JPH10232310A - ギャップ制御機能付きカラーフィルターの製造方法 - Google Patents
ギャップ制御機能付きカラーフィルターの製造方法Info
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- JPH10232310A JPH10232310A JP4960797A JP4960797A JPH10232310A JP H10232310 A JPH10232310 A JP H10232310A JP 4960797 A JP4960797 A JP 4960797A JP 4960797 A JP4960797 A JP 4960797A JP H10232310 A JPH10232310 A JP H10232310A
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- color filter
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- photomask
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶ディスプレイ装置のギャップを高い精度
で制御できるギャップ制御機能付きカラーフィルターの
製造方法を提供する。 【解決手段】 着色層を積層することによりギャップを
制御する柱状体を形成する着色感材の露光工程におい
て、ギャップを制御する柱状体部とカラーフィルターパ
ターン部の露光を異なる光透過率を有するフォトマスク
を使用して露光するか、柱状体部の露光とカラーフィル
ターパターン部の露光を別の露光工程で行うことにより
柱状体部の高さを自由に形成できるので、３色積層によ
る最終的な柱状体の高さを均一な高さとすることがで
き、液晶表示装置の全面において均一なギャップ間隔を
形成することができる。
で制御できるギャップ制御機能付きカラーフィルターの
製造方法を提供する。 【解決手段】 着色層を積層することによりギャップを
制御する柱状体を形成する着色感材の露光工程におい
て、ギャップを制御する柱状体部とカラーフィルターパ
ターン部の露光を異なる光透過率を有するフォトマスク
を使用して露光するか、柱状体部の露光とカラーフィル
ターパターン部の露光を別の露光工程で行うことにより
柱状体部の高さを自由に形成できるので、３色積層によ
る最終的な柱状体の高さを均一な高さとすることがで
き、液晶表示装置の全面において均一なギャップ間隔を
形成することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置に
使用するカラーフィルターの製造方法に関し、特に液晶
表示装置のギャップを制御する機能が着色層の積層によ
り形成された柱状体によりなされるカラーフィルターに
おいて、当該柱状体の形成を特定の方法で行うことを特
徴とするギャップ制御機能付きカラーフィルタの製造方
法およびそれに使用するフォトマスクに関する。
使用するカラーフィルターの製造方法に関し、特に液晶
表示装置のギャップを制御する機能が着色層の積層によ
り形成された柱状体によりなされるカラーフィルターに
おいて、当該柱状体の形成を特定の方法で行うことを特
徴とするギャップ制御機能付きカラーフィルタの製造方
法およびそれに使用するフォトマスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は、カラーフィルタ基板と
それと向き合うように対向基板を配置し、その間に液晶
材料が封入されている。液晶材料は両基板間にかけられ
る電圧でバックライトからの光源のシャッタ機能の働き
を行う。このように液晶は両基板間に挟まれた状態で存
在することになるので、このカラーフィルタ基板と対向
基板のギャップ（間隔）が均一でない場合には上述のシ
ャッタ機能が充分に働かず、表示むらを引き起こす。こ
れらの点から、通常はスペーサと呼ばれるプラスチック
やシリカの球状粒子をギャップ制御粉体として、一方の
基板に散布する工程が行われている。このスペーサーに
は液晶の厚さに応じて１．５〜８．０μｍのものがよく
用いられる。
それと向き合うように対向基板を配置し、その間に液晶
材料が封入されている。液晶材料は両基板間にかけられ
る電圧でバックライトからの光源のシャッタ機能の働き
を行う。このように液晶は両基板間に挟まれた状態で存
在することになるので、このカラーフィルタ基板と対向
基板のギャップ（間隔）が均一でない場合には上述のシ
ャッタ機能が充分に働かず、表示むらを引き起こす。こ
れらの点から、通常はスペーサと呼ばれるプラスチック
やシリカの球状粒子をギャップ制御粉体として、一方の
基板に散布する工程が行われている。このスペーサーに
は液晶の厚さに応じて１．５〜８．０μｍのものがよく
用いられる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、スペーサーは
設置すべき位置が定まっていないので表示画素部に付着
したり数個が集まって凝集したりする状況が生じる。こ
のため、カラーフィルタの各着色層を３層重畳して形成
した３層構造部をスペーサーの代替としたギャップ機能
付きカラーフィルタが提案されている（特開平５−１９
６９４６号）。しかし、同公開公報では３層構造体の形
成方法についての具体的な内容については明らかにされ
ていない。また、本願出願人は先の出願（特願平８−１
７７１５９等）で着色感材の積層によるかかる柱状体を
形成する方法を提案しているが、柱状体が各色により、
積層構造が異なるため、着色層間により、柱状体の高さ
が異なって形成される現象が見られ、柱状体を全ての着
色層に形成する場合に、全てを等しい高さの柱状体とす
ることが困難であって、その形成方法が問題となった。
設置すべき位置が定まっていないので表示画素部に付着
したり数個が集まって凝集したりする状況が生じる。こ
のため、カラーフィルタの各着色層を３層重畳して形成
した３層構造部をスペーサーの代替としたギャップ機能
付きカラーフィルタが提案されている（特開平５−１９
６９４６号）。しかし、同公開公報では３層構造体の形
成方法についての具体的な内容については明らかにされ
ていない。また、本願出願人は先の出願（特願平８−１
７７１５９等）で着色感材の積層によるかかる柱状体を
形成する方法を提案しているが、柱状体が各色により、
積層構造が異なるため、着色層間により、柱状体の高さ
が異なって形成される現象が見られ、柱状体を全ての着
色層に形成する場合に、全てを等しい高さの柱状体とす
ることが困難であって、その形成方法が問題となった。
【０００４】図９は、従来の製造方法によるギャップ制
御機能付きカラーフィルタを示す図である。図示の場合
には、着色工程は、Ｒ→Ｇ→Ｂの順に形成されている
が、柱状体部の高さが不揃いでＲの着色層上に形成され
た柱状体３Ｒは、ＧおよびＢの着色層上に形成された柱
状体３Ｇ，３Ｂよりも高さが高く形成されている。従っ
て、実際に基板間のギャップ制御の機能をしているのは
Ｒの着色層上に形成された柱状体３Ｒのみとなってい
る。このため、柱状体の強度が十分でない場合には、セ
ルはり合わせ時等にかかる圧力により、結局、Ｂ着色層
上に形成された柱状体の高さまで、柱状体が圧縮され、
ギャップ間隔がせまくなるという問題が生じる。本発明
は、かかる問題を解決すべく、柱状体形成部分とカラー
フィルターパターン形成部分の濃度をフォトマスク上で
濃度差をもたせたもので露光するか、柱状体形成部分と
カラーフィルターパターン形成部分との露光を別々の工
程で行う２ステップの露光方法を採用することで、上記
問題点が解決することを見出したものである。
御機能付きカラーフィルタを示す図である。図示の場合
には、着色工程は、Ｒ→Ｇ→Ｂの順に形成されている
が、柱状体部の高さが不揃いでＲの着色層上に形成され
た柱状体３Ｒは、ＧおよびＢの着色層上に形成された柱
状体３Ｇ，３Ｂよりも高さが高く形成されている。従っ
て、実際に基板間のギャップ制御の機能をしているのは
Ｒの着色層上に形成された柱状体３Ｒのみとなってい
る。このため、柱状体の強度が十分でない場合には、セ
ルはり合わせ時等にかかる圧力により、結局、Ｂ着色層
上に形成された柱状体の高さまで、柱状体が圧縮され、
ギャップ間隔がせまくなるという問題が生じる。本発明
は、かかる問題を解決すべく、柱状体形成部分とカラー
フィルターパターン形成部分の濃度をフォトマスク上で
濃度差をもたせたもので露光するか、柱状体形成部分と
カラーフィルターパターン形成部分との露光を別々の工
程で行う２ステップの露光方法を採用することで、上記
問題点が解決することを見出したものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
の製造方法の第１の態様は、着色層を積層することによ
り形成した柱状体をカラーフィルターに持たせることに
より液晶表示装置のギャップを制御する機能を持たせた
ギャップ制御機能付きカラーフィルターの製造方法にお
いて、カラーフィルターの着色層形成工程に使用するフ
ォトマスクの柱状体形成部分の濃度とカラーフィルター
パターン形成部分の濃度を異ならせたことを特徴とする
ギャップ制御機能付きカラーフィルターの製造方法、に
ある。かかる製造方法であるため精度の高いギャップ制
御機能を有するカラーフィルターを容易に製造できる。
の製造方法の第１の態様は、着色層を積層することによ
り形成した柱状体をカラーフィルターに持たせることに
より液晶表示装置のギャップを制御する機能を持たせた
ギャップ制御機能付きカラーフィルターの製造方法にお
いて、カラーフィルターの着色層形成工程に使用するフ
ォトマスクの柱状体形成部分の濃度とカラーフィルター
パターン形成部分の濃度を異ならせたことを特徴とする
ギャップ制御機能付きカラーフィルターの製造方法、に
ある。かかる製造方法であるため精度の高いギャップ制
御機能を有するカラーフィルターを容易に製造できる。
【０００６】本発明のカラーフィルタの製造方法の第２
の態様は、着色層を積層することにより形成した柱状体
をカラーフィルターに持たせることにより液晶表示装置
のギャップを制御する機能を持たせたギャップ制御機能
付きカラーフィルターの製造方法において、同一着色感
光材料の塗布物を用いて、柱状体形成部分の露光工程と
カラーフィルターパターン形成部分の露光工程とを２回
に分け順不同に行うことを特徴とするギャップ制御機能
付きカラーフィルターの製造方法、にある。かかる製造
方法であるため精度の高いギャップ制御機能を有するカ
ラーフィルターを容易に製造できる。
の態様は、着色層を積層することにより形成した柱状体
をカラーフィルターに持たせることにより液晶表示装置
のギャップを制御する機能を持たせたギャップ制御機能
付きカラーフィルターの製造方法において、同一着色感
光材料の塗布物を用いて、柱状体形成部分の露光工程と
カラーフィルターパターン形成部分の露光工程とを２回
に分け順不同に行うことを特徴とするギャップ制御機能
付きカラーフィルターの製造方法、にある。かかる製造
方法であるため精度の高いギャップ制御機能を有するカ
ラーフィルターを容易に製造できる。
【０００７】本発明のカラーフィルタの製造方法の第３
の態様は、着色層を積層することにより形成した柱状体
をカラーフィルターに持たせることにより液晶表示装置
のギャップを制御する機能を持たせたギャップ制御機能
付きカラーフィルターの製造方法において、同一着色感
光材料の塗布物を用いて、柱状体形成部分とカラーフィ
ルターパターン形成部分の露光工程と柱状体形成部分の
みの露光工程とを２回に分け順不同に行うことを特徴と
するギャップ制御機能付きカラーフィルターの製造方
法、にある。かかる製造方法であるため精度の高いギャ
ップ制御機能を有するカラーフィルターを容易に製造で
きる。
の態様は、着色層を積層することにより形成した柱状体
をカラーフィルターに持たせることにより液晶表示装置
のギャップを制御する機能を持たせたギャップ制御機能
付きカラーフィルターの製造方法において、同一着色感
光材料の塗布物を用いて、柱状体形成部分とカラーフィ
ルターパターン形成部分の露光工程と柱状体形成部分の
みの露光工程とを２回に分け順不同に行うことを特徴と
するギャップ制御機能付きカラーフィルターの製造方
法、にある。かかる製造方法であるため精度の高いギャ
ップ制御機能を有するカラーフィルターを容易に製造で
きる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を参照して説明する。図１は、ギャップ制御機能付
きカラーフィルタの製造工程を示す図である。図１
（Ａ）は、Ｒ着色層の形成工程、図１（Ｂ）は、Ｇ着色
層の形成工程、図１（Ｃ）は、Ｂ着色層の形成工程をそ
れぞれ示す図であって、柱状体をブラックマトリクス１
２上に形成した断面を示している。まず、ガラス等の基
板１１上にＣｒの薄層を真空成膜し、通常のフォトエッ
チングの手法によりパターン形成されたブラックマトリ
クス（ＢＭ）１２を形成する。ＢＭは上述のように、Ｃ
ｒで形成できるが、感光材料中に顔料、カーボン、ある
いは金属酸化物等を分散させたいわゆる樹脂ＢＭにより
形成したものであってもよい。当該ＢＭ上に、カラーフ
ィルターパターン部とギャップ制御機能を果たす柱状体
部を順次形成する。着色層の形成順序は特に限定されな
いが、図１では、Ｒ，Ｇ，Ｂの順で形成した例が示され
ている。
図面を参照して説明する。図１は、ギャップ制御機能付
きカラーフィルタの製造工程を示す図である。図１
（Ａ）は、Ｒ着色層の形成工程、図１（Ｂ）は、Ｇ着色
層の形成工程、図１（Ｃ）は、Ｂ着色層の形成工程をそ
れぞれ示す図であって、柱状体をブラックマトリクス１
２上に形成した断面を示している。まず、ガラス等の基
板１１上にＣｒの薄層を真空成膜し、通常のフォトエッ
チングの手法によりパターン形成されたブラックマトリ
クス（ＢＭ）１２を形成する。ＢＭは上述のように、Ｃ
ｒで形成できるが、感光材料中に顔料、カーボン、ある
いは金属酸化物等を分散させたいわゆる樹脂ＢＭにより
形成したものであってもよい。当該ＢＭ上に、カラーフ
ィルターパターン部とギャップ制御機能を果たす柱状体
部を順次形成する。着色層の形成順序は特に限定されな
いが、図１では、Ｒ，Ｇ，Ｂの順で形成した例が示され
ている。
【０００９】図１（Ａ）においては、Ｒ着色層が形成さ
れた後の状況が示されている。カラーフィルターパター
ン部Ｒ１の膜厚ｒ1 と、柱状体部Ｒ２の膜厚ｒ2 とで
は、異なる高さに形成されている（ｒ2 ＞ｒ1 ）。図１
（Ｂ）においては、Ｇ着色層が形成された後の状況が示
されている。カラーフィルターパターン部Ｇ１の膜厚ｇ
1 はｒ1 に等しく形成されるが、Ｒ着色層上の柱状体Ｇ
２の高さｇ2 、およびＧ柱状体部Ｇ３の高さｇ3 はそれ
ぞれ異なった高さに形成されている（ｇ2 ＞ｇ3 ＞
ｇ4 ）。これは、Ｒ着色層の場合と同様に、フォトマス
クにおけるカラーフィルターパターン形成部分の透過率
を低く柱状体形成部分の透過率を高くしてあるので、、
露光量が調整されて任意の膜厚に形成することができ
る。なお、ｇ4 が薄くなるのは、Ｇ感光材料塗布時に、
微小柱状体部がレベリングされて柱状体部上部が薄膜に
なることによる。
れた後の状況が示されている。カラーフィルターパター
ン部Ｒ１の膜厚ｒ1 と、柱状体部Ｒ２の膜厚ｒ2 とで
は、異なる高さに形成されている（ｒ2 ＞ｒ1 ）。図１
（Ｂ）においては、Ｇ着色層が形成された後の状況が示
されている。カラーフィルターパターン部Ｇ１の膜厚ｇ
1 はｒ1 に等しく形成されるが、Ｒ着色層上の柱状体Ｇ
２の高さｇ2 、およびＧ柱状体部Ｇ３の高さｇ3 はそれ
ぞれ異なった高さに形成されている（ｇ2 ＞ｇ3 ＞
ｇ4 ）。これは、Ｒ着色層の場合と同様に、フォトマス
クにおけるカラーフィルターパターン形成部分の透過率
を低く柱状体形成部分の透過率を高くしてあるので、、
露光量が調整されて任意の膜厚に形成することができ
る。なお、ｇ4 が薄くなるのは、Ｇ感光材料塗布時に、
微小柱状体部がレベリングされて柱状体部上部が薄膜に
なることによる。
【００１０】図１（Ｃ）においては、Ｂ着色層が形成さ
れた後の状況が示されている。カラーフィルターパター
ン部Ｂ１の膜厚ｂ1 はｒ1 およびｇ1 に等しく形成され
るが、Ｒ着色層上の柱状体Ｂ２の高さｂ2 、およびＧ着
色層上のＢ３の高さｂ3 はそれぞれ異なって形成されて
いる（ｂ3 ＞ｂ2 ）。これは、Ｒ着色層の場合と同様
に、フォトマスクにおけるカラーフィルターパターン形
成部分の透過率を低く柱状体形成部分の透過率を高くし
てあるので、露光量が調整されて任意の膜厚に形成する
ことができる。しかし、図１（Ｃ）における３本の柱状
体の最終的な高さは、全て同一となるようにされてい
る。なお、ｂ4 が薄くなるのは、Ｂ感光材料塗布時に、
微小柱状体部がレベリングされて柱状体部上部が薄膜に
なることによる。
れた後の状況が示されている。カラーフィルターパター
ン部Ｂ１の膜厚ｂ1 はｒ1 およびｇ1 に等しく形成され
るが、Ｒ着色層上の柱状体Ｂ２の高さｂ2 、およびＧ着
色層上のＢ３の高さｂ3 はそれぞれ異なって形成されて
いる（ｂ3 ＞ｂ2 ）。これは、Ｒ着色層の場合と同様
に、フォトマスクにおけるカラーフィルターパターン形
成部分の透過率を低く柱状体形成部分の透過率を高くし
てあるので、露光量が調整されて任意の膜厚に形成する
ことができる。しかし、図１（Ｃ）における３本の柱状
体の最終的な高さは、全て同一となるようにされてい
る。なお、ｂ4 が薄くなるのは、Ｂ感光材料塗布時に、
微小柱状体部がレベリングされて柱状体部上部が薄膜に
なることによる。
【００１１】この柱状体部の高さは、着色層の表面から
１．５μｍ〜８μｍの高さとすることが望ましい。１．
５μｍ以下では実質的に精度の良いギャップを維持する
ことが困難だからである。通常は、４〜７μｍ程度の高
さとすることが好ましい。さらに柱状体の高さの面内均
一性に関しては、ＴＦＴ液晶の場合には経験的に０．３
０μｍ以下の精度が必要とされている。また、この柱状
体は任意の配列とすることができるが、通常は規則的に
全面に配列させることが望ましい。これはカラーフィル
タ作製上の不良突起と区別することを容易とするため
と、等間隔で柱状体を形成することで対向基板面にあた
る力が分散できること等がその理由である。このカラー
フィルター基板に必要によりさらにオーバーコート層を
設け、配向処理をして対向基板と組み合わせて使用す
る。
１．５μｍ〜８μｍの高さとすることが望ましい。１．
５μｍ以下では実質的に精度の良いギャップを維持する
ことが困難だからである。通常は、４〜７μｍ程度の高
さとすることが好ましい。さらに柱状体の高さの面内均
一性に関しては、ＴＦＴ液晶の場合には経験的に０．３
０μｍ以下の精度が必要とされている。また、この柱状
体は任意の配列とすることができるが、通常は規則的に
全面に配列させることが望ましい。これはカラーフィル
タ作製上の不良突起と区別することを容易とするため
と、等間隔で柱状体を形成することで対向基板面にあた
る力が分散できること等がその理由である。このカラー
フィルター基板に必要によりさらにオーバーコート層を
設け、配向処理をして対向基板と組み合わせて使用す
る。
【００１２】次に、図２乃至図４を参照して、本発明の
製造方法をさらに詳細に説明する。図２は、Ｒ着色層を
形成する工程を示す図である。図２（Ａ）は、Ｒ着色層
を形成するためのフォトマスクの平面図であり、図２
（Ｂ）は、当該フトマスクを使用して、基板上に塗布さ
れたＲ着色感材を露光している状況を示している。図２
（Ａ）のフォトマスク２０は、正方形の部分２１が柱状
体部を形成する部分で透明なパターンに形成されてい
る。斜線を施した部分２２はカラーフィルターパターン
部を形成する部分で、正方形の部分２１より光透過量が
低下するようにハーフトーンの濃度が付けられている。
なお、正方形の部分２１と斜線部２２以外の部分は、本
来不透明であるから真っ黒な状態であるが、図示の都合
上、白く現している。図２（Ｂ）において、フォトマス
ク２０はＲ感材が塗布された基板上に重ねられ、露光が
行われる。柱状体形成部分２１はブラックマトリクス１
２上に位置するようにされている。この状態で露光後、
現像処理すれば、図１（Ａ）で示すＲ着色層が得られ
る。
製造方法をさらに詳細に説明する。図２は、Ｒ着色層を
形成する工程を示す図である。図２（Ａ）は、Ｒ着色層
を形成するためのフォトマスクの平面図であり、図２
（Ｂ）は、当該フトマスクを使用して、基板上に塗布さ
れたＲ着色感材を露光している状況を示している。図２
（Ａ）のフォトマスク２０は、正方形の部分２１が柱状
体部を形成する部分で透明なパターンに形成されてい
る。斜線を施した部分２２はカラーフィルターパターン
部を形成する部分で、正方形の部分２１より光透過量が
低下するようにハーフトーンの濃度が付けられている。
なお、正方形の部分２１と斜線部２２以外の部分は、本
来不透明であるから真っ黒な状態であるが、図示の都合
上、白く現している。図２（Ｂ）において、フォトマス
ク２０はＲ感材が塗布された基板上に重ねられ、露光が
行われる。柱状体形成部分２１はブラックマトリクス１
２上に位置するようにされている。この状態で露光後、
現像処理すれば、図１（Ａ）で示すＲ着色層が得られ
る。
【００１３】図３は、Ｇ着色層を形成する工程を示す図
である。図３（Ａ）は、Ｇ着色層を形成するためのフォ
トマスクの平面図であり、図３（Ｂ）は、当該フトマス
クを使用して、基板上に塗布されたＧ着色感材を露光し
ている状況を示している。図３（Ａ）のフォトマスク３
０は、正方形の部分３１が柱状体部を形成する部分で透
明なパターンに形成されている。斜線を施した部分３２
はカラーフィルターパターン部を形成する部分で、正方
形の部分３１より光透過量が低下するようにハーフトー
ンの濃度が付けられている。なお、正方形の部分３１と
斜線部３２以外の部分は、本来不透明であるから真っ黒
な状態であるのは図２と同様である。図３（Ｂ）におい
て、フォトマスク３０はＧ感材が塗布された基板上に重
ねられ、露光が行われる。この工程では、基板上には、
既にＲのカラーフィルターパターンＲ１が形成されてい
る。柱状体形成部分Ｒ２はブラックマトリクス１２上に
位置するようにされている。この状態で露光後、現像処
理すれば、図１（Ｂ）で示す断面のＧ着色層が得られ
る。
である。図３（Ａ）は、Ｇ着色層を形成するためのフォ
トマスクの平面図であり、図３（Ｂ）は、当該フトマス
クを使用して、基板上に塗布されたＧ着色感材を露光し
ている状況を示している。図３（Ａ）のフォトマスク３
０は、正方形の部分３１が柱状体部を形成する部分で透
明なパターンに形成されている。斜線を施した部分３２
はカラーフィルターパターン部を形成する部分で、正方
形の部分３１より光透過量が低下するようにハーフトー
ンの濃度が付けられている。なお、正方形の部分３１と
斜線部３２以外の部分は、本来不透明であるから真っ黒
な状態であるのは図２と同様である。図３（Ｂ）におい
て、フォトマスク３０はＧ感材が塗布された基板上に重
ねられ、露光が行われる。この工程では、基板上には、
既にＲのカラーフィルターパターンＲ１が形成されてい
る。柱状体形成部分Ｒ２はブラックマトリクス１２上に
位置するようにされている。この状態で露光後、現像処
理すれば、図１（Ｂ）で示す断面のＧ着色層が得られ
る。
【００１４】図４は、Ｂ着色層を形成する工程を示す図
である。図４（Ａ）は、Ｂ着色層を形成するためのフォ
トマスクの平面図であり、図４（Ｂ）は、当該フォトマ
スクを使用して、基板上に塗布されたＢ着色感材を露光
している状況を示している。図４（Ａ）のフォトマスク
４０は、正方形の部分４１が柱状体部を形成する部分で
透明なパターンに形成されている。斜線を施した部分４
２はカラーフィルターパターン部を形成する部分で、正
方形の部分４１より光透過量が低下するようにハーフト
ーンの濃度が付けられている。なお、正方形の部分４１
と斜線部４２以外の部分は、本来不透明であるから真っ
黒な状態であるのは図２と同様である。図４（Ｂ）にお
いて、フォトマスク４０はＢ感材が塗布された基板上に
重ねられ、露光が行われる。この工程では、基板上に
は、既にＲのカラーフィルターパターン部Ｒ１とＧのカ
ラーフィルターパターン部Ｇ１が形成されている。柱状
体部形成部分４１はブラックマトリクス１２上に位置す
るようにされている。この状態で露光後、現像処理すれ
ば、図１（Ｃ）で示す断面のＢ着色層が得られる。な
お、それぞれの柱状体（１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂ）はい
ずれも同じ高さに形成されるように調整される。
である。図４（Ａ）は、Ｂ着色層を形成するためのフォ
トマスクの平面図であり、図４（Ｂ）は、当該フォトマ
スクを使用して、基板上に塗布されたＢ着色感材を露光
している状況を示している。図４（Ａ）のフォトマスク
４０は、正方形の部分４１が柱状体部を形成する部分で
透明なパターンに形成されている。斜線を施した部分４
２はカラーフィルターパターン部を形成する部分で、正
方形の部分４１より光透過量が低下するようにハーフト
ーンの濃度が付けられている。なお、正方形の部分４１
と斜線部４２以外の部分は、本来不透明であるから真っ
黒な状態であるのは図２と同様である。図４（Ｂ）にお
いて、フォトマスク４０はＢ感材が塗布された基板上に
重ねられ、露光が行われる。この工程では、基板上に
は、既にＲのカラーフィルターパターン部Ｒ１とＧのカ
ラーフィルターパターン部Ｇ１が形成されている。柱状
体部形成部分４１はブラックマトリクス１２上に位置す
るようにされている。この状態で露光後、現像処理すれ
ば、図１（Ｃ）で示す断面のＢ着色層が得られる。な
お、それぞれの柱状体（１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂ）はい
ずれも同じ高さに形成されるように調整される。
【００１５】このような濃度差を有するフォトマスク
は、ガラス基板上に高解像力の写真エマルジョン感材を
使用し、柱状体形成部分を透明にしカラーフィルターパ
ターン形成部分をハーフトーン濃度とすることにより製
造することができる。また、クロムマスクとする場合
は、クロムをスパッタリングのターゲットとし、蒸着雰
囲気中に酸素等のガスを入れて、ＣｒＯx 、ＣｒＮx 、
ＣｒＯx Ｎy 、ＣｒＯx Ｎy ＣZ 等のクロム酸化物、窒
化物、酸窒化物、酸窒炭化物をガラス基板上に堆積する
ことによっても形成されるが、成膜条件を変えてクロム
の酸素等に対する含有量を制御して、透過条件を満足す
るように構成する。このような技術の詳細は、本願出願
人になる、特開平５−１２７３６１号公報、特開平６−
３０８７１３号公報等に開示されている。
は、ガラス基板上に高解像力の写真エマルジョン感材を
使用し、柱状体形成部分を透明にしカラーフィルターパ
ターン形成部分をハーフトーン濃度とすることにより製
造することができる。また、クロムマスクとする場合
は、クロムをスパッタリングのターゲットとし、蒸着雰
囲気中に酸素等のガスを入れて、ＣｒＯx 、ＣｒＮx 、
ＣｒＯx Ｎy 、ＣｒＯx Ｎy ＣZ 等のクロム酸化物、窒
化物、酸窒化物、酸窒炭化物をガラス基板上に堆積する
ことによっても形成されるが、成膜条件を変えてクロム
の酸素等に対する含有量を制御して、透過条件を満足す
るように構成する。このような技術の詳細は、本願出願
人になる、特開平５−１２７３６１号公報、特開平６−
３０８７１３号公報等に開示されている。
【００１６】図５、図６は、本発明の他の実施態様を示
す図である。この実施態様では、露光工程において、カ
ラーフィルターパターン形成部分の露光と柱状体形成部
分の露光を別の工程で行うことを特徴としている。ま
ず、図５（Ａ）のようにカラーフィルターパターン形成
部分５１を有するフォトマスク５０を準備する。このフ
ォトマスクの場合もカラーフィルターパターン形成部分
５１以外は遮光部となっている。次に、このフォトマス
クをＲの着色感材が塗布された基板上に重ねてカラーフ
ィルターパターン部の露光を行う（図５（Ｂ））。次
に、図６（Ａ）のように柱状体形成部分６１のみを有す
るフォトマスク６０を準備する。このフォトマスクの場
合も柱状体形成部分６１以外は遮光部となっている。次
に、このフォトマスクをＲの着色感材が塗布された基板
上に重ねてカラーフィルターパターン部の露光を行う
（図６（Ｂ））。この図５（Ｂ）及び図６（Ｂ）の露光
により、Ｒの着色層の露光が完了するが、両露光の露光
量を変えることにより、カラーフィルターパターン部に
対する柱状体部の膜厚を任意に調整することができる。
す図である。この実施態様では、露光工程において、カ
ラーフィルターパターン形成部分の露光と柱状体形成部
分の露光を別の工程で行うことを特徴としている。ま
ず、図５（Ａ）のようにカラーフィルターパターン形成
部分５１を有するフォトマスク５０を準備する。このフ
ォトマスクの場合もカラーフィルターパターン形成部分
５１以外は遮光部となっている。次に、このフォトマス
クをＲの着色感材が塗布された基板上に重ねてカラーフ
ィルターパターン部の露光を行う（図５（Ｂ））。次
に、図６（Ａ）のように柱状体形成部分６１のみを有す
るフォトマスク６０を準備する。このフォトマスクの場
合も柱状体形成部分６１以外は遮光部となっている。次
に、このフォトマスクをＲの着色感材が塗布された基板
上に重ねてカラーフィルターパターン部の露光を行う
（図６（Ｂ））。この図５（Ｂ）及び図６（Ｂ）の露光
により、Ｒの着色層の露光が完了するが、両露光の露光
量を変えることにより、カラーフィルターパターン部に
対する柱状体部の膜厚を任意に調整することができる。
【００１７】図５（Ｂ）及び図６（Ｂ）の露光が終わっ
た後に、Ｒ着色感材を現像処理すれば、図１（Ａ）で図
示したＲ着色層が得られる。同様の操作を、Ｇ着色感材
層、Ｂ着色感材層について順次行うことにより、全ての
柱状体部の高さを均一なものに形成することができる
（図１（Ｃ））。
た後に、Ｒ着色感材を現像処理すれば、図１（Ａ）で図
示したＲ着色層が得られる。同様の操作を、Ｇ着色感材
層、Ｂ着色感材層について順次行うことにより、全ての
柱状体部の高さを均一なものに形成することができる
（図１（Ｃ））。
【００１８】図７、図８は、本発明のさらに他の実施態
様を示す図である。この実施態様では、露光工程におい
て、カラーフィルターパターン形成部分と柱状体形成部
分を有するフォトマスクの露光と柱状体形成部分のみを
有するフォトマスクの露光を別の工程で行うことを特徴
としている。なお、この２種のフォトマスクの露光は順
不同に行うことができる。まず、図７（Ａ）のようにカ
ラーフィルターパターン形成部分７２と柱状体形成部分
７１を有するフォトマスク７０を準備する。このフォト
マスクの場合もカラーフィルターパターン形成部分７２
と柱状体形成部分７１以外は遮光部となっている。次
に、このフォトマスクをＲの着色感材が塗布された基板
上に重ねてカラーフィルターパターン部と柱状体部の露
光を行う（図７（Ｂ））。次に、図８（Ａ）のように柱
状体形成部分８１のみを有するフォトマスク８０を準備
する。このフォトマスクの場合も柱状体形成部分８１以
外は遮光部となっている。次に、このフォトマスクをＲ
の着色感材が塗布された基板上に重ねてカラーフィルタ
ーパターン部の露光を行う（図８（Ｂ））。この図７
（Ｂ）及び図８（Ｂ）の露光により、Ｒの着色層の露光
が完了するが、両露光の露光量を変えることにより、カ
ラーフィルターパターン部に対する柱状体部の膜厚を任
意に調整することができる。
様を示す図である。この実施態様では、露光工程におい
て、カラーフィルターパターン形成部分と柱状体形成部
分を有するフォトマスクの露光と柱状体形成部分のみを
有するフォトマスクの露光を別の工程で行うことを特徴
としている。なお、この２種のフォトマスクの露光は順
不同に行うことができる。まず、図７（Ａ）のようにカ
ラーフィルターパターン形成部分７２と柱状体形成部分
７１を有するフォトマスク７０を準備する。このフォト
マスクの場合もカラーフィルターパターン形成部分７２
と柱状体形成部分７１以外は遮光部となっている。次
に、このフォトマスクをＲの着色感材が塗布された基板
上に重ねてカラーフィルターパターン部と柱状体部の露
光を行う（図７（Ｂ））。次に、図８（Ａ）のように柱
状体形成部分８１のみを有するフォトマスク８０を準備
する。このフォトマスクの場合も柱状体形成部分８１以
外は遮光部となっている。次に、このフォトマスクをＲ
の着色感材が塗布された基板上に重ねてカラーフィルタ
ーパターン部の露光を行う（図８（Ｂ））。この図７
（Ｂ）及び図８（Ｂ）の露光により、Ｒの着色層の露光
が完了するが、両露光の露光量を変えることにより、カ
ラーフィルターパターン部に対する柱状体部の膜厚を任
意に調整することができる。
【００１９】図７（Ｂ）及び図８（Ｂ）の露光が終わっ
た後に、Ｒ着色感材を現像処理すれば、図１（Ａ）で図
示したＲ着色層が得られる。同様の操作を、Ｇ着色感材
層、Ｂ着色感材層について順次行うことにより、全ての
柱状体部の高さを均一なものに形成することができる
（図１（Ｃ））。
た後に、Ｒ着色感材を現像処理すれば、図１（Ａ）で図
示したＲ着色層が得られる。同様の操作を、Ｇ着色感材
層、Ｂ着色感材層について順次行うことにより、全ての
柱状体部の高さを均一なものに形成することができる
（図１（Ｃ））。
【００２０】
（カラーフィルタに関する試作例１）試作例１は、カラ
ーフィルターのフォトマスクパターンを、柱状体形成部
分とカラーフィルターパターン形成部分とを有する１枚
のフォトマスクを使用して露光する方法についての実施
例である。透明ガラス基板（コーニング社製「７０５
９」）３００×４００ｍｍ、厚さ、１．１ｍｍ上に、Ｃ
ｒ薄膜を通常の真空成膜方法で成膜し、パターンエッチ
ングを行い、ＢＭ（ブラックマトリクス）が形成された
カラーフィルター基板１０を準備した。当該基板上に赤
色感材（富士ハント株式会社製「カラーモザイクＣＲ−
７０００」）をスピンコータにより塗布し（回転数：１
０００回転／３秒）、膜厚２．７μｍの塗膜を形成し
た。その後、８０°Ｃのクリーンオーブン内で、１０分
間乾燥した後、カラーフィルターフォトマスクパターン
に超高圧水銀灯により紫外光線（主とする波長：３６５
ｎｍ）を３００ｍＪ／ｃｍ2 の照射量で照射した。この
際、フォトマスクにはクロムマスクを使用し、そのパタ
ーンは、図２（Ａ）に示すように、ギャップ制御用柱状
体を形成する部分を透明にし、赤色フィルターパターン
を形成する部分は、２０％カットのハーフトーン（透過
率が８０％）となるようにフォトマスクパターンの濃度
を調整したものを使用した。
ーフィルターのフォトマスクパターンを、柱状体形成部
分とカラーフィルターパターン形成部分とを有する１枚
のフォトマスクを使用して露光する方法についての実施
例である。透明ガラス基板（コーニング社製「７０５
９」）３００×４００ｍｍ、厚さ、１．１ｍｍ上に、Ｃ
ｒ薄膜を通常の真空成膜方法で成膜し、パターンエッチ
ングを行い、ＢＭ（ブラックマトリクス）が形成された
カラーフィルター基板１０を準備した。当該基板上に赤
色感材（富士ハント株式会社製「カラーモザイクＣＲ−
７０００」）をスピンコータにより塗布し（回転数：１
０００回転／３秒）、膜厚２．７μｍの塗膜を形成し
た。その後、８０°Ｃのクリーンオーブン内で、１０分
間乾燥した後、カラーフィルターフォトマスクパターン
に超高圧水銀灯により紫外光線（主とする波長：３６５
ｎｍ）を３００ｍＪ／ｃｍ2 の照射量で照射した。この
際、フォトマスクにはクロムマスクを使用し、そのパタ
ーンは、図２（Ａ）に示すように、ギャップ制御用柱状
体を形成する部分を透明にし、赤色フィルターパターン
を形成する部分は、２０％カットのハーフトーン（透過
率が８０％）となるようにフォトマスクパターンの濃度
を調整したものを使用した。
【００２１】次いで、基板を１ｗｔ％の炭酸ソーダ水溶
液に浸漬（室温で２分間）した後、純水でリンス後、２
００°Ｃのクリーンオーブン内で３０分間乾燥し、図１
（Ａ）に示す赤色カラーフィルターパターン部とギャッ
プ制御用柱状体部を有するＲ着色層を得た。この場合、
柱状体の部分はカラーフィルターパターン部に比較して
露光量が多くなるため、感材の感光度合いも高く厚膜に
形成される。この赤色パターン形成後の基板について、
フィルターパターン部の膜厚および柱状体部の高さを触
針式膜厚計（テンコール社製「アルファステップ３０
０」）で測定したところ、カラーフィルターパターン部
の膜厚ｒ1 は２．０μｍ、柱状体部の膜厚ｒ2 は２．５
μｍであった。
液に浸漬（室温で２分間）した後、純水でリンス後、２
００°Ｃのクリーンオーブン内で３０分間乾燥し、図１
（Ａ）に示す赤色カラーフィルターパターン部とギャッ
プ制御用柱状体部を有するＲ着色層を得た。この場合、
柱状体の部分はカラーフィルターパターン部に比較して
露光量が多くなるため、感材の感光度合いも高く厚膜に
形成される。この赤色パターン形成後の基板について、
フィルターパターン部の膜厚および柱状体部の高さを触
針式膜厚計（テンコール社製「アルファステップ３０
０」）で測定したところ、カラーフィルターパターン部
の膜厚ｒ1 は２．０μｍ、柱状体部の膜厚ｒ2 は２．５
μｍであった。
【００２２】次に、当該基板上に緑色感材（富士ハント
株式会社製「カラーモザイクＣＧ−７０００」）をスピ
ンコータにより塗布し（回転数：９００回転／３秒）、
膜厚３．３μｍの塗膜を形成した。その後、８０°Ｃの
クリーンオーブン内で、１０分間乾燥した後、カラーフ
ィルターフォトマスクパターンに超高圧水銀灯により紫
外光線（主とする波長：３６５ｎｍ）を３００ｍＪ／ｃ
ｍ2 の照射量で照射した。この際、フォトマスクパター
ンは図３（Ａ）に示すように、ギャップ制御用柱状体部
を形成する部分を透明にし、赤色カラーフィルターパタ
ーン部を形成する部分は、３５％カットのハーフトーン
（透過率が６５％）となるようにフォトマスクパターン
の濃度を調整したものを使用した。
株式会社製「カラーモザイクＣＧ−７０００」）をスピ
ンコータにより塗布し（回転数：９００回転／３秒）、
膜厚３．３μｍの塗膜を形成した。その後、８０°Ｃの
クリーンオーブン内で、１０分間乾燥した後、カラーフ
ィルターフォトマスクパターンに超高圧水銀灯により紫
外光線（主とする波長：３６５ｎｍ）を３００ｍＪ／ｃ
ｍ2 の照射量で照射した。この際、フォトマスクパター
ンは図３（Ａ）に示すように、ギャップ制御用柱状体部
を形成する部分を透明にし、赤色カラーフィルターパタ
ーン部を形成する部分は、３５％カットのハーフトーン
（透過率が６５％）となるようにフォトマスクパターン
の濃度を調整したものを使用した。
【００２３】次いで、基板を１ｗｔ％の炭酸ソーダ水溶
液に浸漬（室温で２分間）した後、純水でリンス後、２
００°Ｃのクリーンオーブン内で３０分間乾燥し図１
（Ｂ）に示す緑色カラーフィルターパターンとギャップ
制御用柱状体を有するＧ着色層を得た。この緑色パター
ン形成後の基板について、カラーフィルターパターン部
の膜厚および柱状体部の高さを触針式膜厚計（テンコー
ル社製「アルファステップ３００」）で測定したとこ
ろ、Ｒフィルターパターン部柱状体の膜厚（ｒ1 ＋
ｇ2 ）は、４．７μｍ（２．０μｍ＋２．７μｍ）、Ｇ
フィルターパターン部柱状体の膜厚（ｒ2 ＋ｇ4 ）は、
４．２μｍ（２．５μｍ＋１．７μｍ）、Ｂフィルター
パターン部柱状体の膜厚（ｒ2 ＋ｇ3 ）は５．２μｍ
（２．５μｍ＋２．７μｍ）であった。
液に浸漬（室温で２分間）した後、純水でリンス後、２
００°Ｃのクリーンオーブン内で３０分間乾燥し図１
（Ｂ）に示す緑色カラーフィルターパターンとギャップ
制御用柱状体を有するＧ着色層を得た。この緑色パター
ン形成後の基板について、カラーフィルターパターン部
の膜厚および柱状体部の高さを触針式膜厚計（テンコー
ル社製「アルファステップ３００」）で測定したとこ
ろ、Ｒフィルターパターン部柱状体の膜厚（ｒ1 ＋
ｇ2 ）は、４．７μｍ（２．０μｍ＋２．７μｍ）、Ｇ
フィルターパターン部柱状体の膜厚（ｒ2 ＋ｇ4 ）は、
４．２μｍ（２．５μｍ＋１．７μｍ）、Ｂフィルター
パターン部柱状体の膜厚（ｒ2 ＋ｇ3 ）は５．２μｍ
（２．５μｍ＋２．７μｍ）であった。
【００２４】次に、当該基板上に青色感材（富士ハント
株式会社製「カラーモザイクＣＢ−７０００」）をスピ
ンコータにより塗布し（回転数：８００回転／３秒）、
膜厚３．６μｍの塗膜を形成した。その後、８０°Ｃの
クリーンオーブン内で、１０分間乾燥した後、カラーフ
ィルターフォトマスクパターンに超高圧水銀灯により紫
外光線（主とする波長：３６５ｎｍ）を３００ｍＪ／ｃ
ｍ2 の照射量で照射した。この際、フォトマスクパター
ンは、図４（Ａ）に示すように、ギャップ制御用柱状体
部を形成する部分を透明にし、青色カラーフィルターパ
ターン部を形成する部分は、４０％カットのハーフトー
ン（透過率が６０％）となるようにフォトマスクパター
ンの濃度を調整したものを使用した。
株式会社製「カラーモザイクＣＢ−７０００」）をスピ
ンコータにより塗布し（回転数：８００回転／３秒）、
膜厚３．６μｍの塗膜を形成した。その後、８０°Ｃの
クリーンオーブン内で、１０分間乾燥した後、カラーフ
ィルターフォトマスクパターンに超高圧水銀灯により紫
外光線（主とする波長：３６５ｎｍ）を３００ｍＪ／ｃ
ｍ2 の照射量で照射した。この際、フォトマスクパター
ンは、図４（Ａ）に示すように、ギャップ制御用柱状体
部を形成する部分を透明にし、青色カラーフィルターパ
ターン部を形成する部分は、４０％カットのハーフトー
ン（透過率が６０％）となるようにフォトマスクパター
ンの濃度を調整したものを使用した。
【００２５】次いで、基板を１ｗｔ％の炭酸ソーダ水溶
液に浸漬（室温で２分間）した後、純水でリンス後、２
００°Ｃのクリーンオーブン内で３０分間乾燥し、図１
（Ｃ）に示す青色カラーフィルターパターン部とギャッ
プ制御用柱状体部を有するＢ着色層を得た。この青色パ
ターン形成後の基板について、フィルターパターン部の
膜厚および柱状体部の高さを触針式膜厚計（テンコール
社製「アルファステップ３００」）で測定したところ、
Ｒフィルターパターン部柱状体の高さ（ｒ1 ＋ｇ2 ＋ｂ
2 ）と、Ｇフィルターパターン部柱状体の高さ（ｒ2 ＋
ｇ4 ＋ｂ3 ）と、Ｂフィルターパターン部柱状体部の高
さ（ｒ2 ＋ｇ3 ＋ｂ4 ）は全て、７．０μｍの等しい高
さに形成されていた。また、各カラーフィルターパター
ン部の膜厚は、２．０μｍであった。なお、ｂ4 は、
１．８μｍ、ｂ3 は、２．８μｍ、ｂ2 は、２．３μ
ｍ、ｂ1は、２．０μｍであった。ｂ4 が薄くなるの
は、前記のようにＢ感光材料塗布時に、微小柱状体上部
の塗布物がレベリングされるためであり、同一の露光で
もｂ3 がｂ2 よりも高くなるのは、ｂ3 の基礎となる部
分が多少平坦化しているため、ｂ2 部よりは厚膜に塗布
されるからである。
液に浸漬（室温で２分間）した後、純水でリンス後、２
００°Ｃのクリーンオーブン内で３０分間乾燥し、図１
（Ｃ）に示す青色カラーフィルターパターン部とギャッ
プ制御用柱状体部を有するＢ着色層を得た。この青色パ
ターン形成後の基板について、フィルターパターン部の
膜厚および柱状体部の高さを触針式膜厚計（テンコール
社製「アルファステップ３００」）で測定したところ、
Ｒフィルターパターン部柱状体の高さ（ｒ1 ＋ｇ2 ＋ｂ
2 ）と、Ｇフィルターパターン部柱状体の高さ（ｒ2 ＋
ｇ4 ＋ｂ3 ）と、Ｂフィルターパターン部柱状体部の高
さ（ｒ2 ＋ｇ3 ＋ｂ4 ）は全て、７．０μｍの等しい高
さに形成されていた。また、各カラーフィルターパター
ン部の膜厚は、２．０μｍであった。なお、ｂ4 は、
１．８μｍ、ｂ3 は、２．８μｍ、ｂ2 は、２．３μ
ｍ、ｂ1は、２．０μｍであった。ｂ4 が薄くなるの
は、前記のようにＢ感光材料塗布時に、微小柱状体上部
の塗布物がレベリングされるためであり、同一の露光で
もｂ3 がｂ2 よりも高くなるのは、ｂ3 の基礎となる部
分が多少平坦化しているため、ｂ2 部よりは厚膜に塗布
されるからである。
【００２６】（カラーフィルタに関する試作例２）試作
例２は、カラーフィルターのフォトマスクパターンを、
柱状体形成部分とカラーフィルターパターン形成部分と
を分けた２枚のフォトマスクを使用して順次露光する方
法についての実施例である。透明ガラス基板（コーニン
グ社製「７０５９」）３００×４００ｍｍ、厚さ、１．
１ｍｍ上に、Ｃｒ薄膜を通常の真空成膜方法で成膜し、
パターンエッチングを行い、ＢＭ（ブラックマトリク
ス）が形成されたカラーフィルター基板１０を準備し
た。当該基板上に赤色感材（富士ハント株式会社製「カ
ラーモザイクＣＲ−７０００」）をスピンコータにより
塗布し（回転数：１０００回転／３秒）、膜厚２．７μ
ｍの塗膜を形成した。その後、８０°Ｃのクリーンオー
ブン内で、１０分間乾燥した後、まず最初に、柱状体形
成部分のフォトマスクパターンに超高圧水銀灯により紫
外光線（主とする波長：３６５ｎｍ）を３００ｍＪ／ｃ
ｍ2 の照射量で照射し、次いで、カラーフィルターパタ
ーン形成部分のフォトマスクパターンを同一光源を使用
して、２００ｍＪ／ｃｍ2 の照射量で照射した。この
際、フォトマスクにはクロムマスクを使用し、そのパタ
ーン部は、いずれも透明とした。
例２は、カラーフィルターのフォトマスクパターンを、
柱状体形成部分とカラーフィルターパターン形成部分と
を分けた２枚のフォトマスクを使用して順次露光する方
法についての実施例である。透明ガラス基板（コーニン
グ社製「７０５９」）３００×４００ｍｍ、厚さ、１．
１ｍｍ上に、Ｃｒ薄膜を通常の真空成膜方法で成膜し、
パターンエッチングを行い、ＢＭ（ブラックマトリク
ス）が形成されたカラーフィルター基板１０を準備し
た。当該基板上に赤色感材（富士ハント株式会社製「カ
ラーモザイクＣＲ−７０００」）をスピンコータにより
塗布し（回転数：１０００回転／３秒）、膜厚２．７μ
ｍの塗膜を形成した。その後、８０°Ｃのクリーンオー
ブン内で、１０分間乾燥した後、まず最初に、柱状体形
成部分のフォトマスクパターンに超高圧水銀灯により紫
外光線（主とする波長：３６５ｎｍ）を３００ｍＪ／ｃ
ｍ2 の照射量で照射し、次いで、カラーフィルターパタ
ーン形成部分のフォトマスクパターンを同一光源を使用
して、２００ｍＪ／ｃｍ2 の照射量で照射した。この
際、フォトマスクにはクロムマスクを使用し、そのパタ
ーン部は、いずれも透明とした。
【００２７】次いで、基板を１ｗｔ％の炭酸ソーダ水溶
液に浸漬（室温で２分間）した後、純水でリンス後、２
００°Ｃのクリーンオーブン内で３０分間乾燥し図１
（Ａ）に示す赤色フィルターパターンとギャップ制御用
柱状体を有するＲ着色層を得た。この場合、柱状体の部
分はフィルターパターン部に比較して露光量が多くなる
ため、感材の感光度合いも高く厚膜に形成される。この
赤色パターン形成後の基板について、フィルターパター
ン部の膜厚および柱状体部の高さを触針式膜厚計（テン
コール社製「アルファステップ３００」）で測定したと
ころ、フィルターパターン部の膜厚ｒ1 は２．０μｍ、
柱状体部の膜厚ｒ2 は２．５μｍであった。
液に浸漬（室温で２分間）した後、純水でリンス後、２
００°Ｃのクリーンオーブン内で３０分間乾燥し図１
（Ａ）に示す赤色フィルターパターンとギャップ制御用
柱状体を有するＲ着色層を得た。この場合、柱状体の部
分はフィルターパターン部に比較して露光量が多くなる
ため、感材の感光度合いも高く厚膜に形成される。この
赤色パターン形成後の基板について、フィルターパター
ン部の膜厚および柱状体部の高さを触針式膜厚計（テン
コール社製「アルファステップ３００」）で測定したと
ころ、フィルターパターン部の膜厚ｒ1 は２．０μｍ、
柱状体部の膜厚ｒ2 は２．５μｍであった。
【００２８】次に、当該基板上に緑色感材（富士ハント
株式会社製「カラーモザイクＣＧ−７０００」）をスピ
ンコータにより塗布し（回転数：１０５０回転／３
秒）、膜厚３．３μｍの塗膜を形成した。その後、８０
°Ｃのクリーンオーブン内で、１０分間乾燥した後、ま
ず最初に、柱状体形成部分のフォトマスクパターンに超
高圧水銀灯により紫外光線（主とする波長：３６５ｎ
ｍ）を３００ｍＪ／ｃｍ2 の照射量で照射し、次いで、
カラーフィルターパターン形成部分のフォトマスクパタ
ーンを同一光源を使用して、２００ｍＪ／ｃｍ2 の照射
量で照射した。この際、フォトマスクにはクロムマスク
を使用し、そのパターン部は、いずれも透明とした。次
いで、基板を１ｗｔ％の炭酸ソーダ水溶液に浸漬（室温
で２分間）した後、純水でリンス後、２００°Ｃのクリ
ーンオーブン内で３０分間乾燥し図１（Ｂ）に示す緑色
フィルターパターンとギャップ制御用柱状体を有するＧ
着色層を得た。この緑色パターン形成後の基板につい
て、フィルターパターン部の膜厚および柱状体部の高さ
を触針式膜厚計（テンコール社製「アルファステップ３
００」）で測定したところ、Ｒフィルターパターン部柱
状体の膜厚（ｒ1 ＋ｇ2 ）は、４．７μｍ（２．０μｍ
＋２．７μｍ）、Ｇフィルターパターン部柱状体の膜厚
（ｒ2 ＋ｇ4 ）は、４．２μｍ（２．５μｍ＋１．７μ
ｍ）、Ｂフィルターパターン部柱状体の膜厚（ｒ2 ＋ｇ
3 ）は５．２μｍ（２．５μｍ＋２．７μｍ）であっ
た。
株式会社製「カラーモザイクＣＧ−７０００」）をスピ
ンコータにより塗布し（回転数：１０５０回転／３
秒）、膜厚３．３μｍの塗膜を形成した。その後、８０
°Ｃのクリーンオーブン内で、１０分間乾燥した後、ま
ず最初に、柱状体形成部分のフォトマスクパターンに超
高圧水銀灯により紫外光線（主とする波長：３６５ｎ
ｍ）を３００ｍＪ／ｃｍ2 の照射量で照射し、次いで、
カラーフィルターパターン形成部分のフォトマスクパタ
ーンを同一光源を使用して、２００ｍＪ／ｃｍ2 の照射
量で照射した。この際、フォトマスクにはクロムマスク
を使用し、そのパターン部は、いずれも透明とした。次
いで、基板を１ｗｔ％の炭酸ソーダ水溶液に浸漬（室温
で２分間）した後、純水でリンス後、２００°Ｃのクリ
ーンオーブン内で３０分間乾燥し図１（Ｂ）に示す緑色
フィルターパターンとギャップ制御用柱状体を有するＧ
着色層を得た。この緑色パターン形成後の基板につい
て、フィルターパターン部の膜厚および柱状体部の高さ
を触針式膜厚計（テンコール社製「アルファステップ３
００」）で測定したところ、Ｒフィルターパターン部柱
状体の膜厚（ｒ1 ＋ｇ2 ）は、４．７μｍ（２．０μｍ
＋２．７μｍ）、Ｇフィルターパターン部柱状体の膜厚
（ｒ2 ＋ｇ4 ）は、４．２μｍ（２．５μｍ＋１．７μ
ｍ）、Ｂフィルターパターン部柱状体の膜厚（ｒ2 ＋ｇ
3 ）は５．２μｍ（２．５μｍ＋２．７μｍ）であっ
た。
【００２９】次に、当該基板上に青色感材（富士ハント
株式会社製「カラーモザイクＣＢ−７０００」）をスピ
ンコータにより塗布し（回転数：１１００回転／３
秒）、膜厚３．６μｍの塗膜を形成した。その後、８０
°Ｃのクリーンオーブン内で、１０分間乾燥した後、ま
ず最初に、柱状体形成部分のフォトマスクパターンに超
高圧水銀灯により紫外光線（主とする波長：３６５ｎ
ｍ）を３００ｍＪ／ｃｍ2 の照射量で照射し、次いで、
カラーフィルターパターン形成部分のフォトマスクパタ
ーンを同一光源を使用して、２００ｍＪ／ｃｍ2 の照射
量で照射した。この際、フォトマスクにはクロムマスク
を使用し、そのパターン部は、いずれも透明とした。次
いで、基板を１ｗｔ％の炭酸ソーダ水溶液に浸漬（室温
で２分間）した後、純水でリンス後、２００°Ｃのクリ
ーンオーブン内で３０分間乾燥し、図１（Ｃ）に示す青
色フィルターパターンとギャップ制御用柱状体を有する
Ｂ着色層を得た。
株式会社製「カラーモザイクＣＢ−７０００」）をスピ
ンコータにより塗布し（回転数：１１００回転／３
秒）、膜厚３．６μｍの塗膜を形成した。その後、８０
°Ｃのクリーンオーブン内で、１０分間乾燥した後、ま
ず最初に、柱状体形成部分のフォトマスクパターンに超
高圧水銀灯により紫外光線（主とする波長：３６５ｎ
ｍ）を３００ｍＪ／ｃｍ2 の照射量で照射し、次いで、
カラーフィルターパターン形成部分のフォトマスクパタ
ーンを同一光源を使用して、２００ｍＪ／ｃｍ2 の照射
量で照射した。この際、フォトマスクにはクロムマスク
を使用し、そのパターン部は、いずれも透明とした。次
いで、基板を１ｗｔ％の炭酸ソーダ水溶液に浸漬（室温
で２分間）した後、純水でリンス後、２００°Ｃのクリ
ーンオーブン内で３０分間乾燥し、図１（Ｃ）に示す青
色フィルターパターンとギャップ制御用柱状体を有する
Ｂ着色層を得た。
【００３０】この青色パターン形成後の基板について、
フィルターパターン部の膜厚および柱状体部の高さを触
針式膜厚計（テンコール社製「アルファステップ３０
０」）で測定したところ、Ｒフィルターパターン部柱状
体の高さ（ｒ1 ＋ｇ2 ＋ｂ2 ）と、Ｇフィルターパター
ン部柱状体の高さ（ｒ2 ＋ｇ4 ＋ｂ3 ）と、Ｂフィルタ
ーパターン部柱状体部の高さ（ｒ2 ＋ｇ3 ＋ｂ4 ）は全
て、７．０μｍの等しい高さに形成されていた。また、
各カラーフィルターパターン部の膜厚は、２．０μｍで
あった。なお、ｂ4 は、１．８μｍ、ｂ3 は、２．８μ
ｍ、ｂ2 は、２．３μｍ、ｂ1は、２．０μｍであっ
た。
フィルターパターン部の膜厚および柱状体部の高さを触
針式膜厚計（テンコール社製「アルファステップ３０
０」）で測定したところ、Ｒフィルターパターン部柱状
体の高さ（ｒ1 ＋ｇ2 ＋ｂ2 ）と、Ｇフィルターパター
ン部柱状体の高さ（ｒ2 ＋ｇ4 ＋ｂ3 ）と、Ｂフィルタ
ーパターン部柱状体部の高さ（ｒ2 ＋ｇ3 ＋ｂ4 ）は全
て、７．０μｍの等しい高さに形成されていた。また、
各カラーフィルターパターン部の膜厚は、２．０μｍで
あった。なお、ｂ4 は、１．８μｍ、ｂ3 は、２．８μ
ｍ、ｂ2 は、２．３μｍ、ｂ1は、２．０μｍであっ
た。
【００３１】（カラーフィルタに関する試作例３）試作
例３は、カラーフィルターのフォトマスクパターンを、
柱状体形成部分とカラーフィルターパターン形成部分と
を有するフォトマスクと柱状体形成部分のみからなるフ
ォトマスクとの２枚のフォトマスクを使用して順次露光
する方法についての実施例である。透明ガラス基板（コ
ーニング社製「７０５９」）３００×４００ｍｍ、厚
さ、１．１ｍｍ上に、Ｃｒ薄膜を通常の真空成膜方法で
成膜し、パターンエッチングを行い、ＢＭ（ブラックマ
トリクス）が形成されたカラーフィルター基板１０を準
備した。当該基板上に赤色感材（富士ハント株式会社製
「カラーモザイクＣＲ−７０００」）をスピンコータに
より塗布し（回転数：１０００回転／３秒）、膜厚２．
７μｍの塗膜を形成した。その後、８０°Ｃのクリーン
オーブン内で、１０分間乾燥した後、まず最初に、柱状
体形成部分とカラーフィルターパターン形成部分を有す
るフォトマスクパターンに超高圧水銀灯により紫外光線
（主とする波長：３６５ｎｍ）を２００ｍＪ／ｃｍ2 の
照射量で照射し、次いで、柱状体形成部分のみのフォト
マスクパターンを同一光源を使用して、２００ｍＪ／ｃ
ｍ2 の照射量で照射した。この際、フォトマスクにはク
ロムマスクを使用し、そのパターン部は、いずれも透明
とした。
例３は、カラーフィルターのフォトマスクパターンを、
柱状体形成部分とカラーフィルターパターン形成部分と
を有するフォトマスクと柱状体形成部分のみからなるフ
ォトマスクとの２枚のフォトマスクを使用して順次露光
する方法についての実施例である。透明ガラス基板（コ
ーニング社製「７０５９」）３００×４００ｍｍ、厚
さ、１．１ｍｍ上に、Ｃｒ薄膜を通常の真空成膜方法で
成膜し、パターンエッチングを行い、ＢＭ（ブラックマ
トリクス）が形成されたカラーフィルター基板１０を準
備した。当該基板上に赤色感材（富士ハント株式会社製
「カラーモザイクＣＲ−７０００」）をスピンコータに
より塗布し（回転数：１０００回転／３秒）、膜厚２．
７μｍの塗膜を形成した。その後、８０°Ｃのクリーン
オーブン内で、１０分間乾燥した後、まず最初に、柱状
体形成部分とカラーフィルターパターン形成部分を有す
るフォトマスクパターンに超高圧水銀灯により紫外光線
（主とする波長：３６５ｎｍ）を２００ｍＪ／ｃｍ2 の
照射量で照射し、次いで、柱状体形成部分のみのフォト
マスクパターンを同一光源を使用して、２００ｍＪ／ｃ
ｍ2 の照射量で照射した。この際、フォトマスクにはク
ロムマスクを使用し、そのパターン部は、いずれも透明
とした。
【００３２】次いで、基板を１ｗｔ％の炭酸ソーダ水溶
液に浸漬（室温で２分間）した後、純水でリンス後、２
００°Ｃのクリーンオーブン内で３０分間乾燥し図１
（Ａ）に示す赤色フィルターパターンとギャップ制御用
柱状体を有するＲ着色層を得た。この場合、柱状体の部
分はフィルターパターン部に比較して露光量が多くなる
ため、感材の感光度合いも高く厚膜に形成される。この
赤色パターン形成後の基板について、フィルターパター
ン部の膜厚および柱状体部の高さを触針式膜厚計（テン
コール社製「アルファステップ３００」）で測定したと
ころ、フィルターパターン部の膜厚ｒ1 は２．０μｍ、
柱状体部の膜厚ｒ2 は２．５μｍであった。
液に浸漬（室温で２分間）した後、純水でリンス後、２
００°Ｃのクリーンオーブン内で３０分間乾燥し図１
（Ａ）に示す赤色フィルターパターンとギャップ制御用
柱状体を有するＲ着色層を得た。この場合、柱状体の部
分はフィルターパターン部に比較して露光量が多くなる
ため、感材の感光度合いも高く厚膜に形成される。この
赤色パターン形成後の基板について、フィルターパター
ン部の膜厚および柱状体部の高さを触針式膜厚計（テン
コール社製「アルファステップ３００」）で測定したと
ころ、フィルターパターン部の膜厚ｒ1 は２．０μｍ、
柱状体部の膜厚ｒ2 は２．５μｍであった。
【００３３】次に、当該基板上に緑色感材（富士ハント
株式会社製「カラーモザイクＣＧ−７０００」）をスピ
ンコータにより塗布し（回転数：１０５０回転／３
秒）、膜厚２．７μｍの塗膜を形成した。その後、８０
°Ｃのクリーンオーブン内で、１０分間乾燥した後、ま
ず最初に、柱状体形成部分とカラーフィルターパターン
形成部分を有するフォトマスクパターンに超高圧水銀灯
により紫外光線（主とする波長：３６５ｎｍ）を２００
ｍＪ／ｃｍ2 の照射量で照射し、次いで、柱状体形成部
分のみのフォトマスクパターンを同一光源を使用して、
２００ｍＪ／ｃｍ2 の照射量で照射した。この際、フォ
トマスクにはクロムマスクを使用し、そのパターン部
は、いずれも透明とした。
株式会社製「カラーモザイクＣＧ−７０００」）をスピ
ンコータにより塗布し（回転数：１０５０回転／３
秒）、膜厚２．７μｍの塗膜を形成した。その後、８０
°Ｃのクリーンオーブン内で、１０分間乾燥した後、ま
ず最初に、柱状体形成部分とカラーフィルターパターン
形成部分を有するフォトマスクパターンに超高圧水銀灯
により紫外光線（主とする波長：３６５ｎｍ）を２００
ｍＪ／ｃｍ2 の照射量で照射し、次いで、柱状体形成部
分のみのフォトマスクパターンを同一光源を使用して、
２００ｍＪ／ｃｍ2 の照射量で照射した。この際、フォ
トマスクにはクロムマスクを使用し、そのパターン部
は、いずれも透明とした。
【００３４】次いで、基板を１ｗｔ％の炭酸ソーダ水溶
液に浸漬（室温で２分間）した後、純水でリンス後、２
００°Ｃのクリーンオーブン内で３０分間乾燥し図１
（Ｂ）に示す緑色フィルターパターンとギャップ制御用
柱状体を有するＧ着色層を得た。この緑色パターン形成
後の基板について、フィルターパターン部の膜厚および
柱状体部の高さを触針式膜厚計（テンコール社製「アル
ファステップ３００」）で測定したところ、Ｒフィルタ
ーパターン部柱状体の膜厚（ｒ1 ＋ｇ2 ）は、４．５μ
ｍ（２．０μｍ＋２．５μｍ）、Ｇフィルターパターン
部柱状体の膜厚（ｒ2 ＋ｇ4 ）は、３．７μｍ（２．５
μｍ＋１．２μｍ）、Ｂフィルターパターン部柱状体の
膜厚（ｒ2 ＋ｇ3 ）は４．５μｍ（２．５μｍ＋２．０
μｍ）であった。
液に浸漬（室温で２分間）した後、純水でリンス後、２
００°Ｃのクリーンオーブン内で３０分間乾燥し図１
（Ｂ）に示す緑色フィルターパターンとギャップ制御用
柱状体を有するＧ着色層を得た。この緑色パターン形成
後の基板について、フィルターパターン部の膜厚および
柱状体部の高さを触針式膜厚計（テンコール社製「アル
ファステップ３００」）で測定したところ、Ｒフィルタ
ーパターン部柱状体の膜厚（ｒ1 ＋ｇ2 ）は、４．５μ
ｍ（２．０μｍ＋２．５μｍ）、Ｇフィルターパターン
部柱状体の膜厚（ｒ2 ＋ｇ4 ）は、３．７μｍ（２．５
μｍ＋１．２μｍ）、Ｂフィルターパターン部柱状体の
膜厚（ｒ2 ＋ｇ3 ）は４．５μｍ（２．５μｍ＋２．０
μｍ）であった。
【００３５】次に、当該基板上に青色感材（富士ハント
株式会社製「カラーモザイクＣＢ−７０００」）をスピ
ンコータにより塗布し（回転数：１１００回転／３
秒）、膜厚２．７μｍの塗膜を形成した。その後、８０
°Ｃのクリーンオーブン内で、１０分間乾燥した後、柱
状体形成部分とカラーフィルターパターン形成部分を有
するフォトマスクパターンに超高圧水銀灯により紫外光
線（主とする波長：３６５ｎｍ）を３００ｍＪ／ｃｍ2
の照射量で照射した。この際、フォトマスクにはクロム
マスクを使用し、そのパターン部は、いずれも透明とし
た。次いで、基板を１ｗｔ％の炭酸ソーダ水溶液に浸漬
（室温で２分間）した後、純水でリンス後、２００°Ｃ
のクリーンオーブン内で３０分間乾燥し、図１（Ｃ）に
示す青色フィルターパターンとギャップ制御用柱状体を
有するＢ着色層を得た。柱状体部をさらに高くしバラン
スをくずさないため、青色感材については柱状体形成部
のみの露光は行わなかった。
株式会社製「カラーモザイクＣＢ−７０００」）をスピ
ンコータにより塗布し（回転数：１１００回転／３
秒）、膜厚２．７μｍの塗膜を形成した。その後、８０
°Ｃのクリーンオーブン内で、１０分間乾燥した後、柱
状体形成部分とカラーフィルターパターン形成部分を有
するフォトマスクパターンに超高圧水銀灯により紫外光
線（主とする波長：３６５ｎｍ）を３００ｍＪ／ｃｍ2
の照射量で照射した。この際、フォトマスクにはクロム
マスクを使用し、そのパターン部は、いずれも透明とし
た。次いで、基板を１ｗｔ％の炭酸ソーダ水溶液に浸漬
（室温で２分間）した後、純水でリンス後、２００°Ｃ
のクリーンオーブン内で３０分間乾燥し、図１（Ｃ）に
示す青色フィルターパターンとギャップ制御用柱状体を
有するＢ着色層を得た。柱状体部をさらに高くしバラン
スをくずさないため、青色感材については柱状体形成部
のみの露光は行わなかった。
【００３６】この青色パターン形成後の基板について、
フィルターパターン部の膜厚および柱状体部の高さを触
針式膜厚計（テンコール社製「アルファステップ３０
０」）で測定したところ、Ｒフィルターパターン部柱状
体の高さ（ｒ1 ＋ｇ2 ＋ｂ2 ）と、Ｇフィルターパター
ン部柱状体の高さ（ｒ2 ＋ｇ4 ＋ｂ3 ）と、Ｂフィルタ
ーパターン部柱状体部の高さ（ｒ2 ＋ｇ3 ＋ｂ4 ）は全
て、６．０μｍの等しい高さに形成されていた。また、
各カラーフィルターパターン部の膜厚は、２．０μｍで
あった。なお、ｂ4 は、１．５μｍ、ｂ3 は、２．３μ
ｍ、ｂ2 は、１．５μｍ、ｂ1は、２．０μｍであっ
た。
フィルターパターン部の膜厚および柱状体部の高さを触
針式膜厚計（テンコール社製「アルファステップ３０
０」）で測定したところ、Ｒフィルターパターン部柱状
体の高さ（ｒ1 ＋ｇ2 ＋ｂ2 ）と、Ｇフィルターパター
ン部柱状体の高さ（ｒ2 ＋ｇ4 ＋ｂ3 ）と、Ｂフィルタ
ーパターン部柱状体部の高さ（ｒ2 ＋ｇ3 ＋ｂ4 ）は全
て、６．０μｍの等しい高さに形成されていた。また、
各カラーフィルターパターン部の膜厚は、２．０μｍで
あった。なお、ｂ4 は、１．５μｍ、ｂ3 は、２．３μ
ｍ、ｂ2 は、１．５μｍ、ｂ1は、２．０μｍであっ
た。
【００３７】（液晶表示装置に関する実施例）上記、試
作例１、試作例２および試作例３で製作したカラーフィ
ルターを用いて、液晶表示装置を組み立てた。まず、透
明基板上に透明導電膜層（ＩＴＯ）を、スパッタリング
法により、厚さ０．１５μｍで形成し、その上に絶縁層
を介してポリイミド系の配向膜を塗布し配向処理を施し
対向基板を形成した。カラーフィルタ側にも同様に導電
膜層およびポリイミド系の配向膜を塗布し配向処理を施
した後、対向基板とギャップ制御機能付きカラーフィル
タとを柱状体部が対向基板に接触するように圧着しなが
ら周囲を液晶導入部分を残して封止剤で封着した。最後
にカラーフィルタと対向基板が形成する間隙に液晶を充
填して封止することにより液晶表示装置が完成した。完
成した液晶表示装置は、試作例１、試作例２、試作例３
共に、対向基板とカラーフィルタ基板間が正確な一定間
隔に保たれ、画像表示機能試験でも良好な結果が得られ
た。
作例１、試作例２および試作例３で製作したカラーフィ
ルターを用いて、液晶表示装置を組み立てた。まず、透
明基板上に透明導電膜層（ＩＴＯ）を、スパッタリング
法により、厚さ０．１５μｍで形成し、その上に絶縁層
を介してポリイミド系の配向膜を塗布し配向処理を施し
対向基板を形成した。カラーフィルタ側にも同様に導電
膜層およびポリイミド系の配向膜を塗布し配向処理を施
した後、対向基板とギャップ制御機能付きカラーフィル
タとを柱状体部が対向基板に接触するように圧着しなが
ら周囲を液晶導入部分を残して封止剤で封着した。最後
にカラーフィルタと対向基板が形成する間隙に液晶を充
填して封止することにより液晶表示装置が完成した。完
成した液晶表示装置は、試作例１、試作例２、試作例３
共に、対向基板とカラーフィルタ基板間が正確な一定間
隔に保たれ、画像表示機能試験でも良好な結果が得られ
た。
【００３８】
【発明の効果】本発明の製造方法では、カラーフィルタ
のギャップ制御機能を行う柱状体をハーフトーン濃度を
有するフォトマスクを使用するか、カラーフィルターパ
ターン形成部分の露光と柱状体形成部分の露光とを別の
工程で行う２ステップ露光法により製造するので、ギャ
ップ制御用柱状体の高さを自由に制御することができ、
カラーフィルターの各部分で柱状体の高さ精度の優れた
ギャップ制御機能付きカラーフィルターを容易に製造す
ることができる。
のギャップ制御機能を行う柱状体をハーフトーン濃度を
有するフォトマスクを使用するか、カラーフィルターパ
ターン形成部分の露光と柱状体形成部分の露光とを別の
工程で行う２ステップ露光法により製造するので、ギャ
ップ制御用柱状体の高さを自由に制御することができ、
カラーフィルターの各部分で柱状体の高さ精度の優れた
ギャップ制御機能付きカラーフィルターを容易に製造す
ることができる。
【図１】 ギャップ制御機能付きカラーフィルターの製
造工程を示す図である。
造工程を示す図である。
【図２】 Ｒ着色層を形成する工程を示す図である。
【図３】 Ｇ着色層を形成する工程を示す図である。
【図４】 Ｂ着色層を形成する工程を示す図である。
【図５】 本発明の他の実施態様を示す図である。
【図６】 本発明の他の実施態様を示す図である。
【図７】 本発明のさらに他の実施態様を示す図であ
る。
る。
【図８】 本発明のさらに他の実施態様を示す図であ
る。
る。
【図９】 従来の製造方法によるギャップ制御機能付き
カラーフィルタを示す図である。
カラーフィルタを示す図である。
１０ カラーフィルター基板 １１ ガラス等の基板 １２ ブラックマトリクス ３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ，１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂ 柱状体 ２０，３０，４０，５０，６０，７０，８０ フォト
マスク ２１，３１，４１，５１，６１，７１，８１ 柱状体
形成部分 ２２，３２，４２，５２，７２ カラーフィルターパ
ターン形成部分 Ｒ１ 赤色カラーフィルターパターン部 Ｇ１ 緑色カラーフィルターパターン部 Ｂ１ 青色カラーフィルターパターン部 Ｒ２ 赤色柱状体部 Ｇ２，Ｇ３ 緑色柱状体部 Ｂ２，Ｂ３ 青色柱状体部
マスク ２１，３１，４１，５１，６１，７１，８１ 柱状体
形成部分 ２２，３２，４２，５２，７２ カラーフィルターパ
ターン形成部分 Ｒ１ 赤色カラーフィルターパターン部 Ｇ１ 緑色カラーフィルターパターン部 Ｂ１ 青色カラーフィルターパターン部 Ｒ２ 赤色柱状体部 Ｇ２，Ｇ３ 緑色柱状体部 Ｂ２，Ｂ３ 青色柱状体部
Claims (4)
- 【請求項１】 着色層を積層することにより形成した柱
状体をカラーフィルターに持たせることにより液晶表示
装置のギャップを制御する機能を持たせたギャップ制御
機能付きカラーフィルターの製造方法において、カラー
フィルターの着色層形成工程に使用するフォトマスクの
柱状体形成部分の濃度とカラーフィルターパターン形成
部分の濃度を異ならせたことを特徴とするギャップ制御
機能付きカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項２】 フォトマスクの柱状体形成部の光透過率
がカラーフィルターパターン形成部の透過率よりも高い
ことを特徴とする請求項１記載のギャップ制御機能付き
カラーフィルターの製造方法。 - 【請求項３】 着色層を積層することにより形成した柱
状体をカラーフィルターに持たせることにより液晶表示
装置のギャップを制御する機能を持たせたギャップ制御
機能付きカラーフィルターの製造方法において、同一着
色感光材料の塗布物を用いて、柱状体形成部分の露光工
程とカラーフィルターパターン形成部分の露光工程とを
２回に分け順不同に行うことを特徴とするギャップ制御
機能付きカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項４】 着色層を積層することにより形成した柱
状体をカラーフィルターに持たせることにより液晶表示
装置のギャップを制御する機能を持たせたギャップ制御
機能付きカラーフィルターの製造方法において、同一着
色感光材料の塗布物を用いて、柱状体形成部分とカラー
フィルターパターン形成部分の露光工程と柱状体形成部
分のみの露光工程とを２回に分け順不同に行うことを特
徴とするギャップ制御機能付きカラーフィルターの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4960797A JP4011668B2 (ja) | 1997-02-19 | 1997-02-19 | ギャップ制御機能付きカラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4960797A JP4011668B2 (ja) | 1997-02-19 | 1997-02-19 | ギャップ制御機能付きカラーフィルターの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10232310A true JPH10232310A (ja) | 1998-09-02 |
| JP4011668B2 JP4011668B2 (ja) | 2007-11-21 |
Family
ID=12835931
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4960797A Expired - Fee Related JP4011668B2 (ja) | 1997-02-19 | 1997-02-19 | ギャップ制御機能付きカラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4011668B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001222003A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-08-17 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成方法およびカラーフィルタ |
| JP2006235258A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスク及び液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法 |
| KR100693959B1 (ko) | 2004-06-11 | 2007-03-12 | 샤프 가부시키가이샤 | 컬러 필터 기판, 컬러 필터 기판의 제조 방법 및 컬러 필터기판을 포함하는 표시 장치 |
| JP2007316363A (ja) * | 2006-05-26 | 2007-12-06 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
| JP2008281919A (ja) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ形成基板の作製方法およびカラーフィルタ形成基板 |
| JP2009150916A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-09 | Ips Alpha Technology Ltd | 液晶表示装置 |
| JP2009210918A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 横電界液晶駆動方式用カラーフィルタおよびその製造方法 |
| JP2009210819A (ja) * | 2008-03-04 | 2009-09-17 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ形成基板と液晶パネル |
| US7911578B2 (en) | 2004-09-09 | 2011-03-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate for liquid crystal display panel |
-
1997
- 1997-02-19 JP JP4960797A patent/JP4011668B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001222003A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-08-17 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成方法およびカラーフィルタ |
| KR100693959B1 (ko) | 2004-06-11 | 2007-03-12 | 샤프 가부시키가이샤 | 컬러 필터 기판, 컬러 필터 기판의 제조 방법 및 컬러 필터기판을 포함하는 표시 장치 |
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| JP2006235258A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスク及び液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法 |
| JP2007316363A (ja) * | 2006-05-26 | 2007-12-06 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
| JP2008281919A (ja) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ形成基板の作製方法およびカラーフィルタ形成基板 |
| JP2009150916A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-09 | Ips Alpha Technology Ltd | 液晶表示装置 |
| US8520181B2 (en) | 2007-12-18 | 2013-08-27 | Panasonic Liquid Crystal Display Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
| JP2009210819A (ja) * | 2008-03-04 | 2009-09-17 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ形成基板と液晶パネル |
| JP2009210918A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 横電界液晶駆動方式用カラーフィルタおよびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4011668B2 (ja) | 2007-11-21 |
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