JPH07238382A - 薄膜の製造方法 - Google Patents
薄膜の製造方法Info
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- JPH07238382A JPH07238382A JP2869894A JP2869894A JPH07238382A JP H07238382 A JPH07238382 A JP H07238382A JP 2869894 A JP2869894 A JP 2869894A JP 2869894 A JP2869894 A JP 2869894A JP H07238382 A JPH07238382 A JP H07238382A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 有機溶剤、電解装置、真空装置などを用いず
に、金属基板の侵せきという極めて容易な方法による機
能材料の薄膜、及びその製造方法を提供する。 【構成】 疎水性の機能性材料を、疎水性部分に芳香族
アゾ残基を含有する界面活性剤を用いて水中に分散し、
侵せきした金属基板により界面活性剤を還元して分散状
態を壊し、金属基板の表面に機能材料の薄膜を製造す
る。
に、金属基板の侵せきという極めて容易な方法による機
能材料の薄膜、及びその製造方法を提供する。 【構成】 疎水性の機能性材料を、疎水性部分に芳香族
アゾ残基を含有する界面活性剤を用いて水中に分散し、
侵せきした金属基板により界面活性剤を還元して分散状
態を壊し、金属基板の表面に機能材料の薄膜を製造す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は色素等の機能材料薄膜
の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、この
発明は、基板の侵せきのみで金属基板に疎水性物質の薄
膜を効率良く製造することのできる、新しい薄膜の製造
方法に関する。
の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、この
発明は、基板の侵せきのみで金属基板に疎水性物質の薄
膜を効率良く製造することのできる、新しい薄膜の製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術とその課題】従来、疎水性物質の薄膜の製
造方法として、塗布法、スピンコート法、蒸着法、スパ
ッタリング法、プラズマＣＶＤ法などが利用されてい
る。しかし、これらの従来の製造方法には様々な制限や
課題があった。たとえば塗布法、スピンコート法などの
湿式法の場合には、有機溶媒を使用するため、付帯設備
に多額の投資を必要とする。また、湿式法において、バ
インダー樹脂を共存させる方法が広く用いられている
が、得られる薄膜に、このバインダー樹脂が共存するこ
ととなり、薄膜中の機能材料の濃度が低減するという問
題がある。このため、機能材料の濃度を大きくすること
には限界があり、機能素子の性能を向上させる上で制約
となっていた。
造方法として、塗布法、スピンコート法、蒸着法、スパ
ッタリング法、プラズマＣＶＤ法などが利用されてい
る。しかし、これらの従来の製造方法には様々な制限や
課題があった。たとえば塗布法、スピンコート法などの
湿式法の場合には、有機溶媒を使用するため、付帯設備
に多額の投資を必要とする。また、湿式法において、バ
インダー樹脂を共存させる方法が広く用いられている
が、得られる薄膜に、このバインダー樹脂が共存するこ
ととなり、薄膜中の機能材料の濃度が低減するという問
題がある。このため、機能材料の濃度を大きくすること
には限界があり、機能素子の性能を向上させる上で制約
となっていた。
【０００３】一方、蒸着法、スパッタリング法、プラズ
マＣＶＤ法などの乾式法の場合には、疎水性物質のみを
薄膜化できる利点があるが、気化により分解する物質に
は適用出来ないという制限がある。また、乾式法の場
合、真空装置の使用に伴い、高価な大規模な装置が必要
になる。さらにまた、近年、この発明の発明者らによる
フェロセン残基または芳香族アゾ残基を含有する界面活
性剤の電解を利用する疎水性化合物の薄膜を形成する方
法（国際公開ＷＯ８８／０７５３８）が知られている
が、この方法による薄膜の製造においては、電解工程が
あり、専門知識と電解設備が必要となる。その後、上記
のフェロセン残基を含有する界面活性剤を用いて、電解
の代わりに酸化剤を付着させた基板を侵せきさせる方法
（特公平３−２３２２７号公報）も開発されているが、
酸化剤を基板に均一に付着させねばならず、製造工程が
やや複雑である。
マＣＶＤ法などの乾式法の場合には、疎水性物質のみを
薄膜化できる利点があるが、気化により分解する物質に
は適用出来ないという制限がある。また、乾式法の場
合、真空装置の使用に伴い、高価な大規模な装置が必要
になる。さらにまた、近年、この発明の発明者らによる
フェロセン残基または芳香族アゾ残基を含有する界面活
性剤の電解を利用する疎水性化合物の薄膜を形成する方
法（国際公開ＷＯ８８／０７５３８）が知られている
が、この方法による薄膜の製造においては、電解工程が
あり、専門知識と電解設備が必要となる。その後、上記
のフェロセン残基を含有する界面活性剤を用いて、電解
の代わりに酸化剤を付着させた基板を侵せきさせる方法
（特公平３−２３２２７号公報）も開発されているが、
酸化剤を基板に均一に付着させねばならず、製造工程が
やや複雑である。
【０００４】そこで、この発明は、上記の通りの従来の
技術の欠点を解消し、極めて容易な操作で高品質の機能
性薄膜を製造することができる新しい薄膜の製造方法を
提供することを目的としている。
技術の欠点を解消し、極めて容易な操作で高品質の機能
性薄膜を製造することができる新しい薄膜の製造方法を
提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の課題
を解決するものとして、アゾ界面活性剤により疎水性物
質を水中へ可溶化または微粒子として分散した後に、ア
ゾ界面活性剤の酸化還元電位より卑な金属を浸せきして
アゾ界面活性剤を還元し、金属表面近傍において、前記
の疎水性物質の可溶化状態または分散状態を破壊して、
疎水性物質を金属表面へ付着させることを特徴とする薄
膜の製造方法を提供するものである。
を解決するものとして、アゾ界面活性剤により疎水性物
質を水中へ可溶化または微粒子として分散した後に、ア
ゾ界面活性剤の酸化還元電位より卑な金属を浸せきして
アゾ界面活性剤を還元し、金属表面近傍において、前記
の疎水性物質の可溶化状態または分散状態を破壊して、
疎水性物質を金属表面へ付着させることを特徴とする薄
膜の製造方法を提供するものである。
【０００６】また、この発明は、疎水性部分が芳香族ア
ゾ化合物残基を含有することを特徴とする界面活性剤
が、下記の一般式〔Ｉ〕
ゾ化合物残基を含有することを特徴とする界面活性剤
が、下記の一般式〔Ｉ〕
【０００７】
【化２】
【０００８】〔ここで、φ1 およびφ2 は炭素原子でア
ゾ基に結合する置換基を有してもよい１価の芳香族炭化
水素基または複素環基を表わし、Ｘは酸素原子、原子団
−ＮＨ−、窒素原子、原子団−ＣＯＯ−、または原子団
−ＯＣＯ−を表わし、ａは０または１を表わし、Ａはメ
チレン基を表わし、ｂは０または１以上の整数を表わ
し、Ｚは酸素原子、窒素原子、原子団−ＮＨ−、原子団
−ＣＯＯ−、原子団−ＯＣＯ−、原子団＞Ｐ（Ｏ）−、
または原子団−ＯＣＯ−ＣＨ2 Ｏ−を表わし、ｃは０ま
たは１を表わし、Ｅは原子団−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ−、原子
団−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2 Ｏ−、または−ＣＨ2 ＣＨ
（ＣＨ3 ）Ｏ−を表わし、ｎは６以上の整数もしくはそ
の平均値を表わし、ｄは１または２、ｍは１または２を
表わし、Ｒは水素原子またはメチル基を表わし、ｅは１
または２を表わす〕で示されるアゾ化合物であることを
特徴とする薄膜の製造方法をも提供する。
ゾ基に結合する置換基を有してもよい１価の芳香族炭化
水素基または複素環基を表わし、Ｘは酸素原子、原子団
−ＮＨ−、窒素原子、原子団−ＣＯＯ−、または原子団
−ＯＣＯ−を表わし、ａは０または１を表わし、Ａはメ
チレン基を表わし、ｂは０または１以上の整数を表わ
し、Ｚは酸素原子、窒素原子、原子団−ＮＨ−、原子団
−ＣＯＯ−、原子団−ＯＣＯ−、原子団＞Ｐ（Ｏ）−、
または原子団−ＯＣＯ−ＣＨ2 Ｏ−を表わし、ｃは０ま
たは１を表わし、Ｅは原子団−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ−、原子
団−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2 Ｏ−、または−ＣＨ2 ＣＨ
（ＣＨ3 ）Ｏ−を表わし、ｎは６以上の整数もしくはそ
の平均値を表わし、ｄは１または２、ｍは１または２を
表わし、Ｒは水素原子またはメチル基を表わし、ｅは１
または２を表わす〕で示されるアゾ化合物であることを
特徴とする薄膜の製造方法をも提供する。
【０００９】以上この発明の方法により、疎水性物質が
色素、電荷発生材、電荷輸送材、感光性色素、フォトク
ロミック材料、ガスセンシング材料、イオンセンシング
材料、レジスト材料などの機能性材料であることを特徴
とする薄膜、及び、その薄膜を用いることを特徴とする
着色金属、電子写真感光体、太陽電池、フォトクロミッ
ク薄膜、ガスセンサー、イオンセンサー等が提供され
る。
色素、電荷発生材、電荷輸送材、感光性色素、フォトク
ロミック材料、ガスセンシング材料、イオンセンシング
材料、レジスト材料などの機能性材料であることを特徴
とする薄膜、及び、その薄膜を用いることを特徴とする
着色金属、電子写真感光体、太陽電池、フォトクロミッ
ク薄膜、ガスセンサー、イオンセンサー等が提供され
る。
【００１０】さらに詳細に説明すると、まず、この発明
で使用することのできる疎水性物質としては、界面活性
剤の水溶液に可溶化または微粒子として分散する疎水性
化合物ならば化学構造を問わず様々なものを挙げること
ができる。たとえば色素として、「染料便覧」丸善、１
９７０年７月２０日発行の８３９〜８７８ページに列挙
されているＣ．Ｉ．ソルベントイエロー２、Ｃ．Ｉ．ソ
ルベントレッド３などの油溶性染料、「染料便覧」の９
８７〜１１０９ページ「カラーケミカル事典」シーエム
シー、１９８８年３月２８日発行に列挙されているＣ．
Ｉ．ピグメントブルー１５などの有機顔料、さらには、
「カラーケミカル事典」５４２〜５９１ページに列挙さ
れているエレクトロニクス用色素、記録用色素、環境ク
ロミズム用色素、写真用色素、エネルギー用色素のうち
の疎水性化合物が挙げられる。また、電子写真感光体用
の電荷発生材として、ｘ型フタロシアニン、α型オキシ
チタニウムフタロシアニン、α型オキシバナジウムフタ
ロシアニンなどが挙げられる。水に不溶なポリマー、た
とえば、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリアミド、ポリアクリロニトリル、ポリピロー
ル、ポリアニリン、アセチルセルロース、ポリビニルア
セテート、ポリビニールブチラール、あるいはコポリマ
ー（メタクリル酸メチルとメタクリル酸とのポリマー）
等を挙げることができる。
で使用することのできる疎水性物質としては、界面活性
剤の水溶液に可溶化または微粒子として分散する疎水性
化合物ならば化学構造を問わず様々なものを挙げること
ができる。たとえば色素として、「染料便覧」丸善、１
９７０年７月２０日発行の８３９〜８７８ページに列挙
されているＣ．Ｉ．ソルベントイエロー２、Ｃ．Ｉ．ソ
ルベントレッド３などの油溶性染料、「染料便覧」の９
８７〜１１０９ページ「カラーケミカル事典」シーエム
シー、１９８８年３月２８日発行に列挙されているＣ．
Ｉ．ピグメントブルー１５などの有機顔料、さらには、
「カラーケミカル事典」５４２〜５９１ページに列挙さ
れているエレクトロニクス用色素、記録用色素、環境ク
ロミズム用色素、写真用色素、エネルギー用色素のうち
の疎水性化合物が挙げられる。また、電子写真感光体用
の電荷発生材として、ｘ型フタロシアニン、α型オキシ
チタニウムフタロシアニン、α型オキシバナジウムフタ
ロシアニンなどが挙げられる。水に不溶なポリマー、た
とえば、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリアミド、ポリアクリロニトリル、ポリピロー
ル、ポリアニリン、アセチルセルロース、ポリビニルア
セテート、ポリビニールブチラール、あるいはコポリマ
ー（メタクリル酸メチルとメタクリル酸とのポリマー）
等を挙げることができる。
【００１１】疎水性物質の可溶化または分散した液を調
製するには種々の方法がある。具体的には臨界ミセル濃
度以上の一般式〔Ｉ〕で表わされるアゾ界面活性剤の水
溶液に、疎水性物質を加えて超音波処理、攪拌などによ
り可溶化または分散した液を調製せしめればよい。前記
の一般式〔Ｉ〕で表わされるアゾ界面活性剤の具体例と
しては、たとえば、以下の化学構造式で示される化合物
群を挙げることができる。
製するには種々の方法がある。具体的には臨界ミセル濃
度以上の一般式〔Ｉ〕で表わされるアゾ界面活性剤の水
溶液に、疎水性物質を加えて超音波処理、攪拌などによ
り可溶化または分散した液を調製せしめればよい。前記
の一般式〔Ｉ〕で表わされるアゾ界面活性剤の具体例と
しては、たとえば、以下の化学構造式で示される化合物
群を挙げることができる。
【００１２】
【化３】
【００１３】
【化４】
【００１４】
【化５】
【００１５】
【化６】
【００１６】このようにして調製した可溶化した液また
は分散液に、アゾ界面活性剤の酸化還元電位より卑な金
属または卑な金属を付着した基板を浸せきすることによ
り、疎水性化合物の薄膜を基板上に製造できる。ここ
で、金属としては、アゾ界面活性剤の酸化還元電位（飽
和甘コウ電極に対して約＋０．２Ｖ、ｐＨ１）より卑な
酸化還元電位を有するものであれば特にその種類に制限
なく使用することができる。このような金属としては
銅、コバルト、クロミウム、ニッケル、モリブデン、
鉛、錫、鉄、チタン、バナジウム、亜鉛、アルミニウ
ム、マグネシウムなどが使用できる。また、これらの金
属から構成される合金、たとえば、真鍮、青銅、洋白、
ジュラルミンなどが使用できる。さらに、これらの金属
を付着させた基板、たとえば、ブリキやニッケルまたは
クロミウムをメッキまたは無電解メッキした金属、プラ
スチック、ガラスなどが使用できる。
は分散液に、アゾ界面活性剤の酸化還元電位より卑な金
属または卑な金属を付着した基板を浸せきすることによ
り、疎水性化合物の薄膜を基板上に製造できる。ここ
で、金属としては、アゾ界面活性剤の酸化還元電位（飽
和甘コウ電極に対して約＋０．２Ｖ、ｐＨ１）より卑な
酸化還元電位を有するものであれば特にその種類に制限
なく使用することができる。このような金属としては
銅、コバルト、クロミウム、ニッケル、モリブデン、
鉛、錫、鉄、チタン、バナジウム、亜鉛、アルミニウ
ム、マグネシウムなどが使用できる。また、これらの金
属から構成される合金、たとえば、真鍮、青銅、洋白、
ジュラルミンなどが使用できる。さらに、これらの金属
を付着させた基板、たとえば、ブリキやニッケルまたは
クロミウムをメッキまたは無電解メッキした金属、プラ
スチック、ガラスなどが使用できる。
【００１７】このような金属または金属を付着した基板
を前記の疎水性物質を水中へ可溶化または微粒子として
分散した液に浸せきすることにより、極めて容易に薄膜
を製造できる。このような浸せきによって、容易に薄膜
が形成される理由は、金属とアゾ界面活性剤との間で酸
化還元反応が起こることによる。すなわち、この反応に
より金属が酸化されて金属イオンとなり、アゾ界面活性
剤は還元されて可溶化能と分散能が失われ、疎水性化合
物が基板上に析出して薄膜が形成される。
を前記の疎水性物質を水中へ可溶化または微粒子として
分散した液に浸せきすることにより、極めて容易に薄膜
を製造できる。このような浸せきによって、容易に薄膜
が形成される理由は、金属とアゾ界面活性剤との間で酸
化還元反応が起こることによる。すなわち、この反応に
より金属が酸化されて金属イオンとなり、アゾ界面活性
剤は還元されて可溶化能と分散能が失われ、疎水性化合
物が基板上に析出して薄膜が形成される。
【００１８】浸せき時の条件については、たとえば、温
度はアゾ界面活性剤の曇点以下であれば良く、浸せき時
間は１〜１８０分程度の範囲で選べば良い。以下、実施
例を示し、さらに詳しくこの発明について説明する。
度はアゾ界面活性剤の曇点以下であれば良く、浸せき時
間は１〜１８０分程度の範囲で選べば良い。以下、実施
例を示し、さらに詳しくこの発明について説明する。
【００１９】
０．１ｍｏｌ／ｌ塩酸、１．０ｍｍｏｌ／ｌ ＡＺＰＥ
Ｇ（下記式）の水溶液に１０ｍｍｏｌ／ｌのβ型銅フタ
ロシアニンを加えた後、１０分間超音波照射し、３昼夜
攪拌して分散液を調製した。幅２０ｍｍ、長辺５０ｍ
ｍ、厚さ０．３ｍｍの銅板の先端２０ｍｍをこの分散液
に、２５℃にて、２０分間浸せきし、銅板上に緑青色の
薄膜（幅２０ｍｍ、長さ２０ｍｍ）を製造した。製造終
了後、銅板を引上げ、エタノールで洗浄した。
Ｇ（下記式）の水溶液に１０ｍｍｏｌ／ｌのβ型銅フタ
ロシアニンを加えた後、１０分間超音波照射し、３昼夜
攪拌して分散液を調製した。幅２０ｍｍ、長辺５０ｍ
ｍ、厚さ０．３ｍｍの銅板の先端２０ｍｍをこの分散液
に、２５℃にて、２０分間浸せきし、銅板上に緑青色の
薄膜（幅２０ｍｍ、長さ２０ｍｍ）を製造した。製造終
了後、銅板を引上げ、エタノールで洗浄した。
【００２０】
【化７】
【００２１】得られた薄膜は走査型電子顕微鏡写真より
粒径が約０．１μｍの粒子より構成されている多孔質の
ものであることが確認された（図１）。また、粒子の粒
径、形状は使用したものと一致していた。一方、この膜
を５ｍｍｏｌ／ｌのＢｒｉｊ３５の水溶液に分散した溶
液の可視紫外吸収スペクトルパターン（図２）は使用し
たβ型銅フタロシアニンを５ｍｍｏ／ｌのＢｒｉｊ３５
水溶液に分散したものと一致していた。従って、使用す
る粒子の化学構造、粒径、結晶型を維持したまま薄膜を
製造できることが確かめられた。比較例１ 実施例１に用いた界面活性剤の代わりに典型的な非イオ
ン性界面活性剤であるＢｒｉｊ３５を用い、実施例１と
同様に調製したβ型銅フタロシアニンの分散液に銅板を
２０分間浸せきしたが、薄膜は得られなかった。実施例２ 〔真鍮板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．３
ｍｍの真鍮を用いた以外は実施例１と同様にして、真鍮
板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例３ 〔燐青銅板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．２
ｍｍの燐青銅板を用いた以外は実施例１と同様にして、
燐青銅板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例４ 〔洋白板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．２
ｍｍの洋白板を用いた以外は実施例１と同様にして、洋
白板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例５ 〔鉛板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍの鉛板を用いた以外は実施例１と同様にして、鉛板
上に緑青色の薄膜を製造した。実施例６ 〔錫板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍの錫板を用いた以外は実施例１と同様にして、錫板
上に緑青色の薄膜を製造した。実施例７ 〔ニッケル板上のβ型銅フタロシアニンの薄
膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３５ｍｍ、厚さ０．３
ｍｍのニッケル板を用いた以外は実施例１と同様にし
て、ニッケル板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例８ 〔鉄（軟鉄）板上のβ型銅フタロシアニンの薄
膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍの軟鉄板を用いた以外は実施例１と同様にして、軟
鉄板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例９ 〔亜鉛板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍの亜鉛板を用いた以外は実施例１と同様にして、亜
鉛板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例１０ 〔ブリキ板上のβ型銅フタロシアニンの薄
膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍのブリキ板を用いた以外は実施例１と同様にして、
ブリキ板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例１１ 〔アルミニウム板上のβ型銅フタロシアニン
の薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ１ｍｍ
のアルミニウム板を用いた以外は実施例１と同様にし
て、アルミニウム板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例１２ 〔ジュラルミン板上のβ型銅フタロシアニン
の薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍのジュラルミン板を用いた以外は実施例１と同様に
して、ジュラルミン板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例１３ 〔銅板上のポリクロロブロモ銅フタロシアニ
ンの薄膜〕 β型銅フタロシアニンの代わりにポリクロロブロモ銅フ
タロシアニンを用いた以外は実施例１と同様にして、銅
板上に緑色の薄膜を製造した。実施例１４ 〔銅板上のペリレンバーミリオンの薄膜〕 １．０ｍｍｏｌ／ｌのＡＺＰＥＧの代わりに１．５ｍｍ
ｏｌ／ｌのＡＺＰＥＧを、β型銅フタロシアニンの代わ
りにペリレンバーミリオンを用いた以外は実施例１と同
様にして、銅板上に赤色の薄膜を製造した。実施例１５ 〔ニッケル板上のペリレンバーミリオンの薄
膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３５ｍｍ、厚さ０．３
ｍｍのニッケル板を用いた以外は実施例１４と同様にし
て、ニッケル板上に赤色の薄膜を製造した。実施例１６ 〔銅板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 ０．１ｍｏｌ／ｌ塩酸、１．０ｍｍｏｌ／ｌＡＺＰＥＧ
（下記式）の水溶液１５ｍｍｏｌ／ｌのβ型銅フタロシ
アニンを加えた後、１０分間超音波照射し、３昼夜攪拌
して分散駅を調製した。幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚
さ０．３ｍｍの銅板の先端２０ｍｍをこの分散液に、２
５℃にして、２０分間浸せきし、銅板上に緑青色の薄膜
（幅２０ｍｍ、長さ２０ｍｍ）を製造した。製造終了
後、銅板を引き上げ、エタノールで洗浄した。
粒径が約０．１μｍの粒子より構成されている多孔質の
ものであることが確認された（図１）。また、粒子の粒
径、形状は使用したものと一致していた。一方、この膜
を５ｍｍｏｌ／ｌのＢｒｉｊ３５の水溶液に分散した溶
液の可視紫外吸収スペクトルパターン（図２）は使用し
たβ型銅フタロシアニンを５ｍｍｏ／ｌのＢｒｉｊ３５
水溶液に分散したものと一致していた。従って、使用す
る粒子の化学構造、粒径、結晶型を維持したまま薄膜を
製造できることが確かめられた。比較例１ 実施例１に用いた界面活性剤の代わりに典型的な非イオ
ン性界面活性剤であるＢｒｉｊ３５を用い、実施例１と
同様に調製したβ型銅フタロシアニンの分散液に銅板を
２０分間浸せきしたが、薄膜は得られなかった。実施例２ 〔真鍮板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．３
ｍｍの真鍮を用いた以外は実施例１と同様にして、真鍮
板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例３ 〔燐青銅板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．２
ｍｍの燐青銅板を用いた以外は実施例１と同様にして、
燐青銅板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例４ 〔洋白板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．２
ｍｍの洋白板を用いた以外は実施例１と同様にして、洋
白板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例５ 〔鉛板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍの鉛板を用いた以外は実施例１と同様にして、鉛板
上に緑青色の薄膜を製造した。実施例６ 〔錫板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍの錫板を用いた以外は実施例１と同様にして、錫板
上に緑青色の薄膜を製造した。実施例７ 〔ニッケル板上のβ型銅フタロシアニンの薄
膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３５ｍｍ、厚さ０．３
ｍｍのニッケル板を用いた以外は実施例１と同様にし
て、ニッケル板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例８ 〔鉄（軟鉄）板上のβ型銅フタロシアニンの薄
膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍの軟鉄板を用いた以外は実施例１と同様にして、軟
鉄板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例９ 〔亜鉛板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍの亜鉛板を用いた以外は実施例１と同様にして、亜
鉛板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例１０ 〔ブリキ板上のβ型銅フタロシアニンの薄
膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍのブリキ板を用いた以外は実施例１と同様にして、
ブリキ板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例１１ 〔アルミニウム板上のβ型銅フタロシアニン
の薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ１ｍｍ
のアルミニウム板を用いた以外は実施例１と同様にし
て、アルミニウム板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例１２ 〔ジュラルミン板上のβ型銅フタロシアニン
の薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺５０ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍのジュラルミン板を用いた以外は実施例１と同様に
して、ジュラルミン板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例１３ 〔銅板上のポリクロロブロモ銅フタロシアニ
ンの薄膜〕 β型銅フタロシアニンの代わりにポリクロロブロモ銅フ
タロシアニンを用いた以外は実施例１と同様にして、銅
板上に緑色の薄膜を製造した。実施例１４ 〔銅板上のペリレンバーミリオンの薄膜〕 １．０ｍｍｏｌ／ｌのＡＺＰＥＧの代わりに１．５ｍｍ
ｏｌ／ｌのＡＺＰＥＧを、β型銅フタロシアニンの代わ
りにペリレンバーミリオンを用いた以外は実施例１と同
様にして、銅板上に赤色の薄膜を製造した。実施例１５ 〔ニッケル板上のペリレンバーミリオンの薄
膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３５ｍｍ、厚さ０．３
ｍｍのニッケル板を用いた以外は実施例１４と同様にし
て、ニッケル板上に赤色の薄膜を製造した。実施例１６ 〔銅板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 ０．１ｍｏｌ／ｌ塩酸、１．０ｍｍｏｌ／ｌＡＺＰＥＧ
（下記式）の水溶液１５ｍｍｏｌ／ｌのβ型銅フタロシ
アニンを加えた後、１０分間超音波照射し、３昼夜攪拌
して分散駅を調製した。幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚
さ０．３ｍｍの銅板の先端２０ｍｍをこの分散液に、２
５℃にして、２０分間浸せきし、銅板上に緑青色の薄膜
（幅２０ｍｍ、長さ２０ｍｍ）を製造した。製造終了
後、銅板を引き上げ、エタノールで洗浄した。
【００２２】
【化８】
【００２３】実施例１７〔真鍮板上のβ型銅フタロシア
ニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚さ０．３
ｍｍの真鍮を用いた以外は実施例１６と同様にして、真
鍮板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例１８ 〔燐青銅板上のβ型銅フタロシアニンの薄
膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚さ０．２
ｍｍの燐青銅板を用いた以外は実施例１６と同様にし
て、燐青銅板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例１９ 〔洋白板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚さ０．２
ｍｍの洋白板を用いた以外は実施例１６と同様にして、
洋白板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例２０ 〔ニッケル板上のβ型銅フタロシアニンの薄
膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚さ０．３
ｍｍのニッケル板を用いた以外は実施例１６と同様にし
て、ニッケル板上に緑青色の薄膜を製造した。 実施例２１ 〔亜鉛板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍの亜鉛板を用いた以外は実施例１６と同様にして、
亜鉛板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例２２ 〔ブリキ板上のβ型銅フタロシアニンの薄
膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍのブリキ板を用いた以外は実施例１６と同様にし
て、ブリキ板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例２３ 〔アルミニウム板上のβ型銅フタロシアニン
の薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚さ１ｍｍ
のアルミニウム板を用いた以外は実施例１６と同様にし
て、アルミニウム板上に緑青色の薄膜を製造した。
ニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚さ０．３
ｍｍの真鍮を用いた以外は実施例１６と同様にして、真
鍮板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例１８ 〔燐青銅板上のβ型銅フタロシアニンの薄
膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚さ０．２
ｍｍの燐青銅板を用いた以外は実施例１６と同様にし
て、燐青銅板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例１９ 〔洋白板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚さ０．２
ｍｍの洋白板を用いた以外は実施例１６と同様にして、
洋白板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例２０ 〔ニッケル板上のβ型銅フタロシアニンの薄
膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚さ０．３
ｍｍのニッケル板を用いた以外は実施例１６と同様にし
て、ニッケル板上に緑青色の薄膜を製造した。 実施例２１ 〔亜鉛板上のβ型銅フタロシアニンの薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍの亜鉛板を用いた以外は実施例１６と同様にして、
亜鉛板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例２２ 〔ブリキ板上のβ型銅フタロシアニンの薄
膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚さ０．５
ｍｍのブリキ板を用いた以外は実施例１６と同様にし
て、ブリキ板上に緑青色の薄膜を製造した。実施例２３ 〔アルミニウム板上のβ型銅フタロシアニン
の薄膜〕 銅板の代わりに幅１０ｍｍ、長辺３３ｍｍ、厚さ１ｍｍ
のアルミニウム板を用いた以外は実施例１６と同様にし
て、アルミニウム板上に緑青色の薄膜を製造した。
【００２４】
【発明の効果】この発明により、以上詳しく説明した通
り、簡便な手段によって、高品質な、機能性の薄膜の製
造が可能となる。
り、簡便な手段によって、高品質な、機能性の薄膜の製
造が可能となる。
【図１】実施例としての製造された薄膜を示した図面に
代わる走査型電子顕微鏡写真である。
代わる走査型電子顕微鏡写真である。
【図２】実施例においての溶液の可視紫外吸収スペクト
ルパターン図である。
ルパターン図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０５Ｄ 7/14 １０１ Ｚ 7/24 ３０１ Ｃ 7717−4Ｄ Ｅ 7717−4Ｄ Ｚ 7717−4Ｄ ３０３ Ｅ 7717−4Ｄ
Claims (3)
- 【請求項１】 芳香族アゾ化合物残基を含有するアゾ界
面活性剤により疎水性物質を水中へ可溶化または微粒子
として分散した後に、アゾ界面活性剤の酸化還元電位よ
り卑な金属を浸せきしてアゾ界面活性剤を還元し、金属
表面近傍において、疎水性物質の可溶化状態または分散
状態を破壊して疎水性物質を金属表面へ付着させること
を特徴とする薄膜の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１において、アゾ界面活性剤が、
下記の一般式〔Ｉ〕 【化１】 〔ここで、φ1 およびφ2 は炭素原子でアゾ基に結合す
る置換基を有してもよい１価の芳香族炭化水素基または
複素環基を表わし、Ｘは酸素原子、原子団−ＮＨ−、窒
素原子、原子団−ＣＯＯ−、または原子団−ＯＣＯ−を
表わし、ａは０または１を表わし、Ａはメチレン基を表
わし、ｂは０または１以上の整数を表わし、Ｚは酸素原
子、窒素原子、原子団−ＮＨ−、原子団−ＣＯＯ−、原
子団−ＯＣＯ−、原子団＞Ｐ（Ｏ）−、または原子団−
ＯＣＯ−ＣＨ2 Ｏ−を表わし、ｃは０または１を表わ
し、Ｅは原子団−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ−、原子団−ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）ＣＨ2 Ｏ−、または−ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）Ｏ−
を表わし、ｎは６以上の整数もしくはその平均値を表わ
し、ｄは１または２、ｍは１または２を表わし、Ｒは水
素原子またはメチル基を表わし、ｅは１または２を、各
々表わす〕で示されるアゾ化合物薄膜の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１または２の方法により製造され
た薄膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02869894A JP3333302B2 (ja) | 1994-02-28 | 1994-02-28 | 薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02869894A JP3333302B2 (ja) | 1994-02-28 | 1994-02-28 | 薄膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07238382A true JPH07238382A (ja) | 1995-09-12 |
| JP3333302B2 JP3333302B2 (ja) | 2002-10-15 |
Family
ID=12255699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02869894A Expired - Fee Related JP3333302B2 (ja) | 1994-02-28 | 1994-02-28 | 薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3333302B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015137013A1 (ja) * | 2014-03-12 | 2015-09-17 | 株式会社Adeka | 銅膜形成用組成物及びそれを用いた銅膜の製造方法 |
| CN109672420A (zh) * | 2018-12-18 | 2019-04-23 | 北方民族大学 | 设置镁铝合金膜的多层压电基片及其制备方法 |
-
1994
- 1994-02-28 JP JP02869894A patent/JP3333302B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015137013A1 (ja) * | 2014-03-12 | 2015-09-17 | 株式会社Adeka | 銅膜形成用組成物及びそれを用いた銅膜の製造方法 |
| JP2015172226A (ja) * | 2014-03-12 | 2015-10-01 | 株式会社Adeka | 銅膜形成用組成物及びそれを用いた銅膜の製造方法 |
| CN109672420A (zh) * | 2018-12-18 | 2019-04-23 | 北方民族大学 | 设置镁铝合金膜的多层压电基片及其制备方法 |
| CN109672420B (zh) * | 2018-12-18 | 2023-03-31 | 北方民族大学 | 设置镁铝合金膜的多层压电基片及其制备方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3333302B2 (ja) | 2002-10-15 |
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