JPH0725152A - 赤外吸収化合物及びそれを用いた光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 プラスチック基板に塗工可能な有機溶剤への
溶解性が良く、少ない添加量で有機色素記録層の耐光性
を著しく改善することが可能な赤外吸収化合物及びそれ
を用いた光記録媒体を提供する。 【構成】 下記一般式（Ｉ）で表わされる赤外吸収化合
物、及び記録層中に前記赤外吸収化合物を含有する光記
録媒体。 【化１】 （Ｒ₁ 〜Ｒ₈ は水素原子または一価の有機残基を示す。
但し、Ｒ₁ 〜Ｒ₈ の少なくとも１つはＲ₁ とＲ₂ ，Ｒ₃
とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ₆ ，Ｒ₇ とＲ₈ の組み合せで置換もし
くは末置換の５員環、置換もしくは末置換の６員環また
は置換もしくは末置換の７員環を形成する。ｎは１又は
２である。Ｘ^- は一価の金属錯体アニオンを示す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、耐光性、耐久性に優れ
た赤外吸収化合物及びそれを用いた再生光劣化及び保存
安定性、特に高温安定性に優れた光記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に光学記録媒体、例えば光ディスク
や光カードはらせん状、円形状または直線状のグループ
を有する基板の上に設けた記録層に光学的に検出可能な
小さな、例えば１μｍ程度のピットを形成することによ
り高密度に情報を記録することができる。

【０００３】この記録層の表面に集束したレーザー光を
走査すると、記録層はレーザーエネルギーを吸収して光
学的に検出可能なピットを形成することによって情報が
書込まれる。例えばヒートモード記録方式では、記録層
は熱エネルギーを吸収しその部位に蒸発、分解等が生じ
て凹状のピットが形成される。

【０００４】ここで反射率の高い記録層として有機色素
薄膜を用いることにより記録ピットの光学的コントラス
トを高く設定することができる。例えば、有機色素薄膜
として、レーザー光に対する光吸収の大きいポリメチン
系色素、アズレン系色素、ピリリウム系色素等を用いる
と、金属光沢（反射率１０〜５０％）を示す光吸収反射
膜が得られレーザー記録が可能で反射読出しが可能な光
記録媒体になる。

【０００５】特にレーザー光源として発振波長６５０〜
９００ｎｍの半導体レーザーを用いると装置の小型化、
低コスト化が可能となる利点を有している。

【０００６】しかしながら、有機色素薄膜は一般に熱お
よび光に対して物質変化しやすい等の原因から記録再生
特性及び保存安定性が低下するという問題があった。こ
のような問題に対し、耐光性を向上させるためにアミニ
ウム塩・ジイモニウム塩化合物や一重項酸素クェンチャ
ーである金属キレート錯体（とくに、Ｎｉキレート錯
体）を記録層中に添加する方法が知られている。

【０００７】しかし、金属キレート錯体はプラスチック
基板に塗布可能な溶剤への溶解性が低いため、耐光性を
十分に改良できるほどの量を添加できないという問題点
がある。また、金属錯体を色素と複塩を形成することに
よりより多くの量を記録層中に添加するという方法も提
案されており、耐光性は向上できるが記録感度の低下を
もたらすという問題がある。

【０００８】また、アミニウム塩・ジイモニウム塩化合
物を記録層中に添加する方法では、対イオンが単なる酸
アニオンであるために耐光性向上のために添加量が多く
必要であった。そしてこの様な問題に対し少ない添加量
で耐光性を著しく向上させる方法として、アミニウム塩
・ジイモニウム塩カチオンと金属錯体アニオンの複塩化
合物を用いた例が、特開昭６２−１９３８９１号公報に
記載されている。この方法により、耐光性、および記録
再生特性は従来よりも改善されるが、ジアルキルアミノ
基に置換されたアミニウム塩・ジイモニウム塩カチオン
を用いた場合には金属錯体アニオンとの複塩化合物の溶
剤への溶解性がまだ不十分で、特にプラスチック基板に
直接適用できる、脂肪族炭化水素類、アルコール類、ケ
トン類等の溶媒への溶解度が小さかった。

【０００９】またジイモニウム塩カチオンと金属錯体ア
ニオンの混合物からなる記録層及び該記録層上に反射層
を備えた耐光性に優れた光ディスクが特開平３−１６４
２９２号公報に開示されており、例えばジイモニウム塩
カチオンとして例えばＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラキス
（ジアルキルアミノ置換フェニル）−ｐ−フェニレンジ
アミンのジイモニウム塩やＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ
キス（ジアルコキシアルキルアミノ置換フェニル）−ｐ
−フェニレンジアミンのジイモニウム塩が記載されてい
るが、これらの複塩化合物も保存安定性、再生光に対す
る安定性に於て未だ不十分であった。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来例
に鑑みてなされたものであり、その目的とするところ
は、赤外部に大きな吸収領域を有し、かつプラスチック
基板に塗工可能な有機溶剤への溶解性の良い新規赤外吸
収化合物を提供することにある。

【００１１】また、他の目的は少ない添加量で耐光性を
著しく改善することが可能となると同時に、添加量が少
なくて良いため記録感度の低下をおさえられ、更に保存
安定性を著しく向上させることのできる光記録媒体を提
供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、下記一
般式（Ｉ）で表わされる赤外吸収化合物である。

【００１３】

【化８】

【００１４】（式中、Ｒ₁ 〜Ｒ₈ は水素原子または一価
の有機残基を示す。但し、Ｒ₁ 〜Ｒ₈の少なくとも１つ
はＲ₁ とＲ₂ ，Ｒ₃ とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ₆ ，Ｒ₇ とＲ₈ の
組み合せで置換もしくは末置換の５員環、置換もしくは
末置換の６員環または置換もしくは末置換の７員環を形
成する。ｎは１又は２である。Ｘ^- は一価の金属錯体ア
ニオンを示す。）

【００１５】また、本発明は、基板および記録層を備え
た光記録媒体において、該記録層中に下記一般式（Ｉ）
で表わされる赤外吸収化合物を含有することを特徴とす
る光記録媒体である。

【００１６】

【化９】

【００１７】（式中、Ｒ₁ 〜Ｒ₈ は水素原子または一価
の有機残基を示す。但し、Ｒ₁ 〜Ｒ₈の少なくとも１つ
はＲ₁ とＲ₂ ，Ｒ₃ とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ₆ ，Ｒ₇ とＲ₈ の
組み合せで置換もしくは末置換の５員環、置換もしくは
末置換の６員環または置換もしくは末置換の７員環を形
成する。ｎは１又は２である。Ｘ^- は一価の金属錯体ア
ニオンを示す。）

【００１８】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
赤外吸収化合物は、下記一般式（Ｉ）で示されるもので
ある。

【００１９】

【化１０】

【００２０】上記一般式（Ｉ）において、Ｘ^- は一価の
金属錯体アニオンであり、またジイモニウム塩カチオン
のＲ₁ 〜Ｒ₈ は水素原子または一価の有機残基を示す。

【００２１】そして、本発明において、Ｒ₁ 〜Ｒ₈ の少
なくとも１つが、Ｒ₁ とＲ₂ ，Ｒ₃とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ
₆ ，Ｒ₇ とＲ₈ の組み合せで、置換もしくは末置換の５
員環、置換もしくは末置換の６員環または置換もしくは
末置換の７員環を形成することが好ましい。

【００２２】そして、Ｒ₁ 〜Ｒ₈ の少なくとも１つを上
記置換基群中から選択することによって、従来のものよ
り耐光性が向上し、又、高温安定性の良好な赤外吸収化
合物とすることができる。又、この赤外吸収化合物を記
録層に含有させることによって、耐光性、くり返し再生
に対する安定性に極めて優れ、且つ耐熱性も良好な光記
録媒体が得られるものである。

【００２３】次に、Ｒ₁ 〜Ｒ₈ の一価の有機残基として
は、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、
ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｔ−
オクチル基など）、置換アルキル基（例えば、２−ヒド
ロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル，４−ヒドロ
キシブチル基、２−アセトキシエチル基、カルボキシメ
チル基、２−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロ
ピル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキ
シプロピル基など）、アルケニル基（例えば、ビニル
基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセ
ニル基、ヘプテニル基、オクテニル基など）、アラルキ
ル基（例えば、ベンジル基、ｐ−クロロベンジル基、ｐ
−メチルベンジル基、２−フェニルメチル基、２−フェ
ニルプロピル基、３−フェニルプロピル基、α−ナフチ
ルメチル基、β−ナフチルエチル基など）、アルキニル
基（例えば、プロパギル基、ブチニル基、ペンチニル
基、ヘキシニル基など）、アルコキシアルキル基（例え
ば、メトキシメチル基、２−メトキシエチル基、３−メ
トキシプロピル基、２−メトキシプロピル基、４−メト
キシブチル基、３−メトキシブチル基、２−メトキシブ
チル基、５−メトキシペンチル基、４−メトキシペンチ
ル基、３−メトキシペンチル基、２−メトキシペンチル
基、６−メトキシヘキシル基、エトキシメチル基、２−
エトキシエチル基、３−エトキシプロピル基、２−エト
キシプロピル基、４−エトキシブチル基、３−エトキシ
ブチル基、５−エトキシペンチル基、４−エトキシペン
チル基、６−エトキシヘキシル基、プロポキシメチル
基、２−プロポキシエチル基、３−プロポキシプロピル
基、４−プロポキシブチル基、５−プロポキシペンチル
基などの直鎖あるいは分岐状アルコキシアルキル基な
ど）が挙げられる。Ｒ₁ 〜Ｒ₈ は各々異なっていても又
は同じであってもよい。

【００２４】また、Ｒ₁ とＲ₂ ，Ｒ₃ とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ
₆ 及びＲ₇ とＲ₈ の組み合せで、置換もしくは末置換の
５員環、置換もしくは末置換の６員環または置換もしく
は末置換の７員環を形成してもよく、５員環としてはピ
ロリジン環、６員環としてはピペリジン環，モルホリン
環，テトラヒドロピリジン環，７員環としてはシクロヘ
キシアミン環である。これらの環は、同じであってもま
たは異っていてもよい。

【００２５】そして、本発明において、Ｒ₁ とＲ₂ ，Ｒ
₃ とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ₆ ，Ｒ₇ とＲ₈の少なくとも１つの
組み合せで、置換の５員環または６員環とした場合、高
温安定性が向上すると同時に、溶剤溶解性に優れている
ので好ましい。

【００２６】また、前記一般式（Ｉ）で示される化合物
中の全ての芳香族環は、炭素数１〜５程度の低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、シア
ノ基などによって置換されてもよい。さらに、前記一般
式（Ｉ）において、ｎは１または２である。

【００２７】次に、本発明の前記一般式（Ｉ）で表され
る赤外吸収化合物に用いられるジイモニウム塩カチオン
の具体例を示す。

【００２８】ただし、簡略化のために、例えば前記一般
式（Ｉ）のジイモニウム塩カチオンが、ｎ＝１で、Ｒ₁
とＲ₂ ，Ｒ₃ とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ₆ 及びＲ₇ とＲ₈ の組み
合せで、各々末置換の５員環を形成する場合、下記の様
に表示する。

【００２９】

【化１１】

【００３０】また、ｎ＝２で、Ｒ₁ とＲ₂ ，Ｒ₃ とＲ₄
の組み合せでメチル基置換の６員環を形成し、Ｒ₅ 〜Ｒ
₈ がエチル基である場合、下記の様に表示する。

【００３１】

【化１２】

【００３２】

【化１３】

【００３３】

【化１４】

【００３４】

【化１５】

【００３５】

【化１６】

【００３６】

【化１７】

【００３７】

【化１８】

【００３８】

【化１９】

【００３９】

【化２０】

【００４０】次に、上述のアミニウム塩カチオンと対を
なす金属錯体アニオンＸ^- について説明する。本発明に
おいて、対アニオンとして用いられる金属錯体としては
種々のものを使用するとこができ、例えば一般式（Ｉ
Ｉ）〜（ＶＩＩＩ）に示される金属錯体化合物が挙げら
れる。但し、下記一般式中、Ｍは、Ｎｉ，Ｃｏ，Ｍｎ，
Ｃｕ，Ｐｂ，Ｐｔなどの遷移金属原子を示す。

【００４１】

【化２１】

【００４２】（式中、Ｒ₉ 〜Ｒ₁₂はそれぞれ，水素原
子，置換もしくは未置換のアルキル基または置換もしく
は未置換のアミノ基、置換もしくは未置換のアリール基
あるいはハロゲン基を表わす。）

【００４３】

【化２２】

【００４４】（式中、Ｒ₁₃〜Ｒ₁₆はそれぞれ置換もしく
は未置換のアルキル基、または置換もすいくは未置換の
アリール基、またはシアノ基を表わす。）

【００４５】

【化２３】

【００４６】（式中、Ｒ₁₇〜Ｒ₂₀はそれぞれ，水素原
子，置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未
置換のアミノ基、置換もしくは未置換のアリール基ある
いはハロゲン原子を表わす。）

【００４７】

【化２４】

【００４８】（式中、Ｒ₂₁〜Ｒ₂₄はそれぞれ，水素原
子，置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未
置換のアミノ基、置換もしくは未置換のアリール基ある
いはハロゲン原子を表わす。）

【００４９】

【化２５】

【００５０】（式中、Ｒ₂₅〜Ｒ₂₈はそれぞれ，水素原
子，置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未
置換のアミノ基、置換もしくは未置換のアリール基ある
いはハロゲン原子を表わす。）

【００５１】

【化２６】

【００５２】次に、本発明に用いられる金属錯体アニオ
ンの具体例を挙げるが、これらに限定されるものではな
い。

【００５３】

【化２７】

【００５４】

【化２８】

【００５５】

【化２９】

【００５６】

【化３０】

【００５７】

【化３１】

【００５８】

【化３２】

【００５９】そして、本発明の一般式（Ｉ）で表される
赤外吸収化合物は、前記ジイモニウム塩カチオンと金属
錯体化合物とが塩を形成した複塩化合物であり、その具
体例を下記に示す。

【００６０】

【化３３】

【００６１】

【化３４】

【００６２】次に、本発明の一般式（Ｉ）で示される化
合物の合成方法について説明する。先ず、対イオンとし
て酸アニオン（例えば過塩素酸塩イオン，ヨウ素イオ
ン，塩素イオン，ヘキサフルオロアンチモン酸塩イオン
など）を有するジイモニウム塩化合物を合成する。

【００６３】このジイモニウム塩化合物は米国特許明細
書３２５１８８１号、米国特許明細書３５７５８７１
号、米国特許明細書３４８４４６７号および特開昭６１
−６９９９１号等に記載された方法を利用して得る事が
でき、例えば下記の様にして合成できる。

【００６４】

【化３５】

【００６５】上記ウルマン反応及び還元反応により得た
アミノ体を選択的置換化によりアルキル化，アルケニル
化，アラルキル化，アルキニル化により置換化したの
ち、酸化反応により最終生成物を得ることができる。こ
のアルキル化反応でピロリジン環，ピペリジン環，モル
ホリン環，テトラヒドロピリジン環などを得るのに適当
なアルキル化剤を使用すればよい。

【００６６】またＲ₁ 〜Ｒ₈ を非対象とする場合にはこ
のアルキル化を多段階的に行なう必要が有り、コスト的
にはＲ₁ 〜Ｒ₈ を同一とするのが好ましい。

【００６７】一方、対イオンがカチオンであるアニオン
型の金属錯体を、例えはジャーナルオブ アメリカン
ケミカルソサエティ（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｍｅｒ
ｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ）１９６
５年、第８７巻、１４８３頁に記載されたシュラウザー
（Ｓｃｈｒａｕｚｅｒ）らの方法に従って合成できる。

【００６８】例えば、次の過程により製造できる。

【００６９】

【化３６】 （Ｒ，Ｒ′はアルキル基、芳香族環など、Ｘはハロゲ
ン、Ｍは遷移金属を示す。）

【００７０】

【化３７】

【００７１】上記反応によって得た中性の金属錯体をＤ
ＭＳＯ中で、ｐ−フェニレンジアミンを加えてアニオン
体とし、次にアルコール中で、４級アルキルアンモニウ
ム塩を添加して金属錯体アニオン体とする。なお、この
場合のカチオンとしては、特にＮ⁺ （ＣＨ₃ ）₄ ，Ｎ⁺
（Ｃ₄ Ｈ₉）₄ 等のテトラアルキルアンモニウムが好ま
しい。

【００７２】次いで、前記ジイモニウム塩化合物とアニ
オン型金属錯体の等モルを、極性溶媒に溶解する。用い
る極性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等
が好適である。また、その濃度は０．０１ｍｏｌ／l 程
度とすればよい。

【００７３】この後、これに水系溶媒、特に水を加え複
分解を生起させ沈殿をうる。加える水の量は１０倍以上
の大過剰とすればよい。なお、反応温度は、室温〜９０
℃程度がよい。

【００７４】次いで、両液相を分離し、濾過乾燥を行
い、必要に応じてこれを２〜３回繰り返したのち、ＤＭ
Ｆ−エタノール等で再結晶を行えば、本発明の複塩化合
物が得られる。

【００７５】又、上記の方法の他、金属錯体アニオンの
中間体である中性のものを塩化メチレン等に溶解し、こ
れに酸アニオンとの結合体であるジイモニウム塩化合物
を等モル添加し、濃縮、再結晶することによっても本発
明の複塩化合物を得ることができる。

【００７６】または、以上の方法の他、金属錯体アニオ
ンの中間体である中性のものを塩化メチレン等に溶解
し、これにジイモニウム塩化合物を等モル添加し、濃縮
し、再結晶を行ってもよい。

【００７７】上記に例示したジイモニウム塩カチオンと
金属錯体アニオンとの複塩化合物は、極大吸収波長が９
００ｎｍ以上にあり、吸光係数も数十万と大きい吸収ピ
ークを持つ。このような赤外吸収化合物は光記録媒体の
材料としての用途以外に断熱フイルム，サングラスなど
に使われる。

【００７８】また、本発明の赤外吸収化合物は、光記録
媒体の有機色素薄膜に含有して使用することができる。

【００７９】光記録媒体として、これらの赤外吸収化合
物と併用される、有機色素薄膜を形成する近赤外吸収色
素としては、一般的に知られている色素が用いられ、例
えばシアニン系色素，メロシアニン系色素，クロコニウ
ム系色素，スクアリウム系色素，アズレニウム系色素，
ポリメチン系色素，ナフトキノ系色素，ピリリウム系色
素，フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、
ナフトラクタム系色素などが挙げられる。

【００８０】これらの有機色素の中でも、ポリメチン系
やシアニン系、アズレニウム系に代表されるカチオン系
色素は、記録層の保存安定性に優れる点で好ましく、更
に下記に示すカチオン性色素は記録感度も良好で、本発
明の複塩化合物と混合した状態でも記録層の保存安定性
を低下させることがなく特に好ましい。

【００８１】そのカチオン性色素を以下に挙げる。一般
式（ＩＸ）で表わされるポリメチン系色素。

【００８２】

【化３８】

【００８３】式中、Ａ，Ｂ，Ｄ及びＥは水素原子、置換
もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のア
ルケニル基、置換もしくは未置換のアラルキル基、置換
もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換のス
チリル基及び置換もしくは未置換の複素環基から選ばれ
る基を示す。ｒ₁ , ｒ₂ は水素原子、置換もしくは未置
換のアルキル基、置換もしくは未置換の環式アルキル
基、置換もしくは未置換のアルケニル基、置換もしくは
未置換のアラルキル基及び置換もしくは未置換のアリー
ル基から選ばれる基を示し、ｋは０又は１、Ｌは０，１
又は２で、Ｇ^- はアニオンを意味する。

【００８４】一般式（Ｘ）で表わされる色素。

【００８５】

【化３９】

【００８６】式中、Ａ，Ｂ，Ｄ，Ｅ及びＧ^- は上記と同
義で、ｒ₁ 〜ｒ₅ は水素原子、ハロゲン原子、置換もし
くは未置換のアルキル基又は置換もしくは未置換のアリ
ール基を示す。Ｙは５員環又は６員環を完成するに必要
な原子群を有する２価の有機残基を示す。ｍ，ｎは０，
１又は２である。

【００８７】一般式（ＸＩ）で表わされる色素。

【００８８】

【化４０】

【００８９】式中、Ａ，Ｂ，Ｄ，Ｅ, ｒ₁ ，ｒ₂ ，ｒ
₃ ，Ｙ及びＧ^- は上記と同義である。

【００９０】一般式（ＸＩＩ）で表わされる色素。

【００９１】

【化４１】 式中、Ａ，Ｂ，Ｄ，Ｅ, ｒ₁ ，ｒ₂ ，ｒ₃ ，ｒ₄ ，ｍ及
びｎは上記と同義で、Ｚ^- は

【００９２】

【化４２】 を示す。

【００９３】一般式（ＸＩＩＩ）、（ＸＩＶ）又は（Ｘ
Ｖ）で表わされるアズレニウム系色素。

【００９４】

【化４３】

【００９５】式中、Ｒ₂₉〜Ｒ₃₅は水素原子、ハロゲン原
子（塩素原子、臭素原子、沃素原子）又は１価の有機残
基を表わす。１価の有機残基としては、広範なものから
選択することができる。

【００９６】又、Ｒ₂₉とＲ₃₀，Ｒ₃₀とＲ₃₁，Ｒ₃₁と
Ｒ₃₂，Ｒ₃₂とＲ₃₃，Ｒ₃₃とＲ₃₄およびＲ₃₄とＲ₃₅の組合
せのうち少なくとも１つの組合せで置換又は未置換の縮
合環を形成してもよい。縮合環としては５員，６員，ま
たは７員環の縮合環であり、芳香族環（ベンゼン、ナフ
タレン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、メチルベン
ゼン、エチルベンゼン、メトキシベンゼン、エトキシベ
ンゼンなど）、複素環（フラン環、ベンゾフラン環、ピ
ロール環、チオフェン環、ピリジン環、キノリン環、チ
アゾール環など）、脂肪族環（ジメチレン、トリメチレ
ン、テトラメチレンなど）が挙げられる。

【００９７】Ｇ^- は上記と同義でアニオンを示す。Ｆは
２重結合によって結合した２価の有機残基を表わす。か
かるＦを含む本発明の具体的な例として、下記一般式
（１）〜（１１）で表わされるものを挙げることができ
る。但し、式中のＱ⁺ は下記のアズレニウム塩核を示
し、式中のＱ⁺を除く右辺がＦを示している。

【００９８】アズレニウム塩核（Ｑ⁺ ）

【００９９】

【化４４】

【０１００】

【化４５】

【０１０１】Ｒ₂₉′〜Ｒ₃₅′はＲ₂₉〜Ｒ₃₅と同義であ
る。

【０１０２】又、Ｑ⁺ で示すアズレニウム塩核と前記式
（３）における右辺のアズレン塩核とは対称であっても
よく又は非対称であってもよい。

【０１０３】

【化４６】

【０１０４】

【化４７】

【０１０５】

【化４８】 式中、Ｊは含窒素複素環を完成するに必要な非金属原子
群を表わす。

【０１０６】

【化４９】 式中、Ｒ₃₈は置換又は未置換のアリール基あるいはそれ
らのカチオン基を表わす。ｐは１から８までの整数を表
わす。

【０１０７】

【化５０】 式中、Ｒ₃₉は複素環基あるいはそれらのカチオン基を表
わす。

【０１０８】

【化５１】 式中、Ｒ₄₀は水素原子、アルキル基、置換もしくは未置
換のアリール基を表わす。

【０１０９】

【化５２】

【０１１０】

【化５３】

【０１１１】式中、Ｚ₂ は置換されてもよいピラン、チ
アピラン、セレナピラン、テルロピラン、ベンゾピラ
ン、ベンゾチアピラン、ベンゾセレナピラン、ベンゾテ
ルロピラン、ナフトピラン、ナフトチアピラン又はナフ
トセレナピラン、ナフトテルロピランを完成するに必要
な原子群を示す。

【０１１２】Ｌは、硫黄原子、酸素原子又はセレン原
子、テルル原子を表わす。Ｒ₄₁及びＲ₄₂は水素原子、ア
ルコキシル基、置換もしくは未置換のアリール基、アラ
ルキル基、複素環基を表わす。

【０１１３】次に、好適な色素として一般式（ＸＶ
Ｉ），（ＸＶＩＩ），（ＸＶＩＩＩ），（ＸＩＶ）で表
わされる色素を示す。

【０１１４】

【化５４】

【０１１５】

【化５５】

【０１１６】上記一般式（ＸＶＩ），（ＸＶＩＩ），
（ＸＶＩＩＩ），（ＸＩＶ）中で、Ｌ₁ ，Ｌ₂ は置換さ
れた窒素原子、硫黄原子、酸素原子、セレン原子又はテ
ルル原子を示し、Ｚ₁ は置換されてもよいピリリウム、
チオピリリウム、セレナピリリウム、テルロピリリウ
ム、ベンゾピリリウム、ベンゾチオピリリウム、ベンゾ
セレナピリリウム、ベンゾテルロピリリウム、ナフトピ
リリウム、ナフトチオピリリウム、ナフトセレナピリリ
ウム又はナフトテルロピリリウムを完成するに必要な原
子群、Ｚ₂ は置換されてもよいピラン、チオピラン、セ
レナピラン、テルロピラン、ベンゾピラン、ベンゾチオ
ピラン、ベンゾセレナピラン、ベンゾテルロピラン、ナ
フトピラン、ナフトチオピラン、ナフトセレナピラン又
はナフトテルロピランを完成するに必要な原子群を示
す。

【０１１７】ｓは０又は１の整数である。Ｒ₄₃は置換ま
たは未置換のアリール基、もしくは置換または未置換の
複素環基を示す。ｒ₃ ′〜ｒ₇ ′は前述のｒ₁ ′, ｒ
₂ ′と同義である。ｋ，ｎ，Ｊ，ｒ₁ ′, ｒ₂ ′，ｒ
₁ , Ｙ，Ｚ^- ，Ｇ^- は前述と同義である。

【０１１８】上記一般式中の略号についてさらに詳しく
述べる。

【０１１９】Ａ，Ｂ，Ｄ及びＥは、水素原子又はアルキ
ル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、
ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｔ−
オクチル基など）を示し、さらに他のアルキル基、例え
ば置換アルキル基（例えば、２−ヒドロキシエチル基、
３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、
２−アセトキシエチル基、メトキシエチル基、エトキシ
エチル基、カルボキシメチル基、２−カルボキシエチル
基、３−カルボキシプロピル基、２−スルホエチル基、
３−スルホプロピル基、４−スルホブチル基、３−スル
フェートプロピル基、４−スルフェートブチル基、Ｎ−
（メチルスルホニル）−カルバミルメチル基、３−（ア
セチルスルファミル）プロピル基、４−（アセチルスル
ファミル）ブチル基など）、環式アルキル基（例えば、
シクロヘキシル基など）、アリル基（ＣＨ₂ ＝ＣＨ−Ｃ
Ｈ₂ −）、アルケニル基（ビニル基、プロペニル基、ブ
テニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル
基、オクテニル基、ドデシニル基、プレニル基など）、
アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、α
−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基など）、置
換アラルキル基（例えば、カルボキシベンジル基、スル
ホベンジル基、ヒドロキシベンジル基など）を包含す
る。

【０１２０】さらに、置換もしくは未置換のアリール基
（例えば、フェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル
基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、エチルフェ
ニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジ
メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、クロロフ
ェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジ
ブロモフェニル基、ニトロフェニル基、ジエチルアミノ
フェニル基、ジメチルアミノフェニル基、ジメトキシア
ミノフェニル基、ジベンジルアミノフェニル基など）を
示す。

【０１２１】ｒ₁ ，ｒ₂ ，ｒ₃ ，ｒ₄ ，ｒ₅ は水素原
子、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子な
ど）、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ
−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エ
チルヘキシル基、ｔ−オクチル基など）、アルコキシ基
（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
など）、置換もしくは未置換のアリール基（フェニル
基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、クロロフェニル
基、ニトロフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、α
−ナフチル基、β−ナフチル基など）を示す。

【０１２２】Ｙは２価の炭化水素基で、例えば

【０１２３】

【化５６】 などを表わし、これらの５員環又は６員環は、ベンゼン
環、ナフタレン環などと縮合されていてもよい。

【０１２４】Ｒ₂₉〜Ｒ₃₅及びＲ₂₉′〜Ｒ₃₅′は水素原
子、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子など）の他に、置換もしくは未置換のアルキ
ル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、
ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル
基、ｔ−オクチル基など）、置換もしくは未置換のアル
コキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブ
トキシ基など）、置換もしくは未置換のアリール基（フ
ェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、
メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、トリメト
キシフェニル基、エトキシフェニル基、クロロフェニル
基、ニトロフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、ジ
エチルアミノフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチ
ル基、ジプロピルアミノフェニル基、ジベンジルアミノ
フェニル、ジフェニルアミノフェニル基基など）、置換
もしくは未置換のアラルキル基（ベンジル基、２−フェ
ニルエチル基、２−フェニル−１−メチルエチル基、ブ
ロモベンジル基、２−ブロモフェニルエチル基、メチル
ベンジル基、メトキシベンジル基、ニトロベンジル
基）、アシル基（アセチル基、プロピオニル基、プチリ
ル基、バレリル基、ベンゾイル基、トリオイル基、ナフ
トイル基、フタロイル基、フロイル基など）、置換もし
くは未置換アミノ基（アミノ基、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、アセチルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基など）、置換もしくは未置換ス
チリル基（スチリル基、ジメチルアミノスチリル基、ジ
エチルアミノスチリル基、ジプロピルアミノスチリル
基、メトキシスチリル基、エトキシスチリル基、メチル
スチリル基など）、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキ
シル基、シアノ基又は置換もしくは未置換アリールアゾ
基（フェニルアゾ基、α−ナフチルアゾ基、β−ナフチ
ルアゾ基、ジメチルアミノフェニルアゾ基、クロロフェ
ニルアゾ基、ニトロフェニルアゾ基、メトキシフェニル
アゾ基、トリルアゾ基など）、置換もしくは未置換の複
素環基（例えば、ピリジル基、キノリル基、レピジル
基、メチルピリジル基、フリル基、チエニル基、インド
リル基、ピロール基、カルバゾリル基、Ｎ−エチルカル
バゾリル基など）、２，２−ジフェニルビニル基、２−
フェニル−２−メチルビニル基、２−（ジメチルアミノ
フェニル）−２−フェニルビニル基、２−（ジエチルア
ミノフェニル）−２−フェニルビニル基、２−（ジベン
ジルアミノフェニル）−２−フェニルビニル基、２，２
−ジ（ジエチルアミノフェニル）ビニル基、２，２−ジ
（メトキシフェニル）ビニル基、２，２−ジ（エトキシ
フェニル）ビニル基、２−（ジメチルアミノフェニル）
−２−メチルビニル基、２−（ジエチルアミノフェニ
ル）−２−エチルビニル基など）を挙げることができ
る。

【０１２５】又Ｒ₂₉′〜Ｒ₃₅′もＲ₂₉〜Ｒ₃₅と同様に縮
合環を形成しても良い。Ｒ₃₆は、水素原子、ニトロ基、
シアノ基、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基など）又はアリール基（フェニル基、トリ
ル基、キシリル基など）を表わす。

【０１２６】Ｒ₃₇は、アルキル基（メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基など）、置換アルキル基（２
−ヒドロキシエチル基、２−メトキシエチル基、２−エ
トキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−メト
キシプロピル基、３−エトキシプロピル基、３−クロロ
プロピル基、３−ブロモプロピル基、３−カルボキシプ
ロピル基など）、環式アルキル基（シクロヘキシル基、
シクロプロピル基）、アリル基、アラルキル基（ベンジ
ル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル
基、４−フェニルブチル基、α−ナフチルメチル基、β
−ナフチルメチル基）、置換アラルキル基（メチルベン
ジル基、エチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリ
メチルベンジル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル
基など）、アリール基（フェニル基、トリル基、キシリ
ル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基）、又は置換ア
リール基（クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ト
リクロロフェニル基、エチルフェニル基、メトキシフェ
ニル基、ジメトキシフェニル基、アミノフェニル基、ニ
トロフェニル基、ヒドロキシフェニル基など）を表わ
す。

【０１２７】Ｒ₃₈は置換又は未置換のアリール基（フェ
ニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、α−ナ
フチル基、β−ナフチル基、アントラリル基、ピレニル
基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、トリ
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジエトキシ
フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、
トリクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフ
ェニル基、トリブロモフェニル基、エチルフェニル基、
ジエチルフェニル基、ニトロフェニル基、アミノフェニ
ル基、ジメチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェ
ニル基、ジベンジルアミノフェニル基、ジプロピルアミ
ノフェニル基、モルホリノフェニル基、ピペリジニルフ
ェニル基、ピペラジノフェニル基、ジフェニルアミノフ
ェニル基、アセチルアミノフェニル基、ベンゾイルアミ
ノフェニル基、アセチルフェニル基、ベンゾイルフェニ
ル基、シアノフェニル基など）を表わす。

【０１２８】Ｒ₃₉はフラン、チオフエン、ベンゾフラ
ン、チオナフテン、ジベンゾフラン、カルバゾール、フ
ェノチアジン、フェノキサジン、ピリジンなどの複素環
から誘導された１価の複素環基を表わす。

【０１２９】Ｒ₄₀は水素原子、アルキル基（メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基など）又は置換もしく
は未置換のアリール基（フェニル基、トリル基、キシリ
ル基、ビフェニル基、エチルフェニル基、クロロフェニ
ル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ニト
ロフェニル基、アミノフェニル基、ジメチルアミノフェ
ニル基、ジエチルアミノフェニル基、アセチルアミノフ
ェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、アントラ
リル基、ピレニル基など）を表わす。

【０１３０】Ｒ₄₁およびＲ₄₂は水素原子、アルキル基
（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基など）、
アルコキシル基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、エトキシエチル基、メトキシエチル基など）、アリ
ール基（フェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフ
ェニル基、ビフェニル基、メトキシフェニル基など）、
置換もしくは未置換のスチリル基（スチリル基、ｐ−メ
チルスチリル基、ｏ−クロロスチリル基、ｐ−メトキシ
スチリル基など）、置換もしくは未置換の４−フェニル
１，３−ブタジエニル基（４−フェニル１，３−ブタジ
エニル基、４−（ｐ−メチルフェニル）−１，３−ブタ
ジエニル基など）、又は置換もしくは未置換の複素環基
（キノリル基、ピリジル基、カルバゾリル基、フリル基
など）を表わす。

【０１３１】Ｊはピリジン、チアゾール、ベンゾチアゾ
ール、ナフトチアゾール、オキサゾール、ベンゾオキサ
ゾール、ナフトオキサゾール、イミダゾール、ベンズイ
ミダゾール、ナフトイミダゾール、２−キノリン、４−
キノリン、イソキノリン又はインドールなどの含窒素複
素環を完成するに必要な原子群で、ハロゲン原子（フッ
素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）、アル
キル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基な
ど）、アリール基（フェニル基、トリル基、キシリル基
など）、アルアルキル基（ベンジル基、ｐ−トリルメチ
ル基など）によって置換されていてもよい。

【０１３２】Ｇ^- はアニオンで塩素イオン、臭素イオ
ン、ヨウ素イオン、過塩素酸塩イオン、ベンゼンスルホ
ン酸塩イオン、Ｐ−トルエンスルホン酸塩イオン、メチ
ル硫酸塩イオン、エチル硫酸塩イオン、プロピル硫酸塩
イオン、テトラフルオロホウ酸塩イオン、テトラフェニ
ルホウ酸塩イオン、ヘキサフルオロリン酸塩イオン、ベ
ンゼンスルフィン酸塩イオン、酢酸塩イオン、トリフル
オロ酢酸塩イオン、プロピオン酸塩イオン、安息香酸塩
イオン、シュウ酸塩イオン、コハク酸塩イオン、マロン
酸塩イオン、オレイン酸塩イオン、ステアリン酸塩イオ
ン、クエン酸塩イオン、一水素二リン酸塩イオン、二水
素一リン酸塩イオン、ペンタクロロスズ酸塩イオン、ク
ロロスルホン酸塩イオン、フルオロスルホン酸塩イオ
ン、トリフルオロメタンスルホン酸塩イオン、ヘキサフ
ルオロアンチモン酸塩イオン、モリブデン酸塩イオン、
タングステン酸塩イオン、チタン酸塩イオン、ジルコン
酸塩イオンなどを表わす。

【０１３３】ｒ₁ ′，ｒ₂ ′，ｒ₃ ′，ｒ₄ ′，ｒ
₅ ′，ｒ₆ ′，ｒ₇ ′は水素原子又はアルキル基（例え
ば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プ
ロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチ
ル基、ｎ−アミル基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、
ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基など）を示し、さらに
他のアルキル基、例えば置換アルキル基（例えば、２−
ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、４−
ヒドロキシブチル基、メトキシエチル基、２−アセトキ
シエチル基、カルボキシメチル基、２−カルボキシエチ
ル基、３−カルボキシプロピル基、２−スルホエチル
基、３−スルホプロピル基、４−スルホブチル基、３−
スルフェートプロピル基、４−スルフェートブチル基、
Ｎ−（メチルスルホニル）−カルバミルメチル基、３−
（アセチルスルファミル）プロピル基、４−（アセチル
スルファミル）ブチル基など）、環式アルキル基（例え
ば、シクロヘキシル基など）、置換もしくは未置換のア
ルケニル基（ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペ
ンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル
基、ドデシニル基、プレニル基など）、アラルキル基
（例えば、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメ
チル基、β−ナフチルメチル基など）、置換アラルキル
基（例えば、カルボキシベンジル基、スルホベンジル
基、ヒドロキシベンジル基など）を包含する。

【０１３４】これらの色素に対して前記一般式（Ｉ）の
ジイモニウム塩カチオンと金属錯体アニオンとの複塩化
合物の添加量は、全固形分を基準として記録層に対して
１〜６０重量％、好ましくは１〜４０重量％、より好ま
しくは５〜２５重量％が適当である。

【０１３５】これらの化合物以外に、有機色素薄膜から
なる記録層中にバインダーを含有させても良い。バイン
ダーとしては例えば、ニトロセルロース，リン酸セルロ
ース，硫酸セルロース，酢酸セルロース，プロピオン酸
セルロース，酪酸セルロース，ミリスチン酸セルロー
ス，パルミチン酸セルロース，酢酸・プロピオン酸セル
ロース、酢酸・酪酸セルロースなどのセルロースエステ
ル類、メチルセルロース，エチルセルロース，プロピル
セルロース，ブチルセルロースなどのセルロースエーテ
ル類、ポリスチレン，ポリ塩化ビニル，ポリ酢酸ビニ
ル，ポリビニルブチラール，ポリビニルアセタール，ポ
リビニルアルコール，ポリビニルピロリドンなどのビニ
ル樹脂類、スチレン−ブタジエンコポリマー，スチレン
−アクリロニトリルコポリマー，スチレン−ブタジエン
−アクリロニトリルコポリマー，塩化ビニル−酢酸ビニ
ルコポリマーなどの共重合樹脂類、ポリメチルメタクリ
レート，ポリメチルアクリレート，ポリブチルアクリレ
ート，ポリアクリル酸，ポリメタクリル酸，ポリアクリ
ルアミド，ポリアクリロニトリルなどのアクリル樹脂
類、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル
類、ポリ（４，４′−イソプロピリデンジフェニレン−
コ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンカーボネー
ト），ポリ（エチレンジオキシ−３，３′フエニレンチ
オカーボネート），ポリ（４，４′−イソプロピリデン
ジフェニレンカーボネート），ポリ（４，４′−イソプ
ロピリデンジフェニレンカーボネート），ポリ（４，
４′−ｓｅｃ−ブチリデンジフェニレンカーボネー
ト），ポリ（４，４′−イソプロピリデンジフェニレン
カーボネート−ブロック−オキシエチレン）などのポリ
アリレート樹脂類、あるいはポリアミド類、ポリイミド
類、エポキシ樹脂類、フェノール樹脂類、ポリエチレ
ン，ポリプロピレン，塩素化ポリエチレンなどのポリオ
レフイン類などを用いることができる。

【０１３６】また、記録層中に界面活性剤、帯電防止
剤、安定剤、分散性難燃剤、滑剤、可塑剤などが含有さ
れていてもよい。

【０１３７】また、記録層と基板の間に下引き層、記録
層の上に保護層を設けても良い。下引き層としては、耐
溶剤性付与、反射率の向上、あるいはくり返し再生の向
上などのために、保護層はキズ、ホコリ、汚れなどから
の保護および記録層の環境安定性などのために用いられ
る。これらに使用される材料は無機化合物、金属あるい
は有機高分子化合物が主に用いられる。無機化合物とし
ては、例えばＳｉＯ₂ ，ＭｇＦ₂ ，ＳｉＯ，ＴｉＯ₂ ，
ＺｎＯ，ＴｉＮ，ＳｉＮなど、金属としては例えばＺ
ｎ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ａｌ，Ｃｒ，Ｇｅ，Ｓｅ，Ｃｄなど
を、有機高分子化合物としてはアイオノマー樹脂，ポリ
アミド系樹脂，ビニル系樹脂，天然高分子，エポキシ樹
脂，シランカツプリング剤、シリコーン樹脂、液状ゴム
などを用いることが出来る。

【０１３８】基板としては、ポリエステル，ポリカーボ
ネート，アクリル樹脂，ポリオレフイン樹脂，フエノー
ル樹脂，エポキシ樹脂，ポリアミド，ポリイミドなどの
プラスチック，ガラスあるいは金属類などを用いること
ができる。

【０１３９】塗工の際に使用できる有機溶剤は、分散状
態とするか、あるいは溶解状態にするかによって異なる
が、一般にメタノール，エタノール，イソプロパノー
ル，ジアセトンアルコールなどのアルコール類、アセト
ン，メチルエチルケトン，シクロヘキサノン，エチルセ
ロソルブ，メチルセロソルブ，ジアセトンアルコールな
どのケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミドなどのアミド類、ジメチルスル
ホキシドなどのスルホキシド類、テトラヒドロフラン，
ジオキサン，エチレングリコールモノメチルエーテルな
どのエーテル類、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸ブチル
などのエステル類、クロロホルム，塩化メチレン，ジク
ロルエチレン，四塩化炭素，トリクロルエチレンなどの
脂肪族ハロゲン化炭化水素類，ベンゼン，トルエン，キ
シレン，モノクロルベンゼン，ジクロルベンゼンなどの
芳香族類あるいはｎ−ヘキサン，シクロヘキサノリグロ
インなどの脂肪族炭化水素類あるいはテトラフルオロプ
ロパノールやペンタフルオロプロパノールなどのフッ素
系溶剤などを用いることができる。

【０１４０】塗工は、浸漬コーテイング法，スプレーコ
ーテイング法，スピンナーコーテイング法，ビードコー
テイング法，ワイヤーバーコーテイング法，ブレードコ
ーテイング法，ローラーコーテイング法，カーテンコー
テイング法などのコーテイング法を用いて行うことがで
きる。

【０１４１】このような溶剤を用いて形成される記録層
の膜厚は５０Å〜１００μｍ、好ましくは２００Å〜１
μｍが適当である。

【０１４２】

【実施例】次に本発明における実施例を挙げて説明する
が、これらに限定されるものではない。

【０１４３】合成例１ 下記の方法で複塩化合物Ｎｏ．（１）−２６を合成し
た。先ずニッケル（ＩＩ）ビスジチオベンジル（商品
名：ＭＩＲ−１０１ みどり化学（製））１．５ｇとｐ
−フェニレンジアミン０．９ｇをジメチルスルホキシド
１０ｍl に溶解した。これを、テトラブチルアンモニウ
ムブロマイド４．７ｇのエタノール溶液９０ｍl に滴下
した。さらに撹拌して析出した赤色針状結晶を瀘取し
た。水洗、再結晶により精製して、ニッケルビスジチオ
ベンジルテトラブチルアンモニウム塩１．０ｇを得た。
この結晶の吸収スペクトルを測定すると、ＭＩＲ−１０
１のλｍａｘ９３０ｎｍが９５０ｎｍに長波長シフトし
ていることによりアニオン体となったことを確認した。

【０１４４】Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラキス−（ｐ−
２−メチルピロリジノフェニル）−ｐ−ベンゾキノン−
ジイモニウムパークロレート０．６ｇをＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド６０ｍl に溶かした液に、上記ニッケル
ビスジチオベンジルテトラブチルアンモニウム０．６ｇ
を加え、５０℃で３時間加熱撹拌した。

【０１４５】この反応液を水中に注ぎ、得られた沈澱物
を水洗、乾燥した後、再結晶を行い、複塩化合物０．８
ｇを得た。

【０１４６】示差走査熱量計で測定し、２７０℃の過塩
素酸塩のピークの消失と元素分析により、目的の複塩化
合物が得られたことを確認した。

【０１４７】元素分析値：Ｃ₇₈Ｈ₈₀Ｎ₆ Ｓ₄ Ｎｉとして 計算値 ：Ｃ：５１．１４ Ｈ：４．４０ Ｎ：
４．５９ 実測値 ：Ｃ：５０．９８ Ｈ：４．６６ Ｎ：
４．５４

【０１４８】実施例１ ウォーレットサイズ（縦５４ｍｍ，横８５ｍｍ）の厚さ
０．４ｍｍのポリカーボネート（以下「ＰＣ」と略記す
る）基板上に熱プレス法によりプレグループを設け、そ
の上にポリメチン系色素としてＩＲ−８２０（日本化薬
製）と前記複塩化合物Ｎｏ．（Ｉ）−２６を重量比７
５：２５で混合したもの３重量部を、ジアセントアルコ
ール９７重量部に溶解させた液をバーコート法により塗
布した後、乾燥して厚さ９００Åの記録層を得た。

【０１４９】さらにその上に、アクリル酸エステル−エ
チレン共重合体ドライフィルムを介して、ウォーレット
サイズの厚さ０．３ｍｍのＰＣ基板と熱ロール法により
密着構造の光記録媒体を作製した。

【０１５０】こうして得た光カードに発振波長８３０ｎ
ｍの半導体レーザービームを０．２ｍＷの出力で、厚さ
０．４ｍｍのＰＣ基板を通して照射したときの記録層か
らの反射率を光カード記録／再生装置（キャノン（株）
製）を用いて測定した。

【０１５１】次いで該光カードに発振波長８３０ｎｍの
半導体レーザーを用いて、厚さ０．４ｍｍのＰＣ基板を
通して記録パワー３．５ｍＷ、記録パルス８０μｓｅｃ
で情報を書込み再生パワー０．２ｍＷで再生して、その
コントラスト比

【０１５２】

【数１】 （但し、Ａ：末記録部の信号強度、Ｂ：記録部の信号強
度）を測定した。

【０１５３】次に、この光カードを８５℃ｄｒｙの条件
下で１０００時間放置した後の反射率及びコントラスト
比を測定した（環境保存安定性）。又全く同様にして新
たに作成し情報を記録した実施例１の光カードに１ＫＷ
／ｍ² のキセノンランプ光を２００時間照射し、反射率
及びコントラスト比を測定した（耐光安定性）。

【０１５４】その結果を表−１に示す。

【０１５５】

【表１】

【０１５６】実施例２〜７ 実施例１で用いたポリメチン系色素と複塩化合物（Ｉ）
−２６の組合せを下記表−２，表−３に示す色素と複塩
化合物の組合せとした以外は実施例１と同様にして光カ
ードを作製し評価した。上記実施例２〜７の光記録媒体
を実施例１と同様の方法で測定し、その結果を表−５に
示す。

【０１５７】比較例１，２ 実施例２および４で用いた複塩化合物Ｎｏ．（Ｉ）−
２，（Ｉ）−８を除いた以外は、実施例２及び４と同様
にして光カードを作製し評価した。その結果を表−５に
示す。

【０１５８】

【表２】

【０１５９】

【表３】

【０１６０】比較例３〜５ 実施例２で用いた複塩化合物Ｎｏ．（Ｉ）−２を下記化
合物に変えた以外は、実施例２と同様にして光カードを
作製し評価した。その結果を表−５に示す。

【０１６１】

【表４】

【０１６２】

【表５】

【０１６３】実施例８〜１２ 直径１３０ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍのインジェクション
成形によりプレグルーブを設けたＰＣ基板上に、下記表
−６に示す有機色素と前記複塩化合物の混合物５重量部
をジアセトンアルコール９４．５重量部に溶解させた液
をスピン塗布し、厚さ１０００Åの記録層を設けた。こ
のようにして得た媒体の内周側と外周側に０．３ｍｍの
スペーサーをはさみ、紫外線硬化型接着剤で他のＰＣ保
護基板と貼合せエアーサンドイッチ構造の光ディスクを
得た。

【０１６４】こうして作成した光ディスクを１８００ｒ
ｐｍで回転させ、発振波長８３０ｎｍの半導体レーザビ
ームをＰＣ基板を通して入射させて、記録パワー８ｍＷ
で記録周波数３ＭＨｚで情報を書込み、読み出しパワー
０．７ｍＷで再生し、その再生波形をスペクトル解析
（スキヤニングフイルター、バンド幅３０ＫＨｚ）して
Ｃ／Ｎ比（キヤリヤ／ノイズ比）を測定した。

【０１６５】次に、この光ディスクの情報記録部を１０
⁵ 回繰り返し再生した後のＣ／Ｎ比を測定した。また、
ＰＣ基板を通して記録層の８３０ｎｍの反射率を分光光
度計（商品名：ＩＩ−３４００；日立製作所）で測定し
た。

【０１６６】また、この光ディスクを実施例１と同様の
条件の環境保存安定性試験および耐光安定性試験を行
い、その後の分光光度計における反射率およびＣ／Ｎ比
を測定した。その結果を表−７に示す。

【０１６７】比較例６、７ 実施例８および１１で用いた複塩化合物Ｎｏ．（Ｉ）−
１１および（Ｉ）−６を除いた以外は、実施例８および
１１と同様の方法で光ディスクを作製し、評価した。そ
の結果を表−７に示す。

【０１６８】比較例８ 実施例８で用いた複塩化合物Ｎｏ．（Ｉ）−８を下記の
金属錯体化合物に変えた以外は、実施例８と同様の方法
で光ディスクを作製した。下記金属錯体の溶解性が悪い
ため、塗布後、結晶が析出し、その結果、この光ディス
クからの再生信号のノイズレベルの幅が非常に広くなっ
てＣ／Ｎの測定ができなかった。

【０１６９】

【化５７】

【０１７０】

【表６】

【０１７１】

【表７】

【０１７２】実施例１３、１４ 直径１３０ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍのポリメチルメタク
リレート（以下「ＰＭＭＡ」と略記する）基板上に、エ
ポキシ−アクリレート系紫外線硬化樹脂を用いて２Ｐ法
（フォト・ポリマー法）で厚さ３０μｍのプレグルーブ
を設けた。その基板上に、下記表−８に示す有機色素と
複塩化合物の組み合せの混合物２重量部を１，２−ジク
ロルエタンに溶解させた液をスピナー塗布法により塗布
し、乾燥膜厚９００Åの有機薄膜記録層を形成した以外
は実施例８と同様にして光ディスクを作製した。

【０１７３】こうして作成した光ディスクを実施例８と
同様の方法で測定し、評価した。その結果を表−１０に
示す。

【０１７４】

【表８】

【０１７５】実施例１５、１６ 下記表−９に示す有機色素と複塩化合物の組み合せの混
合物４重量部とニトロセルロース樹脂（オーハレスラツ
カー，ダイセル化学（株）製）１重量部をジアセトンア
ルコール９５重量部に混合させた液をスピナー塗布法に
より、プレグルーブを設けた直径１３０ｍｍφ、厚さ
１．２ｍｍのポリカーボネート基板上に塗布し、乾燥膜
厚９００Åの有機薄膜記録層を形成した以外は実施例８
と同様にして光ディスクを作製した。

【０１７６】こうして作成した光ディスクを実施例８と
同様の方法で測定した。その結果を表−１０に示す。

【０１７７】

【表９】

【０１７８】

【表１０】

【０１７９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の一般式
（Ｉ）で示されるジイモニウム塩カチオンと金属錯体ア
ニオンの複合化合物およびそれを用いた光記録媒体とす
ることにより、 耐光性を著しく向上させ、色素に対して少ない添加量
でも優れた再生光劣化抑制効果のある光記録媒体を得る
ことができる。 高温環境条件下において、耐久性の良い光記録媒体が
得られる。 有機色素の高反射率・高感度などの優れた特性を低下
させることなく、レーザーパワーに対して明確なしきい
値を有する光記録媒体が得られる。 等の効果が得られる。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表わされる赤外吸収
   化合物。 【化１】 （式中、Ｒ₁ 〜Ｒ₈ は水素原子または一価の有機残基を
   示す。但し、Ｒ₁ 〜Ｒ₈の少なくとも１つはＲ₁ とＲ
   ₂ ，Ｒ₃ とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ₆ ，Ｒ₇ とＲ₈ の組み合せで
   置換もしくは末置換の５員環、置換もしくは末置換の６
   員環または置換もしくは末置換の７員環を形成する。ｎ
   は１又は２である。Ｘ^- は一価の金属錯体アニオンを示
   す。）
2. 【請求項２】 前記金属錯体アニオンがニッケル錯体ア
   ニオンである請求項１記載の赤外吸収化合物。
3. 【請求項３】 前記金属錯体アニオンが下記一般式（Ｉ
   Ｉ）で表わされるアニオンである請求項１記載の赤外吸
   収化合物。 【化２】 （式中、Ｒ₉ 〜Ｒ₁₂は各々水素原子、置換もしくは末置
   換のアルキル基、置換もしくは末置換のアミノ基、置換
   もしくは末置換のアリール基またはハロゲン原子を示
   す。）
4. 【請求項４】 前記金属錯体アニオンが下記一般式（Ｉ
   ＩＩ）で表わされるアニオンである請求項１記載の赤外
   吸収化合物。 【化３】 （式中、Ｒ₁₃〜Ｒ₁₆は各々置換もしくは末置換のアルキ
   ル基、置換もしくは末置換のアリール基またはシアノ基
   を示す。）
5. 【請求項５】 基板および記録層を備えた光記録媒体に
   おいて、該記録層中に下記一般式（Ｉ）で表わされる赤
   外吸収化合物を含有することを特徴とする光記録媒体。 【化４】 （式中、Ｒ₁ 〜Ｒ₈ は水素原子または一価の有機残基を
   示す。但し、Ｒ₁ 〜Ｒ₈の少なくとも１つはＲ₁ とＲ
   ₂ ，Ｒ₃ とＲ₄ ，Ｒ₅ とＲ₆ ，Ｒ₇ とＲ₈ の組み合せで
   置換もしくは末置換の５員環、置換もしくは末置換の６
   員環または置換もしくは末置換の７員環を形成する。ｎ
   は１又は２である。Ｘ^- は一価の金属錯体アニオンを示
   す。）
6. 【請求項６】 前記金属錯体アニオンがニッケル錯体ア
   ニオンである請求項５記載の光記録媒体。
7. 【請求項７】 前記金属錯体アニオンが下記一般式（Ｉ
   Ｉ）で表わされるアニオンである請求項５記載の光記録
   媒体。 【化５】 （式中、Ｒ₉ 〜Ｒ₁₂は各々水素原子、置換もしくは末置
   換のアルキル基、置換もしくは末置換のアミノ基、置換
   もしくは末置換のアリール基またはハロゲン原子を示
   す。）
8. 【請求項８】 前記金属錯体アニオンが下記一般式（Ｉ
   ＩＩ）で表わされるアニオンである請求項５記載の光記
   録媒体。 【化６】 （式中、Ｒ₁₃〜Ｒ₁₆は各々置換もしくは末置換のアルキ
   ル基、置換もしくは末置換のアリール基またはシアノ基
   を示す。）
9. 【請求項９】 前記記録層中に下記一般式（ＩＸ）で表
   わされるポリメチン系色素を含有する請求項５記載の光
   記録媒体。 【化７】 （式中、Ａ，Ｂ，Ｄ及びＥは水素原子，置換もしくは末
   置換のアルキル基，置換もしくは末置換のアルケニル
   基，置換もしくは末置換のアラルキル基，置換もしくは
   末置換のアリール基，置換もしくは末置換のスチリルお
   よび置換もしくは末置換の複素環基から選ばれる基を示
   す。ｒ₁ ，ｒ₂ は水素原子，置換もしくは末置換のアル
   キル基，置換もしくは末置換の環式アルキル基，置換も
   しくは末置換のアルケニル基，置換もしくは末置換のア
   ラルキル基および置換もしくは末置換のアリール基から
   選ばれる基を示し、ｋは０又は１、Ｌは０，１又は２
   で、Ｇ^-はアニオンを示す。）