JPH07244209A - 光ファイバ型回折格子の作製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 光軸に沿って反射波長が連続的に変化する光
ファイバ型回折格子を作製する方法を提供する。 【構成】 本発明の作製方法は、複数の屈折率変化部
（４２）が光軸に沿って等間隔に配列された回折格子領
域を有する光ファイバ型回折格子（４４）を用意する第
一の工程と、回折格子領域の少なくとも一部を延伸する
第二の工程とを備えている。延伸の程度に応じて相隣る
屈折率変化部（４２）の間隔、すなわち格子間隔が拡大
されるので、本発明の方法により作製された光ファイバ
型回折格子（４６）は、格子間隔が光軸に沿って徐々に
変化する部分を有している。反射波長は、コアの屈折率
と格子間隔とに依存するので、格子間隔が光軸に沿って
徐々に変化すれば、反射波長も光軸に沿って連続的に変
化する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバ内に回折格
子が形成された領域を有する光ファイバ型回折格子の作
製方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の光ファイバ型回折格子の作製方法
としては、特許出願公表昭６２−５０００５２に記載の
ものが知られている。これは、酸化ゲルマニウムを添加
して高屈折率のコアを形成した石英系光ファイバに強力
な紫外光を照射することにより、等間隔に配列された屈
折率変化部をコアに生じさせて、コアに回折格子を形成
する方法である。

【０００３】この従来方法により作製された光ファイバ
型回折格子は格子間隔が一定であるため、単一の反射波
長を中心とした幅の狭い反射スペクトルを示す。したが
って、光ファイバ型回折格子を用いて、光ファイバを伝
搬する光の波長分散を補償する場合には、例えば、互い
に反射波長の異なる光ファイバ型回折格子を複数作製
し、これらを伝送路に、信号光が進行する向きに沿って
反射波長が小さいものから大きいものへと順次挿入して
いた。こうすることにより、長波長の光ほど光路が長く
なるので、長波長の光ほど速く伝搬する条件での信号光
の波長分散を補償することができる。

【０００４】一方、波長幅を持った光を反射する反射フ
ィルターとして光ファイバ型回折格子を用いる場合は、
反射スペクトルの幅が比較的広いほうが好ましいことが
ある。このようなときは、従来方法により光軸に沿って
極めて長い回折格子領域を有する長尺の光ファイバ型回
折格子を作製することが考えられる。これは、回折格子
領域が長いほど反射率が全体的に向上し、反射スペクト
ルの幅が広くなることに基づく。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来方法で作
製した複数の光ファイバ型回折格子を伝送路に挿入して
分散補償を行うと、一つ一つの光ファイバ型回折格子の
長さは一般的なものであっても、それが複数接続される
ことで伝送路長が非常に長くなるとともに、各接続部で
の接続損失も累積するので、伝送路全体の伝送損失が大
きくなり過ぎるという問題点があった。

【０００６】また、従来方法で作製した長尺の光ファイ
バ型回折格子を用いて波長幅を持った光を反射する場合
も、回折格子の挿入による伝送路長の増加が著しいた
め、伝送損失の増加が大きくなり過ぎる。

【０００７】このように、従来の方法で作製した光ファ
イバ型回折格子は格子間隔が一定であったため、分散補
償器や反射フィルターとして必ずしも適当でない場合が
あった。

【０００８】このような場合に有用な光ファイバ型回折
格子として、光軸に沿って反射波長が連続的に変化する
ものが考えられる。この光ファイバ型回折格子を伝送路
に挿入すれば、伝搬光は波長により異なった位置で反射
される。この結果、波長ごとに光路長が異なることとな
るので、これを利用すれば波長分散を補償することがで
きる。この光ファイバ型回折格子は長尺である必要は必
ずしもなく、複数接続して用いる必要もないので、分散
補償器として用いれば、挿入損失を低減することができ
る。また、この光ファイバ型回折格子は、反射波長が連
続的に変化することに起因して比較的幅の広い反射スペ
クトルを示すので、反射フィルターとしても有用であ
る。このため、かかる光ファイバ型回折格子を作製する
方法の実現が要望されている。

【０００９】本発明は、上記の要望に応えるためなされ
たもので、光軸に沿って反射波長が連続的に変化する光
ファイバ型回折格子を作製する方法を提供することを目
的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明の光ファイバ型回折格子の作製方法は、
光導波部であるコアと、このコアに接していてこのコア
より低屈折率のクラッドとを有し、複数の屈折率変化部
が光軸に沿って等間隔に配列された回折格子領域を有す
る光ファイバ型回折格子を用意する第一の工程と、回折
格子領域の少なくとも一部を延伸する第二の工程とを備
えている。ここで、第二の工程は、回折格子領域の少な
くとも一部を加熱する処理を含んでもよい。

【００１１】また、本発明に係るさらに具体的な作製方
法は、酸化ゲルマニウムがドープされたコアと、このコ
アよりも低屈折率のクラッドとを備えるガラス光ファイ
バを用意する第一の工程と、ガラス光ファイバに紫外光
を照射し、コアにおいて光軸に沿って等間隔に位置する
複数の部分に紫外光を入射せしめて、複数の屈折率変化
部が光軸に沿って等間隔に配列された回折格子領域を形
成する第二の工程と、回折格子領域の少なくとも一部を
延伸する第三の工程とを備えている。

【００１２】なお、ガラス光ファイバには、石英（Ｓｉ
Ｏ₂ ）を主成分とする石英系ガラス光ファイバや、石英
を主体に、Ｎａ₂ Ｏ、ＣａＯ等を加えたガラスからなる
多成分ガラス光ファイバが含まれる。

【００１３】また、第二の工程における前記紫外光の照
射は、前記紫外光を干渉させて生じた干渉縞を前記ガラ
ス光ファイバに照射することにより行うことができる。
この場合、干渉縞は、２本のコヒーレントな紫外光を、
前記ガラス光ファイバの光軸に対し互いに補角の関係に
ある角度をもって、ガラス光ファイバに照射することに
より生じたものであってもよい。また、紫外光を位相格
子に照射することにより、紫外光が位相格子を透過して
生じたものであってもよいまた、上記第三の工程は、回
折格子領域の少なくとも一部を加熱する処理を含んでも
よい。

【００１４】

【作用】本発明の第一の工程では、複数の屈折率変化部
が光軸に沿って等間隔に配列された回折格子領域を有す
る光ファイバ型回折格子を用意する。

【００１５】この光ファイバ型回折格子は、例えば、酸
化ゲルマニウムがドープされたコアを備えるガラス光フ
ァイバに紫外光を照射して、コアに紫外光を入射させる
ことにより作製することができる。これは、紫外光の入
射により、酸化ゲルマニウムがドープされたガラスの屈
折率が変化（上昇）することに基づく。

【００１６】ここで、紫外光の入射によりガラスの屈折
率が変化するメカニズムは、完全には解明されてはいな
い。しかしながら、重要な原因として、ガラス中のゲル
マニウムに関連した酸素欠損型の欠陥が考えられてお
り、Ｓｉ−ＧｅまたはＧｅ−Ｇｅなどの中性酸素モノ空
孔が想定されている。

【００１７】屈折率変化のメカニズムとして提案されて
いるクラマース・クローニッヒ機構によれば、屈折率変
化は以下のように説明される。すなわち、上記の欠陥は
波長２４０〜２５０ｎｍの紫外光を吸収し、この吸収に
よりＳｉ−ＧｅまたはＧｅ−Ｇｅ結合が切れて、新たな
欠陥が生じる。この新たな欠陥は、波長２１０ｎｍおよ
び２８０ｎｍ付近を中心に吸収帯を形成する。その結
果、クラマース・クローニッヒの関係に従いガラスの屈
折率が変化する。

【００１８】したがって、酸化ゲルマニウムがドープさ
れたガラスからなるコアに、紫外光を、光軸に沿って等
間隔に並んだ部分に入射させれば、コアに複数の屈折率
変化部が光軸に沿って等間隔に形成される。

【００１９】次に、第一の工程で用意した等格子間隔の
光ファイバ型回折格子のうち、屈折率変化部が等間隔に
配列された回折格子領域を延伸する。これにより回折格
子領域が塑性変形すると、延伸の程度に応じて相隣る屈
折率変化部の間隔、すなわち格子間隔が拡大される。こ
れにより、格子間隔が光軸に沿って徐々に変化する部分
が回折格子領域に形成される。

【００２０】光ファイバ型回折格子の反射波長は、コア
の屈折率と、格子間隔とに依存するので、格子間隔が光
軸に沿って徐々に変化すれば、反射波長も光軸に沿って
連続的に変化する。したがって、本発明の方法により、
反射波長が光軸に沿って連続的に変化する光ファイバ型
回折格子が作製される。

【００２１】上記の作製方法において回折格子領域を延
伸する方法としては、例えば、回折格子領域を加熱しな
がら延伸する方法がある。これによれば、加熱により回
折格子領域の少なくとも一部が軟化するので、光ファイ
バを両端から引っ張ることにより軟化した部分が延伸さ
れ、格子間隔が光軸に沿って徐々に変化する部分が形成
されて、反射波長が光軸に沿って連続的に変化する光フ
ァイバ型回折格子となる。

【００２２】

【実施例】以下、添付図面を参照しながら本発明の実施
例を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の
要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。

【００２３】図１は、本実施例の作製工程を示す概略図
である。図１に示されるように、本実施例では、屈折率
変化部４２が光軸に沿って等間隔に配列されてなる回折
格子４３を有する光ファイバ型回折格子４４を用意し、
回折格子４３が形成された回折格子領域をその中央付近
で延伸して、その格子間隔が光軸に沿って徐々に変化す
る回折格子４５を有する光ファイバ型回折格子４６を作
製する。ここで、光ファイバ型回折格子４６の格子間
隔、すなわち回折格子４５の格子間隔は、回折格子４５
の中央付近で最大であり、回折格子４５の両端では延伸
前と同程度である。以下、この光ファイバ型回折格子４
６の作製方法について、具体的に説明していく。

【００２４】第一の工程として、まず、複数の屈折率変
化部４２が光軸に沿って等間隔に配列された回折格子４
３を有する光ファイバ型回折格子４４を用意する。ここ
で、等格子間隔の光ファイバ型回折格子４４は、例え
ば、以下のように作製することができる。

【００２５】初めに、石英（ＳｉＯ₂ ）ガラスを主成分
とする石英系光ファイバを用意する。この光ファイバ
は、石英ガラスに酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ₂ ）がドー
プされたコアと、純石英ガラスからなるクラッドとを有
している。

【００２６】この光ファイバは、いかなる作製方法によ
り作製されたものであっても良い。例えば、公知のＭＣ
ＶＤ法、ＶＡＤ法、ＯＶＤ法、ロッドインチューブ法等
により作製された光ファイバ母材を、電気炉で加熱して
線引きすることにより作製できる。

【００２７】例えばＶＡＤ法では、まず、回転している
中心棒をターゲットとし、その上に火炎中で生成したＳ
ｉＯ₂ とＧｅＯ₂ のガラス微粒子を堆積させて、スート
プリフォームを形成する。具体的には、コア用バーナー
に原料となる四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ₄ ）及び四塩化ゲ
ルマニウム（ＧｅＣｌ₄ ）、燃料となる水素、並びに酸
素（以上は、すべて気体である。）を同時に送り込む。
一方、クラッド用バーナーには、四塩化ケイ素（ＳｉＣ
ｌ₄ ）、水素及び酸素を同時に送り込む。そして、水素
の燃焼による各バーナーの火炎を中心棒にあてて、スー
トプリフォームを形成する。

【００２８】次いで、形成されたスートプリフォームを
高温で完全脱水して不純物を飛散させてから、さらに温
度を上げて焼結する。以上でプリフォーム（光ファイバ
母材）が完成するので、線引炉でさらに高温にして溶か
し、線引きすれば光ファイバが得られる。

【００２９】次に、上記のような公知方法により作製さ
れ、酸化ゲルマニウムがドープされたコアを有する光フ
ァイバに紫外光を照射して、コアに屈折率変化部を光軸
に沿って等間隔に形成する。

【００３０】本実施例では、コアに酸化ゲルマニウムが
２０ｗｔ％ドープされた石英系光ファイバに紫外光を照
射した。ここで、紫外光の照射は、所望の長さに切り取
った光ファイバに対して行ってもよいし、線引された光
ファイバを巻き取る途中に行うなど、光ファイバの作製
工程に組み込んで行ってもよい。

【００３１】本実施例では、紫外光を、等間隔の干渉縞
を生じさせながら光ファイバに照射した。以下、この照
射方法について詳しく説明する。

【００３２】図２は、本実施例で用いた紫外光の照射方
法の説明図である。図２に示されるように、紫外光光源
１０から出力された紫外光は、干渉手段２０により干渉
させられ、干渉縞を生じながら光ファイバ４０に照射さ
れる。

【００３３】本実施例では、ホログラフィック干渉法に
より紫外光を干渉させた。この方法では、干渉手段２０
は、図２のように、ビームスプリッタ２１ａと反射鏡２
１ｂ、２１ｃとから構成される。また、紫外光光源１０
には、アルゴンレーザ光源１１を用いた。

【００３４】アルゴンレーザ光源１１は、２４４ｎｍの
コヒーレントな紫外光を連続発振する。この紫外光は、
ビームスプリッタ２１ａにより透過光と反射光の２光束
に分岐される。分岐された各光束は、それぞれ反射鏡２
１ｂ及び２１ｃによって反射され、コア４１の軸方向に
対し互いに補角の関係にある７４゜（図２における
α）、１０６゜（図２における１８０゜−α）の角度を
もって光ファイバ４０に照射される。

【００３５】分岐された各光束は干渉領域３０にて干渉
し、所定間隔の干渉縞を形成しつつ、光ファイバ４０に
照射される。そして、照射された紫外光は、クラッド４
７を透過し、コア４１に入射して、入射した部分の屈折
率を変化させる。

【００３６】図３は、光ファイバ４０への紫外光の照射
を示した図である。光ファイバ４０の径方向に対する紫
外光の入射角度θ（＝９０°−α）と紫外光の波長λと
を用いると、干渉縞の間隔Λは、 Λ＝λ／（２ｓｉｎθ） …（１） のように表される。したがって、コア４１には、複数の
屈折率変化部４２が干渉縞の間隔Λを周期として光ファ
イバ４０の光軸に沿って配列され、格子間隔Λの回折格
子４３がコア４１に形成されることになる。こうして、
等格子間隔の回折格子４３をコア４１に有する光ファイ
バ型回折格子４４が完成する。なお、回折格子４３が形
成された領域（回折格子領域）の光軸に沿った長さは、
約４ｍｍであった。

【００３７】図４は、回折格子４３が形成されたコア４
１の光軸に沿った屈折率分布を示した図である。この図
には、紫外光照射前のコア４１の屈折率ｎ₁ より屈折率
が上昇した部分、すなわち屈折率変化部４２が、光軸に
沿って等間隔に配列されていることとともに、紫外光の
入射部分以外は当初の屈折率ｎ₁ を維持していることが
示されている。

【００３８】コア４１の当初の屈折率ｎ₁ と回折格子４
３の格子間隔Λを用いると、周知なブラッグの回折条件
により、この光ファイバ型回折格子４４の反射波長λ_R
は、 λ_R ＝２・ｎ₁ ・Λ ＝λ・ｎ₁ ／ｓｉｎθ …（２） のように表される。なお、本実施例では、この反射波長
λ_R を１３００ｎｍに設定した。

【００３９】なお、紫外光の照射中は、ＬＥＤ光源から
の光を光ファイバ４０の一端から入射させ、他端に接続
されたスペクトルアナライザでこの光の透過スペクトル
を測定して、回折格子４３の形成をリアルタイムでモニ
ターした。ここで、スペクトルアナライザは、回折格子
４３を透過した光について波長と透過率との関係を測定
する。

【００４０】紫外光の照射が開始されると回折格子４３
の形成が進むので、透過スペクトルにおいて透過光の強
度が反射波長を中心に減少する。透過スペクトルに変化
がなくなれば、回折格子４３の形成が飽和したと考えら
れるので、この時点で紫外光の照射を停止する。なお、
本実施例では、飽和時間は約４０〜５０分であった。

【００４１】反射率は、１００％から透過率を差し引い
て求まるので、回折格子４３の形成が飽和した時点の透
過スペクトルから、波長と反射率との関係を示した反射
スペクトルを求めることができる。図５は、こうして求
めた光ファイバ型回折格子４４の反射スペクトルを示し
たものである。

【００４２】次に、第２の工程として、光ファイバ型回
折格子４４のうち、回折格子４３が形成された領域（回
折格子領域）を加熱しながら、この領域を延伸する。図
６は、光ファイバ型回折格子４４の回折格子領域を加熱
延伸する様子を示した図である。この図を参照しなが
ら、以下、具体的に説明する。

【００４３】まず、光ファイバ型回折格子４４を両側か
ら引っ張ってたるみを取り除く。次に、マイクロバーナ
５０によるバーナ火炎で、直接、回折格子領域を加熱し
ながら、光ファイバ型回折格子４４を両側から引っ張
り、回折格子領域を約１０ｍｍ延伸した。これにより、
回折格子領域の光軸に沿った長さは、約１４ｍｍとなっ
た。

【００４４】なお、マイクロバーナ５０には、同心円状
バーナ５１とマルチノズルバーナ５２の２種類がある。
図７、図８は同心円状バーナ５１及びマルチノズルバー
ナ５２のガス噴出ノズルの先端面をそれぞれ示した図で
ある。

【００４５】図７に示されるように、同心円状バーナ５
１は、噴出口５２からＯ₂ ガスを、また、噴出口５３か
ら燃焼ガスとしてＨ₂ 、ＣＨ₄ 、Ｃ₃ Ｈ₈ 等の気体を噴
出し、点火によりバーナ火炎を放射する。マルチノズル
バーナ５４の場合もほぼ同様だが、この場合は複数の小
噴出口５５からＯ₂ ガスが噴出される。

【００４６】また、光ファイバ型回折格子４４の溶解に
よる断線を防止しつつ、適切な延伸を行うためには、加
熱温度は約１２００℃〜１７００℃程度が好ましい。ま
た、引張張力は、加熱温度によって多少変動するもの
の、約３〜１０ｇ程度が好ましいと思われる。なお、本
実施例では、引張張力は約５ｇであった。

【００４７】上記のように光ファイバ型回折格子４４の
回折格子領域を加熱延伸することで、回折格子４３に、
格子間隔が光軸に沿って徐々に変化する部分が形成され
る。こうして、図１の光ファイバ型回折格子４６が完成
する。なお、加熱延伸する際にドーパントの拡散も生じ
ると考えられるが、加熱延伸に要する時間は短いのでほ
とんど無視することができる。

【００４８】図９は、光ファイバ型回折格子４６のコア
４１について、光軸に沿った屈折率分布を示した図であ
る。この図からも、光ファイバ型回折格子４６が回折格
子領域において格子間隔が拡大した部分を有しており、
この部分では光軸に沿って格子間隔が徐々に変化してい
ることは明らかである。

【００４９】本実施例で作製した光ファイバ型回折格子
４６は、そのコア４１に形成された回折格子４５の格子
間隔が光軸に沿って徐々に拡がる領域を有している。光
ファイバ型回折格子の反射波長λ_R は、既に述べたよう
に、λ_R ＝２・ｎ₁ ・Λ（ｎ₁ は紫外光照射前のコアの
屈折率を、Λは格子間隔を表す）で示される。この式か
ら明らかなように、反射波長λ_R は回折格子の格子間隔
Λに依存し、格子間隔Λが大きいほど反射波長λ_R も大
きくなる。したがって、回折格子領域の一端から一定の
波長幅を有する光が進行してきた場合、長波長の光ほど
光路が長くなる。このため、光ファイバ型回折格子４６
を伝送路に挿入すれば、長波長の信号光ほど速く伝搬す
る条件の下で生じる波長分散を補償することができる。

【００５０】また、図１０は、本実施例で作製した光フ
ァイバ型回折格子４６の反射スペクトルを示すグラフで
ある。反射スペクトルの測定方法は、等格子間隔の光フ
ァイバ型回折格子４４について測定した場合と同様であ
る。図１０と図４を比較すれば明らかなように、本実施
例で作製した光ファイバ型回折格子４６の反射スペクト
ルは、等格子間隔の光ファイバ型回折格子４４に較べ
て、長波長側に拡がっている。

【００５１】このため、本実施例の光ファイバ型回折格
子４６は、波長幅を持った光を反射する反射フィルター
として用いることもできる。例えば、既存のレーザ光源
から出射した波長１．３μｍのレーザ光は、通常は１．
２９〜１．３１μｍ程度のスペクトル幅を持った光であ
るので、このような光を反射するには、幅広の反射スペ
クトルを示す光ファイバ型回折格子４６が有用である。

【００５２】また、図１１は、本実施例の方法による光
ファイバ型回折格子４４の回折格子領域の延伸長と、延
伸により作製された光ファイバ型回折格子４６の反射ス
ペクトル幅との関係を示したグラフである。このグラフ
に示されるように、本実施例の方法によれば、回折格子
領域を延伸することで、反射スペクトル幅を３ｎｍ程度
まで拡げることが可能である。

【００５３】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、様々な変形が可能である。例えば、上記実
施例ではホログラフィック干渉法を用いて紫外光を光フ
ァイバ４０に照射したが、代わりに位相格子法を用いる
こともできる。

【００５４】図１２は、位相格子法を説明するための図
である。まず、光ファイバ４０に干渉手段２０たる位相
格子２２を密着固定する。位相格子２２には、等間隔で
溝を形成した石英板を用いることができる。位相格子２
２の溝は、リソグラフィーと化学エッチングにより形成
できるため、格子間隔は自由に選択でき、複雑な形状も
可能である。

【００５５】次に、例えばＫｒＦエキシマレーザ光源１
２（紫外光光源１０）をパルス光源として用い、波長２
４８ｎｍの所定強度の紫外域パルス光を所定の周波数で
出力させ、図１２の様に位相格子の上面から所定時間照
射する。なお、紫外光は連続発振させてもよい。

【００５６】紫外光が位相格子２２を透過すると、所定
間隔の干渉縞が形成され、紫外光は干渉縞を形成しなが
らクラッド４７を透過してコア４１に入射するので、等
間隔に屈折率変化部４２が配列され、等間隔の回折格子
４３がコア４１に形成される。こうして、等格子間隔の
回折格子４３を有する光ファイバ型回折格子４４が完成
する。

【００５７】また、上記実施例では、コアのみに酸化ゲ
ルマニウムがドープされた光ファイバに紫外光を照射し
て、コアのみに回折格子を形成したが、コアだけでなく
クラッドにも酸化ゲルマニウムがドープされた光ファイ
バに紫外光を照射して、コアとクラッドの双方に回折格
子を有する光ファイバ型回折格子を作製し、この光ファ
イバ型回折格子の回折格子領域を延伸しても良い。この
様にして作製された光ファイバ型回折格子は、実施例の
ものと同様の効果を有するとともに、コア及びクラッド
の双方に回折格子を有するので、高い反射率を示す。

【００５８】さらに、本実施例では回折格子領域の加熱
をマイクロバーナを用いて行ったが、代わりに放電電極
やヒーターなどを用いることもできる。

【００５９】

【発明の効果】以上、詳細に説明した通り、本発明の光
ファイバ型回折格子の作製方法によれば、等格子間隔の
光ファイバ型回折格子の回折格子領域が延伸され、延伸
の程度に応じて格子間隔が拡大されるので、格子間隔が
光軸に沿って徐々に変化する部分を有する光ファイバ型
回折格子が作製される。光ファイバ型回折格子の反射波
長は、コアの屈折率と格子間隔とに依存するので、格子
間隔が光軸に沿って徐々に変化すれば、反射波長も光軸
に沿って連続的に変化する。したがって、本発明の方法
により、反射波長が光軸に沿って連続的に変化する光フ
ァイバ型回折格子が作製される。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例の作製工程を示す図である。

【図２】本実施例で用いた紫外光の照射方法の説明図で
ある。

【図３】光ファイバ４０への紫外光の照射を示した図で
ある。

【図４】光ファイバ型回折格子４４のコア４１につい
て、光軸に沿った屈折率分布を示した図である。

【図５】光ファイバ型回折格子４４の反射スペクトルを
示した図である。

【図６】光ファイバ型回折格子４４の回折格子領域を加
熱延伸する様子を示した図である。

【図７】同心円状バーナ５１のガス噴出ノズルの先端面
を示した図である。

【図８】マルチノズルバーナ５２のガス噴出ノズルの先
端面を示した図である。

【図９】光ファイバ型回折格子４６のコア４１につい
て、光軸に沿った屈折率分布を示した図である。

【図１０】光ファイバ型回折格子４６の反射スペクトル
を示した図である。

【図１１】光ファイバ型回折格子４４の回折格子領域の
延伸長と、光ファイバ型回折格子４６の反射スペクトル
幅との関係を示したグラフである。

【図１２】位相格子法による紫外光照射の説明図であ
る。

【符号の説明】

１０…紫外光光源、２０…干渉手段、２１ａ…ビームス
プリッタ、２１ｂ，２１ｃ…反射鏡、２２…位相格子、
３０…干渉領域、４０…光ファイバ、４１…コア、４２
…屈折率変部、４３，４５…回折格子、４４，４６…光
ファイバ型回折格子、４７…クラッド。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 茂原 政一 神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光導波部であるコアと、このコアに接し
   ていてこのコアより低屈折率のクラッドとを有し、複数
   の屈折率変化部が光軸に沿って等間隔に配列された回折
   格子領域を有する光ファイバ型回折格子を用意する第一
   の工程と、 前記回折格子領域の少なくとも一部を延伸する第二の工
   程と、 を備える光ファイバ型回折格子の作製方法。
2. 【請求項２】 前記第二の工程は、前記回折格子領域の
   少なくとも一部を加熱する処理を含むことを特徴とする
   請求項１記載の光ファイバ型回折格子の作製方法。
3. 【請求項３】 酸化ゲルマニウムがドープされたコア
   と、このコアよりも低屈折率のクラッドとを備えるガラ
   ス光ファイバを用意する第一の工程と、 前記ガラス光ファイバに紫外光を照射し、前記コアにお
   いて光軸に沿って等間隔に位置する複数の部分に紫外光
   を入射せしめて、複数の屈折率変化部が光軸に沿って等
   間隔に配列された回折格子領域を形成する第二の工程
   と、 前記回折格子領域の少なくとも一部を延伸する第三の工
   程と、 を備えることを特徴とする光ファイバ型回折格子の作製
   方法。