JPH0728051A

JPH0728051A - 液晶表示装置の製造方法

Info

Publication number: JPH0728051A
Application number: JP5280361A
Authority: JP
Inventors: Akio Suzuki; 昭男鈴木
Original assignee: Citizen Watch Co Ltd
Current assignee: Citizen Watch Co Ltd
Priority date: 1993-04-08
Filing date: 1993-10-14
Publication date: 1995-01-31

Abstract

(57)【要約】【構成】基板６上にカラーフィルター５を形成する工
程と、全面に感光性オーバーコート膜４を形成する工程
と、開口端の遮光クロム膜２の膜厚が階段状に変化した
フォトマスクを用いて感光性オーバーコート膜を露光す
る工程と、現像処理を行い感光性オーバーコート膜をパ
ターニングする工程と、透明導電膜を形成する工程とを
有する。【効果】感光性オーバーコート膜の段差領域で、透明
導電膜の膜厚が薄くなることや、透明導電膜の断線は発
生しない。そして、カラーフィルター領域の平坦性に優
れた、しかも基板上の密着強度の強い透明導電膜を有す
るカラー液晶表示装置を製造することが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は感光性オーバーコート膜
に被覆されたカラーフィルターを有する液晶表示装置の
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラー液晶表示装置におけるカラーフィ
ルターの製造方法は印刷法、電着法、染色法などが挙げ
られる。

【０００３】このカラー液晶表示装置は、カラーフィル
ターの上に透明導電膜を形成するために、表面平坦性、
耐薬品性、耐透明導電膜スパッタリング性などに優れた
感光性オーバーコート膜をカラーフィルター上に形成す
る。そして感光性オーバーコート膜上に透明導電膜を形
成し、透明導電膜をパターニング形成したカラーフィル
ターを有する液晶表示装置が用いられている。

【０００４】カラーフィルター上に感光性オーバーコー
ト膜を形成する手法として、カラーフィルター上の領域
のみに形成する印刷法と、感光性オーバーコート膜を基
板全面に回転塗布法により形成し、その後パターニング
する方法とが一般的に用いられる。

【０００５】この後者の感光性オーバーコート膜を基板
の全面に回転塗布法により形成し、その後感光性オーバ
ーコート膜のパターニングを行う方法を、図１２と図１
３とを用いて説明する。図１２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）
はネガ型の感光性オーバーコート膜を形成する方法を示
す断面図である。そして図１３は、図１２に示す感光性
オーバーコート膜の段差部を拡大して示す断面図であ
る。以下図１２と図１３とを交互に用いて説明する。

【０００６】まず図１２（ａ）に示すように、カラーフ
ィルター５を形成した基板６上の全面に、回転塗布法に
より、感光性オーバーコート膜４を形成する。

【０００７】その後、フォトマスク透明基板上に遮光ク
ロム膜を選択的に形成したフォトマスク１を用いて、感
光性オーバーコート膜４の露光処理を行う。

【０００８】その後、露光処理を行った感光性オーバー
コート膜４を現像処理して、図１２（ｂ）に示すよう
に、感光性オーバーコート膜４をパターニングする。

【０００９】その後、図１２（ｃ）に示すように、全面
に透明導電膜７を形成し、感光性オーバーコート膜４上
に、透明導電膜７からなる表示電極７ｂと引き出し電極
７ａとを形成する。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】従来の製造方法により
形成した感光性オーバーコート膜４のコーナー部は、図
１３に示すように、その断面形状はほぼ直角になってい
る。

【００１１】そのため、２〜１０μｍの厚さの感光性オ
ーバーコート膜４に１００〜３００ｎｍの膜厚の透明導
電膜７を形成すると、透明導電膜７の段差被覆性が悪
く、透明導電膜７が図１３に示すように、感光性オーバ
ーコート膜４のコーナーの段差部で膜厚が薄くなり、さ
らに段差部で透明導電膜７が断線するという課題を有す
る。

【００１２】この課題を解決するため、本発明の目的
は、透明導電膜をパターニング形成する際に、感光性オ
ーバーコート膜と基板との段差部で透明導電膜に断線欠
陥の発生しない、カラーフィルターを有する液晶表示装
置の製造方法を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の液晶表示装置の製造方法は、下記記載の手
段を採用する。

【００１４】本発明の液晶表示装置の製造方法において
は、基板上にカラーフィルターを形成する工程と、全面
に感光性オーバーコート膜を形成する工程と、開口端の
遮光クロム膜の膜厚が階段状に変化したフォトマスクを
用いて感光性オーバーコート膜を露光する工程と、現像
処理を行い感光性オーバーコート膜をパターニングする
工程と、透明導電膜を形成する工程とを有することを特
徴とする。

【００１５】本発明の液晶表示装置の製造方法において
は、基板上にカラーフィルターを形成する工程と、全面
に感光性オーバーコート膜を形成する工程と、開口端の
遮光クロム膜が開口幅の異なる複数のスリットを有する
フォトマスクを用いて感光性オーバーコート膜を露光す
る工程と、現像処理を行い感光性オーバーコート膜をパ
ターニングする工程と、透明導電膜を形成する工程とを
有することを特徴とする。

【００１６】本発明の液晶表示装置の製造方法は、基板
上にカラーフィルターを形成する工程と、全面に感光性
オーバーコート膜を形成する工程と、露光装置を用いて
Ｘ軸方向、Ｙ軸方向のいずれかの方向に基板、あるいは
フォトマスクを段階的に移動し、多段ステップ露光を行
い感光性オーバーコート膜を露光する工程と、現像処理
を行い感光性オーバーコート膜をパターニングする工程
と、透明導電膜を形成する工程とを有することを特徴と
する。

【００１７】本発明の液晶表示装置の製造方法は、基板
上にカラーフイルターを形成する工程と、全面に感光性
オーバーコート膜を形成する工程と、露光装置を用いて
Ｘ軸方向、Ｙ軸方向のいずれかの方向に基板、あるいは
フォトマスクを連続的に移動しスイープ露光を行い感光
性オーバーコート膜を露光する工程と、現像処理を行い
感光性オーバーコート膜をパターニングする工程と、透
明導電膜を形成する工程とを有することを特徴とする。

【００１８】

【作用】カラーフィルター上に形成される感光性オーバ
ーコート膜は、カラーフィルターの表面凹凸を緩和する
平坦性に優れ、耐薬品性、耐透明導電膜スパッタリング
性を備えている材料が好ましい。

【００１９】さらに、感光性オーバーコート膜は、その
特性を発揮させるためには一般的に２〜１０μｍの膜厚
が必要とされる。通常の露光用のフォトマスクでパター
ン形成された感光性オーバーコート膜上に、１００〜３
００ｎｍの膜厚の透明導電膜を膜形成した後に、透明導
電膜からなる引き出し電極と表示電極とを、フォトリソ
技術とエッチング技術とで形成すると、前述のように感
光性オーバーコート膜と基板との段差部で透明導電膜の
段差被覆性が悪く、透明導電膜が断線する。

【００２０】本発明の製造方法によるフォトマスクを用
いて形成された感光性オーバーコート膜のコーナー部
は、階段状に形成される。またさらに、露光装置を用い
てＸ軸方向、Ｙ軸方向のいずれかの方向に基板、あるい
はフォトマスクを段階的に移動する多段ステップ露光、
または基板、あるいはフォトマスクを連続的に移動する
スイープ露光による本発明の製造方法によって形成され
た感光性オーバーコート膜のコーナー部は、階段状、あ
るいはテーパー状に形成される。

【００２１】このために、透明導電膜の段差被覆性が良
好になり、透明導電膜がコーナー部で膜厚が薄くなった
り、断線するということを防止することが可能になる。
さらに基板上に形成する透明導電膜である引き出し電極
と基板との密着強度が強く、平坦性に優れたカラーフィ
ルター基板を有するカラー表示の液晶表示装置を高歩留
まりで製造することができる。

【００２２】

【実施例】以下本発明の実施例における液晶表示装置の
製造方法を、図面に基づいて説明する。

【００２３】

【実施例１】以下本発明の第１の実施例を図面に基づい
て説明する。図１は本発明の第１の実施例における液晶
表示装置の製造方法を示す断面図であり、図３は図１に
示す液晶表示装置の感光性オーバーコート膜の段差部を
拡大して示す断面図である。以下図１と図３とを交互に
参照して説明する。

【００２４】まずはじめに簡単に本発明の液晶表示装置
の製造方法を説明する。

【００２５】図１に示すように、ガラスからなる基板６
の上にカラーフィルター５を形成する。このカラーフィ
ルター５の形成方法としては、印刷法、電着法、染色法
などが挙げられる。

【００２６】そしてカラーフィルター５の上に、平坦性
や、耐薬品性や、耐透明導電膜スパッタリング性に優れ
た感光性オーバーコート膜４を回転塗布法により全面に
形成した後、図１に示すような、開口端が階段状の断面
形状を有するフォトマスク１を用いて、感光性オーバー
コート膜４をパターニングする。

【００２７】その後、図３に示すように、階段状のコー
ナー部を有する感光性オーバーコート膜４上の全面に透
明導電膜７を膜形成し、この透明導電膜７をパターニン
グして、表示電極７ｂと引き出し電極７ａとを形成し、
カラーフィルターを有する液晶表示装置が得られる。

【００２８】つぎに本発明において使用したフォトマス
ク１の製造方法を説明する。

【００２９】３ｍｍの板厚を有する石英基板からなるフ
ォトマスク透明基板３に、第１層の遮光クロム膜２ａと
して膜厚約１０ｎｍのクロム膜を、開口部を有する金属
マスクを用いて真空蒸着法により形成する。

【００３０】つぎに第２層の遮光クロム膜２ｂとして膜
厚約３０ｎｍのクロム膜を、同様な方法により開口部が
第１層の遮光クロム膜２ａよりやや大きい開口部を有す
る金属マスクを用いて真空蒸着法により形成する。

【００３１】つぎに第３層の遮光クロム膜２ｃとして膜
厚約５０ｎｍのクロム膜を、同様な方法により、開口部
が第２層の遮光クロム膜２ｂよりやや大きい開口部を有
する金属マスクを用いて真空蒸着法により形成する。

【００３２】さらに、第４層の遮光クロム膜２ｄとして
膜厚約５０ｎｍのクロム膜を、同様な方法により、開口
部が第３層の遮光クロム膜２ｃよりやや大きい開口部を
有する金属マスクを用いて真空蒸着法により形成する。
この結果、第４層の遮光クロム膜２ｄまで形成した遮光
クロム膜２の形成領域は、露光光の透過率が零パーセン
トになるように構成する。

【００３３】以上の製造方法により、フォトマスク１の
開口端においては階段状に、露光光の透過率を変えるこ
とができる。

【００３４】そしてこのフォトマスク１を用いた液晶表
示装置の製造方法を、図１と図３とを用いて詳細に説明
する。

【００３５】まずはじめに、図１に示すように、基板６
上にカラーフィルター５を、染色法によって赤（Ｒ）、
緑（Ｇ）、青（Ｂ）の順序で形成する。このカラーフィ
ルター５は、１．３μｍの膜厚で形成する。

【００３６】その後、カラーフィルター５上に、透明な
アクリル樹脂系材料からなり、ネガ型を有する感光性オ
ーバーコート膜４を回転塗布法により形成する。この感
光性オーバーコート膜４は、膜厚３．０μｍで形成す
る。

【００３７】その後、感光性オーバーコート膜４を、温
度８０℃でベーキングして、感光性オーバーコート膜４
中の溶媒を除去する。

【００３８】しかる後に、開口端の遮光クロム膜２の膜
厚が階段状に変化したフォトマスク１を用いて、感光性
オーバーコート膜４を露光処理する。

【００３９】このフォトマスク１を用いた露光処理で
は、遮光クロム膜２の膜厚が薄い膜の部分から厚い膜の
部分にかけて、段階的に露光光の透過率をコントロール
することができる。

【００４０】このことにより、感光性オーバーコート膜
４のコーナー部の感光度合いを変化させることができ
る。

【００４１】しかる後に、感光性オーバーコート膜４
を、アルカリ現像液中で、室温で１分間現像する。

【００４２】このことにより感光性オーバーコート膜４
のコーナー部の形状を、階段状に形成することが可能と
なる。

【００４３】さらにその後、感光性オーバーコート膜４
が形成された基板６を、窒素雰囲気中で温度２００℃、
１時間焼成する。

【００４４】その後、図３に示すように、透明導電膜７
としてたとえば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を、基板
温度２００℃でスパッタリング法により形成する。さら
にその後、透明導電膜７をパターニングして表示電極７
ｂと引き出し電極７ａとを形成する。

【００４５】図３に示すように、感光性オーバーコート
膜４と基板６との段差部が階段状に形成されているた
め、透明導電膜７の段差被覆性が良好となる。

【００４６】この結果、透明導電膜７のパターニングを
行ったところ、感光性オーバーコート膜４と基板６との
段差部で、透明導電膜７の膜厚が薄くなることや、透明
導電膜７の断線の発生はなかった。

【００４７】したがって、断線欠陥が無く、表面平坦性
に優れ、しかも基板上の密着強度の強い透明導電膜７を
有するカラーフィルターを備える液晶表示装置の製造が
可能となる。

【００４８】

【実施例２】つぎに本発明の第２の実施例における液晶
表示装置の製造方法を、図２と図３とを用いて説明す
る。図２は本発明の第２の実施例における液晶表示装置
の製造方法を示す断面図であり、図３は図２に示す液晶
表示装置の感光性オーバーコート膜の段差部を拡大して
示す断面図である。以下図２と図３とを交互に参照して
説明する。

【００４９】図２に示すように、第２の実施例の液晶表
示装置の製造方法に用いるフォトマスク１は開口端に複
数のスリット２１を形成する。

【００５０】フォトマスク１の遮光用クロム膜２の開口
端に形成するスリット２１は、第１のスリット２１ａ
と、第２のスリット２１ｂと、第３のスリット２１ｃと
で構成する。そして、これらスリットの開口幅は、たと
えば３μｍ、２μｍ、１μｍのように段階的に変化させ
る。

【００５１】このようにスリット幅寸法が段階的に変化
したスリット２１を形成したフォトマスク１を用いて、
透明なアクリル樹脂系材料からなる感光度の低いネガ型
の感光性オーバーコート膜４を、３００ミリジュールの
露光量で照射する。そして、光の回折現象を利用するこ
とにより、感光性オーバーコート膜４のフォトマスク１
の開口端に対応するコーナー部の感光度合いを変化させ
る。

【００５２】しかる後に現像工程を行い、図３に示すよ
うに、感光性オーバーコート膜４のコーナー部の形状を
階段状に形成することが可能となる。

【００５３】その後、第１の実施例と同様な工程によ
り、透明導電膜７をスパッタリング法により形成し、そ
の後に透明導電膜７のパターニングを行う。

【００５４】この結果、感光性オーバーコート膜４と基
板６との段差部での、透明導電膜７の膜厚が薄くなるこ
とや、断線欠陥の発生はなかった。さらに平坦性に優
れ、しかも基板との強度の強い引き出し電極を有するカ
ラーフィルター基板の製造が可能となる。

【００５５】

【実施例３】図４から図８は本発明の第３の実施例にお
ける液晶表示装置の製造方法を示す図面であり、図４、
図５、図６、図７は本発明の第３の実施例における液晶
表示装置の製造方法を示す断面図であり、図８は本発明
の実施例における液晶表示装置を示す平面図である。以
下図４から図８を交互に参照して説明する。

【００５６】まずはじめに、第１の実施例と同様な工程
により、カラーフィルター５上に感光性オーバーコート
膜４を形成する。

【００５７】その後、ステッパー露光装置を用いて図４
（ａ）に示すように、第１段階のステップ露光として、
感光性オーバーコート膜４を１００ｍＪの露光量で、フ
ォトマスク１を用いて露光処理する。

【００５８】その後、第２段階のステップ露光として、
図４（ｂ）に示すように、基板６をＸ軸方向３１に１〜
３μｍ移動させて、感光性オーバーコート膜４を１００
ｍＪの露光量で露光処理する。

【００５９】この図４（ｂ）に示す段階では、感光性オ
ーバーコート膜４の第１の露光領域２１の部分は２００
ｍＪの露光量で、第２の露光領域２２の部分は１００ｍ
Ｊの露光量で、それぞれ露光処理されたことになる。

【００６０】その後、さらに第３段階、第４段階のステ
ップ露光として、図４（ｃ）、図４（ｄ）に示すよう
に、基板６をＸ軸方向に１〜３ミクロンずつ移動させ
て、感光性オーバーコート膜４を、それぞれ１００ｍＪ
ずつの露光量で露光処理する。

【００６１】多段ステップ露光の最終段階では、感光性
オーバーコート膜４の第１の露光領域２１の部分は１０
０ｍＪ×４回＝４００ｍＪの露光量、第２の露光領域２
２の部分は３００ｍＪの露光量、第３の露光領域２３の
部分は２００ｍＪの露光量、第４の露光領域２４の部分
は１００ｍＪの露光量で、それぞれ露光処理されたこと
になる。

【００６２】なお、第２段階から第４段階のＸ軸方向３
１の移動量は、１〜３μｍの範囲であれば、必ずしも等
しい値の移動距離である必要はない。

【００６３】図４を用いて説明した上記説明では、Ｘ軸
方向の一方の辺の断面状態について説明してあるが、Ｘ
軸方向の他方の辺に関しても多段ステップ露光では、図
５に示すように第１の露光領域２１から第４の露光領域
２４は左右対称に露光処理されている。

【００６４】しかる後に、感光性オーバーコート膜４
を、アルカリ現像液中で、室温で１分間現像する。この
現像処理により、感光性オーバーコート膜４のコーナー
部は、図６に示すように階段状の形状になる。

【００６５】図１１のグラフに、本発明で使用したネガ
型の感光性オーバーコート膜の露光量に対するアルカリ
現像後の残膜率を示す。

【００６６】図１１に示すように、露光量により、感光
性材料の光架橋の度合いが異なり、アルカリ現像液中へ
の溶解量が異なる。このため感光性オーバーコート膜の
残膜率が異なってくる。

【００６７】この図１１のグラフに示す露光量と残膜率
との特性を利用して、図６に示すように、感光性オーバ
ーコート膜４のコーナー部を、階段状の断面形状に形成
することが可能となる。

【００６８】このことにより、図８の平面図に示す感光
性オーバーコート膜４の周辺部の４辺のうち、Ｙ軸に交
差するＸ軸の２辺Ｘ１、Ｘ２のコーナー部分の断面形状
を、階段状に形成することが可能となる。

【００６９】さらにその後、感光性オーバーコート膜４
のパターンが形成された基板６を、窒素雰囲気中で温度
２００℃、１時間焼成する。

【００７０】その後、図７に示すように、透明導電膜７
としてたとえば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を、基板
温度２００℃でスパッタリング法により形成する。さら
にその後、透明導電膜７をパターニングして、表示電極
７ｂと引き出し電極７ａとを形成する。

【００７１】図７に示すように、感光性オーバーコート
膜４と基板６との段差部が階段状に形成されているた
め、透明導電膜７の段差被覆性が良好となる。

【００７２】この結果、透明導電膜７のパターニングを
行ったところ、感光性オーバーコート膜４と基板６との
段差部で、透明導電膜７の膜厚が薄くなることや、透明
導電膜７の断線の発生はなかった。

【００７３】したがって、断線欠陥が無く、表面平坦性
に優れ、しかも基板６上の密着強度の強い透明導電膜７
を有するカラーフィルターを備える液晶表示装置の製造
が可能となる。

【００７４】

【実施例４】次に本発明の第４の実施例における液晶表
示装置の製造方法を、図９と図１０とを用いて説明す
る。図９（ａ）、（ｂ）は本発明の第４の実施例におけ
る液晶表示装置の製造方法を工程順に示す断面図であ
り、図１０は図９に示す液晶表示装置の感光性オーバー
コート膜の段差部を示す断面図である。以下図９と図１
０とを交互に参照して説明する。

【００７５】まずはじめに、第１の実施例と同様な処理
工程により、カラーフィルター５上に感光性オーバーコ
ート膜４を形成する。この感光性オーバーコート膜４
は、膜厚７．０μｍで形成する。

【００７６】そして図９（ａ）、（ｂ）に示すように、
フォトマスク１を用いて、基板６を連続的に移動させて
露光処理を行うスイープ露光を行い、透明なアクリル樹
脂系材料からなるネガ型の感光性オーバーコート膜４
を、２０ミリワット出力の高圧水銀ランプを用いて、図
９（ａ）の第１の露光領域３２の領域から露光処理を開
始する。

【００７７】その後、図９（ｂ）に示すように、基板を
Ｘ軸方向３１に７ミクロンの距離を連続的に移動させな
がら２０秒間の時間でスイープ露光処理する。

【００７８】露光処理が完了した時点でのオーバーコー
ト膜４の、第１の露光領域３２の領域は、４００ミリジ
ュールの露光量で処理されたことになる。また、オーバ
ーコート膜２の第２の露光領域３３の領域の露光量は、
第１の露光領域３２の領域から、露光量が連続的に減少
したことになる。

【００７９】しかる後に、感光性オーバーコート膜４を
アルカリ現像液中で、室温で１分間現像する。すると図
１０に示すように、感光性オーバーコート膜４のコーナ
ー部をテーパー状のなめらかな断面形状に形成すること
が可能となる。

【００８０】その後、第１の実施例と同様な工程によ
り、透明導電膜７をスパッタリング法により形成、その
後に透明導電膜７のパターニングを行う。

【００８１】この結果、感光性オーバーコート膜４と基
板６との段差部での、透明導電膜７の膜厚が薄くなるこ
とや、断線欠陥の発生はなかった。さらに平坦性に優
れ、しかも基板６との密着強度の強い引き出し電極を有
するカラーフィルター基板の製造が可能となる。

【００８２】

【発明の効果】以上述べたように本発明の液晶表示装置
の製造方法は、感光性オーバーコート膜を、基板との段
差部において階段状、またはテーパー状に形成してい
る。このことにより、感光性オーバーコート膜の段差領
域で、透明導電膜の膜厚が薄くなることや、透明導電膜
の断線は発生しない。

【００８３】そしてさらに、カラーフィルター領域の平
坦性に優れ、しかも基板上の密着強度の強い透明導電膜
を有するカラー液晶表示装置を製造することが可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例における液晶表示装置の
製造方法を示す断面図である。

【図２】本発明の第２の実施例における液晶表示装置の
製造方法を示す断面図である。

【図３】本発明の実施例における液晶表示装置の製造方
法を示す断面図である。

【図４】本発明の第３の実施例における液晶表示装置の
製造方法を示す断面図である。

【図５】本発明の第３の実施例における液晶表示装置の
製造方法を示す断面図である。

【図６】本発明の第３の実施例における液晶表示装置の
製造方法を示す断面図である。

【図７】本発明の第３の実施例における液晶表示装置の
製造方法を示す断面図である。

【図８】本発明の実施例における液晶表示装置の製造方
法を示す平面図である。

【図９】本発明の第４の実施例における液晶表示装置の
製造方法を示す断面図である。

【図１０】本発明の第４の実施例における液晶表示装置
の製造方法を示す断面図である。

【図１１】本発明の実施例における液晶表示装置の製造
方法を説明するためのネガ型オーバーコート膜の露光量
と残膜率との関係を示すグラフである。

【図１２】従来例における液晶表示装置の製造方法を示
す断面図である。

【図１３】従来例における液晶表示装置の製造方法を示
す断面図である。

【符号の説明】

１フォトマスク２遮光クロム膜３フォトマスク透明基板４感光性オーバーコート膜５カラーフィルター６基板７透明導電膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上にカラーフィルターを形成する工
程と、全面に感光性オーバーコート膜を形成する工程と
開口端の遮光クロム膜の膜厚が階段状に変化したフォト
マスクを用いて感光性オーバーコート膜を露光する工程
と、現像処理を行い感光性オーバーコート膜をパターニ
ングする工程と、透明導電膜を形成する工程とを有する
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】基板上にカラーフィルターを形成する工
程と、全面に感光性オーバーコート膜を形成する工程
と、開口端の遮光クロム膜が開口幅の異なる複数のスリ
ットを有するフォトマスクを用いて感光性オーバーコー
ト膜を露光する工程と、現像処理を行い感光性オーバー
コート膜をパターニングする工程と、透明導電膜を形成
する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項３】基板上にカラーフィルターを形成する工
程と、全面に感光性オーバーコート膜を形成する工程
と、露光装置を用いてＸ軸方向、あるいはＹ軸方向のい
ずれかの方向に基板、あるいはフォトマスクを段階的に
移動し、多段ステップ露光を行い感光性オーバーコート
膜を露光する工程と、現像処理を行い感光性オーバーコ
ート膜をパターニングする工程と、透明導電膜を形成す
る工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造
方法。
【請求項４】基板上にカラーフイルターを形成する工
程と、全面に感光性オーバーコート膜を形成する工程
と、露光装置を用いてＸ軸方向、あるいはＹ軸方向のい
ずれかの方向に基板、あるいはフォトマスクを連続的に
移動し、スイープ露光を行い感光性オーバーコート膜を
露光する工程と、現像処理を行い感光性オーバーコート
膜をパターニングする工程と、透明導電膜を形成する工
程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。