JPH07235200A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH07235200A
JPH07235200A JP6026647A JP2664794A JPH07235200A JP H07235200 A JPH07235200 A JP H07235200A JP 6026647 A JP6026647 A JP 6026647A JP 2664794 A JP2664794 A JP 2664794A JP H07235200 A JPH07235200 A JP H07235200A
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JP
Japan
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data
test
scrambler
signal
test mode
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JP6026647A
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Takashi Osawa
隆 大沢
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/36Data generation devices, e.g. data inverters

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  • Dram (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】メモリ内部にデータ・スクランブラを内蔵し、
テストモードでの書き込みパターンを自由に変換、設定
できるように構成される。 【構成】入力用のデータ・スクランブラ11と出力用のデ
ータ・デスクランブラ12がそれぞれ配備されている。ロ
ウアドレスの一部を入力し、8対のスクランブル信号C
HNGを上記スクランブラ11へ供給するラッチ回路13、
ノーマルモード/テストモード切り換え信号であるTE
ST信号を出力するENTRY/EXIT回路14が設け
られている。ラッチ回路13はENTRY/EXIT回路
14からのTEST信号によってモードが制御される。な
お、データ線15の1本表示は1対の相補線(RWD線、
/RWD線)を示している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は大容量の半導体記憶装
置に関し、高速かつ高精度のテストモードが要求される
半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体メモリの集積度向上に伴い、増大
するテスト時間を短縮する目的で、並列ビットテストモ
ードが1MビットDRAM以降の世代のDRAMに搭載
されている。例えば、1MビットDRAMでは4ビット
パラレル、4MビットDRAMでは8ビットパラレル、
16MビットDRAMでは16ビットパラレル、64M
ビットDRAMでは32ビットパラレルと世代が代わる
毎に、同時にテストできるビット幅を2倍に増やして行
き、全ビットテストする時間の増大を抑えている。つま
り、テストモードを用いないで通常のアクセスモードで
全ビットテストすると世代毎に4倍のテスト時間が増加
してゆくものを、テストモードを使うことで、世代毎に
2倍のテスト時間の増加に抑えられる。これにより、テ
スト時間を短縮を図っている。
【0003】上述のような従来のテストモードは以下の
ような仕様になっている。WCBRのサイクル(/RA
S信号の前に/WE及び/CAS信号を活性化;信号記
号先頭の/は反転を意味する)でテストモードにエント
リーする。その後、通常のライト動作において入力され
たデータが複数ビット各々に同一データとして書き込ま
れていく。これをリードすると、これら複数ビットのデ
ータが平行して読み出され、読み出されたデータが全て
一致していれば出力に高(“H”)レベルを出し、一つ
でも異なるデータが含まれていれば低(“L”)レベル
を出力する。このような仕様で、複数ビットを一度にテ
ストすることができる。
【0004】以上のようなテストモードは確かにテスト
時間短縮という大きなメリットがある。しかしながら、
必ずしも全てのテスト項目においてこのテストモードで
カバーできるというわけではない。すなわち、従来のテ
ストモードでは検出不可能な不良項目が存在するから
で、これら複数ビットがワード線を共有している等必ず
しも独立のビットではないことに起因している。勿論、
テストされるビットを互いにセルアレー上で充分離すこ
とによってほぼ完全に独立とみなせるようにすることは
可能ではあるが、こうするとテストモード時のワード線
WLやカラム選択線CSLの活性化の方法が通常と異な
ることになり無駄が多い。さらに、通常と異なる内部動
作をしている意味から正しいテストを行なっているとは
言えなくなる。
【0005】例えば、64MビットDRAMでの32ビ
ットパラレルテストを図17を参照して考える。テスト
モード時において、同時にテストされる32ビットは、
図17に示されるように4個の16Mビットセルアレー
ブロックCB1 〜4 に8ビットずつに振り分けられてい
る。斜線枠1つは512kビットセルブロックを示して
いる。16Mビットセルアレーブロックのうちの1つの
16Mブロックに属する8ビットは、図18の破線で囲
んだCELL0 からCELL7 に示されるように同一ワ
ード線上に隣接する8カラムに分配されている。
【0006】図18において、WLはワード線、BL,
/BLは相補ビット線、SAPCはセンスアンプ及びビ
ット線プリチャージ回路、DQGはDQゲートであり、
DQ,/DQは相補データ線、CSLはカラム選択線
(破線の直線)である。ワード線WLはロウデコーダに
接続される。DQ0 ,/DQ0 〜DQ7 ,/DQ7 の8
対のデータ線対は図示しないがDQバッファを介して図
17の入出力回路に接続される。
【0007】上述で触れたように、これらの8ビットそ
れぞれを遠く離れた8カラムに分配することも可能では
あるが、そのためにはカラム選択線CSLとDQゲート
の関係を極力1:1にする対策としてCSLの配線の微
細化や図示しないカラムデコーダのパターンの微細化や
面積増大が要求されるため好ましくない。
【0008】図18のような8ビット分布においては、
これら同時にテストされる8ビットが必ずしも独立では
ない。テストモードでは同一データが書き込まれるた
め、DQゲートでのBL、/BLの関係とDQ、/DQ
の関係が同じであれば、8ビットには同一データしか書
き込むことができないことになる。従って、書き込み系
でデータに対するパターンセンシティビティ(感度性
癖)があるような不良が検出できなくなるという欠点が
あった。例えば、1カラムおきに逆データである場合に
のみ検出できる不良は従来のテストモードでは検出不可
能になってしまう。
【0009】また、別の状況によっても従来のテストモ
ードが不完全な不良検出能力しか持てない場合が考えら
れる。それは、例えばワード線WLが立ち上がらない不
良(ロウ不良の一種)である。BL、/BLとDQ、/
DQの関係が常に同じ場合は図18の8ビットにはテス
トモード時に全て同一データが書き込まれることにな
る。DQ、/DQゲートあるいはDQバッファーにはパ
ターン的にアンバランスが避けられず、セル信号が零の
場合には全てのDQ側が“L”または“H”にデータを
ラッチする可能性が高い。従って、テストモードでの正
誤判断が全ビットの一致あるいは不一致のみを判断基準
にしている限り、このような不良モードは検出できなく
なるという欠点がある。
【0010】もっとも、上記欠点も表裏のパターンでテ
ストすれば4個の16Mブロックの結果を最終的に1ビ
ットにまとめる訳であるから、必ずいずれかのパターン
では検出できることになる。しかし、例えばダイソート
でのテストモードのようにリダンダンシー置き換えを目
的として16Mブロック毎に独立させてテストする場合
(つまり、ロウ不良のアドレスを検出するテスト)には
表裏パターンでテストしてもロウ不良を検出できなくな
ってしまう。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来、テ
スト時間短縮を達成するテストモードは必ずしも全ての
テスト項目において万能というわけではない。すなわ
ち、従来のテストモードでは検出不可能な不良項目が存
在するという欠点がある。
【0012】この発明は上記のような事情を考慮してな
されたものであり、その目的は、自由なパターンを書き
込むことができ、メモリのテストモードでの不良検出能
力を高め、ひいてはテストモードの利用率を高めてテス
ト時間短縮に寄与する半導体記憶装置を提供することに
ある。
【0013】
【課題を解決するための手段】この発明の半導体記憶装
置はメモリセルにデータを伝送する複数のデータ線と、
前記データのスクランブル条件を設定する信号をラッチ
する信号ラッチ手段と、前記データを前記スクランブル
条件に応じて任意にスクランブルする機能を有したデー
タスクランブラ手段と、所定の信号サイクルによりテス
トモードが開始され、前記信号ラッチ手段から前記デー
タスクランブラ手段に前記スクランブル条件が伝達さ
れ、前記データスクランブラ手段を機能させる制御手段
とを具備したことを特徴とする。
【0014】
【作用】この発明では、データスクランブラ手段によっ
て、テストモード時に並列に読み出しを行う複数のセル
に“0”と“1”が混在した自由なテストパターンを書
き込むことができる。
【0015】
【実施例】図1は本発明の実施例を示す。この図は前記
図17の16Mビットセルアレー(例えば、CB1 )1
個を抜き取った部分を示している。更に、この図はテス
トモード時に動作する回路のみを示しており、通常アク
セスモード時に機能する回路(例えばリード時のマルチ
プレクサなど)は省略されている。図のように入力用の
データ・スクランブラ11と出力用のデータ・デスクラン
ブラ12がそれぞれ配備されている。ロウアドレスの一部
を入力し、8対のスクランブル信号(CHNG,/CH
NGの対の信号が8つ)を上記スクランブラ11へ供給す
るラッチ回路13、ノーマルモード/テストモード切り換
え信号であるTEST信号を出力するENTRY/EX
IT回路14が設けられている。ラッチ回路13はENTR
Y/EXIT回路14からのTEST信号によってモード
が制御される。なお、データ線15の1本表示は1対の相
補線(RWD線、/RWD線)を示している。
【0016】上記構成によれば、テストデータ書き込み
時にはデータ・スクランブラ11でパラレルにテストされ
るデータパターンを希望するパターンに変換することが
でき、かつ読み出し時にもデータ・デスクランブラ12に
より同じスクランブル状態で変換を行って元のテスト条
件に戻すことができる。
【0017】図2は図1の構成をより具体的に示す回路
図であり、通常アクセスモード時に機能するマルチプレ
クサ16、デマルチプレクサ17等を示すと共にエラー検出
回路18を設けている。エラー検出回路18はテスト結果の
データ一致、不一致を検出する。テスト時には、入力パ
ッドから入力回路19を介してテスト用のデータDinを入
力し、テスト結果はエラー検出回路18を介して出力回路
20から出力パッドを介しDout として得る。これは、使
用するDRAMが×1ビット構成の製品を想定してい
る。以下、本発明の諸動作は図2を参照しつつ進めてい
く。
【0018】図3はテストモードへのエントリーサイク
ルを示す一例としての波形図である。WCBRサイクル
を開始した後、/RAS信号を低いレベルに保ったまま
/WE信号を2回サイクルし、2回目の/WEの立ち下
がりでA0 からA7 までの8ビットのアドレスを指定す
る。
【0019】アドレス指定は例えば次のようである。前
記図18において同時にテストされる、破線で囲んだC
ELL0 からCELL7 の8ビットにアドレスA0 から
A7を各対応させる。その指定アドレス信号が“0”の
場合は、テストモード時に入力されるテストデータをそ
のままスルーするが、“1”の時はテストデータを反転
させると約束する。
【0020】従って、2回目の/WEサイクルでA0 か
らA7 まですべてのアドレスを“0”とするとデータは
そのまま(スクランブルがかからずに)書き込まれ、ま
た読まれるので、従来のテストモードそのものである。
また、A0 =“0”、A1 =“1”、A2 =“0”、A
3 =“1”、A4 =“0”、A5 =“1”、A6 =
“0”、A7 =“1”と指定すると、1ビット置きに逆
デ−タが書き込まれるパターンでのテストモードにな
る。
【0021】図4は上記テストモードでの約束事を想定
して構成された図1もしくは図2におけるデータ・スク
ランブラ11の具体例を示す回路図である。図1の実施例
の場合、データ線15(RWD線、/RWD線)は8対存
在するから、実際この図4における構成は各々8個必要
になる。RWD線、/RWD線は入力バッファ111 を介
してそれぞれ、インバータ112 とクロックドインバータ
113 の直列構成、またはクロックドインバータ114 を経
て非反転または反転されるようになっている。インバー
タ112 とクロックドインバータ113 はCHNGまたはそ
の反転信号/CHNGによって制御され、互いに相補的
に活性化される。
【0022】すなわち、CHNG=“H”(high)レベ
ル、/CHNG=“L”(low )レベルの場合は入力バ
ッファからの111 からのデータはインバータで反転され
るが、CHNG=“L”、/CHNG=“H”の時はイ
ンバータ2段通るためにデータは反転されることなく通
過する。勿論、この場合にはCMOSのトランスファゲ
ートでもよく、種々のバリエーションが有り得る。
【0023】図5は上記図4に対応したデータ・デスク
ランブラ12の具体例を示す回路図である。データ・デス
クランブラでも構成は同様で各素子構成の入出力が図4
の構成と逆になる。勿論、データ線15の1対、1対にそ
れぞれ設けられ、図4に従って種々のバリエーションが
有り得る。
【0024】図6は図1におけるラッチ回路13の具体例
を示す回路図である。これはアドレスA0 (R) (ロウ)
に対応するラッチ回路を示している。このような構成は
A0からA7 までの8ビットのアドレスに対して各々設
けられ8個必要になる。アドレスA0 はTEST信号に
より制御されるCMOS型トランスファゲート131 、ラ
ッチ回路132 を介してNANDゲート133 の一方入力に
接続されている。NANDゲート133 の他方入力はTE
ST信号である。NANDゲート133 の出力は信号/C
HNG、さらにインバータ134 を介して信号CHNGと
なる。
【0025】上記図6の構成によれば、TEST信号が
“L”レベルである限り、CHNG=“L”レベル、/
CHNG=“H”レベルでデータは反転されない。ノー
マルモードではTEST信号が“L”レベルに固定され
ている。上記図3に示されるようなENTRYのサイク
ルでロウドアドレスバッファを動作させて、ロウアドレ
スAi(R) 、/Ai(R) (i=0 〜7 )が指定され、か
つTEST信号が立ち上がるとその時点でのAi(R) の
状態をラッチしてCHNG、/CHNGを生成する回路
である。勿論、一例を示しただけで種々の変形が有り得
る。
【0026】図7は図2におけるマルチプレクサ16とそ
の周辺の構成を示す回路図である。図2と同様の箇所は
同一符号を付してある。Dinの相補データに関して信号
M0〜M7 及び/M0 〜/M7 それぞれで導通制御する
8個ずつのCMOS型トランスファゲート161 及び162
からなる。これら8個ずつのトランスファゲート161,1
62 はそれぞれ8対のデータ線(RWD0 ,/RWD0
〜RWD7 ,/RWD7 )に接続されている。
【0027】図8は上記信号M0 〜M7 及び/M0 〜/
M7 を入力アドレスにより生成する回路を示している。
例えば、内部で3ビットすべてのビット列を利用する。
すなわちアドレス(Ai Aj Ak )を(111)とする
と、(/Ai /Aj /Ak )から(Ai Aj Ak )まで
インクリメント生成する。このビット列にそれぞれ対応
した8個のNANDゲート163 の出力にそれぞれ8個の
NANDゲート164 の一方入力を接続している。NAN
Dゲート164 の他方入力は共通にTEST信号の反転信
号/TESTが入力される。ANDゲート164 の8出力
はそれぞれ、順にM0 〜M7 もしくはインバータ165 を
介して、順に/M0 〜/M7 となる。
【0028】図9は図2におけるデマルチプレクサ17と
エラー検出回路18その周辺の構成を示す回路図である。
図2と同様の箇所は同一符号を付してある。エラー検出
回路18はテストデータの一致/不一致を判定する。エラ
ー検出回路18はデマルチプレクサ17に入る前の8対のデ
ータ線(RWDx ,/RWDx (x =0 〜7 ))のうち
の一方RWD0 〜RWD7 に対してNANDゲート181
を接続し、他方/RWD0 〜/RWD7 に対してNAN
Dゲート182 を接続し、その出力をEXORゲート183
に入力している。EXORゲート183 の出力はインバー
タ184 を介してスイッチング回路190 に入力される。ス
イッチング回路190 はテスト信号が発生したとき
(“H”レベル)に活性化されるクロックドインバータ
191 が設けられている。インバータ192 は相補なデータ
線を作るためにある。スイッチング回路190 からの相補
なデータ線は対応する出力回路20の入力端(ノードD
N,/DN)に接続される。
【0029】図10は図9におけるデマルチプレクサ17
の具体例を示す回路図である。8対のデータ線RWDx
,/RWDx (x =0 〜7 )は各々の信号Dx ,/Dx
(x=0 〜7 )で導通制御される8個ずつのCMOS型
のトランスファゲート171 ,172 に接続される。トラン
スファゲート171 を介したデータ線RWDは8本共通に
接続され、トランスファゲート172 を介したデータ線/
RWDは8本共通に接続され、それぞれ対応する出力回
路20へのノードDN,/DNに接続される。
【0030】図11は上記信号Dx ,/Dx (x =0 〜
7 )を入力アドレスにより生成する回路を示している。
図8で用いた3ビットすべてのビット列それぞれ8個に
対応して設けられたNANDゲート173 の出力にそれぞ
れインバータ174 を接続している。NANDゲート173
は共通にTEST信号の反転信号/TESTも入力され
る。インバータ174 の8出力はそれぞれ、順にD0 〜D
7 もしくはさらにインバータ175 を介して、順に/D0
〜/D7 となる。
【0031】上述のごとく説明した図2の構成の回路に
おいて、図12に示されるタイミングチャートを参照し
ながら、テストモードへのエントリー動作について説明
する。/WE信号と/CAS信号が/RAS信号よりも
先にアクティブになり、かつ、/WE信号が2回カウン
トされると、この2回目に/WE信号がアクティブにな
る時点で、ENTRY/EXIT回路14がTEST信号
を発生する。また、同時に2回目の/WE信号のアクテ
ィブ時にロウアドレスバッファが動作して、ロウアドレ
スA0(R)〜A12(R) をチップ内部に取り込むが、それら
のうちA0 〜A7 までがラッチ回路13に入力され、その
時発生されるTEST信号により、A0〜A7 の状態が
ラッチされる。これにより、データに対するスクランブ
ラの状態がセットされたことになる。この後は、特別な
EXITサイクル動作をさせない限り、テストモードは
解除されず、DRAM内にこのスクランブラ状態はラッ
チされたままとなる。
【0032】次に、テストモードの書き込み動作を説明
する。ENTRYサイクル終了後、/RAS信号、/C
AS信号、/WE信号を全てプリチャージ状態に戻し、
その後で、通常のDRAMの書き込み動作を行えば達成
できる。例えば、上記のように使用するDRAMが×1
ビット構成の製品であれば、データ入力Dinのピンから
入力された書き込みデータは、各16Mビットセルアレ
ー毎に8ビットの同一データを送ることになる。
【0033】各16Mビットアレー毎に設けられたデー
タ・スクランブラ11を、書き込みデータが通過するとき
に、すでに設定されているスクランブラ状態に基いてデ
ータにスクランブルがかかる。つまり、8ビットのスク
ランブル信号CHNGi(i=0 〜7 )のうち“0”に
対応するデータはそのままスルーするが、“1”に対応
するデータは反転して各ビットに伝達することになる。
そのデータ・スクランブラを通った8ビットのデータ
(8対のRWD線対上に伝搬される)は、活性化されて
いる2個の512Kセルブロックのうちアドレス指定さ
れたいずれか一方側に書き込まれる。すなわち、上記8
ビットのデータは前記図18に示す8カラムに入力さ
れ、ワード線が立ち上がっているCELL0 からCEL
L7 の8ビットに書き込まれる。
【0034】次に、テストモードの読み出し動作を説明
する。上記の書き込み動作が終了し、全セルアレー、あ
るいはテストに必要な一部のセルアレーにデータを書き
込んだ後に、通常のリード動作を行えば達成できる。前
記図18に示されているように、ロウアドレスで選択さ
れて立ち上がったワード線WLにつながっているセルの
データが全てセンスアンプで増幅されるが、それらのう
ち、カラムアドレスを通じてCSL(カラム選択線)で
選択された8ビットのデータが出力DQ、/DQ対に読
み出される、これらのデータはそれぞれ対応する8個の
DQバッファにて再度増幅され、図2に示されるように
8対のRWD線対に読み出される。これらRWD線対の
データはデータ・デスクランブラ12を通り、出力回路20
へと伝達される。
【0035】出力回路20へ伝達される前にエラー検出回
路18にて8ビットの一致/不一致が判定され、一致して
いれば、出力ピンの信号Dout に“1”を、一致してい
なければ“0”を出力する。書き込み時にはデータ・ス
クランブラ11を通過しているために、一般的には、セル
からRWD線に読み出された8ビットデータは、エラー
が無い場合でもばらばらであるが、データ・デスクラン
ブラ12に設定されている状態はデータ・スクランブラに
設定されているスクランブル状態と同一設定であるため
に、データ・デスクランブラ12出力時点で8ビットは、
エラーが無い場合にはスクランブル前の書き込み状態に
戻され、一致することになる。勿論、エラーがある場合
はここで一致していないことになる。
【0036】従って、エラー検出回路18での一致/不一
致の判定は従来のパラレルビットテストモードの判定回
路と全く同じ回路構成で達成でき、本発明を実現するに
は、入力回路とRWD線対の間にデータ・スクランブラ
11を設け、かつRWD線対と出力回路との間にデータ・
デスクランブラ12を設けるだけでよい。勿論、これらを
制御するENTRY/EXIT回路14やラッチ回路13は
必要になる。図13は上記実施例の応用例であり、スク
ランブラ情報モニタ機能を付加した場合の要部構成を示
す回路図である。データがどのようにスクランブルされ
るかの情報を外部より確認する機構を設ける。図13に
おいて、スクランブラの条件を設定するアドレスA0 〜
A7 が各々入力されるパッド21それぞれにロウアドレス
バッファ22、カラムアドレスバッファ23が接続されるの
は従来構成と同様であるが、さらにスクランブルモニタ
回路24が接続されている。スクランブルモニタ回路24は
信号MONにより制御される。
【0037】図14はスクランブルモニタ回路24の具体
例を示す回路図である。スクランブル信号/CHNGi
(i=0 〜7 )で制御される電源側のPチャネルMOS
トランジスタ241 及び接地電位側のNチャネルMOSト
ランジスタ244 、その間に直列に接続されたPチャネル
MOSトランジスタ242 及びNチャネルMOSトランジ
スタ243 を設けている。トランジスタ243 のゲートに
は、信号MONが印加される、トランジスタ242 のゲー
トには、インバータ245 により信号/MONが印加され
る。トランジスタ242 と243 のドレイン接続点は対応す
るアドレスAi(i=0 〜7 )のパッド21に繋がる。
【0038】図15はモニタサイクルを付加したタイミ
ングチャートである。ENTRYサイクル後、EXIT
サイクル前のテストモード(TESTが高レベル状態)
時において、WCBRのサイクルで/WEを2回サイク
ルすると、モニタ信号MONが立ち上がり、その時にラ
ッチされているスクランブル状態を外部、例えばアドレ
スピン(図示せず)に出力する。テスター側はこれによ
りスクランブル状態を確認することができる。図15中
のOPENは、テスター側のドライバ(図示せず)をオ
ープン状態にする期間であることを意味している。
【0039】図16は本発明の他の実施例を示す回路図
であり、双方向のデータ・スクランブラ25を使用するこ
とを念頭においた回路である。図1と同様箇所には同一
の符号を付し、動作の説明は、図1の構成と基本的に同
様であるので省略する。
【0040】上記各実施例によれば、従来のパラレルテ
ストでは検出不可能だった項目のテストがパラレルテス
トできるようになる。また、パラレルテストの項目の種
類が豊富に作成できる。しかも、トータルのテスト時間
の短縮が可能となる利点がある。
【0041】なお、上記実施例では、TEST信号は図
12のタイミングチャートに示されているように、WC
BRの2回目の/WEで立ち上がり(エントリーサイク
ル)、/RASオンリーサイクルが入力されて立ち下が
る(イグジットサイクル)という信号である。勿論、こ
の実施例のテストモードへのENTRY/EXIT回路
14は他のサイクルでも達成可能であるし、特にサイクル
を設けなくとも、パッドに信号を与えることでTEST
信号を立ち上がらせることも可能である。
【0042】
【発明の効果】データのスクランブラを内蔵すること
で、テストモードでの書き込みパターンを自由に設定で
きるようになり、従来のパラレルテストでは検出不可能
たっだ項目のテストがパラレルテスト可能になる。パラ
レルテストの自由度が大幅に向上し、しかもトータルの
テスト時間の短縮が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す要部の回路図。
【図2】図1の構成をより具体的に示す回路図。
【図3】テストモードへのエントリーサイクルを示す一
例としての波形図。
【図4】図1におけるデータ・スクランブラの具体例を
示す回路図。
【図5】図1におけるデータ・デスクランブラの具体例
を示す回路図。
【図6】図1におけるラッチ回路の具体例を示す回路
図。
【図7】図2におけるマルチプレクサとその周辺の構成
を示す回路図。
【図8】図7のマルチプレクサを制御動作するための構
成を示す回路図。
【図9】図2におけるデマルチプレクサとエラー検出回
路その周辺の構成を示す回路図。
【図10】図9におけるデマルチプレクサの具体的例を
示す回路図。
【図11】図10のマルチプレクサを制御動作するため
の構成を示す回路図。
【図12】図2の回路動作に係るタイミングチャート。
【図13】本発明の実施例の応用例であり、スクランブ
ラ情報モニタ機能を付加した場合の要部構成を示す回路
図。
【図14】スクランブルモニタ回路の具体例を示す回路
図。
【図15】本発明のモニタサイクルを付加したタイミン
グチャート。
【図16】本発明の他の実施例を示す回路図。
【図17】64MビットDRAMチップでの32ビット
パラレルテストを示す構成図。
【図18】図17の一部の回路図。
【符号の説明】
11…データ・スクランブラ、12…データ・デスクランブ
ラ、13…ラッチ回路、14…ENTRY/EXIT回路、
15…データ線(対)、16…マルチプレクサ、17…デマル
チプレクサ、18…エラー検出回路、19…入力回路、20…
出力回路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/66 F 7630−4M 27/04 21/822 H01L 27/04 T

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 メモリセルにデータを伝送する複数のデ
    ータ線と、 前記データのスクランブル条件を設定するための信号を
    ラッチする信号ラッチ手段と、 前記データを前記スクランブル条件に応じて任意にスク
    ランブルする機能を有したデータスクランブラ手段と、 所定の信号サイクルによりテストモードが開始され、前
    記信号ラッチ手段から前記データスクランブラ手段に前
    記スクランブル条件が伝達され、前記データスクランブ
    ラ手段を機能させる制御手段とを具備したことを特徴と
    する半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記信号ラッチ手段はロウアドレス信号
    の一部を利用することを特徴とする請求項1記載の半導
    体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記制御手段には他の所定の信号サイク
    ルにより前記テストモードが解除され、前記データスク
    ランブラ手段を無効とする機能を備えていることを特徴
    とする請求項1記載の半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 前記データのスクランブル条件を外部に
    出力するモニタ手段をさらに具備することを特徴とする
    請求項1記載の半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 前記データスクランブラ手段は前記テス
    トモード時、前記データを前記スクランブル条件によっ
    てスクランブルするデータ・スクランブラと、前記テス
    トモードにより前記メモリセルを介して前記データ線に
    読み出されたデータを前記スクランブル条件によってデ
    スクランブルするデータ・デスクランブラとを具備する
    ことを特徴とする請求項1乃至4いずれかに記載の半導
    体記憶装置。
  6. 【請求項6】 前記データスクランブラ手段は前記テス
    トモード時、前記データを前記スクランブル条件によっ
    てスクランブルするデータ・スクランブラと、前記テス
    トモードにより前記メモリセルを介して前記データ線に
    読み出されたデータを前記スクランブル条件によってデ
    スクランブルするデータ・デスクランブラとを備え、さ
    らに前記データ・デスクランブラをそれぞれ介した前記
    データ線の相補データについて正誤判定をする検出手段
    を具備することを特徴とする請求項1乃至4いずれか記
    載の半導体記憶装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004310802A (ja) * 2003-04-01 2004-11-04 Sony Corp 半導体記憶装置
KR100463238B1 (ko) * 2002-04-04 2004-12-29 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 소자

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2751461B1 (fr) * 1996-07-22 1998-11-06 Sgs Thomson Microelectronics Dispositif de controle de finalite de test
JPH10223000A (ja) * 1997-02-04 1998-08-21 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
KR100269319B1 (ko) * 1997-12-29 2000-10-16 윤종용 동시칼럼선택라인활성화회로를구비하는반도체메모리장치및칼럼선택라인제어방법
JPH11203889A (ja) * 1998-01-19 1999-07-30 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
KR100265764B1 (ko) * 1998-02-02 2000-10-02 윤종용 다수군의 데이터 입출력 채널들 중 어느 일군이 선택되어 테스트되는 반도체 메모리장치
DE19904375C2 (de) * 1999-02-03 2001-01-04 Siemens Ag Verfahren zur Funktionsüberprüfung von Speicherzellen eines integrierten Halbleiterspeichers
DE19922155A1 (de) * 1999-05-12 2000-11-23 Giesecke & Devrient Gmbh Speicheranordnung mit Adreßverwürfelung
KR100442603B1 (ko) * 2001-03-20 2004-08-02 삼성전자주식회사 고속 패킷 데이터 전송 이동통신시스템에서 패킷 데이터채널 및 패킷 데이터 제어 채널을 스크램블링하기 위한장치 및 방법
US6941499B1 (en) * 2001-06-18 2005-09-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Method to verify the performance of BIST circuitry for testing embedded memory
DE10322541A1 (de) * 2003-05-19 2004-12-16 Infineon Technologies Ag Speicherbaustein mit integrierter Adressscramblereinheit und Verfahren zum Verscrambeln einer Adresse in einem integrierten Speicher
DE102007009526B4 (de) * 2007-02-27 2017-08-24 Infineon Technologies Ag Vorrichtung zum Speichern eines binären Zustandes
US8429330B2 (en) * 2008-09-12 2013-04-23 Sandisk Technologies Inc. Method for scrambling data in which scrambling data and scrambled data are stored in corresponding non-volatile memory locations
US8145855B2 (en) 2008-09-12 2012-03-27 Sandisk Technologies Inc. Built in on-chip data scrambler for non-volatile memory
US8375225B1 (en) 2009-12-11 2013-02-12 Western Digital Technologies, Inc. Memory protection
JP5846664B2 (ja) * 2011-12-28 2016-01-20 インテル・コーポレーション メモリ回路試験エンジン用の汎用アドレススクランブラ
US9246519B2 (en) * 2012-11-08 2016-01-26 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Test pattern optimization for LDPC based flawscan

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5859649A (ja) * 1981-10-02 1983-04-08 Nec Corp 信号発生回路
CA1259680A (en) * 1986-05-06 1989-09-19 Mosaid Technologies Inc. Digital signal scrambler
JPS6447972A (en) * 1987-08-19 1989-02-22 Nec Corp Memory ic testing circuit
JPH01308979A (ja) * 1988-06-07 1989-12-13 Mitsubishi Electric Corp Ic試験装置
US5134584A (en) * 1988-07-22 1992-07-28 Vtc Incorporated Reconfigurable memory

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100463238B1 (ko) * 2002-04-04 2004-12-29 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 소자
JP2004310802A (ja) * 2003-04-01 2004-11-04 Sony Corp 半導体記憶装置

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