JPH072462U - 基板保持装置 - Google Patents
基板保持装置Info
- Publication number
- JPH072462U JPH072462U JP3658893U JP3658893U JPH072462U JP H072462 U JPH072462 U JP H072462U JP 3658893 U JP3658893 U JP 3658893U JP 3658893 U JP3658893 U JP 3658893U JP H072462 U JPH072462 U JP H072462U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- linear bearing
- clamper
- substrate
- guide shaft
- connecting plate
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 クランパーのクランプ動作を滑らかにして、
基板の周縁部に傷が付くのを防止することができるよう
にした基板保持装置を提供する。 【構成】 3本のガイド軸12の内の1本(12a)と
それを支えるリニア軸受14aとの間および当該リニア
軸受14aと連結板10の穴11aとの間の嵌め合い
を、共に中間ばめとした。一方、残りのガイド軸12と
それを支えるリニア軸受14との間および当該リニア軸
受14と連結板10の穴11との間の嵌め合いを、それ
ぞれすきまばめとした。かつ、上記中間ばめとしたリニ
ア軸受14aのガイド軸12aと接する部分の長さを、
他のリニア軸受14のそれよりも長くした。
基板の周縁部に傷が付くのを防止することができるよう
にした基板保持装置を提供する。 【構成】 3本のガイド軸12の内の1本(12a)と
それを支えるリニア軸受14aとの間および当該リニア
軸受14aと連結板10の穴11aとの間の嵌め合い
を、共に中間ばめとした。一方、残りのガイド軸12と
それを支えるリニア軸受14との間および当該リニア軸
受14と連結板10の穴11との間の嵌め合いを、それ
ぞれすきまばめとした。かつ、上記中間ばめとしたリニ
ア軸受14aのガイド軸12aと接する部分の長さを、
他のリニア軸受14のそれよりも長くした。
Description
【0001】
この考案は、例えばイオン注入装置、イオンビームエッチング装置、電子ビー ム照射装置等のように、真空中またはそれに近い雰囲気中で基板にイオンビーム 、電子ビーム、プラズマ等のエネルギーを有する粒子を入射させる場合に用いら れる基板保持装置に関し、特に基板のクランプ部に傷が付くのを防止する手段に 関する。
【0002】
図3は、従来の基板保持装置の一例を示す概略図である。図4は、図3および 後述する図1の平面図である。
【0003】 この基板保持装置は、基板(例えばウェーハ)2を支持するベース4と、基板 2の周縁部をベース4に向けて押さえ付ける環状のクランパー6を備えており、 このベース4とクランパー6との間に基板2を挟んで保持(クランプ)する構造 をしている。
【0004】 ベース4には、クランパー6をベース4に対して矢印Aのように上下させるた めの複数本の(この例では図4に示すように180度対向する位置に2本の)ク ランパー軸8が上下動自在に貫通しており、それらの頭部に図示しない固定ボル トによってクランパー6が固定されており、下端部にこれらのクランパー軸8同 士を連結するこの例では環状の連結板10が取り付けられている。
【0005】 また、ベース4の下側には、3本以上の(この例では図4に示すように120 度間隔で3本の)ガイド軸12が図示しない固定ボルトによって固定されている 。また、連結板10の各ガイド軸12に対応する位置に穴11が設けられていて そこにリニア軸受14がそれぞれ嵌入固定されている。各リニア軸受14は、そ こを貫通するガイド軸12をそれぞれ直動自在に支え、それによってクランパー 6の矢印Aに示すような上下動をガイドとする。
【0006】 ベース4と連結板10との間であって各ガイド軸12の周りには、連結板10 およびクランパー軸8を介してクランパー6をベース4に向けて弾性的に押し下 げるばね(例えば圧縮コイルばね)16がそれぞれ設けられている。
【0007】 このような基板保持装置においては、連結板10を押し上げることによってク ランパー6を押し上げて基板2のクランプを解除することができ、基板2の搬出 入等を行うことができる。連結板10の押し上げを中止すると、ばね16の弾性 力によってクランパー6が押し下げられ、それとベース4との間に基板2をクラ ンプすることができる。そして、このようにクランプされた基板2に、クランパ ー6の開口部を通して例えばイオンビームを照射する等して基板2にイオン注入 等の処理を施すことができる。
【0008】
上記のような従来の基板保持装置においては、各リニア軸受14は連結板10 に設けられた各穴11に全てきつく、より具体的には中間ばめ(JIS B 0 401参照)で嵌合されているため、各ガイド軸12とリニア軸受14との拘束 性に裕度がなく、そのため、クランパー6がベース4に対して平行に密着されな い場合や、クランパー6が滑らかに上下せず、クランプ時に振動を伴ったり急激 にクランプしたりする場合が生じる。その結果、基板2の周縁部のクランプ部に 急激な圧力や偏荷重が作用し、基板2の周縁部に傷が付いたり、表面をレジスト 処理された基板の場合はその周縁部においてレジスト膜が剥がれる等の不具合が 生じる。
【0009】 そこでこの考案は、クランパーのクランプ動作を滑らかにして、基板の周縁部 に傷が付くのを防止することができるようにした基板保持装置を提供することを 主たる目的とする。
【0010】
上記目的を達成するため、この考案の基板保持装置は、前述したようなガイド 軸の内の1本とそれを支えるリニア軸受との間および当該リニア軸受と連結板の 穴との間の嵌め合いを共に中間ばめとし、残りのガイド軸とそれを支えるリニア 軸受との間および当該リニア軸受と連結板の穴との間の嵌め合いをそれぞれすき まばめとし、かつ中間ばめとしたリニア軸受のガイド軸と接する部分の長さを他 のリニア軸受のそれよりも長くしたことを特徴とする。
【0011】
上記構成によれば、中間ばめとしたリニア軸受の部分の1個所において、ガイ ド軸を正確にかつ直進性良くガイドすることができる。これは、当該リニア軸受 とガイドおよび連結板の穴との間の嵌め合いを共に中間ばめとしてきっちり嵌合 させると共に、当該リニア軸受のガイドと接する部分の長さを長くしているから である。
【0012】 これに対して、残りのリニア軸受の部分においては、ガイド軸を幾分緩くガイ ドすることができる。これは、当該リニア軸受とガイド軸および連結板の穴との 間の嵌め合いを共にすきまばめとして幾分緩く嵌合させているからである。
【0013】 上記のようにすると、ガイド軸の直進運動を規定する個所を1個所に集中させ ることができるので、従来のように規定個所を複数個所に分散させている場合の ような規定個所同士間のぶつかり合いが無くなり、クランパーのクランプ動作を 滑らかにすることができる。その結果、基板の周縁部にクランパーから急激な圧 力や偏荷重が加えられるのを防止することができるので、基板の周縁部に傷が付 くのを防止することができる。
【0014】
図1は、この考案の一実施例に係る基板保持装置を示す概略図である。図3の 従来例と同一または相当する部分には同一符号を付し、以下においては当該従来 例との相違点を主に説明する。また、平面図は図4と同じであるのでそれを参照 するものとする。
【0015】 この実施例においては、前述した3本のガイド軸12の内の1本(これを特に 符号12aで示す)とそれを支えるリニア軸受14(これを特に符号14aで示 す)との間および当該リニア軸受14aと連結板10の穴11(これを特に符号 11aで示す)との間の嵌め合いを、共に中間ばめ(JIS B 0401参照 )としている。
【0016】 一方、残りのガイド軸12とそれを支えるリニア軸受14との間および当該リ ニア軸受10と連結板10の穴11との間の嵌め合いを、それぞれすきまばめ( JIS B 0401参照)としている。
【0017】 しかも、前記中間ばめとしたリニア軸受14aのガイド軸12aと接する部分 の長さを、他のリニア軸受14のガイド軸12と接する部分の長さよりも長くし ている。
【0018】 なお、上記のように中間ばめとするリニア軸受14aの位置は、即ち複数ある リニア軸受の内のどの一つを中間ばめとするかは、特定の個所に限定されるもの ではなく任意である。図1および図4では図示の都合上、左側のリニア軸受14 を中間ばめとしているが、実際の実施例の装置においては、図4中の真上のリニ ア軸受14を中間ばめとしている。
【0019】 上記構成によれば、中間ばめとしたリニア軸受14aの部分の1個所において 、ガイド軸12aを正確にかつ直進性良くガイドすることができる。これは、当 該リニア軸受14aとガイド軸12aおよび連結板10の穴11aとの間の嵌め 合いを共に中間ばめとしてきっちり嵌合させると共に、当該リニア軸受14aの ガイド軸12aと接する部分の長さを長くしているからである。
【0020】 これに対して、残りのリニア軸受14の部分においては、ガイド軸12を幾分 緩くガイドすることができる。これは、当該リニア軸受14とガイド軸12およ び連結板10の穴11との間の嵌め合いを共にすきまばめとして幾分緩く嵌合さ せているからである。
【0021】 上記のようにすると、クランパー軸の直進運動を規定する個所を1個所に集中 させることができるので、従来のように規定個所を複数個所に分散させている場 合のような規定個所同士間のぶつかり合いが無くなり、クランパー6のクランプ 動作を滑らかにすることができる。
【0022】 その結果、基板2の周縁部にクランパー6から急激な圧力や偏荷重が加えられ るのを防止することができるので、基板2の周縁部に傷が付くのを防止すること ができる。また、基板2の表面をレジスト処理している場合はその周縁部におい てレジスト膜が剥がれるのを防止することができる。
【0023】 なお、上記のような構成に加えて更に、図2に示すように、クランパー6の基 板2と接する領域7に、例えばフッ素樹脂、シリコーンゴム等の樹脂をコーティ ングしておいても良く、そのようにすれば、クランプ時にクランパー6から基板 2へ加えられる衝撃をこの樹脂によって緩和することができるので、基板2の周 縁部の傷付きやレジスト剥がれをより確実に防止することができる。
【0024】
以上のようにこの考案によれば、クランパー軸の直進運動を規定する個所を1 個所に集中させることができるので、従来のように規定個所を複数個所に分散さ せている場合のような規定個所同士間のぶつかり合いが無くなり、クランパーの クランプ動作を滑らかにすることができる。その結果、基板の周縁部にクランパ ーから急激な圧力や偏荷重が加えられるのを防止することができるので、基板の 周縁部に傷が付くのを防止することができる。また、基板の表面をレジスト処理 している場合はその周縁部においてレジスト膜が剥がれるのを防止することがで きる。
【図1】この考案の一実施例に係る基板保持装置を示す
概略図である。
概略図である。
【図2】基板をクランプする部分の他の例を拡大して示
す図である。
す図である。
【図3】従来の基板保持装置の一例を示す概略図であ
る。
る。
【図4】図1および図3の基板保持装置の平面図であ
る。
る。
2 基板 4 ベース 6 クランパー 8 クランパー軸 10 連結板 11,11a 穴 12,12a ガイド軸 14,14a リニア軸受 16 ばね
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/68 N
Claims (1)
- 【請求項1】 基板を支持するベースと、基板の周縁部
をベースに向けて押さえ付ける環状のクランパーと、こ
のクランパーに頭部が接続されていてクランパーをベー
スに対して上下させるための複数本のクランパー軸と、
このクランパー軸同士を連結する連結板と、ベースに頭
部がそれぞれ接続された3本以上のガイド軸と、連結板
の穴を貫通するように取り付けられていて各ガイド軸を
それぞれ直動自在に支えるリニア軸受と、各ガイド軸の
周りにそれぞれ設けられていて連結板およびそれに取り
付けられた物を弾性的に押し下げるばねとを備える基板
保持装置において、前記ガイド軸の内の1本とそれを支
えるリニア軸受との間および当該リニア軸受と連結板の
穴との間の嵌め合いを共に中間ばめとし、残りのガイド
軸とそれを支えるリニア軸受との間および当該リニア軸
受と連結板の穴との間の嵌め合いをそれぞれすきまばめ
とし、かつ中間ばめとしたリニア軸受のガイド軸と接す
る部分の長さを他のリニア軸受のそれよりも長くしたこ
とを特徴とする基板保持装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3658893U JPH072462U (ja) | 1993-06-10 | 1993-06-10 | 基板保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3658893U JPH072462U (ja) | 1993-06-10 | 1993-06-10 | 基板保持装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH072462U true JPH072462U (ja) | 1995-01-13 |
Family
ID=12473943
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3658893U Pending JPH072462U (ja) | 1993-06-10 | 1993-06-10 | 基板保持装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH072462U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001310208A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-06 | Muraki:Kk | 基準穴穴開け機 |
JP2010087156A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
-
1993
- 1993-06-10 JP JP3658893U patent/JPH072462U/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001310208A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-06 | Muraki:Kk | 基準穴穴開け機 |
JP4502454B2 (ja) * | 2000-04-28 | 2010-07-14 | 株式会社ムラキ | 基準穴穴開け機 |
JP2010087156A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
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