JPH07191210A - 光導波路型回折格子の作製方法 - Google Patents
光導波路型回折格子の作製方法Info
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- JPH07191210A JPH07191210A JP5332380A JP33238093A JPH07191210A JP H07191210 A JPH07191210 A JP H07191210A JP 5332380 A JP5332380 A JP 5332380A JP 33238093 A JP33238093 A JP 33238093A JP H07191210 A JPH07191210 A JP H07191210A
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- diffraction grating
- core
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 反射率の十分大きい光導波路型回折格子を容
易に作製する方法を提供する。 【構成】 紫外光を干渉させることにより干渉縞を生じ
させ、この干渉縞を生じさせた紫外光を、酸水素火炎に
より加熱したガラス光導波路に照射する。ゲルマニウム
がドープされたコアに紫外光が入射すると、主として、
紫外光の干渉縞のうち光強度の大きい部分がコアの屈折
率に変化を生じさせるので、コアに周期的な屈折率変化
が生じる。その結果、光導波路内に、干渉縞のピッチに
依存して決まる所定ピッチの回折格子が形成される。酸
水素火炎による加熱処理を施したことにより、コア内の
酸素欠損型の欠陥が増えているので、紫外光の照射によ
るコアの屈折率変化も大きくなり、得られる光導波路型
回折格子の反射率が格段に上昇する。
易に作製する方法を提供する。 【構成】 紫外光を干渉させることにより干渉縞を生じ
させ、この干渉縞を生じさせた紫外光を、酸水素火炎に
より加熱したガラス光導波路に照射する。ゲルマニウム
がドープされたコアに紫外光が入射すると、主として、
紫外光の干渉縞のうち光強度の大きい部分がコアの屈折
率に変化を生じさせるので、コアに周期的な屈折率変化
が生じる。その結果、光導波路内に、干渉縞のピッチに
依存して決まる所定ピッチの回折格子が形成される。酸
水素火炎による加熱処理を施したことにより、コア内の
酸素欠損型の欠陥が増えているので、紫外光の照射によ
るコアの屈折率変化も大きくなり、得られる光導波路型
回折格子の反射率が格段に上昇する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光フィルター等として
利用される光導波路型回折格子の作製方法に関するもの
である。
利用される光導波路型回折格子の作製方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】近年の光導波路通信技術の進展ととも
に、通信システムの構成も高度化しつつあるが、この様
な通信システムでは、特定波長の光を反射するような光
フィルターが重要な部品となってくる。
に、通信システムの構成も高度化しつつあるが、この様
な通信システムでは、特定波長の光を反射するような光
フィルターが重要な部品となってくる。
【０００３】光導波路を利用した光フィルターのうち光
ファイバ型のフィルターは、小型である上に通信用光フ
ァイバとの接続が容易であるという利点がある。このよ
うなファイバ型のフィルターとしては、例えば、光ファ
イバに溝を切り、多層膜フィルターを埋め込んだタイプ
が実用化されている。
ファイバ型のフィルターは、小型である上に通信用光フ
ァイバとの接続が容易であるという利点がある。このよ
うなファイバ型のフィルターとしては、例えば、光ファ
イバに溝を切り、多層膜フィルターを埋め込んだタイプ
が実用化されている。
【０００４】しかし、このようなファイバ型フィルター
は、作製に当たって高い加工精度が要求されるため、生
産性に乏しい。また、反射率も一般に低く、十分な性能
を有していなかった。
は、作製に当たって高い加工精度が要求されるため、生
産性に乏しい。また、反射率も一般に低く、十分な性能
を有していなかった。
【０００５】これに対し、光導波路のコアに周期的な屈
折率変化を与えて、光導波路の内部に回折格子を設けた
光導波路型回折格子を光フィルターとして用いることも
できる。
折率変化を与えて、光導波路の内部に回折格子を設けた
光導波路型回折格子を光フィルターとして用いることも
できる。
【０００６】このような光導波路型回折格子の作製方法
としては、特許出願公表昭６２−５０００５２に記載の
ものが知られている。これは、酸化ゲルマニウムを添加
して高屈折率のコアを形成した石英ガラス光ファイバに
強力な紫外光を照射する方法で、この紫外光の照射によ
り、コアに周期的な屈折率変化が与えられ、回折格子が
形成される。この様にして得られた光ファイバ型回折格
子は、特定波長の光を反射する反射フィルターとして利
用することができる。
としては、特許出願公表昭６２−５０００５２に記載の
ものが知られている。これは、酸化ゲルマニウムを添加
して高屈折率のコアを形成した石英ガラス光ファイバに
強力な紫外光を照射する方法で、この紫外光の照射によ
り、コアに周期的な屈折率変化が与えられ、回折格子が
形成される。この様にして得られた光ファイバ型回折格
子は、特定波長の光を反射する反射フィルターとして利
用することができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の作製方
法では、コアに生じる屈折率変化が小さいため、得られ
る光導波路型回折格子の反射率を十分に大きくするのが
難しいという問題点があった。
法では、コアに生じる屈折率変化が小さいため、得られ
る光導波路型回折格子の反射率を十分に大きくするのが
難しいという問題点があった。
【０００８】本発明は、上記の問題点を解決するために
なされたもので、反射率の十分大きい光導波路型回折格
子を容易に作製する方法を提供することを目的とする。
なされたもので、反射率の十分大きい光導波路型回折格
子を容易に作製する方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明の光導波路型回折格子の作製方法は、紫
外光を干渉させることにより干渉縞を生じさせ、この干
渉縞を生じさせた紫外光を、酸水素火炎により加熱した
ガラス光導波路に照射して、ガラス光導波路のコアに所
定ピッチの回折格子を形成することを特徴としている。
ために、本発明の光導波路型回折格子の作製方法は、紫
外光を干渉させることにより干渉縞を生じさせ、この干
渉縞を生じさせた紫外光を、酸水素火炎により加熱した
ガラス光導波路に照射して、ガラス光導波路のコアに所
定ピッチの回折格子を形成することを特徴としている。
【００１０】なお、ガラス光導波路には、石英（ＳｉＯ
2 ）を主成分とする石英ガラス光導波路や、石英を主体
に、Ｎａ2 Ｏ、ＣａＯ、Ｂ2 ０3 等を加えたガラスから
なる多成分ガラス光導波路が含まれる。また、光導波路
とは、コアとクラッドとの屈折率差を利用して光を一定
領域に閉じ込めて伝送する回路または線路をいい、光フ
ァイバや薄膜導波路等がある。
2 ）を主成分とする石英ガラス光導波路や、石英を主体
に、Ｎａ2 Ｏ、ＣａＯ、Ｂ2 ０3 等を加えたガラスから
なる多成分ガラス光導波路が含まれる。また、光導波路
とは、コアとクラッドとの屈折率差を利用して光を一定
領域に閉じ込めて伝送する回路または線路をいい、光フ
ァイバや薄膜導波路等がある。
【００１１】ここで、紫外光の干渉縞は、２本のコヒー
レントな紫外光を、ガラス光導波路の側面から、ガラス
光導波路の光軸に対し互いに補角の関係にある角度をも
ってそれぞれ照射することにより生じさせてもよい。ま
た、この他にも、位相格子をガラス光導波路に隣接させ
て固定し、紫外光を位相格子を透過させてガラス光導波
に照射することにより生じさてもよい。
レントな紫外光を、ガラス光導波路の側面から、ガラス
光導波路の光軸に対し互いに補角の関係にある角度をも
ってそれぞれ照射することにより生じさせてもよい。ま
た、この他にも、位相格子をガラス光導波路に隣接させ
て固定し、紫外光を位相格子を透過させてガラス光導波
に照射することにより生じさてもよい。
【００１２】また、上記の光導波路型回折格子の作製方
法では、酸水素火炎による加熱を、約５００〜約１５０
０℃の加熱温度の下に行ってもよい。
法では、酸水素火炎による加熱を、約５００〜約１５０
０℃の加熱温度の下に行ってもよい。
【００１３】また、ガラス光導波路は、石英を主成分と
するガラスから構成され、さらに、ガラス光導波路のコ
ア部は、石英を主成分とするガラスに酸化ゲルマニウム
を添加したものであってもよい。
するガラスから構成され、さらに、ガラス光導波路のコ
ア部は、石英を主成分とするガラスに酸化ゲルマニウム
を添加したものであってもよい。
【００１４】
【作用】本発明では、紫外光は干渉させられ、干渉縞を
形成しながらガラス光導波路のコアに入射する。ガラス
光導波路のコアには、屈折率を高めるドーパントがドー
プされている。そして、このようなドーパントとして
は、例えばゲルマニウムがある。
形成しながらガラス光導波路のコアに入射する。ガラス
光導波路のコアには、屈折率を高めるドーパントがドー
プされている。そして、このようなドーパントとして
は、例えばゲルマニウムがある。
【００１５】ゲルマニウムがドープされたコアに紫外光
が入射すると、主として、紫外光の干渉縞のうち光強度
の大きい部分がコアの屈折率に変化を生じさせるので、
コアに周期的な屈折率変化が生じる。その結果、光導波
路内に、干渉縞のピッチに依存して決まる所定ピッチの
回折格子が形成される。こうして、光導波路型回折格子
が完成する。
が入射すると、主として、紫外光の干渉縞のうち光強度
の大きい部分がコアの屈折率に変化を生じさせるので、
コアに周期的な屈折率変化が生じる。その結果、光導波
路内に、干渉縞のピッチに依存して決まる所定ピッチの
回折格子が形成される。こうして、光導波路型回折格子
が完成する。
【００１６】ここで、ゲルマニウムがドープされたコア
に紫外光が入射することで、その屈折率が変化するメカ
ニズムは、ゲルマニウムの酸素欠損型の欠陥に起因す
る。この欠陥は、波長２４０〜２５０ｎｍの紫外光を吸
収するが、この吸収によりゲルマニウム−シリコン間の
結合が切れることに起因して、新たな欠陥が生じる。こ
の新しい欠陥は、波長２１０ｎｍおよび２８０ｎｍ付近
に吸収帯を形成する。そのため、クラマース・クローニ
ッヒの関係に従いガラスの屈折率が変化する。
に紫外光が入射することで、その屈折率が変化するメカ
ニズムは、ゲルマニウムの酸素欠損型の欠陥に起因す
る。この欠陥は、波長２４０〜２５０ｎｍの紫外光を吸
収するが、この吸収によりゲルマニウム−シリコン間の
結合が切れることに起因して、新たな欠陥が生じる。こ
の新しい欠陥は、波長２１０ｎｍおよび２８０ｎｍ付近
に吸収帯を形成する。そのため、クラマース・クローニ
ッヒの関係に従いガラスの屈折率が変化する。
【００１７】本発明者らの知見によれば、水素を含む高
温雰囲気中でガラスを処理することでゲルマニウムの酸
素欠損型の欠陥が増加する。本発明はこれに基き、実用
的な処理形態として酸水素火炎による加熱処理を施した
ガラス光導波路を用いる。
温雰囲気中でガラスを処理することでゲルマニウムの酸
素欠損型の欠陥が増加する。本発明はこれに基き、実用
的な処理形態として酸水素火炎による加熱処理を施した
ガラス光導波路を用いる。
【００１８】なお、加熱の際に、加熱温度が低すぎると
十分な効果が得られず、高すぎると光導波路を構成する
ガラスが溶ける危険性があるので、加熱温度は約５００
〜約１５００℃が望ましい。
十分な効果が得られず、高すぎると光導波路を構成する
ガラスが溶ける危険性があるので、加熱温度は約５００
〜約１５００℃が望ましい。
【００１９】酸水素火炎による加熱によりゲルマニウム
の酸素欠損型の欠陥が増加すれば、新たに生じるゲルマ
ニウムの欠陥の数も増加する。これに伴い、コアの屈折
率変化が、従来の１０-5程度から１０-4〜１０-3程度に
大きくなるので、本発明の作製方法により得られる光導
波路型回折格子の反射率も格段に上昇する。
の酸素欠損型の欠陥が増加すれば、新たに生じるゲルマ
ニウムの欠陥の数も増加する。これに伴い、コアの屈折
率変化が、従来の１０-5程度から１０-4〜１０-3程度に
大きくなるので、本発明の作製方法により得られる光導
波路型回折格子の反射率も格段に上昇する。
【００２０】また、本発明の作製方法は、光導波路の組
成を通常の通信用光導波路と異ならせるものではない。
したがって、得られる光導波路型回折格子は、通信用光
導波路に容易に接続することができ、光フィルタ等の光
機能部品としての使用が容易である。
成を通常の通信用光導波路と異ならせるものではない。
したがって、得られる光導波路型回折格子は、通信用光
導波路に容易に接続することができ、光フィルタ等の光
機能部品としての使用が容易である。
【００２１】
【実施例】以下、添付図面を参照しながら本発明の実施
例を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の
要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
例を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の
要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００２２】第１の実施例について説明する。本実施例
では、回折格子を形成するガラス光導波路として光ファ
イバを用いた。
では、回折格子を形成するガラス光導波路として光ファ
イバを用いた。
【００２３】まず、コアにゲルマニウムが約１０ｗｔ％
含まれるよう酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ2 ）がドープさ
れた石英ガラス光ファイバを用意する。次いで、この光
ファイバのうち回折格子を形成する部分をバーナーの酸
水素火炎で約２０分間加熱する。加熱温度は、約１３０
０℃とした。
含まれるよう酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ2 ）がドープさ
れた石英ガラス光ファイバを用意する。次いで、この光
ファイバのうち回折格子を形成する部分をバーナーの酸
水素火炎で約２０分間加熱する。加熱温度は、約１３０
０℃とした。
【００２４】次に、上記の加熱処理を施した光ファイバ
に、干渉縞を生じさせながら紫外光を照射する。図１
は、この照射方法を説明するための図である。
に、干渉縞を生じさせながら紫外光を照射する。図１
は、この照射方法を説明するための図である。
【００２５】図１に示されるように、紫外光光源１０か
ら出力された紫外光は、干渉手段２０により干渉させら
れ、干渉縞を生じながら光ファイバ４０に照射される。
ら出力された紫外光は、干渉手段２０により干渉させら
れ、干渉縞を生じながら光ファイバ４０に照射される。
【００２６】本実施例では、ホログラフィック干渉法を
用いて光ファイバ型回折格子を作製した。干渉手段は、
図１のように、ビームスプリッタと、反射鏡とから構成
される。また、紫外光光源１０としては、アルゴンレー
ザ光源１１を用いた。
用いて光ファイバ型回折格子を作製した。干渉手段は、
図１のように、ビームスプリッタと、反射鏡とから構成
される。また、紫外光光源１０としては、アルゴンレー
ザ光源１１を用いた。
【００２７】ホログラフィック干渉法について説明する
と、まず、アルゴンレーザ光源１１から連続発振された
２４４ｎｍのコヒーレントな紫外光は、ビームスプリッ
タにより２光束に分岐させられる。分岐させられた各光
束は、それぞれ反射鏡２１ｂ、２１ｃによって反射さ
れ、コア４１の軸に対し互いに補角の関係にある１５．
８゜（図１におけるα）、１６４．２゜（図１における
１８０゜−α）の角度をもって光ファイバに照射され
る。照射は４０分間続けた。なお、照射する紫外光は、
パルス発振されたものであってもよい。
と、まず、アルゴンレーザ光源１１から連続発振された
２４４ｎｍのコヒーレントな紫外光は、ビームスプリッ
タにより２光束に分岐させられる。分岐させられた各光
束は、それぞれ反射鏡２１ｂ、２１ｃによって反射さ
れ、コア４１の軸に対し互いに補角の関係にある１５．
８゜（図１におけるα）、１６４．２゜（図１における
１８０゜−α）の角度をもって光ファイバに照射され
る。照射は４０分間続けた。なお、照射する紫外光は、
パルス発振されたものであってもよい。
【００２８】これにより、各光束は干渉領域３０にて干
渉し、所定ピッチの干渉縞を形成しつつ、光ファイバに
照射され、コア４１に入射するので、干渉縞のピッチに
依存して決まる所定ピッチの回折格子がコア４１に形成
される。こうして、光ファイバ型回折格子が完成する。
渉し、所定ピッチの干渉縞を形成しつつ、光ファイバに
照射され、コア４１に入射するので、干渉縞のピッチに
依存して決まる所定ピッチの回折格子がコア４１に形成
される。こうして、光ファイバ型回折格子が完成する。
【００２９】紫外光の波長λおよび紫外光の入射角度θ
＝９０゜−αを調節することにより、所望ピッチの干渉
縞を形成することができるので、所定ピッチの光ファイ
バ型回折格子を形成することが可能である。
＝９０゜−αを調節することにより、所望ピッチの干渉
縞を形成することができるので、所定ピッチの光ファイ
バ型回折格子を形成することが可能である。
【００３０】なお、作製する光ファイバ型回折格子のピ
ッチは、この回折格子により反射しようとする光の波長
に応じて決められる。第１の実施例では、この反射波長
を１３００ｎｍに設定した。
ッチは、この回折格子により反射しようとする光の波長
に応じて決められる。第１の実施例では、この反射波長
を１３００ｎｍに設定した。
【００３１】本発明者らは、上記のようにして作製され
た光ファイバ型回折格子について、その反射スペクトル
を測定した。その結果、本実施例で作製された光ファイ
バ型回折格子の反射波長は約１３００ｎｍ、反射率は約
９５％であり、良好な特性が得られていることが確認さ
れた。なお、回折格子の反射波長は、作製する光ファイ
バ型回折格子のピッチを調節することにより、任意に選
択できる。
た光ファイバ型回折格子について、その反射スペクトル
を測定した。その結果、本実施例で作製された光ファイ
バ型回折格子の反射波長は約１３００ｎｍ、反射率は約
９５％であり、良好な特性が得られていることが確認さ
れた。なお、回折格子の反射波長は、作製する光ファイ
バ型回折格子のピッチを調節することにより、任意に選
択できる。
【００３２】次に、第２の実施例について説明する。図
２は、第２実施例の作製方法を説明するための図であ
る。本実施例では、第１実施例のホログラフィック干渉
法の代わりに、位相格子により紫外光を干渉させる位相
格子法が用いられている。
２は、第２実施例の作製方法を説明するための図であ
る。本実施例では、第１実施例のホログラフィック干渉
法の代わりに、位相格子により紫外光を干渉させる位相
格子法が用いられている。
【００３３】まず、実施例１と同様に、コア４１にゲル
マニウムが約１０ｗｔ％含まれるよう酸化ゲルマニウム
（ＧｅＯ2 ）がドープされた石英ガラス光ファイバ４０
を用意し、次いで、この光ファイバ４０のうち回折格子
を形成する部分をバーナーの酸水素火炎にて加熱する。
加熱時間は約３０分、加熱温度は約９００℃とした。
マニウムが約１０ｗｔ％含まれるよう酸化ゲルマニウム
（ＧｅＯ2 ）がドープされた石英ガラス光ファイバ４０
を用意し、次いで、この光ファイバ４０のうち回折格子
を形成する部分をバーナーの酸水素火炎にて加熱する。
加熱時間は約３０分、加熱温度は約９００℃とした。
【００３４】次に、加熱処理を施した光ファイバ４０上
に干渉手段２０たる位相格子２２を密着固定する。位相
格子２２には、１０２９ｎｍ間隔で溝を形成した石英板
を用いた。なお、位相格子２２は、リソグラフィーと化
学エッチングにより作製できるため、格子間隔は自由に
選択でき、複雑な形状も可能である。
に干渉手段２０たる位相格子２２を密着固定する。位相
格子２２には、１０２９ｎｍ間隔で溝を形成した石英板
を用いた。なお、位相格子２２は、リソグラフィーと化
学エッチングにより作製できるため、格子間隔は自由に
選択でき、複雑な形状も可能である。
【００３５】次に、ＫｒＦエキシマレーザ光源１２（紫
外光光源１０）をパルス光源として用い、波長２４８ｎ
ｍ、エネルギー１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外域パルス光を
１０Ｈｚの周波数で出力させ、位相格子の上面から約５
分間照射した。ここで、第１実施例よりも照射時間が短
いのは、ＫｒＦエキシマレーザのパルス光の強度が大き
いためである。なお、照射する紫外光は、連続発振され
たものであってもよい。
外光光源１０）をパルス光源として用い、波長２４８ｎ
ｍ、エネルギー１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外域パルス光を
１０Ｈｚの周波数で出力させ、位相格子の上面から約５
分間照射した。ここで、第１実施例よりも照射時間が短
いのは、ＫｒＦエキシマレーザのパルス光の強度が大き
いためである。なお、照射する紫外光は、連続発振され
たものであってもよい。
【００３６】紫外域パルス光が位相格子２２を透過する
と、所定ピッチの干渉縞が形成される。そして、紫外域
パルス光は干渉縞を形成しながらコア４１に入射するの
で、干渉縞のピッチに依存して決まる所定ピッチの回折
格子がコア４１に形成される。こうして、光ファイバ型
回折格子が完成する。
と、所定ピッチの干渉縞が形成される。そして、紫外域
パルス光は干渉縞を形成しながらコア４１に入射するの
で、干渉縞のピッチに依存して決まる所定ピッチの回折
格子がコア４１に形成される。こうして、光ファイバ型
回折格子が完成する。
【００３７】紫外光が形成する干渉縞は、図２に示され
る紫外域パルス光の入射角θを調節することで、所望の
ピッチを有するようにすることができる。したがって、
光ファイバ型回折格子も、所望のピッチを有するように
形成できる。
る紫外域パルス光の入射角θを調節することで、所望の
ピッチを有するようにすることができる。したがって、
光ファイバ型回折格子も、所望のピッチを有するように
形成できる。
【００３８】上記のようにして作製した光ファイバ型回
折格子について、その反射スペクトルを測定した。その
結果、本実施例で作製された光ファイバ型回折格子の反
射波長は約１５００ｎｍ、反射率は約９０％であり、第
１実施例と同様、良好な特性を示した。なお、第１実施
例と同様、回折格子の反射波長は、作製する光ファイバ
型回折格子のピッチを調節することにより、任意に選択
できる。
折格子について、その反射スペクトルを測定した。その
結果、本実施例で作製された光ファイバ型回折格子の反
射波長は約１５００ｎｍ、反射率は約９０％であり、第
１実施例と同様、良好な特性を示した。なお、第１実施
例と同様、回折格子の反射波長は、作製する光ファイバ
型回折格子のピッチを調節することにより、任意に選択
できる。
【００３９】本発明者らは、上記実施例との比較のた
め、酸水素火炎による加熱処理を施さずに光ファイバ型
回折格子を作製し、その反射スペクトルを測定した。
め、酸水素火炎による加熱処理を施さずに光ファイバ型
回折格子を作製し、その反射スペクトルを測定した。
【００４０】作製方法について述べると、まず、コアに
ゲルマニウムが１０ｗｔ％含まれる光ファイバを用意
し、次に、実施例１と同様のホログラフィック干渉法に
より光ファイバ内に回折格子を形成した。
ゲルマニウムが１０ｗｔ％含まれる光ファイバを用意
し、次に、実施例１と同様のホログラフィック干渉法に
より光ファイバ内に回折格子を形成した。
【００４１】こうして作製された光ファイバ型回折格子
の反射スペクトルを測定したところ、反射波長は約１３
００ｎｍ、反射率は約５％であり、酸水素火炎による加
熱処理を施して作製された実施例１の光ファイバ型回折
格子に比べ、反射率は格段に低かった。
の反射スペクトルを測定したところ、反射波長は約１３
００ｎｍ、反射率は約５％であり、酸水素火炎による加
熱処理を施して作製された実施例１の光ファイバ型回折
格子に比べ、反射率は格段に低かった。
【００４２】本発明は上記実施例に限定されるものでは
なく、様々な変形が可能である。例えば、回折格子を形
成する光導波路は、光ファイバに限られず、例えば基板
上に薄膜を積層してクラッドと、これより高屈折率のコ
アを形成してなる薄膜導波路であっても良い。このよう
な薄膜導波路であっても、光ファイバの場合と同様に、
ホログラフィック干渉法や位相格子法により光導波路型
回折格子を作製することができる。
なく、様々な変形が可能である。例えば、回折格子を形
成する光導波路は、光ファイバに限られず、例えば基板
上に薄膜を積層してクラッドと、これより高屈折率のコ
アを形成してなる薄膜導波路であっても良い。このよう
な薄膜導波路であっても、光ファイバの場合と同様に、
ホログラフィック干渉法や位相格子法により光導波路型
回折格子を作製することができる。
【００４３】
【発明の効果】以上、詳細に説明した通り、本発明の光
導波路型回折格子の作製方法では、酸水素火炎による加
熱処理を施してコア内の酸素欠損型の欠陥を増やしたガ
ラス光導波路を用いるので、紫外光の照射によるコアの
屈折率変化が大きくなり、得られる光導波路型回折格子
の反射率が格段に上昇する。したがって、高反射率の光
導波路型回折格子を容易に作製できる。また、本発明の
作製方法は、光導波路の組成を通常の通信用光導波路と
異ならせるものではないので、通信用光導波路に接続す
ることが容易な光導波路型回折格子を作製することがで
きる。したがって、本発明によれば、光フィルター等の
光機能部品として好適な使用が可能な高反射率の光導波
路型回折格子を容易に得ることができる。
導波路型回折格子の作製方法では、酸水素火炎による加
熱処理を施してコア内の酸素欠損型の欠陥を増やしたガ
ラス光導波路を用いるので、紫外光の照射によるコアの
屈折率変化が大きくなり、得られる光導波路型回折格子
の反射率が格段に上昇する。したがって、高反射率の光
導波路型回折格子を容易に作製できる。また、本発明の
作製方法は、光導波路の組成を通常の通信用光導波路と
異ならせるものではないので、通信用光導波路に接続す
ることが容易な光導波路型回折格子を作製することがで
きる。したがって、本発明によれば、光フィルター等の
光機能部品として好適な使用が可能な高反射率の光導波
路型回折格子を容易に得ることができる。
【図１】ホログラフィック干渉法により光ファイバに紫
外光が照射される様子を示した図である。
外光が照射される様子を示した図である。
【図２】位相格子法により光ファイバに紫外光が照射さ
れる様子を示した図である。
れる様子を示した図である。
１０…紫外光光源、２０…干渉手段、２１ａ…ビームス
プリッタ、２１ｂ，２１ｃ…反射鏡、２２…位相格子、
３０…干渉領域、４０…光ファイバ、４１…コア。
プリッタ、２１ｂ，２１ｃ…反射鏡、２２…位相格子、
３０…干渉領域、４０…光ファイバ、４１…コア。
Claims (5)
- 【請求項１】 紫外光を干渉させることにより干渉縞を
生じさせ、この干渉縞を生じさせた紫外光を、酸水素火
炎により加熱したガラス光導波路に照射して、前記ガラ
ス光導波路のコアに所定ピッチの回折格子を形成するこ
とを特徴とする光導波路型回折格子の作製方法。 - 【請求項２】 前記干渉縞は、２本のコヒーレントな紫
外光を、前記ガラス光導波路の側面から、前記ガラス光
導波路の光軸に対し互いに補角の関係にある角度をもっ
てそれぞれ照射することにより生じさせることを特徴と
する請求項１記載の光導波路型回折格子の作製方法。 - 【請求項３】 前記干渉縞は、位相格子を前記ガラス光
導波路に隣接させて固定し、紫外光を前記位相格子を透
過させて前記ガラス光導波に照射することにより生じさ
せることを特徴とする請求項１記載の光導波路型回折格
子の作製方法。 - 【請求項４】 前記酸水素火炎による加熱を、約５００
〜約１５００℃の加熱温度の下に行うことを特徴とする
請求項１記載の光導波路型回折格子の作製方法。 - 【請求項５】 前記ガラス光導波路は、石英を主成分と
するガラスから構成され、前記ガラス光導波路の前記コ
ア部は、前記石英を主成分とするガラスに酸化ゲルマニ
ウムを添加したものであることを特徴とする請求項１記
載の光導波路型回折格子の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5332380A JPH07191210A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 光導波路型回折格子の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5332380A JPH07191210A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 光導波路型回折格子の作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07191210A true JPH07191210A (ja) | 1995-07-28 |
Family
ID=18254322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5332380A Pending JPH07191210A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 光導波路型回折格子の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07191210A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08160240A (ja) * | 1994-12-09 | 1996-06-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | シリカ系光部品及びその製造方法 |
| US6246815B1 (en) | 1996-08-12 | 2001-06-12 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Grating element, light wavelength selection utilizing the same, and optical signal transmitting system |
| KR20020049493A (ko) * | 2000-12-19 | 2002-06-26 | 박호군 | 대면적 홀로그래픽 회절격자 생성방법 및 장치 |
| WO2011122633A1 (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-06 | 株式会社フジクラ | 光ファイバグレーティングの製造方法、光ファイバグレーティング及びファイバレーザ |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP5332380A patent/JPH07191210A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08160240A (ja) * | 1994-12-09 | 1996-06-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | シリカ系光部品及びその製造方法 |
| US6246815B1 (en) | 1996-08-12 | 2001-06-12 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Grating element, light wavelength selection utilizing the same, and optical signal transmitting system |
| KR20020049493A (ko) * | 2000-12-19 | 2002-06-26 | 박호군 | 대면적 홀로그래픽 회절격자 생성방법 및 장치 |
| WO2011122633A1 (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-06 | 株式会社フジクラ | 光ファイバグレーティングの製造方法、光ファイバグレーティング及びファイバレーザ |
| US8509271B2 (en) | 2010-03-30 | 2013-08-13 | Fujikura Ltd. | Method for manufacturing optical fiber grating, optical fiber grating, and fiber laser |
| JP5298238B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2013-09-25 | 株式会社フジクラ | 光ファイバグレーティングの製造方法、光ファイバグレーティング及びファイバレーザ |
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