JPH072702A - 接触水素添加方法 - Google Patents
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Abstract
ウム、錫、鉛、ガリウム、インジウム、チタン、鉄、モ
リブデン、タングステン、レニウムおよびタリウムから
選ばれる付加金属Mとを含む触媒の存在下での不飽和炭
化水素仕込物の水素添加方法に関し、触媒は、反応器内
または前記反応器と直接接触している予備反応器内の現
場で、希釈された金属Mの有機化合物の含浸により調製
される。この反応器内では、炭化水素仕込物がその後で
処理される。本発明において触媒は、ハロゲンまたは酸
素−硫黄族の元素をも含んでいてもよい。 【効果】 アセチレン系化合物、ジオレフィン化合物、
芳香族化合物等の不飽和炭化水素を選択的に、かつ効率
良く還元することができる。
Description
と、少なくとも一つのVIII族の金属と、ゲルマニウム、
錫、鉛、ガリウム、インジウム、チタン、鉄、モリブデ
ン、タングステン、レニウムまたはタリウムの中から選
択される付加金属(金属Mと称される)と、場合によっ
ては塩素および弗素のような少なくとも一つのハロゲン
と、場合によっては硫黄のような酸素−硫黄族の元素と
を含む触媒との、不飽和炭化水素(アセチレン系炭化水
素、エチレン系炭化水素または芳香族炭化水素)の水素
添加方法に関するものである。
助触媒の添加が、触媒の品質を改良することを証明した
特許および出版物が数多くある。これらの元素は、塩ま
たは有機金属化合物のようないろいろな形態で付加され
る。一般にベース金属だけのものよりも、より活性なま
たはより選択的な触媒を得る。
した、白金族の貴金属と、錫、ゲルマニウムおよび鉛か
らなる群の中より選ばれる少なくとも一つの付加金属と
を含む触媒の利点は知られていた(米国特許第4504593
号)。
である。というのも、著しい効果を得るには、触媒の様
々な元素が密接に結び合わされている必要があるからで
ある。
れるべき反応器へ直接、十分に制御された条件で修飾元
素を添加する、以下で“予備触媒”と呼ばれる触媒の修
飾に関するものである。本方法は数多くの便利な点があ
るが、このような製造方法は、現場外の調製により得ら
れた触媒よりもはるかに効率のよい触媒を得ることが、
思いがけなくも確認された。
または芳香族炭化水素の水素添加法は、温度25〜500
℃、絶対圧力0.1 〜10MPa 、触媒1容量当たり毎時液
体仕込物0.5 〜50容量の空間速度で行われる。
条件で行われる、すなわち: −アセチレン系炭化水素の水素添加法に適応可能な条件
は、当専門技術者に既知の条件であり、より特別には平
均温度10〜150 ℃、圧力0.1 〜5 MPa および好ましく
は1.5 〜2.5 MPa および空間速度毎時触媒1容量当た
り液体仕込物0.5〜50容量である、 −エチレン系炭化水素および特に仕込物中に含まれるジ
エンの水素添加法には、一般にこのタイプの転換に使用
される条件であり、より特別には平均温度10〜100 ℃、
圧力0.1 〜6 MPa および好ましくは1.5 〜2.5 MPa
および空間速度毎時触媒1容量当たり液体仕込物0.5 〜
6 容量である、 −芳香族炭化水素の水素添加法には、このタイプの転換
に一般に使用される条件であり、より特別には平均温度
50〜400 ℃、圧力0.1 〜10MPa および空間速度毎時触
媒1容量当たり液体仕込物0.5 〜50容量である、本発明
による触媒担体は、一般に、例えばアルミニウム酸化
物、珪素酸化物、チタン酸化物のような元素周期表III
またはIV族の金属酸化物の中から選ばれ、単独でまたは
互いの混合物状態でまたは周期表の他の元素の酸化物と
の混合物状態で使用される、少なくとも一つの耐性酸化
物を含んでいる。炭素を使用することも可能である。
化水素の水素添加反応のために、好ましい担体は、比表
面積が有利にはグラム当たり5〜400 m2 、好ましくは
グラム当たり50〜250 m2 のアルミナである。
の少なくとも一つの金属および場合によってはハロゲン
またはハロゲン化合物を含んでいる。VIII族金属は好ま
しくは、白金、パラジウム、ニッケルおよびルテニウム
からなる群より選ばれる。この予備触媒は付加金属Mを
含まない。これは、当専門技術者に既知のあらゆる技術
により調製される。
合物の溶液によって担体を含浸する従来の方法によって
予備形成された担体から調製される。使用するのは、予
備触媒中に存在する金属の共通溶液、あるいは何らかの
秩序によるそれぞれ異なる溶液である。いくつかの溶液
を使用するとき、中間乾燥および/または中間カ焼を行
ってもよい。例えばVIII族金属の導入は、選択された金
属の化合物の水溶液による担体の含浸によって行われて
もよく、この溶液は例えば塩素または弗素のような他の
元素を含んでいてもよい。VIII族金属の導入後、得られ
た生成物は、場合によっては行われる乾燥の後カ焼さ
れ、カ焼は好ましくは150 〜500 ℃の温度で行われる。
数の付加金属Mの導入が記載されている。
カ焼工程の後、予備触媒中に一つまたは複数の付加金属
を導入する。場合によっては前記金属Mを導入する前
に、例えば20〜600 ℃で水素による還元を行う。この還
元は例えば、水素気流下に100〜400 ℃の望ましい温度
まで上昇させ、その後この温度で1〜8時間水素下の安
定期を置くことにより、行われてもよい。
ニル錯体、ポリケトン錯体と、アルキル、シクロアルキ
ル、アリール、金属アルキルアリールおよび金属アリー
ルアルキルのような金属Mの金属炭化水素とより形成さ
れる群の中から選ばれる有機金属化合物またはアルコラ
ート化合物の形態で導入される。
ト化合物または有機金属化合物の有機溶媒中の溶液によ
って、有利に行われる。複数金属の有機ハロゲン化合物
を使用してもよい。金属Mの化合物として、特に、テト
ラブチル錫、テトラメチル錫、テトラプロピルゲルマニ
ウム、ジフェニル錫、テトラエチル鉛、インジウムアセ
チルアセトナート、タリウムアセチルアセトナート、チ
タンアセチルアセトナート、タリウムエタノラート、ト
リエチルガリウム、チタンイソプロピラート、ドデカカ
ルボニル鉄、モリブデンカルボニル、タングステンカル
ボニル、ヘキサカルボニル鉄、およびジクロロジシクロ
ペンタジエニルチタン、レニウムカルボニルを挙げる。
8個有する酸化有機溶媒、および主に炭素原子を1分子
当たり6〜15個を含むパラフィン系炭化水素、ナフテン
系炭化水素または芳香族炭化水素、および炭素原子を1
分子当たり1〜15個含むハロゲン化有機化合物からなる
群より選ばれる。エタノール、テトラヒドロフラン、n-
ヘプタン、メチルシクロヘキサン、トルエンおよびクロ
ロホルムを挙げてもよい。これらの溶媒を単独でまたは
互いの混合物状態で使用してもよい。この金属Mの導入
法は、米国特許A-4504593 号に既に記載されている。
果を生じさせることが発見された。好ましい導入方法
は、前記付加金属Mが、不活性雰囲気(例えば窒素)下
または還元雰囲気(例えば水素)下で、少なくとも一つ
の(純粋または場合によっては少なくとも一つの炭化水
素溶液中に希釈された)付加金属Mの有機化合物と、一
つまたは複数の反応仕込物、例えば後にこのようにして
調製された触媒の存在下に水素化転換を受ける炭化水素
などの仕込物が注入される反応器に仕込まれた予備触媒
との接触によって、または前記反応器に直接つながって
いる予備反応器に仕込まれた予備触媒との接触によって
導入されることにより特徴づけられる。予備触媒は、本
発明では、少なくとも一つの担体と、元素周期表のVIII
族の少なくとも一つの金属と、場合によってはハロゲン
またはハロゲン化合物とを含む触媒である。この予備触
媒は前記付加金属Mは含まない。
気相で、すなわち工業用反応器(反応帯域)または前記
反応器に直接つながっている工業用予備反応器(予備反
応帯域)内で行われ、ここに最終触媒の前駆体である予
備触媒が仕込まれる。この付加金属Mの固定操作は、20
〜500 ℃で行われてもよい。
門技術者により既知のあらゆる技術により行われる。
工業用反応器または工業用予備反応器に予備触媒を仕込
むことから始める。工業用反応器または工業用予備反応
器内にこの仕込みを行う前に、予備触媒は場合によって
は乾燥され、かつ350 〜600℃の酸化雰囲気下にカ焼に
付される。本発明により、続いて予備触媒は還元雰囲気
(水素)下または不活性雰囲気(窒素)下に活性化処理
に付される。好ましい策は、例えば20〜600 ℃の水素下
での活性化処理である。この還元は、例えば100 〜400
℃の還元最高温度まで温度を、水素流下に、ゆっくり上
昇させ、その後、この温度で1〜8時間水素下での安定
期を置くことにより行われてもよい。
0 ℃の望みの値に調節した後、金属Mの導入を行う。
要ならば含浸溶媒は除去され、気体、好ましくは水素の
流量下、300 〜600 ℃の高温で、数時間熱処理を行う。
還元の後、触媒は場合によっては、チオフェン、ジメチ
ルジスルフィドの形態での硫黄、または金属触媒の硫化
を行うために専門技術者に既知のあらゆる化合物の形態
での硫黄50〜400 ppm を含む水素下に、熱処理によって
硫化されてもよい。
する重量として、(a)VIII 属の少なくとも一つの金属を
およそ0.01〜2%、好ましくは0.1 〜0.5 %、(b) ゲル
マニウム、錫、鉛、インジウム、ガリウム、チタン、
鉄、タングステン、モリブデン、レニウムおよびタリウ
ムからなる群の中から選ばれる少なくとも一つの金属を
およそ0.005 〜1重量%、有利には0.005 〜0.5 重量
%、および(c) 場合によっては、塩素および/または弗
素のようなハロゲンを0.1 〜15重量%、好ましくは0.9
〜2.8 重量%および(d) 場合によっては、硫黄のような
元素を0.002 〜0.2重量%含んでいる。
以下のようにして行う: (a) 少なくとも一つのVIII族の金属を含む、および塩素
のような少なくとも一つのハロゲンを含んでいてもよい
水性溶液によって担体を含浸する。このようにして、先
に“予備触媒”と呼ばれた触媒物質を得る、(b) 得られ
た触媒物質(すなわち予備触媒)を乾燥させる、(c) 物
質をカ焼し、ついで本発明に応じて、(d) 得られた触媒
物質を工業用反応器または工業用予備反応器に仕込む、
(e) カ焼され仕込まれた触媒物質を反応器で還元する、
(f) 反応器に仕込まれ還元された触媒物質を、純粋なま
たは溶媒中に可溶化された付加金属Mの有機化合物と接
触させる、(g) 必要ならば、溶媒を除去する、(h) 白金
または貴金属またはVIII族金属と、付加金属Mとを含む
触媒物質を還元する、(i) 触媒は場合によっては、ジメ
チルジスルフィドの形態の硫黄300 ppm の存在する水素
下処理により、硫化されてもよい。
存在下に操作することにより、これらの触媒は、従来技
術により調製された触媒に比べて活性、安定性が増して
いると共に、よりすぐれた再生能力を有していることが
分かった。
例証している。
の生成を制限しつつ、仕込物のアセチレン化合物を選択
的に還元することが提案された。
量%、錫0.048 重量%を含むAおよびBの二つの触媒を
調製する。担体は比表面積が1グラム当たり70m2 、多
孔質容量が1グラム当たり0.60cm3 のアルミナである。
ミナ担体100gから調製される。全部でパラジウムを0.3g
含む硝酸パラジウムの水性溶液60cm3 の添加によってパ
ラジウムの導入を行う。2時間接触させ、120 ℃で1 時
間乾燥し、次いで530 ℃で2時間カ焼する。次に150 ℃
で毎時80リットルの水素の流量下に、2時間触媒を還元
する。このようにして、パラジウム触媒を得る。次に、
パラジウムを含む還元された予備触媒50g を窒素下に、
反応球形フラスコに仕込む。そこで、テトラブチル錫を
0.40g含むn−ヘプタン溶液30cm3 を添加して、錫の含
浸を行う。室温で、毎時85リットルの水素流量下に8時
間接触させておく。得られた固体は水気を取り、120 ℃
で乾燥し、次いで150 ℃で2時間水素下に還元する。
れたパラジウム予備触媒20mlを、触媒Aに対して記述さ
れた条件と同じ条件で調製する。予備触媒は続いて、大
気圧で機能する等温管状反応器に仕込まれる。この反応
器はポンプと液体- 気体混合相により予備触媒を下から
上へ掃気することができる気体流量の調節器を具備して
いる。反応器の出口で回収された液体は分離球形フラス
コ内に回収され、反応器の入り口に戻される。電気加熱
システムは一定の温度に反応器を維持することを可能に
する。予備触媒は、150 ℃で、毎時水素20リットルの反
応器内で2時間還元される。水素の流量を保持しながら
も、温度を室温にまで減少させる。そこで、テトラブチ
ル錫を0.08g含むn−ヘプタン溶液を循環させる。溶媒
の循環は、常に水素流量下に室温で8時間続けられる。
溶媒は引き抜きにより除去され、150 ℃で2時間毎時20
リットルの水素流量下に、触媒の還元を行う。Bと呼ば
れるこの触媒は検討される触媒反応に直接使用可能であ
る。
は、次の仕込物に対して評価される: −アセチレン:2重量% −エチレン :88重量% −エタン :10重量%
℃で水素流下に還元される。調製方法が考慮された触媒
Bに関しては、すでに使用準備のできた水素添加反応器
に入れられている。
された結果が、表1に示されている。
た触媒Bは、別途調製され次いでテスト反応器に導入さ
れた同様の触媒よりも、活性かつ選択的であることが分
かる。
生成を抑えて、接触クラッキングのC4留分のジオレフ
ィン化合物を選択的に還元することが提案された。
重量%、ゲルマニウムを0.25重量%含む2つの触媒Cお
よびDを調製する。担体は比表面積がグラム当たり70m
2 および多孔質容量がグラム当たり0.60cm3 のアルミナ
である。
トラブチルゲルマニウムに代えられた以外は、実施例1
の触媒Aのように調製された。触媒D(本発明による)
は、テトラブチル錫をテトラブチルゲルマニウムに代え
た以外は、水素添加反応器内で、現場で、実施例1の触
媒Bのように調製された。
Dの活性および選択性をテストした: −プロパン : 0.2重量% −プロピレン : 0.02 重量% −イソブタン :28.7重量% −ブタン :13.9重量% −ブテン-1 :14.5重量% −イソブテン :17.5重量% −t-ブテン-2 :13.0重量% −c-ブテン-2 :10.1重量% −ブタジエン : 1.12 重量% −イソペンタン: 0.05 重量% −ペンタン : 0.91 重量%
素流下に150 ℃で還元される。調製方法の考慮された触
媒Dに関しては、準備のできた水素添加反応器内に既に
存在する。
応器の出口の重量%で表されている。
術で調製された触媒Cよりも優れた触媒効率を示してい
る(より高いブタジエンの転換率およびブテン-1の異性
化率)。
のアセチレン系化合物を選択的に還元することが提案さ
れた。
量%、タングステンを0.04重量%含む2つの触媒Eおよ
びFを調製する。担体は比表面積1グラム当たり70
m2 、多孔質容量1グラム当たり0.60cm3 のアルミナで
ある。
キサカルボニルタングステンに代えられた以外、実施例
1の触媒Aのように調製された。触媒F(本発明によ
る)は、テトラブチル錫がヘキサカルボニルタングステ
ンに代えられた以外は、水素添加反応器内で、現場で、
実施例1の触媒Bのように調製された。
Fの活性および選択性をテストした: −ブタン : 1.94 重量% −ブテン-1 :12.67 重量% −イソブテン :19.67 重量% −t-ブテン-2 : 5.99 重量% −c-ブテン-2 :11.43 重量% −ブタジエン-1,3 :43.32 重量% −ブタジエン-1,2 : 2.24 重量% −ブチン-1 : 1.15 重量% −ビニルアセチレン: 1.59 重量%
℃で水素流下に還元される。調製方法が考慮された触媒
Fに関しては、使用の準備がされた水素添加反応器内に
すでにある。
器の出口での重量%で表される。
術で調製された触媒Eよりも優れた触媒効率を示す。実
際、始めに存在するジオレフィン化合物を転換すること
なしに、アセチレン化合物の優れた転換を可能にする。
香族化合物を選択的に還元することが提案された。
含む触媒Gと、白金を0.6 重量%、ゲルマニウム0.8 重
量%含む2つの触媒HおよびIとを調製する。担体は比
表面積が1グラム当たり180 m2 、多孔質容量が1グラ
ム当たり0.60cm3 のアルミナである。
100gに塩酸水溶液500 cm3 を添加する。3時間接触させ
ておき、水気を取る。塩素(1重量%) を含む乾燥された
物質に対して、ヘキサクロロ白金酸の溶液60cm3 を固体
に添加して、白金の含浸を行う。この溶液の白金の濃度
は1リットル当たり10gである。6時間接触させたまま
にしておき、120 ℃で1時間乾燥し、530 ℃で2時間カ
焼する。
ミナ担体100gから調製される。全部で白金を0.25gと塩
素を1.5g含むヘキサクロロ白金酸と塩酸の水溶液60cm3
の添加により、白金と塩素の含浸を行う。4時間接触さ
せたままおき、120 ℃で1時間乾燥し、530 ℃で2時間
カ焼する。次に触媒を2時間、450 ℃で毎時80リットル
の水素流量下に還元する。
備触媒と呼ばれた)50gに対して、反応球形フラスコの
中で、テトラブチルゲルマン1.8gを含むn-ヘプタンの溶
液30cm3 を添加してゲルマニウムの含浸を行う。室温で
毎時85リットルの水素流量下に8時間接触させておく。
得られた固体は水気を取り、120 ℃で乾燥されてから、
530 ℃で2時間カ焼される。
含むカ焼された予備触媒40gは、触媒Hのために記述さ
れた条件と同じ条件で調製される。予備触媒は次に、大
気圧で下降流で機能する等温管状反応器内に仕込まれ
る。
トル下に、反応器内で2時間還元される。水素の流量は
維持され、温度は室温に減少される。テトラブチルゲル
マン1.6gを含むn-ヘプタンの溶液を循環させる。溶媒の
循環は、室温で、常に水素の流量下に維持される。溶媒
はそこで除去され、450 ℃で2時間、毎時20リットルの
水素流量下に触媒の還元を行う。触媒Iは次に予備硫化
される。この予備硫化の工程では、還元された触媒上に
硫黄250ppmを含む仕込物を、250 ℃の水素1MPa 下で
通過させ、予備硫化の仕込物流量は、触媒1容量当たり
液体仕込物2容量の時速で1時間維持される。触媒Iと
呼ばれるこの触媒は検討される触媒反応に直接使用可能
である。
れ、450 ℃で水素流下に還元され、触媒Iのために記述
された条件で予備硫化される。調製法が考慮された触媒
Iに関しては、使用の準備がされた水素添加反応器内に
すでに入っている。
クロヘキサン中の硫黄50 ppmを含んでいる。
た結果は、表4に示されている。結果は、5時間および
20時間のテストの後、反応器の出口で回収されたトルエ
ンの重量%で表されている。
触媒Iが、硫化化合物の存在下でのトルエンの水素添加
反応に対して、触媒Gよりも優れた活性であることを示
している。さらに、触媒Hおよび触媒Iは、同じ前駆体
から調製されたにもかかわらず、本発明による触媒Iは
触媒Hよりも優れた効果を示す。
セチレン系化合物、ジオレフィン化合物、芳香族化合物
等の不飽和炭化水素を選択的に、かつ効率良く還元する
ことができる。
Claims (19)
- 【請求項1】 少なくとも一つの担体と、少なくとも一
つのVIII族の金属と、ゲルマニウム、錫、鉛、ガリウ
ム、チタン、鉄、モリブデン、タングステン、レニウム
およびタリウムからなる群より選ばれる少なくとも一つ
の付加金属Mとを含む触媒の存在下での不飽和炭化水素
仕込物の水素添加方法であって、触媒は、少なくとも一
つの担体と少なくとも一つのVIII族の金属とを含むカ焼
され活性化された予備触媒と呼ばれる触媒物質から形成
され、この触媒物質中に、少なくとも一つの付加金属M
の少なくとも一つの有機化合物が、純粋なまままたは希
釈されて、現場で(in-situ) 、前記触媒の存在下に仕込
物の処理が行われる反応帯域において、または、反応帯
域と直接接触している予備反応帯域において導入され
る、水素添加方法。 - 【請求項2】 触媒は、以下の連続した工程: a)前記調製の第一工程において、現場外で(hors sit
e) 、少なくとも一つの前記担体と少なくとも一つの前
記VIII族の金属とを含む予備触媒を調製し、予備触媒は
この工程で場合によっては乾燥、および場合によっては
カ焼に付され、 b)予備触媒を、前記触媒により処理すべき仕込物が送
り込まれる反応帯域に、または前記反応帯域に直接つな
がった予備反応帯域に導入し、 c)不活性雰囲気下または還元雰囲気下で、予備触媒を
活性化処理に付し、かつ、 d)前記調製の第二工程において、前記付加金属Mを、
不活性雰囲気下または還元雰囲気下に、付加金属Mの少
なくとも一つの有機化合物を接触させることによって予
備触媒中に導入する、 を含む方法により調製される、請求項1による方法。 - 【請求項3】 仕込物および水素が、25〜500 ℃の温
度、0.1 〜10MPa の絶対圧力で、触媒1容量当たり毎
時液体仕込物0.5 〜50容量の空間速度で、触媒と接触さ
せられる、前記請求項1または2による方法。 - 【請求項4】 VIII族の金属は、白金、パラジウム、ニ
ッケルおよびルテニウムからなる群より選ばれる、請求
項1または2による方法。 - 【請求項5】 担体は耐性酸化物の中から選ばれる、請
求項1〜3のうちの1つによる方法。 - 【請求項6】 触媒はまた少なくとも一つの酸素−硫黄
族元素(sulfuride)を含む、請求項1〜5のうちの1つ
による方法。 - 【請求項7】 酸素−硫黄族元素は硫黄である、請求項
6による方法。 - 【請求項8】 触媒は、塩素および弗素からなる群より
選ばれる少なくとも一つのハロゲンを含む、請求項1〜
7のうちの1つによる方法。 - 【請求項9】 付加金属Mの有機化合物は液相または気
相で導入される、請求項1〜8のうちの1つによる方
法。 - 【請求項10】 付加金属Mの有機化合物は、炭化水素
溶液である少なくとも一つの含浸溶媒中で触媒に導入さ
れる、請求項1〜9のうちの1つによる方法。 - 【請求項11】 予備触媒の活性化は、20〜600 ℃の水
素の存在下に、還元雰囲気下で行われる、請求項1〜1
0のうちの1つによる方法。 - 【請求項12】 触媒の調製の後に、(処理すべき仕込
物を触媒と接触させる前に)付加金属Mの含浸溶媒の除
去を行い、次いで加熱処理する、請求項10または11
による方法。 - 【請求項13】 前記加熱処理は、水素の流量下、300
〜600 ℃の温度で行われる、請求項12による方法。 - 【請求項14】 付加金属Mは、少なくとも一つの有機
金属化合物またはアルコラート化合物の形態で予備触媒
中に導入される、請求項9〜13のうちの1つによる方
法。 - 【請求項15】 前記有機金属化合物またはアルコラー
ト化合物は、金属Mのカルボニル錯体またはポリケトン
錯体と、アルキル、シクロアルキル、アリール、アルキ
ルアリールおよびアリールアリキルのような金属Mの金
属炭化水素とからなる群より選ばれる、請求項14によ
る方法。 - 【請求項16】 前記金属Mの有機化合物は、ヘキサカ
ルボニル鉄、チタンイソプロピラート、ジクロロジシク
ロペンタジエニルチタン、テトラブチル錫、テトラメチ
ル錫、テトラプロピルゲルマニウム、ジフェニル錫およ
びテトラエチル鉛からなる群より選ばれる、請求項9〜
15のうちの1つによる方法。 - 【請求項17】 前記金属Mの前記含浸溶媒は、1分子
当たり2〜8個の炭素原子を有する酸化有機溶媒、1分
子当たり炭素原子6〜15個を有するパラフィン系、ナフ
テン系および芳香性炭化水素、および1分子当たり炭素
原子1〜15個を有するハロゲン化有機化合物からなる群
から選ばれる、請求項9〜16のうちの1つによる方
法。 - 【請求項18】 含浸溶媒は、エタノール、テトラヒド
ロフラン、n-ヘプタン、メチルシクロヘキサン、トルエ
ンおよびクロロホルムからなる群より選ばれる、請求項
17による方法。 - 【請求項19】 予備触媒は、反応帯域または予備反応
帯域で活性化される前に、乾燥およびカ焼に付される、
請求項2による方法。
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