず、処理時間が短い処理装置を十分には活
用することができないという不都合がある。
【０００７】
【発明の目的】この発明は上記の問題点に鑑みてなされ
たものであり、処理時間が長い処理装置を含んでいるカ
ラーフィルタ製造装置の処理能力を、全体として、最も
処理時間が短い処理装置と同程度にまで高めることを目
的としている。
たものであり、処理時間が長い処理装置を含んでいるカ
ラーフィルタ製造装置の処理能力を、全体として、最も
処理時間が短い処理装置と同程度にまで高めることを目
的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの、請求項１のカラーフィルタ製造装置は、カラーフ
ィルタ製造装置を構成する処理装置のうち、処理時間が
長い方の処理装置を複数台配置するとともに、処理対象
物を該当する処理装置に供給する搬送手段を設け、製造
装置全体としての処理能力を、製造装置を構成する処理
装置のうち、処理時間が短く、スループットが高い処理
装置に合せてなるものである。
めの、請求項１のカラーフィルタ製造装置は、カラーフ
ィルタ製造装置を構成する処理装置のうち、処理時間が
長い方の処理装置を複数台配置するとともに、処理対象
物を該当する処理装置に供給する搬送手段を設け、製造
装置全体としての処理能力を、製造装置を構成する処理
装置のうち、処理時間が短く、スループットが高い処理
装置に合せてなるものである。
【０００９】請求項２のカラーフィルタ製造装置は、処
理時間が長い処理装置が、処理時間が最も短い処理装置
の処理時間と当該処理装置の処理時間とに基づいて定ま
る台数だけ配置されてある。請求項３のカラーフィルタ
製造装置は、搬送手段として、複数台配置された処理装
置のうちの１台をバイパスするバイパス搬送手段と、受
取った処理対象物を処理装置、バイパス搬送手段の何れ
か一方に供給する供給用搬送手段と、バイパス搬送手
段、処理装置から処理対象物を受取って次段に供給する
送出用搬送手段とを含むものを採用している。
理時間が長い処理装置が、処理時間が最も短い処理装置
の処理時間と当該処理装置の処理時間とに基づいて定ま
る台数だけ配置されてある。請求項３のカラーフィルタ
製造装置は、搬送手段として、複数台配置された処理装
置のうちの１台をバイパスするバイパス搬送手段と、受
取った処理対象物を処理装置、バイパス搬送手段の何れ
か一方に供給する供給用搬送手段と、バイパス搬送手
段、処理装置から処理対象物を受取って次段に供給する
送出用搬送手段とを含むものを採用している。
【００１０】
【作用】請求項１のカラーフィルタ製造装置であれば、
少なくとも２種類以上の処理装置を直列に配置してなる
カラーフィルタ製造装置によりカラーフィルタを製造す
るに当って、製造装置を構成する処理装置のうち、処理
時間が長い方の処理装置を複数台配置するとともに、処
理対象物を該当する処理装置に供給する搬送手段を設け
ているのであるから、処理時間が長い方の各処理装置に
おいて、それぞれ処理対象物に対する処理を互に並行し
て行なわせることができ、１つの処理対象物当りに換算
した処理時間を処理時間が短い処理装置の処理時間とほ
ぼ等しくすることができる。この結果、処理時間が短い
処理装置の処理能力を十分に発揮させることができ、し
かもカラーフィルタ製造装置全体としての処理能力を処
理時間が短い処理装置の処理能力に近付けることができ
る。したがって、各処理装置の処理能力を高めることな
く、カラーフィルタの生産性を高めることができる。
少なくとも２種類以上の処理装置を直列に配置してなる
カラーフィルタ製造装置によりカラーフィルタを製造す
るに当って、製造装置を構成する処理装置のうち、処理
時間が長い方の処理装置を複数台配置するとともに、処
理対象物を該当する処理装置に供給する搬送手段を設け
ているのであるから、処理時間が長い方の各処理装置に
おいて、それぞれ処理対象物に対する処理を互に並行し
て行なわせることができ、１つの処理対象物当りに換算
した処理時間を処理時間が短い処理装置の処理時間とほ
ぼ等しくすることができる。この結果、処理時間が短い
処理装置の処理能力を十分に発揮させることができ、し
かもカラーフィルタ製造装置全体としての処理能力を処
理時間が短い処理装置の処理能力に近付けることができ
る。したがって、各処理装置の処理能力を高めることな
く、カラーフィルタの生産性を高めることができる。
【００１１】請求項２のカラーフィルタ製造装置であれ
ば、処理時間が長い処理装置が、処理時間が最も短い処
理装置の処理時間と当該処理装置の処理時間とに基づい
て定まる台数だけ配置されてあるので、１つの処理対象
物当りに換算した処理時間を全ての処理装置において互
にほぼ等しくすることができる。この結果、処理時間が
短い処理装置の処理能力を十分に発揮させることがで
き、しかもカラーフィルタ製造装置全体としての処理能
力を処理時間が短い処理装置の処理能力に十分に近付け
ることができる。したがって、各処理装置の処理能力を
高めることなく、カラーフィルタの生産性を十分に高め
ることができる。
ば、処理時間が長い処理装置が、処理時間が最も短い処
理装置の処理時間と当該処理装置の処理時間とに基づい
て定まる台数だけ配置されてあるので、１つの処理対象
物当りに換算した処理時間を全ての処理装置において互
にほぼ等しくすることができる。この結果、処理時間が
短い処理装置の処理能力を十分に発揮させることがで
き、しかもカラーフィルタ製造装置全体としての処理能
力を処理時間が短い処理装置の処理能力に十分に近付け
ることができる。したがって、各処理装置の処理能力を
高めることなく、カラーフィルタの生産性を十分に高め
ることができる。
【００１２】請求項３のカラーフィルタ製造装置であれ
ば、搬送手段として、複数台配置された処理装置のうち
の１台をバイパスするバイパス搬送手段と、受取った処
理対象物を処理装置、バイパス搬送手段の何れか一方に
供給する供給用搬送手段と、バイパス搬送手段、処理装
置から処理対象物を受取って次段に供給する送出用搬送
手段とを含むものを採用しているので、処理装置のサイ
ズ、配置位置の変更等に簡単に対処することができ、し
かも、搬送後の戻り動作所要時間による制約を排除する
ことができる。
ば、搬送手段として、複数台配置された処理装置のうち
の１台をバイパスするバイパス搬送手段と、受取った処
理対象物を処理装置、バイパス搬送手段の何れか一方に
供給する供給用搬送手段と、バイパス搬送手段、処理装
置から処理対象物を受取って次段に供給する送出用搬送
手段とを含むものを採用しているので、処理装置のサイ
ズ、配置位置の変更等に簡単に対処することができ、し
かも、搬送後の戻り動作所要時間による制約を排除する
ことができる。
【００１３】
【実施例】以下、実施例を示す添付図面によってこの発
明を詳細に説明する。図１はこの発明のカラーフィルタ
製造装置の一実施例の要部を概略的に示す図であり、ガ
ラス基板１を洗浄する洗浄装置２、乾燥させる乾燥装置
３、冷却する冷却装置４、膜を形成する塗布装置５，
６、およびバイパスコンベア群７−１，７−２，・・
・，７−６を含んでいる。
明を詳細に説明する。図１はこの発明のカラーフィルタ
製造装置の一実施例の要部を概略的に示す図であり、ガ
ラス基板１を洗浄する洗浄装置２、乾燥させる乾燥装置
３、冷却する冷却装置４、膜を形成する塗布装置５，
６、およびバイパスコンベア群７−１，７−２，・・
・，７−６を含んでいる。
【００１４】上記洗浄装置２は純水等を用いてガラス基
板１を洗浄するものであり、乾燥装置３はヒータ等を用
いてガラス基板１を加熱することによりガラス基板１の
乾燥を達成するものであり、冷却装置４はクーリングプ
レート等を用いて、乾燥装置３により加熱されたガラス
基板１を冷却するものであり、塗布装置５，６はスピン
コータ等を用いてガラス基板１の表面に感光性レジスト
膜等を形成するものである。また、洗浄装置２、乾燥装
置３、冷却装置４は、例えば、ローラ搬送による連続処
理装置であって、処理タクトタイムが３０秒である。こ
れに対して、両塗布装置５，６は、例えば、図示しない
アームによりガラス基板１をハンドリングするスピンコ
ータであって処理タクトタイムが６０秒である。
板１を洗浄するものであり、乾燥装置３はヒータ等を用
いてガラス基板１を加熱することによりガラス基板１の
乾燥を達成するものであり、冷却装置４はクーリングプ
レート等を用いて、乾燥装置３により加熱されたガラス
基板１を冷却するものであり、塗布装置５，６はスピン
コータ等を用いてガラス基板１の表面に感光性レジスト
膜等を形成するものである。また、洗浄装置２、乾燥装
置３、冷却装置４は、例えば、ローラ搬送による連続処
理装置であって、処理タクトタイムが３０秒である。こ
れに対して、両塗布装置５，６は、例えば、図示しない
アームによりガラス基板１をハンドリングするスピンコ
ータであって処理タクトタイムが６０秒である。
【００１５】そして、バイパスコンベア７−２，７−５
は、それぞれ塗布装置５，６と並行に配置されてなるも
のであり、該当する塗布装置をバイパスさせてガラス基
板１を搬送することができるようにしてある。バイパス
コンベア７−１，７−３は、それぞれバイパスコンベア
７−２と塗布装置５との間においてガラス基板１を搬送
するためのものであり、例えば、平面視フォーク状のピ
ンセット本体（図示せず）がバイパスコンベア７−２の
端部と塗布装置５の端部との間を往復動作することによ
り、ガラス基板１をバイパスコンベア７−２または塗布
装置５に供給し、また、バイパスコンベア７−２または
塗布装置５からガラス基板１を受け取ることができる。
バイパスコンベア７−４，７−６は、それぞれバイパス
コンベア７−５と塗布装置６との間においてガラス基板
１を搬送するためのものであり、例えば、平面視フォー
ク状のピンセット本体（図示せず）がバイパスコンベア
７−５の端部と塗布装置６の端部との間を往復動作する
ことにより、ガラス基板１をバイパスコンベア７−５ま
たは塗布装置６に供給し、また、バイパスコンベア７−
５または塗布装置６からガラス基板１を受け取ることが
できる。さらに、バイパスコンベア７−３，７−４の間
では、例えば、任意の位置でガラス基板１の授受を行な
うことができる。
は、それぞれ塗布装置５，６と並行に配置されてなるも
のであり、該当する塗布装置をバイパスさせてガラス基
板１を搬送することができるようにしてある。バイパス
コンベア７−１，７−３は、それぞれバイパスコンベア
７−２と塗布装置５との間においてガラス基板１を搬送
するためのものであり、例えば、平面視フォーク状のピ
ンセット本体（図示せず）がバイパスコンベア７−２の
端部と塗布装置５の端部との間を往復動作することによ
り、ガラス基板１をバイパスコンベア７−２または塗布
装置５に供給し、また、バイパスコンベア７−２または
塗布装置５からガラス基板１を受け取ることができる。
バイパスコンベア７−４，７−６は、それぞれバイパス
コンベア７−５と塗布装置６との間においてガラス基板
１を搬送するためのものであり、例えば、平面視フォー
ク状のピンセット本体（図示せず）がバイパスコンベア
７−５の端部と塗布装置６の端部との間を往復動作する
ことにより、ガラス基板１をバイパスコンベア７−５ま
たは塗布装置６に供給し、また、バイパスコンベア７−
５または塗布装置６からガラス基板１を受け取ることが
できる。さらに、バイパスコンベア７−３，７−４の間
では、例えば、任意の位置でガラス基板１の授受を行な
うことができる。
【００１６】上記の構成のカラーフィルタ製造装置の作
用は次のとおりである。洗浄装置２、乾燥装置３および
冷却装置４によるガラス基板１の処理（前処理）のタク
トタイムが３０秒であるから、前処理が施されたガラス
基板１は、３０秒毎に冷却装置４から送り出される。そ
して、例えば基数番目のガラス基板１はバイパスコンベ
ア７−１により塗布装置５に供給され、偶数番目のガラ
ス基板１はバイパスコンベア７−１によりバイパスコン
ベア７−２に供給される。したがって、ガラス基板１は
交互に塗布装置５、バイパスコンベア７−２に供給され
ることになる。即ち、塗布処理が完了する前に供給され
るガラス基板１はバイパスコンベア７−２、７−３、７
−４により塗布装置５をバイパスして塗布装置６に供給
される。また、塗布装置５による処理が完了したガラス
基板１は、バイパスコンベア７−３，７−４によりバイ
パスコンベア７−５に供給される。さらに、バイパスコ
ンベア７−５により搬送されたガラス基板１または塗布
装置６による処理が行なわれたガラス基板１はバイパス
コンベア７−６により搬出され、次段の処理装置（例え
ば、加熱乾燥装置）に供給される。この結果、塗布装置
５と塗布装置６とにおいては、互に約３０秒だけ処理進
行時間がずれた状態でガラス基板１に対する処理を並行
して行なうことができ、ガラス基板１枚当りに換算した
処理タクトタイムを約３０秒にすることができる。
用は次のとおりである。洗浄装置２、乾燥装置３および
冷却装置４によるガラス基板１の処理（前処理）のタク
トタイムが３０秒であるから、前処理が施されたガラス
基板１は、３０秒毎に冷却装置４から送り出される。そ
して、例えば基数番目のガラス基板１はバイパスコンベ
ア７−１により塗布装置５に供給され、偶数番目のガラ
ス基板１はバイパスコンベア７−１によりバイパスコン
ベア７−２に供給される。したがって、ガラス基板１は
交互に塗布装置５、バイパスコンベア７−２に供給され
ることになる。即ち、塗布処理が完了する前に供給され
るガラス基板１はバイパスコンベア７−２、７−３、７
−４により塗布装置５をバイパスして塗布装置６に供給
される。また、塗布装置５による処理が完了したガラス
基板１は、バイパスコンベア７−３，７−４によりバイ
パスコンベア７−５に供給される。さらに、バイパスコ
ンベア７−５により搬送されたガラス基板１または塗布
装置６による処理が行なわれたガラス基板１はバイパス
コンベア７−６により搬出され、次段の処理装置（例え
ば、加熱乾燥装置）に供給される。この結果、塗布装置
５と塗布装置６とにおいては、互に約３０秒だけ処理進
行時間がずれた状態でガラス基板１に対する処理を並行
して行なうことができ、ガラス基板１枚当りに換算した
処理タクトタイムを約３０秒にすることができる。
【００１７】したがって、洗浄装置２、乾燥装置３およ
び冷却装置４によるガラス基板１の処理を殆ど中断する
ことなく、連続的にガラス基板１の処理を行なうことが
でき、カラーフィルタ製造装置全体としてのタクトタイ
ムを洗浄装置２、乾燥装置３および冷却装置４のタクト
タイムとほぼ等しくすることができる。即ち、塗布装置
５，６におけるタクトタイムが長いにも拘らず、洗浄装
置２、乾燥装置３および冷却装置４の処理能力とほぼ等
しい処理能力を達成することができる。
び冷却装置４によるガラス基板１の処理を殆ど中断する
ことなく、連続的にガラス基板１の処理を行なうことが
でき、カラーフィルタ製造装置全体としてのタクトタイ
ムを洗浄装置２、乾燥装置３および冷却装置４のタクト
タイムとほぼ等しくすることができる。即ち、塗布装置
５，６におけるタクトタイムが長いにも拘らず、洗浄装
置２、乾燥装置３および冷却装置４の処理能力とほぼ等
しい処理能力を達成することができる。
【００１８】また、この実施例においては、バイパスコ
ンベア７−１，７−２，・・・，７−６により塗布処理
の並列化を達成しているので、塗布装置５，６のサイ
ズ、配置が変化した場合には、何れかのバイパスコンベ
アとして最適な長さのものを採用し、および／またはバ
イパスコンベアの配置位置を変更することにより簡単に
対処することができる。即ち、塗布装置５，６のサイ
ズ、配置位置等の自由度を高めることができる。具体的
には、塗布装置５，６をガラス基板１の搬送方向に並べ
る代わりに、ガラス基板１の搬送方向と直交する方向に
並べることが可能である。
ンベア７−１，７−２，・・・，７−６により塗布処理
の並列化を達成しているので、塗布装置５，６のサイ
ズ、配置が変化した場合には、何れかのバイパスコンベ
アとして最適な長さのものを採用し、および／またはバ
イパスコンベアの配置位置を変更することにより簡単に
対処することができる。即ち、塗布装置５，６のサイ
ズ、配置位置等の自由度を高めることができる。具体的
には、塗布装置５，６をガラス基板１の搬送方向に並べ
る代わりに、ガラス基板１の搬送方向と直交する方向に
並べることが可能である。
【００１９】
【発明の効果】以上のように請求項１の発明は、処理時
間が長い方の各処理装置において、それぞれ処理対象物
に対する処理を互に並行して行なわせることができ、１
つの処理対象物当りに換算した処理時間を処理時間が短
い処理装置の処理時間とほぼ等しくすることができるの
で、処理時間が短い処理装置の処理能力を十分に発揮さ
せることができ、しかもカラーフィルタ製造装置全体と
しての処理能力を処理時間が短い処理装置の処理能力に
近付けることができ、ひいては、各処理装置の処理能力
を高めることなく、カラーフィルタの生産性を高めるこ
とができるという特有の効果を奏する。
間が長い方の各処理装置において、それぞれ処理対象物
に対する処理を互に並行して行なわせることができ、１
つの処理対象物当りに換算した処理時間を処理時間が短
い処理装置の処理時間とほぼ等しくすることができるの
で、処理時間が短い処理装置の処理能力を十分に発揮さ
せることができ、しかもカラーフィルタ製造装置全体と
しての処理能力を処理時間が短い処理装置の処理能力に
近付けることができ、ひいては、各処理装置の処理能力
を高めることなく、カラーフィルタの生産性を高めるこ
とができるという特有の効果を奏する。
【００２０】請求項２の発明は、１つの処理対象物当り
に換算した処理時間を全ての処理装置において互にほぼ
等しくすることができるので、処理時間が短い処理装置
の処理能力を十分に発揮させることができ、しかもカラ
ーフィルタ製造装置全体としての処理能力を処理時間が
短い処理装置の処理能力に十分に近付けることができ、
ひいては、各処理装置の処理能力を高めることなく、カ
ラーフィルタの生産性を十分に高めることができるとい
う特有の効果を奏する。
に換算した処理時間を全ての処理装置において互にほぼ
等しくすることができるので、処理時間が短い処理装置
の処理能力を十分に発揮させることができ、しかもカラ
ーフィルタ製造装置全体としての処理能力を処理時間が
短い処理装置の処理能力に十分に近付けることができ、
ひいては、各処理装置の処理能力を高めることなく、カ
ラーフィルタの生産性を十分に高めることができるとい
う特有の効果を奏する。
【００２１】請求項３の発明は、処理装置のサイズ、配
置位置の変更等に簡単に対処することができ、しかも、
搬送後の戻り動作所要時間による制約を排除することが
できるという特有の効果を奏する。
置位置の変更等に簡単に対処することができ、しかも、
搬送後の戻り動作所要時間による制約を排除することが
できるという特有の効果を奏する。
【図１】この発明のカラーフィルタ製造装置の一実施例
の要部を概略的に示す図である。
の要部を概略的に示す図である。
１ ガラス基板 ２ 洗浄装置 ３ 乾燥装置 ４ 冷却装置 ５，６ 塗布装置 ７−１，７−２，・・・，７−６
バイパスコンベア群
バイパスコンベア群
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくとも２種類以上の処理装置（２）
（３）（４）（５）（６）を直列に配置してなるカラー
フィルタ製造装置において、製造装置を構成する処理装
置（２）（３）（４）（５）（６）のうち、処理時間が
長い方の処理装置（５）（６）を複数台配置するととも
に、処理対象物（１）を該当する処理装置（５）（６）
に供給する搬送手段（７−１）（７−２）（７−３）
（７−４）（７−５）（７−６）を設け、製造装置全体
としての処理能力を、製造装置を構成する処理装置
（２）（３）（４）（５）（６）のうち、処理時間が短
く、スループットが高い処理装置（２）（３）（４）に
合せたことを特徴とするカラーフィルタ製造装置。 - 【請求項２】 処理時間が長い処理装置（５）（６）
が、処理時間が最も短い処理装置（２）（３）（４）の
処理時間と当該処理装置（５）（６）の処理時間とに基
づいて定まる台数だけ配置されてある請求項１に記載の
カラーフィルタ製造装置。 - 【請求項３】 搬送手段（７−１）（７−２）（７−
３）（７−４）（７−５）（７−６）が、複数台配置さ
れた処理装置（５）（６）のうちの１台をバイパスする
バイパス搬送手段（７−２）（７−５）と、受取った処
理対象物（１）を処理装置（５）（６）、バイパス搬送
手段（７−２）（７−５）の何れか一方に供給する供給
用搬送手段（７−１）（７−４）と、バイパス搬送手段
（７−２）（７−５）、処理装置（５）（６）から処理
対象物（１）を受取って次段に供給する送出用搬送手段
（７−３）（７−６）とを含んでいる請求項１に記載の
カラーフィルタ製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6881094A JP3093094B2 (ja) | 1994-04-06 | 1994-04-06 | カラーフィルタ製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6881094A JP3093094B2 (ja) | 1994-04-06 | 1994-04-06 | カラーフィルタ製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07281170A true JPH07281170A (ja) | 1995-10-27 |
| JP3093094B2 JP3093094B2 (ja) | 2000-10-03 |
Family
ID=13384447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6881094A Expired - Fee Related JP3093094B2 (ja) | 1994-04-06 | 1994-04-06 | カラーフィルタ製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3093094B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007147686A (ja) * | 2005-11-24 | 2007-06-14 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置及び製造方法 |
| JP2018197119A (ja) * | 2017-05-24 | 2018-12-13 | 株式会社ウイスト | 搬送処理装置 |
-
1994
- 1994-04-06 JP JP6881094A patent/JP3093094B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007147686A (ja) * | 2005-11-24 | 2007-06-14 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置及び製造方法 |
| JP4696872B2 (ja) * | 2005-11-24 | 2011-06-08 | 凸版印刷株式会社 | 液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置及び製造方法 |
| JP2018197119A (ja) * | 2017-05-24 | 2018-12-13 | 株式会社ウイスト | 搬送処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3093094B2 (ja) | 2000-10-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4407970B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| TWI288455B (en) | Substrate recovery method and substrate processing apparatus | |
| JP4542577B2 (ja) | 常圧乾燥装置及び基板処理装置及び基板処理方法 | |
| KR101366407B1 (ko) | 처리 시스템 | |
| JP2002110506A (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
| JP3576831B2 (ja) | 処理装置 | |
| JP3093094B2 (ja) | カラーフィルタ製造装置 | |
| JP4538884B2 (ja) | 大型基板の露光装置 | |
| JP7186605B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| KR101633517B1 (ko) | 기판 처리 시스템 | |
| KR100348939B1 (ko) | 포토리소그라피 공정을 위한 반도체 제조장치 | |
| JPH08321537A (ja) | 処理装置及び処理方法 | |
| JP4266045B2 (ja) | カラーフィルタパネルの製造装置 | |
| JP3732388B2 (ja) | 処理装置および処理方法 | |
| KR102256215B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
| JP4219447B2 (ja) | 現像処理装置および現像処理方法 | |
| JP2004056122A (ja) | 処理装置 | |
| JP2000286223A (ja) | 基板の搬送装置及び処理装置 | |
| JP4406463B2 (ja) | カラーフィルタパネルの製造装置 | |
| JP2004146625A (ja) | ベーキング方法及びベーキング装置 | |
| JP2877744B2 (ja) | 半導体基板のレジスト処理装置 | |
| JP2001053125A (ja) | 処理システム | |
| KR100984360B1 (ko) | 노광 시스템 | |
| JP3629404B2 (ja) | 処理装置 | |
| JP2013247197A (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090728 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |