JPH07242598A - 光学活性なα−ヒドロキシ−α−置換−β,γ−不飽和エステルの製造法 - Google Patents

光学活性なα−ヒドロキシ−α−置換−β,γ−不飽和エステルの製造法

Info

Publication number
JPH07242598A
JPH07242598A JP6055231A JP5523194A JPH07242598A JP H07242598 A JPH07242598 A JP H07242598A JP 6055231 A JP6055231 A JP 6055231A JP 5523194 A JP5523194 A JP 5523194A JP H07242598 A JPH07242598 A JP H07242598A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hydroxy
mmol
trans
alpha
phenylcyclohexyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6055231A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideyuki Sugimura
秀幸 杉村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Noguchi Institute
Original Assignee
Noguchi Institute
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Noguchi Institute filed Critical Noguchi Institute
Priority to JP6055231A priority Critical patent/JPH07242598A/ja
Publication of JPH07242598A publication Critical patent/JPH07242598A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】光学活性な−α−ヒドロキシ−α−置換−β,
γ−不飽和エステルの簡便な製造。 【構成】β,γ−不飽和−α−ケト(−)および(+)
−トランス−2−フェニルシクロヘキシルエステルに対
し有機亜鉛アート錯体を用いてそのαカルボニル基をア
ルキル化し光学活性なα−ヒドロキシ−α−置換−β,
γ−不飽和エステルを簡便に得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は医薬品や農薬の合成中間
体として有用な光学活性α−ヒドロキシ−α−置換−
β,γ−不飽和エステルの製造法に関するものである。
【0002】
【従来の方法】現在までに光学活性なα−ヒドロキシ−
α−置換−β,γ−不飽和エステルを製造するための一
般的な方法は未だ考案されていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】したがって、簡便な操
作によって光学活性なα−ヒドロキシ−α−置換−β,
γ−不飽和エステルが製造できれば、従来合成の困難で
あった複雑な構造をもつ医薬品や農薬の製造中間体を迅
速に提供する方法となることが期待される。
【0004】本発明は、この様な観点から光学活性なα
−ヒドロキシ−α−置換−β,γ−不飽和エステルの任
意のエナンチオマーを化学合成の手法によって簡便に製
造する方法を提供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、既に周知
の方法により得られるβ,γ−不飽和−α−ケトエステ
ルを不斉合成の手法を用いて光学活性なα−ヒドロキシ
−α−置換−β,γ−不飽和エステルへ変換する方法を
開発すべく研究を重ねた結果、下記化3の反応工程にお
いて、不斉補助剤として(−)または(+)−トランス
−2−フェニルシクロヘキシル基を用い、アルキル化剤
として有機亜鉛アート錯体を用いることで、ジアステレ
オ選択的なアルキル付加を可能とし、光学活性なα−ヒ
ドロキシ−α−置換−β,γ−不飽和エステルが得られ
ることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【化3】 (化3中、R1は、アルキル基、アリール基を示し、R2
はアルキル基、アリールメチル基、ビニル基、アリール
基を示し、R*は、不斉補助剤を示す。)
【0006】すなわち、本発明は一般式[1]で表され
るβ,γ−不飽和−α−ケトエステルを有機亜鉛アート
錯体で処理することによりαカルボニル基をジアステレ
オ選択的にアルキル化することを特徴とする一般式
[2]で示される光学活性なα−ヒドロキシ−α−置換
−β,γ−不飽和エステルの製造法に関するものであ
る。
【0007】以下、本発明について詳述する。本発明方
法における原料化合物であるβ,γ−不飽和−α−ケト
エステルは、一般式[1]で表されるものであるが、R
1の具体例としてはフェネチルなどのアルキル基、フェ
ニルなどのアリール基等を挙げることができる。R*
具体例としては、(−)−メンチル、(−)−8−フェ
ニルメンチル、(−)および(+)−トランス−2−フ
ェニルシクロヘキシル等の光学活性なアルコール類より
導かれる基を挙げることができる。
【0008】アルキル化剤は、有機亜鉛アート錯体が好
ましく、用いることのできる有機置換基としてはメチ
ル、エチル、ブチル、イソプロピル、イソブチルなどの
一級及び二級アルキル基やベンジル基、ビニル基、アリ
ール基を挙げることができ、その使用量は、一般式
[1]化合物中1モルに対して1モルから2モル、好ま
しくは1.5モルが用いられる。
【0009】有機亜鉛アート錯体は、無水塩化亜鉛にテ
トラヒドロフラン溶媒中、3倍モルのグリニャール試薬
またはアルキルリチウムを作用させて調製することがで
きる。
【0010】反応は、エーテル、テトラヒドロフランな
どのエーテル系溶媒を用いて実施し、反応温度は−10
0〜−40℃、好ましくは−78℃である。
【0011】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明を説明する。
NMRスペクトルは、JEOL社製EX−400を用い
て測定した。
【0012】
【実施例1】 (2R)−2−ヒドロキシ−2−メチル−4−フェニル
−3−ブテン酸(−)−トランス−2−フェニルシクロ
ヘキシルの製造
【0013】2−オキソ−4−フェニル−3−ブテン酸
(−)−トランス−2−フェニルシクロヘキシル100
mg(0.30mmol)のテトラヒドロフラン溶液
(6ml)に、−78℃にて塩化亜鉛62mg(0.4
5mmol)とメチルマグネシウムブロミド(ca.1
mol/l,1.26mmol)より調製した亜鉛アー
ト錯体を滴下し1時間攪はんする。飽和塩化アンモニウ
ム水を加えエーテルで抽出し、抽出液を乾燥後、濾過、
濃縮し薄層クロマトグラフィーにて精製し、標記化合物
を103mg(98%,R:S=98:2)で得る。1
HNMRにより構造を確認した。そのデータを以下に示
す。
【0014】1HNMR(CDCl3):δ= 1.34-1.65
(m, 4H), 1.40 (s, 3H), 1.75-1.85(m, 1H), 1.85-2.00
(m, 2H), 2.15-2.25 (m, 1H), 2.73 (dt, 1H, J=3.3,
12.2 Hz), 3.26 (s, 1H), 5.00 (dt, 1H, J=4.4, 10.8
Hz), 5.68 (d, 1H, J=15.6Hz), 6.52 (d, 1H, 15.6 H
z), 7.00-7.31 (m, 10H).
【0015】
【実施例2】 (2R)−2−ヒドロキシ−2−エチル−4−フェニル
−3−ブテン酸(−)−トランス−2−フェニルシクロ
ヘキシルの製造
【0016】実施例1と同様にして、塩化亜鉛62mg
(0.45mmol)とエチルマグネシウムブロミド
(ca.1mol/l,1.26mmol)より調製し
た亜鉛アート錯体を用いて標記化合物を得る(収率98
%,R:S=97:3)。1HNMRにより構造を確認
した。そのデータを以下に示す。
【0017】1HNMR(CDCl3):δ= 0.82 (t, 3
H, J=7.3 Hz), 1.28-1.67 (m, 5H),1.75-1.98 (m, 4H),
2.18-2.27 (m, 1H), 2.74 (dt, 1H, J=3.4, 12.2 Hz),
3.24 (s, 1H), 5.02 (dt, 1H, J=4.4, 10.3 Hz), 5.64
(d, 1H, J=16.1 Hz), 6.55(d, 1H, J=16.1 Hz), 6.99-
7.28 (m, 10 Hz).
【0018】
【実施例3】 (2R)−2−ヒドロキシ−2−イソプロピル−4−フ
ェニル−3−ブテン酸(−)−トランス−2−フェニル
シクロヘキシルの製造
【0019】実施例1と同様にして、塩化亜鉛62mg
(0.45mmol)とイソプロピルマグネシウムブロ
ミド(ca.1mol/l,1.26mmol)より調
製した亜鉛アート錯体を用いて標記化合物を得る(収率
68%,R:S=97:3)。1HNMRにより構造を
確認した。そのデータを以下に示す。
【0020】1HNMR(CDCl3):δ= 0.80 (dx2,
6H, J=6.3, 7.3 Hz), 1.26-1.60 (m, 5H), 1.78-1.96
(m, 2H), 2.02-2.08 (m, 1H), 2.18-2.30 (m, 1H), 2.7
5 (dt, 1H, J=3.9, 12.2 Hz), 3.15 (s, 1H), 5.02 (d
t, 1H, J=4.4, 10.7 Hz), 5.60 (d, 1H, J=15.6 Hz),
6.55 (d, 1H, J=15.6 Hz), 6.94-7.28 (m, 10H).
【0021】
【実施例4】 (2R)−2−ヒドロキシ−2−ブチル−4−フェニル
−3−ブテン酸(−)−トランス−2−フェニルシクロ
ヘキシルの製造
【0022】実施例1と同様にして、塩化亜鉛62mg
(0.45mmol)とブチルマグネシウムブロミド
(ca.1mol/l,1.26mmol)より調製し
た亜鉛アート錯体を用いて標記化合物を得る(収率96
%,R:S=98:2)。1HNMRにより構造を確認
した。そのデータを以下に示す。
【0023】1HNMR(CDCl3):δ= 0.86 (t, 3
H, J=7.3 Hz), 0.98-1.11 (m, 1H),1.21-1.62 (m, 8H),
1.72-1.83 (m, 2H), 1.86-1.98 (m, 2H), 2.18-2.27
(m,1H), 2.74 (dt, 1H, J=3.4, 12.2 Hz), 3.23 (s, 1
H), 5.02 (dt, 1H, J=4.4,10.7 Hz), 5.66 (d, 1H, J=1
6.1 Hz), 6.54 (d, 1H, J=16.1 Hz), 6.98-7.28 (m, 10
H).
【0024】
【実施例5】 (2R)−2−ヒドロキシ−2−イソブチル−4−フェ
ニル−3−ブテン酸(−)−トランス−2−フェニルシ
クロヘキシルの製造
【0025】実施例1と同様にして、塩化亜鉛62mg
(0.45mmol)とイソブチルマグネシウムブロミ
ド(ca.1mol/l,1.26mmol)より調製
した亜鉛アート錯体を用いて標記化合物を得る(収率8
4%,R:S=96:4)。1HNMRにより構造を確
認した。そのデータを以下に示す。
【0026】1HNMR(CDCl3):δ= 0.85 (d, 3
H, J=6.4 Hz), 0.90 (d, 3H, J=6.4Hz), 1.31-1.66 (m,
5H), 1.66-1.96 (m, 5H), 2.22-2.25 (m, 1H), 2.75
(dt,1H, J=3.4, 12.2 Hz), 3.26 (s, 1H), 5.03 (dt, 1
H, J=4.4, 10.3 Hz), 5.60(d, 1H, J=16.1 Hz), 6.53
(d, 1H, J=16.1 Hz), 6.95-7.28 (m, 10H).
【0027】
【実施例6】 (2R)−2−ヒドロキシ−2−ベンジル−4−フェニ
ル−3−ブテン酸(−)−トランス−2−フェニルシク
ロヘキシルの製造
【0028】実施例1と同様にして、塩化亜鉛62mg
(0.45mmol)とベンジルマグネシウムブロミド
(ca.1mol/l,1.26mmol)より調製し
た亜鉛アート錯体を用いて標記化合物を得る(収率84
%,R:S=97:3)。1HNMRにより構造を確認
した。そのデータを以下に示す。
【0029】1HNMR(CDCl3):δ= 1.30-1.60
(m, 4H), 1.73-1.98 (m, 3H), 2.04-2.13 (m, 1H), 2.7
8 (dt, 1H, J=3.9, 12.2 Hz), 2.89 (d, 1H, J=14 Hz),
3.06 (d, 1H, J=14 Hz), 3.31 (s, 1H), 4.98 (dt, 1
H, J=4.4, 10.7 Hz), 5.70 (d, 1H, J=16.1 Hz), 6.56
(d, 1H, J=16.1 Hz), 7.02-7.34 (m, 15H).
【0030】
【実施例7】 (2R)−2−ヒドロキシ−2−ビニル−4−フェニル
−3−ブテン酸(−)−トランス−2−フェニルシクロ
ヘキシルの製造
【0031】実施例1と同様にして、塩化亜鉛62mg
(0.45mmol)とビニルマグネシウムブロミド
(ca.1mol/l,1.26mmol)より調製し
た亜鉛アート錯体を用いて標記化合物を得る(収率79
%,R:S=94:6)。1HNMRにより構造を確認
した。そのデータを以下に示す。
【0032】1HNMR(CDCl3):δ= 1.19-1.63
(m, 4H), 1.73-2.00 (m, 3H), 2.10-2.25 (m, 1H), 2.7
4 (dt, 1H, J=3.9, 12.7 Hz), 3.44 (s, 1H), 5.02 (d
t, 1H, J=4.4, 11.7 Hz), 5.16 (d, 1H, J=10.7 Hz),
5.44 (dd, 1H, J=1.5, 17.1 Hz), 5.72 (d, 1H, J=15.6
Hz), 5.98 (dd, 1H, J=10.7, 17.1 Hz), 6.55, (d, 1
H, J=15.6 Hz), 6.99-7.35 (m, 10H).
【0033】
【実施例8】 (2R)−2−ヒドロキシ−2−フェニル−4−フェニ
ル−3−ブテン酸(−)−トランス−2−フェニルシク
ロヘキシルの製造
【0034】実施例1と同様にして、塩化亜鉛62mg
(0.45mmol)とフェニルマグネシウムブロミド
(ca.1mol/l,1.26mmol)より調製し
た亜鉛アート錯体を用いて標記化合物を得る(収率62
%,S:R=98:2)。1HNMRにより構造を確認
した。そのデータを以下に示す。
【0035】1HNMR(CDCl3):δ= 1.22-1.63
(m, 4H), 1.70-2.00 (m, 3H), 2.10-2.18 (m, 1H), 2.7
1 (dt, 1H, J=3.9, 12.2 Hz), 3.82 (s, 1H), 5.07 (d
t, 1H, J=4.4, 10.7 Hz), 6.13 (d, 1H, J=16.1Hz), 6.
66 (d, 1H, J=16.1 Hz), 7.08-7.43 (m, 15H).
【0036】
【実施例9】 (2R)−2−ヒドロキシ−2−メチル−6−フェニル
−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェニルシク
ロヘキシルの製造
【0037】実施例1と同様にして、2−オキソ−6−
フェニル−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェ
ニルシクロヘキシル(0.30mmol)と塩化亜鉛6
2mg(0.45mmol)とメチルマグネシウムブロ
ミド(ca.1mol/l,1.26mmol)より調
製した亜鉛アート錯体を用いて標記化合物を得る(収率
87%,R:S=95:5)。1HNMRにより構造を
確認した。そのデータを以下に示す。
【0038】1HNMR(CDCl3):δ= 1.28 (s, 3
H), 1.19-1.63 (m, 4H), 1.75-2.07(m, 5H), 2.10-2.19
(m, 1H), 2.37-2.53 (m, 2H), 2.71 (dt, 1H, J=3.9,
12.2 Hz), 3.05 (s, 1H), 4.98 (dt, 1H, J=4.4, 10.7
Hz), 4,94 (d, 1H, J=15.6Hz), 5.51 (dt, 1H, J=6.8,
15.6 Hz), 7.12-7.31 (m, 10H).
【0039】
【実施例10】 (2R)−2−ヒドロキシ−2−エチル−6−フェニル
−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェニルシク
ロヘキシルの製造
【0040】実施例1と同様にして、2−オキソ−6−
フェニル−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェ
ニルシクロヘキシル(0.30mmol)と塩化亜鉛6
2mg(0.45mmol)とエチルマグネシウムブロ
ミド(ca.1mol/l,1.26mmol)より調
製した亜鉛アート錯体を用いて標記化合物を得る(収率
84%R:S=97:3)。1HNMRにより構造を確
認した。そのデータを以下に示す。
【0041】1HNMR(CDCl3):δ= 0.74 (t, 3
H, J=7.3Hz), 1.30-1.62 (m, 5H),1.63-1.73 (m, 1H),
1.75-1.98 (m, 3H), 1.98-2.07 (m, 2H), 2.15-2.23
(m, 1H), 2.38-2.53 (m, 2H), 2.71 (dt, 1H, J=4.9, 1
2.2 Hz), 3.05 (s, 1H), 4.89(d, 1H, J=15.6 Hz), 4.9
9 (dt, 1H, J=4.4, 10.7 Hz), 5.56 (dt, 1H, J=6.8,1
5.6 Hz), 7.12-7.30 (m, 10H).
【0042】
【実施例11】 (2R)−2−ヒドロキシ−2−イソプロピル−6−フ
ェニル−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェニ
ルシクロヘキシルの製造
【0043】実施例1と同様にして、2−オキソ−6−
フェニル−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェ
ニルシクロヘキシル(0.30mmol)と塩化亜鉛6
2mg(0.45mmol)とイソプロピルマグネシウ
ムブロミド(ca.1mol/l,1.26mmol)
より調製した亜鉛アート錯体を用いて標記化合物を得る
(収率76%,R:S=98:2)。1HNMRにより
構造を確認した。そのデータを以下に示す。
【0044】1HNMR(CDCl3):δ= 0.71 (d, 3
H, J=6.8 Hz), 0.74 (d, 3H, J=6.8Hz), 1.27-1.61 (m,
4H), 1.75-1.98 (m, 4H), 1.98-2.06 (m, 2H), 2.18-
2.25(m, 1H), 2.38-2.53 (m, 2H), 2.71 (dt, 1H, J=3.
9, 12.2 Hz), 2.96 (s, 1H), 4.83 (d, 1H, J=15.5 H
z), 4.98 (dt, 1H, J=4.4, 10.7 Hz), 5.60 (dt, 1H,J=
6.8, 15.5 Hz), 7.09-7.30 (m, 10H).
【0045】
【実施例12】 (2R)−2−ヒドロキシ−2−ブチル−6−フェニル
−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェニルシク
ロヘキシルの製造
【0046】実施例1と同様にして、2−オキソ−6−
フェニル−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェ
ニルシクロヘキシル(0.30mmol)と塩化亜鉛6
2mg(0.45mmol)とブチルマグネシウムブロ
ミド(ca.1mol/l,1.26mmol)より調
製した亜鉛アート錯体を用いて標記化合物を得る(収率
85,R:S=97:3%)。1HNMRにより構造を
確認した。そのデータを以下に示す。
【0047】1HNMR(CDCl3):δ= 0.85 (t, 3
H, J=7.6 Hz), 0.88-1.02 (m, 1H),1.18-1.69 (m, 9H),
1.74-2.00 (m, 3H), 2.02 (q, 2H, J=7.3 Hz), 2.14-
2.22(m, 1H), 2.37-2.52 (m, 2H), 2.71 (dt, 1H, J=3.
4, 12.2 Hz), 3.05 (s, 1H), 4.90 (d, 1H, J=15.1 H
z), 4.99 (dt, 1H, J=4.4, 10.2 Hz), 5.55 (dt, 1H,J=
6.8, 15.6 Hz), 7.12-7.30 (m, 10H).
【0048】
【実施例13】 (2R)−2−ヒドロキシ−2−ベンジル−6−フェニ
ル−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェニルシ
クロヘキシルの製造
【0049】実施例1と同様にして、2−オキソ−6−
フェニル−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェ
ニルシクロヘキシル(0.30mmol)と塩化亜鉛6
2mg(0.45mmol)とベンジルマグネシウムブ
ロミド(ca.1mol/l,1.26mmol)より
調製した亜鉛アート錯体を用いて標記化合物を得る(収
率89%,R:S=97.5:2.5)。1HNMRに
より構造を確認した。そのデータを以下に示す。
【0050】1HNMR(CDCl3):δ= 1.32-1.58
(m, 4H), 1.75-2.07 (m, 6H), 2.38-2.50 (m, 2H), 2.
72-2.82 (m, 2H), 2.93 (d, 1H, J=13.7Hz), 3.08 (s,
1H),4.90-5.00 (m, 1H), 4.93 (d, 1H, J=15.1 Hz), 5.
60 (dt, 1H, J=6.8, 15.1 Hz), 7.12-7.31 (m, 15H).
【0051】
【実施例14】 (2R)−2−ヒドロキシ−2−ビニル−6−フェニル
−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェニルシク
ロヘキシルの製造
【0052】実施例1と同様にして、2−オキソ−6−
フェニル−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェ
ニルシクロヘキシル(0.30mmol)と塩化亜鉛6
2mg(0.45mmol)とビニルマグネシウムブロ
ミド(ca.1mol/l,1.26mmol)より調
製した亜鉛アート錯体を用いて標記化合物を得る(収率
60%R:S=94.5:5.5)。1HNMRにより
構造を確認した。そのデータを以下に示す。
【0053】1HNMR(CDCl3):δ= 1.30-1.62
(m, 4), 1.75-1.98 (m, 3H), 2.00-2.10 (m, 2H), 2.11
-2.18 (m, 1H), 2.40-2.53 (m, 2H), 2.72 (dt, 1H, J=
3.9,12.2 Hz), 3.26 (s, 1H), 4.99 (d, 1H, J=15.1 H
z), 4.95-5.05 (m, 1H), 5.10 (d, 1H, J=10.7 Hz), 5.
34 (d, 1H, J=17.1 Hz), 5.58 (dt, 1H, J=6.8, 15.1H
z), 5.88 (dd, 1H, J=10.7, 17.1 Hz), 7.09-7.31 (m,
10H).
【0054】
【実施例15】 (2R)−2−ヒドロキシ−2−フェニル−6−フェニ
ル−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェニルシ
クロヘキシルの製造
【0055】実施例1と同様にして、2−オキソ−6−
フェニル−3−ヘキセン酸(−)−トランス−2−フェ
ニルシクロヘキシル(0.30mmol)と塩化亜鉛6
2mg(0.45mmol)とメチルフェニルマグネシ
ウムブロミド(ca.1mol/l,1.26mmo
l)より調製した亜鉛アート錯体を用いて標記化合物を
得る(収率74%,S:R=>99:1)。1HNMR
により構造を確認した。そのデータを以下に示す。
【0056】1HNMR(CDCl3):δ= 1.20-1.36
(m, 2H), 1.38-1.59 (m, 2H), 1.71-1.84 (m, 2H), 1.8
8-1.96 (m, 1H), 2.03-2.17 (m, 3H), 2.44-2.58 (m, 2
H),2.66 (dt, 1H, J=3.9, 12.7 Hz), 3.64 (s, 1H), 5.
01 (dt, 1H, J=4.4, 10.7 Hz), 5.34 (d, 1H, J=15.6 H
z), 5.64 (dt, 1H, J=6.8, 15.6 Hz), 7.13-7.32 (m, 1
5H).
【0060】
【発明の効果】本発明によって、簡便な反応操作により
光学活性α−ヒドロキシ−α−置換−β,γ−不飽和エ
ステルを製造する方法を提供することが可能となった。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】化1で表されるβ,γ−不飽和−α−ケト
    エステルを有機亜鉛アート錯体で処 【化1】 (化1中、R1は、アルキル基、アリール基を示し、R*
    は、不斉補助剤を示す。)理することによりαカルボニ
    ル基をジアステレオ選択的にアルキル化することを特徴
    とする化2で表される光学活性なα−ヒドロキシ−α−
    置換−β,γ−不飽和エステルの製造法。 【化2】 (化2中、R1は、アルキル基、アリール基を示し、R2
    はアルキル基、アリールメチル基、ビニル基、アリール
    基を示し、R*は、不斉補助剤を示す。)
  2. 【請求項2】不斉補助剤として(−)または(+)−ト
    ランス−2−フェニルシクロヘキサノールを用いること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の製造法。
JP6055231A 1994-02-28 1994-02-28 光学活性なα−ヒドロキシ−α−置換−β,γ−不飽和エステルの製造法 Pending JPH07242598A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6055231A JPH07242598A (ja) 1994-02-28 1994-02-28 光学活性なα−ヒドロキシ−α−置換−β,γ−不飽和エステルの製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6055231A JPH07242598A (ja) 1994-02-28 1994-02-28 光学活性なα−ヒドロキシ−α−置換−β,γ−不飽和エステルの製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07242598A true JPH07242598A (ja) 1995-09-19

Family

ID=12992838

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6055231A Pending JPH07242598A (ja) 1994-02-28 1994-02-28 光学活性なα−ヒドロキシ−α−置換−β,γ−不飽和エステルの製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07242598A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003087029A1 (fr) * 2002-04-18 2003-10-23 Sumika Fine Chemicals Co., Ltd. Procede de production de compose d'acide $g(a)-hydroxycarboxylique

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003087029A1 (fr) * 2002-04-18 2003-10-23 Sumika Fine Chemicals Co., Ltd. Procede de production de compose d'acide $g(a)-hydroxycarboxylique

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104603098A (zh) 2-(3,4-二氟苯基)环丙胺衍生物和盐的合成
JPH07242598A (ja) 光学活性なα−ヒドロキシ−α−置換−β,γ−不飽和エステルの製造法
JP4922152B2 (ja) フッ素化プロリン誘導体の製造方法
EP3606907B1 (en) Racemic beta-aminosulfone compounds
JP4018816B2 (ja) シクロヘプテノン誘導体及びその製造方法並びにそれを利用してシクロヘプトイミダゾール誘導体を製造する方法
JP2003206290A (ja) 2−[(1r)−1−メチル−2−トリチル−2,3−ジヒドロ−1h−5−イソインドリル]−1,3,6,2−ジオキサアザボロカンの非溶媒和物およびその製造法
JP2003238500A (ja) 含フッ素3級アミン化合物及び含フッ素4級アンモニウム塩の製造方法
JP2001322950A (ja) 2−アルキレンアダマンタンの製造方法
JPS6232188B2 (ja)
JPH10120674A (ja) 2−メチル−3−(3,4−メチレンジオキシフェニル)アクリルアルデヒドの製法
JP3293676B2 (ja) ハロマレイン酸およびハロフマル酸エステル類の製造方法
JP3345957B2 (ja) アミン誘導体及びその製造方法
JP3760253B2 (ja) 4−フルオロサリチル酸類の製造方法
JP4081588B2 (ja) N−トリアルキルメチルカルボニル−2−アルキル−3,4−ジフルオロアニリンの製造方法
JPH0859576A (ja) 光学活性アミノケトン及びアミノアルコールの製造方法
JP2002512210A (ja) 2−ヒドロキシアルキルハロフェノンの製造方法
JP2001048826A (ja) 1−フェニル−1,3−ブタンジオン誘導体の製造方法
JP2893474B2 (ja) 5―アミノ―2―クロロ―4―フルオロチオフェノールの製造法およびその中間化合物
JP2006052164A (ja) (4e)−5−クロロ−2−(1−メチルエチル)−4−ペンテン酸エステルの製造方法
PL176081B1 (pl) Sposób wytwarzania 3-aminoizochinoliny i jej N-mono oraz N,N-dipodstawionych pochodnych
JP3513726B2 (ja) 2置換−1,3−インダンジオン誘導体の製造法
JPS61172853A (ja) (±)−トランス−菊カルボン酸の光学分割法
JPH1180143A (ja) 1−アルキル−1−アリールオキシランの製造法
JPS58144381A (ja) β−ケトエステル誘導体及びその製造方法
JPH0413339B2 (ja)