JPH07246692A - 虹彩模様を呈する積層体 - Google Patents
虹彩模様を呈する積層体Info
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- JPH07246692A JPH07246692A JP6076257A JP7625794A JPH07246692A JP H07246692 A JPH07246692 A JP H07246692A JP 6076257 A JP6076257 A JP 6076257A JP 7625794 A JP7625794 A JP 7625794A JP H07246692 A JPH07246692 A JP H07246692A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 透明虹彩色を呈する装飾用等に有用な積層体
を提供する。 【構成】 成型体の上に透明な虹彩薄膜層を設けてなる
積層体において、虹彩薄膜層として、可視光線透過率が
５０％以上である透明な薄膜層Ａと可視光線透過率が５
０％以上である回折格子またはホログラム等からなる凹
凸の透明な薄膜層Ｂから成り、かつ透明な薄膜層Ａと薄
膜層Ｂとの屈折率の差が０．０５以上であるものを用い
る。
を提供する。 【構成】 成型体の上に透明な虹彩薄膜層を設けてなる
積層体において、虹彩薄膜層として、可視光線透過率が
５０％以上である透明な薄膜層Ａと可視光線透過率が５
０％以上である回折格子またはホログラム等からなる凹
凸の透明な薄膜層Ｂから成り、かつ透明な薄膜層Ａと薄
膜層Ｂとの屈折率の差が０．０５以上であるものを用い
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な透明虹彩色を呈
し主として装飾用に用いる虹彩模様を呈する積層体に関
する。
し主として装飾用に用いる虹彩模様を呈する積層体に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来から虹彩模様を表面に呈するプラス
チック積層体として色々なものが提案されており、例え
ば、下記（ア）〜（ウ）によって例示される。 （ア）硫化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、フッカ化マグネ
シウムおよびヨウ化銅のごとき特殊な化合物を複層蒸着
する方法による積層体。 （イ）特公昭３７−８７３１号公報に記載されたごとき
酸化チタン薄膜層を積層した積層体。 （ウ）特公平３−３９８３８号公報に記載されているよ
うな、プラスチックフィルム上に透明反射層、透明ワニ
ス、透明反射層を積層した虹彩模様を呈する積層体。
チック積層体として色々なものが提案されており、例え
ば、下記（ア）〜（ウ）によって例示される。 （ア）硫化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、フッカ化マグネ
シウムおよびヨウ化銅のごとき特殊な化合物を複層蒸着
する方法による積層体。 （イ）特公昭３７−８７３１号公報に記載されたごとき
酸化チタン薄膜層を積層した積層体。 （ウ）特公平３−３９８３８号公報に記載されているよ
うな、プラスチックフィルム上に透明反射層、透明ワニ
ス、透明反射層を積層した虹彩模様を呈する積層体。
【０００３】しかしこれら従来の積層体およびそれらの
製造方法には、それぞれ欠点がある。例えば（ア）の方
法によるものでは積層物質が特殊で一般に高価であり、
これら物質を約１０００オングストローム以上の光学的
厚みに凹凸に蒸着する必要があるので大量生産に不向き
であり、得られる虹彩の模様を随意のパターンに調整す
ることが困難である。
製造方法には、それぞれ欠点がある。例えば（ア）の方
法によるものでは積層物質が特殊で一般に高価であり、
これら物質を約１０００オングストローム以上の光学的
厚みに凹凸に蒸着する必要があるので大量生産に不向き
であり、得られる虹彩の模様を随意のパターンに調整す
ることが困難である。
【０００４】また（イ）によるものは、四塩化チタンガ
スを使用するために塩酸ガスの発生があり、製造時の作
業者の健康、製造設備の腐食、環境に対する公害等の問
題がある。
スを使用するために塩酸ガスの発生があり、製造時の作
業者の健康、製造設備の腐食、環境に対する公害等の問
題がある。
【０００５】さらに（ウ）によるものでは、得られる虹
彩の模様を随意のパターンに調整することは可能である
が、設備治具が高価である欠点があった。
彩の模様を随意のパターンに調整することは可能である
が、設備治具が高価である欠点があった。
【０００６】これらの積層体は上記のようにメカニズム
上、得られる虹彩の模様を随意のパターンに調整するこ
とが困難であるという欠点や、設備治具が高価である欠
点があった。
上、得られる虹彩の模様を随意のパターンに調整するこ
とが困難であるという欠点や、設備治具が高価である欠
点があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記に述べ
た従来の虹彩パターンの形成の欠点を改良し、任意のパ
ターンで美麗な虹彩模様を呈する積層体を得ることを目
的とする。
た従来の虹彩パターンの形成の欠点を改良し、任意のパ
ターンで美麗な虹彩模様を呈する積層体を得ることを目
的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は成型体の上に透
明な虹彩薄膜層を設けてなる積層体において、該虹彩薄
膜層が、可視光線透過率が５０％以上である透明な薄膜
層Ａと可視光線透過率が５０％以上である凹凸の透明な
薄膜層Ｂから成り、かつ該透明な薄膜層Ａと薄膜層Ｂと
の屈折率の差が０．０５以上であることを特徴とする虹
彩模様を呈する積層体にある。
明な虹彩薄膜層を設けてなる積層体において、該虹彩薄
膜層が、可視光線透過率が５０％以上である透明な薄膜
層Ａと可視光線透過率が５０％以上である凹凸の透明な
薄膜層Ｂから成り、かつ該透明な薄膜層Ａと薄膜層Ｂと
の屈折率の差が０．０５以上であることを特徴とする虹
彩模様を呈する積層体にある。
【０００９】以下、本発明における虹彩模様を呈する積
層体を図１および図２に基づいて説明する。なお、本発
明が下記説明により限定されるものでないことはいうま
でもない。
層体を図１および図２に基づいて説明する。なお、本発
明が下記説明により限定されるものでないことはいうま
でもない。
【００１０】本発明における成型体１としては、合成樹
脂、紙、木材、ガラス等のフィルム状、シート状、板
状、ブロック状の他各種形状の成型体があげられる。
脂、紙、木材、ガラス等のフィルム状、シート状、板
状、ブロック状の他各種形状の成型体があげられる。
【００１１】該成型体１は全面または部分（パターン印
刷等）着色されていてもよいし、透明体であってもよ
い。着色されている場合には、その上に積層される虹彩
模様を付与する層が透明なために該成型体基材の生地の
外観と融合した美麗な虹彩模様を呈する積層体となる。
透明体である場合には、その上に積層される虹彩模様を
付与する層が透明なために全体として透明で美しい虹彩
模様を呈する積層体となる。
刷等）着色されていてもよいし、透明体であってもよ
い。着色されている場合には、その上に積層される虹彩
模様を付与する層が透明なために該成型体基材の生地の
外観と融合した美麗な虹彩模様を呈する積層体となる。
透明体である場合には、その上に積層される虹彩模様を
付与する層が透明なために全体として透明で美しい虹彩
模様を呈する積層体となる。
【００１２】該成型体１としては表面への虹彩模様付与
のしやすさ、および生産性の点で可塑性のあるシート状
物が好ましい。中でも合成樹脂フィルム、例えばポリエ
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートで
代表されるポリエステル系、ポリエチレン、ホリプロピ
レンで代表されるポリオレフィン系、ナイロン６、ナイ
ロン６６、ナイロン１２で代表されるポリアミド系、ポ
リニトロセルロース、ポリ酢酸セルロースで代表される
セルロース系、ポリビニルアルコール、３フッ化ポリエ
チレン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリイミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン等の有機
樹脂からなるフィルムで例示されるものが具体例として
あげられ、これは単層でも２枚以上の貼り合わされたも
のであってもよい。さらに表面にマット加工、ヘアーラ
イン加工、スピン加工等をあらかじめ施しておいたもの
でも可能である。
のしやすさ、および生産性の点で可塑性のあるシート状
物が好ましい。中でも合成樹脂フィルム、例えばポリエ
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートで
代表されるポリエステル系、ポリエチレン、ホリプロピ
レンで代表されるポリオレフィン系、ナイロン６、ナイ
ロン６６、ナイロン１２で代表されるポリアミド系、ポ
リニトロセルロース、ポリ酢酸セルロースで代表される
セルロース系、ポリビニルアルコール、３フッ化ポリエ
チレン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリイミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン等の有機
樹脂からなるフィルムで例示されるものが具体例として
あげられ、これは単層でも２枚以上の貼り合わされたも
のであってもよい。さらに表面にマット加工、ヘアーラ
イン加工、スピン加工等をあらかじめ施しておいたもの
でも可能である。
【００１３】本発明における虹彩薄膜層２は透明な薄膜
層Ａと回折格子またはホログラム等からなる凹凸のある
透明な薄膜層Ｂから構成されている。
層Ａと回折格子またはホログラム等からなる凹凸のある
透明な薄膜層Ｂから構成されている。
【００１４】透明な薄膜層Ａとは、薄膜層Ｂの屈折率と
０．０５以上の差があり、かつ可視光線透過率が５０％
以上である未着色また着色透明な薄膜層であり、下記
（エ）〜（ク）によって例示される。
０．０５以上の差があり、かつ可視光線透過率が５０％
以上である未着色また着色透明な薄膜層であり、下記
（エ）〜（ク）によって例示される。
【００１５】（エ）アルミニウム、銀、金、銅、亜鉛、
錫、チタニウム等で例示される金属薄膜層。
錫、チタニウム等で例示される金属薄膜層。
【００１６】（オ）酸化チタン、酸化ケイ素、酸化亜
鉛、酸化アンチモン、硫化亜鉛、フッ化マグネシウム、
フッ化カリウム、氷晶石等で例示される金属化合物薄膜
層。
鉛、酸化アンチモン、硫化亜鉛、フッ化マグネシウム、
フッ化カリウム、氷晶石等で例示される金属化合物薄膜
層。
【００１７】（カ）塩化ビニリデンと塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール等との共重合体あるいはポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレンのいず
れかと塩化ビニル、スチレンとの共重合体等の熱可塑性
樹脂に光、熱等各種方法で分解されて生じたガスによる
微細な気泡を有する薄膜層。
ビニル、ビニルアルコール等との共重合体あるいはポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレンのいず
れかと塩化ビニル、スチレンとの共重合体等の熱可塑性
樹脂に光、熱等各種方法で分解されて生じたガスによる
微細な気泡を有する薄膜層。
【００１８】（キ）ポリスチレン、ポリカーボネート、
メラミン樹脂、フェノール樹脂、アクリル系を含むビニ
ル共重合体、繊維素系共重合体、ウレタン系共重合体と
これを硬化する各種の硬化剤、硬化性官能基を有する組
成物、さらに有機置換されたケイ素系化合物よりなる薄
膜層および上記有機材料と酸化チタン、酸化アルミニウ
ム、酸化ジルコニウム等の有機系微粒子よりなる薄膜
層。
メラミン樹脂、フェノール樹脂、アクリル系を含むビニ
ル共重合体、繊維素系共重合体、ウレタン系共重合体と
これを硬化する各種の硬化剤、硬化性官能基を有する組
成物、さらに有機置換されたケイ素系化合物よりなる薄
膜層および上記有機材料と酸化チタン、酸化アルミニウ
ム、酸化ジルコニウム等の有機系微粒子よりなる薄膜
層。
【００１９】（ク）チタンテトラエトキシド、チタンテ
トラ−ｎ−プロポキシド、アルミニウムエトキシド、ジ
ルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシドなどの金属アルコレ
ート化合物、ジ−イソプロポキシチタニウムビスアセチ
ルアセトネート、トリ−ｎ−ブトキシドジルコニウムモ
ノエチルアセトアセテート等のキレート化合物、さらに
炭酸ジルコニールアンモニウム、あるいはジルコニウム
を主成分とする活性無機ポリマー等の液状被膜形成性の
ある無機系材料、または上記無機系材料とアルキルシリ
ケート類もしくはその加水分解物、さらにコロイド状シ
リカゾルの混合物およびアクリル系を含むビニル系共重
合体、フッ素置換された各種ポリマー、芳香環を含まな
いポリエステル系重合体、シリコーン系ポリマー等の有
機材料と上記材料との混合物よりなる薄膜層。
トラ−ｎ−プロポキシド、アルミニウムエトキシド、ジ
ルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシドなどの金属アルコレ
ート化合物、ジ−イソプロポキシチタニウムビスアセチ
ルアセトネート、トリ−ｎ−ブトキシドジルコニウムモ
ノエチルアセトアセテート等のキレート化合物、さらに
炭酸ジルコニールアンモニウム、あるいはジルコニウム
を主成分とする活性無機ポリマー等の液状被膜形成性の
ある無機系材料、または上記無機系材料とアルキルシリ
ケート類もしくはその加水分解物、さらにコロイド状シ
リカゾルの混合物およびアクリル系を含むビニル系共重
合体、フッ素置換された各種ポリマー、芳香環を含まな
いポリエステル系重合体、シリコーン系ポリマー等の有
機材料と上記材料との混合物よりなる薄膜層。
【００２０】該薄膜層Ａが、薄膜層Ｂと屈折率の差が
０．０５未満のものである場合には虹彩模様が不鮮明と
なる。該薄膜層Ａは単一物質からなるものである必要は
必ずしもなく、２種以上の物質の混合物でもよい。さら
に薄膜層Ｂの屈折率と０．０５以上の差があれば異なる
物質の２層以上の積層であってもよい。
０．０５未満のものである場合には虹彩模様が不鮮明と
なる。該薄膜層Ａは単一物質からなるものである必要は
必ずしもなく、２種以上の物質の混合物でもよい。さら
に薄膜層Ｂの屈折率と０．０５以上の差があれば異なる
物質の２層以上の積層であってもよい。
【００２１】（エ）、（オ）による金属または金属化合
物からなる透明な薄膜層Ａは、抵抗加熱法もしくは高周
波加熱蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティン
グ法等いわゆる真空蒸着法および化学蒸着法により、成
型体１上に設けた薄膜層Ｂの上に薄く蒸着させて積層す
る。
物からなる透明な薄膜層Ａは、抵抗加熱法もしくは高周
波加熱蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティン
グ法等いわゆる真空蒸着法および化学蒸着法により、成
型体１上に設けた薄膜層Ｂの上に薄く蒸着させて積層す
る。
【００２２】薄膜層Ａはグラビアコート法やリバースロ
ールコート法、ツーロールビート法等の各種既知の方法
により、成型体１上に設けた薄膜層Ｂの上に薄く塗布、
乾燥して積層する。
ールコート法、ツーロールビート法等の各種既知の方法
により、成型体１上に設けた薄膜層Ｂの上に薄く塗布、
乾燥して積層する。
【００２３】該薄膜層Ａとしては上記の各種材料からな
るものに限定されるものではなく、薄膜層Ｂと屈折率の
差が０．０５以上あれば、他の材料も用いうる。
るものに限定されるものではなく、薄膜層Ｂと屈折率の
差が０．０５以上あれば、他の材料も用いうる。
【００２４】凹凸のある透明な薄膜層Ｂとは、薄膜層
（Ａ）と屈折率の差が０．０５以上の差があり、かつ可
視光線透過率が５０％以上である未着色または着色透明
な薄膜層であり、下記（ケ）〜（サ）によって例示され
るものである。
（Ａ）と屈折率の差が０．０５以上の差があり、かつ可
視光線透過率が５０％以上である未着色または着色透明
な薄膜層であり、下記（ケ）〜（サ）によって例示され
るものである。
【００２５】（ケ）塩化ビニリデンと塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール、スチレン等との共重合体あ
るいは塩化ビニルとスチレンとの共重合体等の熱可塑性
樹脂に光、熱等各種方法で分解されて生じたガスによる
微細な気泡を有する薄膜層。
ビニル、ビニルアルコール、スチレン等との共重合体あ
るいは塩化ビニルとスチレンとの共重合体等の熱可塑性
樹脂に光、熱等各種方法で分解されて生じたガスによる
微細な気泡を有する薄膜層。
【００２６】（コ）ポリスチレン、ポリカーボネート、
メラミン樹脂、フェノール樹脂、アクリル系を含むビニ
ル共重合体、繊維素系共重合体、ウレタン系共重合体と
これを硬化する各種の硬化剤、硬化性官能基を有する組
成物、さらに有機置換されたケイ素系化合物によりなる
薄膜層および上記有機材料と酸化チタン、酸化アルミニ
ウム、酸化ジルコニウム等の無機系微粒子よりなる薄膜
層。
メラミン樹脂、フェノール樹脂、アクリル系を含むビニ
ル共重合体、繊維素系共重合体、ウレタン系共重合体と
これを硬化する各種の硬化剤、硬化性官能基を有する組
成物、さらに有機置換されたケイ素系化合物によりなる
薄膜層および上記有機材料と酸化チタン、酸化アルミニ
ウム、酸化ジルコニウム等の無機系微粒子よりなる薄膜
層。
【００２７】（サ）チタンテトラエトキシド、チタンテ
トラ−ｎ−プロポキシド、アルミニウムエトキシド、ジ
ルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシドなどの金属アルコレ
ート化合物、ジ−イソプロポキシチタニウムビスアセチ
ルアセトネート、トリ−ｎ−ブトキシドジルコニウムモ
ノエチルアセトアセテートなどのキレート化合物、さら
に炭酸ジルコニールアンモニウム、あるいはジルコニウ
ムを主成分とする活性無機ポリマー等の液状被膜形成性
のある無機系材料、または上記無機系材料とアルキルシ
リケート類、もしくはその加水分解物、さらにコロイド
状シリカゾルの混合物、およびアクリル系を含むビニル
系共重合体、フッ素置換された各種ポリマー、芳香環を
含まないポリエステル系重合体、シリコーン系ポリマー
等の有機材料と上記材料との混合物よりなる薄膜層。
トラ−ｎ−プロポキシド、アルミニウムエトキシド、ジ
ルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシドなどの金属アルコレ
ート化合物、ジ−イソプロポキシチタニウムビスアセチ
ルアセトネート、トリ−ｎ−ブトキシドジルコニウムモ
ノエチルアセトアセテートなどのキレート化合物、さら
に炭酸ジルコニールアンモニウム、あるいはジルコニウ
ムを主成分とする活性無機ポリマー等の液状被膜形成性
のある無機系材料、または上記無機系材料とアルキルシ
リケート類、もしくはその加水分解物、さらにコロイド
状シリカゾルの混合物、およびアクリル系を含むビニル
系共重合体、フッ素置換された各種ポリマー、芳香環を
含まないポリエステル系重合体、シリコーン系ポリマー
等の有機材料と上記材料との混合物よりなる薄膜層。
【００２８】該凹凸のある透明な薄膜層Ｂが、薄膜層Ａ
との屈折率の差が０．０５未満のものである場合には虹
彩模様が不鮮明となる。該凹凸のある透明な薄膜層Ｂが
単一物質からなるものである必要は必ずしもなく、２種
以上の物質の混合物でもよい。また本発明の条件を満た
すかぎり上記以外の材料でも用いうる。
との屈折率の差が０．０５未満のものである場合には虹
彩模様が不鮮明となる。該凹凸のある透明な薄膜層Ｂが
単一物質からなるものである必要は必ずしもなく、２種
以上の物質の混合物でもよい。また本発明の条件を満た
すかぎり上記以外の材料でも用いうる。
【００２９】さらに薄膜層Ａの屈折率と０．０５以上の
差があれば異なる物質の２層以上の積層であってもよ
い。
差があれば異なる物質の２層以上の積層であってもよ
い。
【００３０】薄膜層Ｂは、ロールコーティング、グラビ
アコーティング等の一般的な樹脂コーティング法および
印刷法およびスプレー法等により塗布できる。
アコーティング等の一般的な樹脂コーティング法および
印刷法およびスプレー法等により塗布できる。
【００３１】凹凸のある透明な薄膜層Ｂの表面凹凸は特
に制限はないが回折格子またはホログラム等からなる凹
凸が好ましく、たとえば鋸の歯状の凹凸の集合体からな
る格子模様等の形状がある。凹凸の高さは通常０．５〜
１μ、特に０．５〜１ミクロンが好ましく、その幅（周
期）は通常０．５〜３ミクロン、特に０．５〜１ミクロ
ンが好ましい。薄膜層Ａの厚さは通常１００〜２０００
オングストローム、特に２００〜７００オングストロー
ムが好ましく、薄膜層Ｂの厚さは通常０．５〜３μ、特
に１〜２ミクロンが好ましい。
に制限はないが回折格子またはホログラム等からなる凹
凸が好ましく、たとえば鋸の歯状の凹凸の集合体からな
る格子模様等の形状がある。凹凸の高さは通常０．５〜
１μ、特に０．５〜１ミクロンが好ましく、その幅（周
期）は通常０．５〜３ミクロン、特に０．５〜１ミクロ
ンが好ましい。薄膜層Ａの厚さは通常１００〜２０００
オングストローム、特に２００〜７００オングストロー
ムが好ましく、薄膜層Ｂの厚さは通常０．５〜３μ、特
に１〜２ミクロンが好ましい。
【００３２】薄膜層Ｂの表面の凹凸は適宜の段階で形成
しうる。たとえば成型体上に薄膜層Ｂを塗布して後金型
に形成した回折格子等のパターンを用いてエンボス処理
する方法や薄膜層Ｂの上に薄膜層Ａを塗布した後同様に
エンボス処理する方法等がある。成型体の種類によって
は成型体の表面に凹凸を付与して後薄膜層ＢとＡを塗布
することも可能である。
しうる。たとえば成型体上に薄膜層Ｂを塗布して後金型
に形成した回折格子等のパターンを用いてエンボス処理
する方法や薄膜層Ｂの上に薄膜層Ａを塗布した後同様に
エンボス処理する方法等がある。成型体の種類によって
は成型体の表面に凹凸を付与して後薄膜層ＢとＡを塗布
することも可能である。
【００３３】尚薄膜層Ａは薄膜層Ｂの凹凸形状に追従し
た凹凸形状を有している。
た凹凸形状を有している。
【００３４】このようにして透明な薄膜層Ａと凹凸のあ
る透明な薄膜層Ｂを積層すると、その屈折率の差と層Ｂ
の表面の回折格子またはホログラム等からなる凹凸によ
り虹彩模様を呈する積層体に使用できる虹彩薄膜層とな
る。
る透明な薄膜層Ｂを積層すると、その屈折率の差と層Ｂ
の表面の回折格子またはホログラム等からなる凹凸によ
り虹彩模様を呈する積層体に使用できる虹彩薄膜層とな
る。
【００３５】成型体の上に凹凸のある透明な薄膜層Ｂを
設けると淡い透明な虹彩模様を呈する積層体となる。該
凹凸のある透明な薄膜層Ｂの上に接着層を積層した時、
透明な薄膜層Ｂの凹凸は埋まり、透明な虹彩模様は消失
する。一方成型体上の凹凸のある透明な薄膜層Ｂの上に
透明な薄膜層Ａを積層すると、さらに高輝度の透明な虹
彩模様を呈する積層体となる。該透明な薄膜層Ａの上に
接着層を積層した時は、透明な虹彩模様は消失せずに虹
彩外観は残る。
設けると淡い透明な虹彩模様を呈する積層体となる。該
凹凸のある透明な薄膜層Ｂの上に接着層を積層した時、
透明な薄膜層Ｂの凹凸は埋まり、透明な虹彩模様は消失
する。一方成型体上の凹凸のある透明な薄膜層Ｂの上に
透明な薄膜層Ａを積層すると、さらに高輝度の透明な虹
彩模様を呈する積層体となる。該透明な薄膜層Ａの上に
接着層を積層した時は、透明な虹彩模様は消失せずに虹
彩外観は残る。
【００３６】なお、使用の目的に応じて、虹彩薄膜層２
の上に保護層を設けて耐水性等の向上をはかることがで
きる。また、該虹彩模様を呈する積層体を他の成型体と
積層するために接着層を設けることもできる。また、該
虹彩模様を呈する積層体を転写フィルムに設けて他の成
形体に全面または部分的に転写することができる。ま
た、成型体または虹彩薄膜層２または保護層の上に着色
印刷層を設けると、着色印刷層と透明虹彩の相乗効果で
さらに美麗な虹彩模様を呈する積層体となる。
の上に保護層を設けて耐水性等の向上をはかることがで
きる。また、該虹彩模様を呈する積層体を他の成型体と
積層するために接着層を設けることもできる。また、該
虹彩模様を呈する積層体を転写フィルムに設けて他の成
形体に全面または部分的に転写することができる。ま
た、成型体または虹彩薄膜層２または保護層の上に着色
印刷層を設けると、着色印刷層と透明虹彩の相乗効果で
さらに美麗な虹彩模様を呈する積層体となる。
【００３７】次に本発明を実施例により詳しく説明す
る。
る。
【００３８】実施例 １ 厚さ１８μ、幅１ｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの片面にポリエステル樹脂の１０％濃度の
メチルエチルケトン溶液をグラビアコート法で塗布し、
１２０℃で乾燥して厚さ約１．５μの層を形成した。こ
のポリエステル樹脂層に、金型に形成した回折格子のパ
ターンを、加熱加圧下でエンボス複製し回折格子の凹凸
のある透明な薄膜層Ｂをえた。
ートフィルムの片面にポリエステル樹脂の１０％濃度の
メチルエチルケトン溶液をグラビアコート法で塗布し、
１２０℃で乾燥して厚さ約１．５μの層を形成した。こ
のポリエステル樹脂層に、金型に形成した回折格子のパ
ターンを、加熱加圧下でエンボス複製し回折格子の凹凸
のある透明な薄膜層Ｂをえた。
【００３９】得られた積層ポリエチレンテレフタレート
フィルムは回折格子の凹凸により美しい透明な虹彩模様
を呈していた。該凹凸のある透明な薄膜層Ｂの上に、ベ
ルジャー型蒸着機を使用し５×１０−２パスカルの真空
度中で硫化亜鉛（屈折率２．３５）を真空蒸着した。付
着した硫化亜鉛層の厚みは５００オングストロームで、
得られた蒸着フィルムの可視光線透過率は７２％であっ
た。得られた積層ポリエチレンテレフタレートフィルム
は、さらに高輝度の透明で美麗な虹彩模様を呈する積層
体となった。
フィルムは回折格子の凹凸により美しい透明な虹彩模様
を呈していた。該凹凸のある透明な薄膜層Ｂの上に、ベ
ルジャー型蒸着機を使用し５×１０−２パスカルの真空
度中で硫化亜鉛（屈折率２．３５）を真空蒸着した。付
着した硫化亜鉛層の厚みは５００オングストロームで、
得られた蒸着フィルムの可視光線透過率は７２％であっ
た。得られた積層ポリエチレンテレフタレートフィルム
は、さらに高輝度の透明で美麗な虹彩模様を呈する積層
体となった。
【００４０】実施例 ２ 厚さ１８μ、幅１ｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの片面にポリエステル樹脂の１０％濃度の
メチルエチルケトン溶液をグラビアコート法で塗布し、
１２０℃で乾燥して厚さ１．５μの層を形成した。この
ポリエステル樹脂層に、金型に形成した回折格子のパタ
ーンを、加熱加圧下でエンボス複製し回折格子の凹凸の
ある透明な薄膜層Ｂをえた。
ートフィルムの片面にポリエステル樹脂の１０％濃度の
メチルエチルケトン溶液をグラビアコート法で塗布し、
１２０℃で乾燥して厚さ１．５μの層を形成した。この
ポリエステル樹脂層に、金型に形成した回折格子のパタ
ーンを、加熱加圧下でエンボス複製し回折格子の凹凸の
ある透明な薄膜層Ｂをえた。
【００４１】得られた積層ポリエチレンテレフタレート
フィルムは回折格子の凹凸により美しい透明な虹彩模様
を呈していた。該凹凸のある透明な積層膜Ｂの上に、下
記塗料Ａ（屈折率１．７０）をグラビアコート法で塗布
し、１５０℃で乾燥し４００オングストロームの薄膜を
得た。
フィルムは回折格子の凹凸により美しい透明な虹彩模様
を呈していた。該凹凸のある透明な積層膜Ｂの上に、下
記塗料Ａ（屈折率１．７０）をグラビアコート法で塗布
し、１５０℃で乾燥し４００オングストロームの薄膜を
得た。
【００４２】塗料Ａ：アセチルアセトン１６２ｇに攪拌
下でテトラ−ｎ−ブチルチタネート３２．２ｇ、メタノ
ール分散コロイド状シリカ１０ｇ、シリコーン系界面活
性剤０．１１ｇを添加し混合した。
下でテトラ−ｎ−ブチルチタネート３２．２ｇ、メタノ
ール分散コロイド状シリカ１０ｇ、シリコーン系界面活
性剤０．１１ｇを添加し混合した。
【００４３】得られた積層ポリエチレンテレフタレート
フィルムは、さらに高輝度の透明で美麗な虹彩模様を呈
する積層体となった。
フィルムは、さらに高輝度の透明で美麗な虹彩模様を呈
する積層体となった。
【００４４】実施例 ３ 厚さ１８μ、幅１ｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの片面に、下記塗料Ｂをスプレー塗布、乾
燥し約１．０μ厚さの薄膜を得た。この薄膜に２００Ｗ
の石英水銀灯を室温下で２５秒露光し露光後約８０℃、
３０秒加熱し薄膜（屈折率１．４）を得た。
ートフィルムの片面に、下記塗料Ｂをスプレー塗布、乾
燥し約１．０μ厚さの薄膜を得た。この薄膜に２００Ｗ
の石英水銀灯を室温下で２５秒露光し露光後約８０℃、
３０秒加熱し薄膜（屈折率１．４）を得た。
【００４５】塗料Ｂ：４−アジド無水フタル酸１２ｇを
１０％濃度クエン酸水溶液１２０ｇに溶解させ、さらに
５０％濃度ポリビニルアルコール水溶液１４４ｇと５０
％濃度塩化ビニリデン溶液７２ｇ、エチレングリコール
７２ｇを混合する。
１０％濃度クエン酸水溶液１２０ｇに溶解させ、さらに
５０％濃度ポリビニルアルコール水溶液１４４ｇと５０
％濃度塩化ビニリデン溶液７２ｇ、エチレングリコール
７２ｇを混合する。
【００４６】このポリビニルアルコール樹脂層に、金型
に形成した回折格子のパターンを、加熱加圧下でエンボ
ス複製し回折格子の凹凸のある透明な薄膜層Ｂをえた。
に形成した回折格子のパターンを、加熱加圧下でエンボ
ス複製し回折格子の凹凸のある透明な薄膜層Ｂをえた。
【００４７】得られた積層ポリエチレンテレフタレート
フィルムは回折格子の凹凸により美しい透明な虹彩模様
を呈していた。該凹凸のある透明な薄膜層Ｂの上に、ベ
ルジャー型蒸着機を使用し５×１０−２パスカルの真空
度中で硫化亜鉛（屈折率２．３５）を真空蒸着した。付
着した硫化亜鉛層の厚みは５００オングストロームで、
得られた蒸着フィルムの可視光線透過率は７２％であっ
た。得られた積層ポリエチレンテレフタレートフィルム
は、さらに高輝度の透明で美麗な虹彩模様を呈する積層
体となった。
フィルムは回折格子の凹凸により美しい透明な虹彩模様
を呈していた。該凹凸のある透明な薄膜層Ｂの上に、ベ
ルジャー型蒸着機を使用し５×１０−２パスカルの真空
度中で硫化亜鉛（屈折率２．３５）を真空蒸着した。付
着した硫化亜鉛層の厚みは５００オングストロームで、
得られた蒸着フィルムの可視光線透過率は７２％であっ
た。得られた積層ポリエチレンテレフタレートフィルム
は、さらに高輝度の透明で美麗な虹彩模様を呈する積層
体となった。
【００４８】
【発明の効果】本発明の積層体は、透明な薄膜層Ａと回
折格子またはホログラムからなる凹凸のある透明な薄膜
層Ｂの織りなす多彩で且つ透明であり、美麗な虹彩模様
を示す。本発明によるこの虹彩模様を呈する積層体は、
その美しい外観特性を生かして糸、包装材料、壁紙、ポ
スター、ラベル、偽造防止マークラベル、衣料やベルト
および釣竿、ボタン、イヤリング、ペンダント等に使わ
れる。また、その複雑な組み合わせパターンにより、意
匠、偽造防止分野のマーク、ラベル、包装材料等に使わ
れる。
折格子またはホログラムからなる凹凸のある透明な薄膜
層Ｂの織りなす多彩で且つ透明であり、美麗な虹彩模様
を示す。本発明によるこの虹彩模様を呈する積層体は、
その美しい外観特性を生かして糸、包装材料、壁紙、ポ
スター、ラベル、偽造防止マークラベル、衣料やベルト
および釣竿、ボタン、イヤリング、ペンダント等に使わ
れる。また、その複雑な組み合わせパターンにより、意
匠、偽造防止分野のマーク、ラベル、包装材料等に使わ
れる。
【００４９】該透明な虹彩薄膜層２と着色印刷層４のパ
ターンを調整することにより、任意の図柄の虹彩模様を
有する虹彩模様を呈する積層体を大量生産できる。
ターンを調整することにより、任意の図柄の虹彩模様を
有する虹彩模様を呈する積層体を大量生産できる。
【００５０】該成型体、該薄膜層Ａ、該凹凸のある透明
な薄膜層Ｂ、に染料、顔料を混入することにより着色と
虹彩の織りなす多彩で美麗な虹彩模様を呈する積層体を
得ることができる。
な薄膜層Ｂ、に染料、顔料を混入することにより着色と
虹彩の織りなす多彩で美麗な虹彩模様を呈する積層体を
得ることができる。
【００５１】該成型物に透明体を採用することにより、
透明な虹彩模様を呈する積層体を得ることができる。
透明な虹彩模様を呈する積層体を得ることができる。
【図１】本発明に係る虹彩模様を呈する積層体の基本構
成の一例を示す拡大断面図である。
成の一例を示す拡大断面図である。
【図２】図１の基本構成をもつ積層体に保護層、着色印
刷層まで加工した構成を示す拡大断面図である。
刷層まで加工した構成を示す拡大断面図である。
１……シート状の成型体、 ２……虹彩薄膜層、 ３…
…保護層、４……着色印刷層、Ａ………透明な薄膜層、
Ｂ……凹凸のある透明な薄膜層
…保護層、４……着色印刷層、Ａ………透明な薄膜層、
Ｂ……凹凸のある透明な薄膜層
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ３２Ｂ 15/08 Ｈ 27/00 Ｂ 8413−4Ｆ 27/20 Ｚ 8413−4Ｆ
Claims (13)
- 【請求項１】 成型体の上に透明な虹彩薄膜層を設けて
なる積層体において、該虹彩薄膜層が、可視光線透過率
が５０％以上である透明な薄膜層Ａと可視光線透過率が
５０％以上である凹凸の透明な薄膜層Ｂから成り、かつ
該透明な薄膜層Ａと薄膜層Ｂとの屈折率の差が０．０５
以上であることを特徴とする虹彩模様を呈する積層体。 - 【請求項２】 透明な薄膜層Ａが１種または２種以上の
異なる金属からなる請求項１記載の虹彩模様を呈する積
層体。 - 【請求項３】 透明な薄膜層Ａが１種または２種以上の
異なる金属化合物からなる請求項１記載の虹彩模様を呈
する積層体。 - 【請求項４】 透明な薄膜層Ａが内部に微細な気泡を有
する高分子材料からなる請求項１記載の虹彩模様を呈す
る積層体。 - 【請求項５】 透明な薄膜層Ａが有機高分子材料または
無機系微粒子を含有する有機高分子材料からなる請求項
１記載の虹彩模様を呈する積層体。 - 【請求項６】 透明な薄膜層Ａが液状被膜形成性のある
無機系材料または該無機系材料と有機系材料の混合物か
らなる請求項１記載の虹彩模様を呈する積層体。 - 【請求項７】 透明な薄膜層Ａまたは凹凸のある透明な
薄膜層Ｂが異なる物質の２層以上積層からなる請求項１
記載の虹彩模様を呈する積層体。 - 【請求項８】 透明な薄膜層Ｂの凹凸が回折格子または
ホログラムからなる請求項１記載の虹彩模様を呈する積
層体。 - 【請求項９】 凹凸のある透明な薄膜層Ｂが内部に微細
な気泡を有する高分子材料からなる請求項１記載の虹彩
模様を呈する積層体。 - 【請求項１０】 凹凸のある透明な薄膜層Ｂが有機高分
子材料または無機系微粒子を含有する有機高分子材料か
らなる請求項１記載の虹彩模様を呈する積層体。 - 【請求項１１】 凹凸のある透明な薄膜層Ｂが液状被膜
形成性のある無機系材料と有機系材料の混合物からなる
請求項１記載の虹彩模様を呈する積層体。 - 【請求項１２】 ラベルカバーフィルム用であることを
特徴とする請求項１記載の虹彩模様を呈する積層体。 - 【請求項１３】 成型体が合成樹脂フィルムである請求
項１記載の虹彩模様を呈する積層体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6076257A JPH07246692A (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | 虹彩模様を呈する積層体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6076257A JPH07246692A (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | 虹彩模様を呈する積層体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07246692A true JPH07246692A (ja) | 1995-09-26 |
Family
ID=13600164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6076257A Pending JPH07246692A (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | 虹彩模様を呈する積層体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07246692A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002175738A (ja) * | 2000-12-07 | 2002-06-21 | Polymatech Co Ltd | 加飾キートップ |
| JP2002307607A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-10-23 | Oike Ind Co Ltd | 薄膜積層体 |
| KR20030093515A (ko) * | 2002-06-03 | 2003-12-11 | 주식회사 엘지화학 | 홀로그램 집광판을 포함하는 유기 발광소자 |
| JP2006185699A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Polymatech Co Ltd | 加飾成形体の製造方法 |
| JP2013213933A (ja) * | 2012-04-02 | 2013-10-17 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラム形成体及び包装材 |
-
1994
- 1994-03-10 JP JP6076257A patent/JPH07246692A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002175738A (ja) * | 2000-12-07 | 2002-06-21 | Polymatech Co Ltd | 加飾キートップ |
| JP2002307607A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-10-23 | Oike Ind Co Ltd | 薄膜積層体 |
| KR20030093515A (ko) * | 2002-06-03 | 2003-12-11 | 주식회사 엘지화학 | 홀로그램 집광판을 포함하는 유기 발광소자 |
| JP2006185699A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Polymatech Co Ltd | 加飾成形体の製造方法 |
| JP4538311B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2010-09-08 | ポリマテック株式会社 | 加飾成形体の製造方法 |
| JP2013213933A (ja) * | 2012-04-02 | 2013-10-17 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラム形成体及び包装材 |
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