JP4497801B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、冗長メモリセルを有する半導体記憶装置、特にその冗長メモリセルの試験機能に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体記憶装置は、一連のウエハプロセスで多数の記憶回路を一括して形成することによって製造される。形成された個々の記憶回路は、アドレス信号によって選択されるようになっている。従って、選択可能な記憶回路の内に1つでも欠陥があれば、その半導体記憶装置は使い物にならない不良品となってしまう。特に、個々の記憶回路の寸法が小型化され、かつ集積度が向上して記憶容量が大きくなるに従って、完全無欠な半導体記憶装置を製造することは困難になる。
【0003】
このため、半導体記憶装置が同一パターンの記憶回路を複数並べて構成されることに着目し、予め代替用の記憶回路を用意しておき、本来使用するべき記憶回路に欠陥が有った場合に、その代替用の記憶回路で置き換えるという方法が採用されている。
【0004】
図2は、冗長メモリセルを有する従来のDRAM(Dynamic Random Access Memory)の一例を示す構成図である。
このDRAMのメモリセルアレイ10は、平行に配置されたワード線WLi(但し、i=1〜m)と冗長ワード線WLrを備え、これらのワード線WLi,WLrに交差して平行に配置されたビット線対BLj,/BLj(但し、j=1〜n、また「/」は反転を意味する)と冗長ビット線対BLr,/BLrを有している。
【0005】
ワード線WLiとビット線対BLj,/BLjの各交差箇所には、メモリセル(MC)11i,j が配置されている。また、冗長ワード線WLrとビット線対BLj,/BLj及び冗長ビット線対BLr,/BLrの各交差箇所には、冗長メモリセル12r,k (但し、k=1〜n,r)が配置され、更に、冗長ビット線対BLr,/BLrとワード線WLi及び冗長ワード線WLrの各交差箇所には、冗長メモリセル13l,r (但し、l=1〜m,r)が配置されている。
【0006】
各メモリセル11i,j は、それぞれキャパシタとトランジスタで構成され、このトランジスタがワード線WLiによってオン/オフ制御されて、ビット線BLj,/BLjからキャパシタへのデータ(電荷)の書き込みや読み出しが行われるものである。各冗長メモリセル12r,k ,13l,r も同様である。
【0007】
このDRAMは、ワード線WLiを選択するために、行アドレス信号RADを解読して行選択信号R1,R2,…,Rmの内のいずれか1つにレベル“H”を出力する行アドレスデコーダ20を有している。行アドレスデコーダ20の出力側には、行置換回路30とワード線ドライバ40が接続されている。
【0008】
行置換回路30は、特定のワード線に接続されたメモリセル11に欠陥があるときに、冗長ワード線WLrをその代替として置き換えるための回路である。行置換回路30は試験用のパッド31を有し、このパッド31は抵抗32でプルダウンされると共に、インバータ33に接続されている。インバータ33の出力側は、否定的論理積ゲート(以下、「NAND」という)34の一方の入力側に接続されている。NAND34の他方の入力側には、行アドレス信号RADが活性化された時に、“H”となる制御信号XRが与えられるようになっている。NAND34の出力側はノードN1に接続されている。
【0009】
制御信号XRは、更にPチャネルMOSトランジスタ(以下、「PMOS」という)35のゲートに与えられるようになっている。PMOS35のソースとドレインは、それぞれ電源電位VCCとノードN2に接続されている。
【0010】
ノードN1,N2間には、m組の直列接続されたNチャネルMOSトランジスタ(以下、「NMOS」という)36iとヒューズ37iが並列に接続され、これらの各NMOS36iのゲートには、それぞれ行選択信号Riが与えられている。また、ノードN2には、直列に接続された2個のインバータ38a,38bからなる保持回路が接続されている。更に、ノードN2にはインバータ39が接続され、このインバータ39の出力側から制御信号XFが出力されて、ワード線ドライバ40に与えられるようになっている。
【0011】
ワード線ドライバ40は、各行選択信号Riに対応したNAND41iを有しており、これらのNAND41iに一方の入力側に行選択信号Riが与えられ、他方の入力側に制御信号XFが共通に与えられるようになっている。各NAND41iの出力側は、それぞれ反転増幅器42iを介してワード線WLiに接続されている。更に、ワード線ドライバ40は、制御信号XFを入力とする反転増幅器43を有しており、この反転増幅器43の出力側に冗長ワード線WLrが接続されている。
【0012】
各ビット線対BLj,/BLjは、それぞれセンスアンプ(SA)51jに接続されると共に、スイッチ用のNMOS52j,53jを介して、データ線DL,/DLに接続されている。また、冗長ビット線対BLr,/BLrは、センスアンプ51rに接続されると共に、スイッチ用のNMOS52r,53rを介して、データ線DL,/DLに接続されている。これらのNMOS52j,53j,52r,53rは、列アドレス信号CADに基づいて、列アドレスデコーダ60と列切替回路70から制御されるようになっている。
【0013】
列アドレスデコーダ60は、列アドレス信号CADが与えられたときに、これを解読して列選択信号C1,C2,…,Cnの内のいずれか1つを“H”にして出力するものである。列アドレスデコーダ60の出力側には、列切替回路70が接続されている。
【0014】
列切替回路70は試験用のパッド71を有し、このパッド71は抵抗72でプルダウンされると共に、インバータ73に接続されている。インバータ73の出力側は、NAND74の一方の入力側に接続されている。NAND74の他方の入力側には、電源投入直後の一定時間だけ“L”となり、その後“H”に変化する初期信号INTが与えられるようになっている。NAND74の出力側はノードNC0に接続され、このノードNC0に制御信号YFDが出力されるようになっている。
【0015】
ノードNC0は、ヒューズ751を介してノードNC1に接続され、更にこのノードNC1がヒューズ752を介してノードNC2に接続されている。以下同様に、ヒューズ752,753,…,75nを介して、ノードNC3,NC4,…,NCnが直列に接続されている。ノードNCnは、PMOS76を介して電源電位VCCに接続されると共に、PMOS77を介して電源電位VCCに接続されている。PMOS76のゲートには、制御信号YFDが与えられ、PMOS77のゲートには、ノードNCnの電位がインバータ79を介して与えられるようになっている。
【0016】
列切替回路70は、列アドレスデコーダ60から与えられる各列選択信号Cjに対応して、それぞれノードNCjのレベルでオン/オフ制御される2つのトランスファゲート(以下、「TG」という)80j,81jを有している。TG80jは、ノードNCjの“L”,“H”に応じて、オン状態及びオフ状態になるものである。一方、TG81jは、ノードNCjの“L”,“H”に応じて、オフ状態及びオン状態となるものである。
【0017】
TG80jの出力側は、NMOS52j,53jのゲートに接続され、TG81jの出力側は、NMOS52j +1,53j +1のゲートに接続されている。また、列選択信号Cnに対応するTG81nの出力側は、冗長ビット線対BLr,/BLrに対応するNMOS52r,53rのゲートに接続されている。
【0018】
データ線DL,/DLは、リードアンプ(RA)90に接続されている。リードアンプ90は、データ線DL,/DLに接続されたビット線対BLj,/BLjの信号を増幅して“H”または“L”のデータ信号DBを出力するもので、この出力側に出力バッファ100が接続されている。
【0019】
出力バッファ100は、データ信号DBが与えられるインバータ101と、このインバータ101の出力信号を反転して出力するPMOS102とNMOS103によるCMOSインバータで構成されており、このCMOSインバータから出力データDOUTが出力されるようになっている。
【0020】
次に動作を説明する。
このDRAMは、すべてのヒューズ371〜37m,751〜75nが切断されていない状態で、半導体ウエハ上に形成される。従って、列切替回路70のパッド71に何も接続しない状態では、制御信号YFDは“L”となり、TG801〜80nはすべてオン状態、TG811〜81nはすべてオフ状態となる。これにより、列アドレスデコーダ60から出力される列選択信号C1〜Cnは、それぞれビット線対BL1、/BL1〜BLn,/BLnに対応するNMOS521,531〜52n,53nのゲートに与えられる。
【0021】
また、行置換回路30のパッド31に何も接続しない状態で、行アドレス信号RADが与えられると、この行アドレス信号RADで選択された行選択信号Riと、制御信号XRが“H”となる。これにより、ノードN1は“L”となり、PMOS35はオフ状態となるので、行選択信号Riでオン状態となったNMOS36iとヒューズ37iを介してノードN2は“L”となり、制御信号XFは“H”となる。従って、行選択信号Riに対応するワード線WLiがワード線ドライバ40のNAND41iと反転増幅器42iによって駆動される。
【0022】
このように、すべてのヒューズ371〜37m,751〜75nを切断せず、かつ、パッド31,71に何も接続しない状態では、行アドレス信号RADと列アドレス信号CADによって、本来のメモリセル11i,j がアクセスされる。従って、この状態で本来のメモリセル11i,j の試験が行われる。そして、本来のメモリセル11i,j に欠陥がなければ、このDRAMは良品とされる。
【0023】
もしも、特定のワード線(例えばWL2)に接続されるメモリセル112,j に欠陥があると、冗長メモリセル12r,k の試験が行われる。また、特定のビット線対(例えば、BL3,/BL3)に接続されるメモリセル11i,3 に欠陥があると、冗長メモリセル13l,r の試験が行われる。
【0024】
冗長メモリセル12r,k の試験では、行置換回路30のパッド31にプローブを介して“H”の試験信号RRTを印加する。これによりノードN1は“H”となる。また、行アドレス信号RADが与えられていないときは制御信号XRが“L”となってPMOS35がオン状態となり、ノードN2は“H”となる。ノードN2の電位は、インバータ38a,38bによる保持回路で保持される。ここで行アドレス信号RADが与えられると、制御信号XRが“H”となってPMOS35はオフ状態となるが、ノードN2のレベルは“H”のままで変化しない。これにより、制御信号XFが“L”となり、行アドレス信号RADの値とは無関係に、冗長ワード線WLrのみが駆動される。これにより、冗長ワード線WLrに接続される冗長メモリセル12r,k の試験を行うことができる。
【0025】
この結果、欠陥メモリセルを有するワード線WL2を、冗長メモリセル12r,k を有する冗長ワード線WLrで置き換える場合、このワード線WL2に対応するヒューズ372を切断すれば良い。これにより、行アドレス信号RADによって行選択信号R2が“H”になったとき、ノードN2が“H”となり、制御信号XFが“L”となる。従って、ワード線WL2は駆動されず、これに代わって冗長ワード線WLrが駆動される。
【0026】
一方、冗長メモリセル13l,r の試験では、列切替回路70のパッド71にプローブを介して“H”の試験信号CRTを印加する。これにより、NAND74から出力される制御信号YFDは“H”となり、ノードNC0〜NCmはすべて“H”となって、列アドレスデコーダ60から出力される列選択信号Cnは、冗長メモリセル13l,r が接続される冗長ビット線対BLr,/BLrの接続制御用のNMOS52r,53rのゲートに与えられるようになる。これにより、冗長ビット線対BLr,/BLrに接続される冗長メモリセル13l,r の試験を行うことができる。
【0027】
この結果、欠陥メモリセルを有するビット線対BL3,/BL3の使用を停止して、冗長メモリセル13l,rを有する冗長ビット線対BLr,/BLrに切り替える場合、このビット線対BL3,/BL3に対応するヒューズ753を切断すれば良い。これにより、ノードNC0の制御信号YFDが“L”の時、ノードNC1〜NC2が“L”となる。また、ノードNC3〜NCnは、PMOS76等によって“H”となる。これにより、ビット線対BL1,/BL1及びBL2,/BL2は、列アドレスデコーダ60から出力される列選択信号C1,C2によってそれぞれ選択される。また、ビット線対BL4,/BL4〜BLn,/BLnは、列選択信号C3〜Cn-1によってそれぞれ選択される。そして、冗長ビット線対BLr,/BLrが、列選択信号Cnによって選択されることになる。
【0028】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のDRAMでは、次のような課題があった。
冗長メモリセル12r,k ,13l,r の試験を行う場合、それぞれパッド31,71にプローブを接触させて、“H”の信号を印加するようにしているが、内部が正しく冗長メモリセルの試験が行われる状態に設定されているか否かを、外部から確認することができなかった。このため、試験回路の論理ミス、形成された回路パターンの不良、或いはプローブの接触不良等があって、正しく冗長メモリセルの試験が行われていないにも拘らず、冗長メモリセルが正常である旨の試験結果が出る場合があった。
【0029】
本発明は、前記従来技術が持っていた課題を解決し、冗長メモリセルの試験において内部に試験状態が正しく設定されているか否かをチェックすることができる試験回路を有する半導体記憶装置を提供するものである。
【0030】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、本発明の内の第1の発明は、メモリセルに欠陥がある場合にその欠陥メモリセルに代えて用いるためにワード線に対応して設けられた第1の冗長メモリセル及びビット線に対応して設けられた第2の冗長メモリセルと、前記第1及び第2の冗長メモリセルの試験時に外部から試験状態を設定するための第1及び第2の試験信号がそれぞれ印加される第1及び第2の電極と、前記メモリセル及び前記冗長メモリセルから読み出されるデータを出力する出力回路とを備えた半導体記憶装置において、
前記出力回路は、前記第1及び第2の電極に前記第1及び第2の試験信号が同時に与えられたときには前記冗長メモリセルから読み出されるデータに拘らず常にハイレベルの信号を出力し、該第1及び第2の試験信号の内の一方の試験信号が与えられたときには試験対象の冗長メモリセルから読み出されるデータに応じた信号を出力するように構成している。
【0031】
第2の発明は、第1の発明における出力回路を、第1及び第2の試験信号と該第1及び第2の試験信号に基づいてそれぞれ生成される第1及び第2の内部制御信号がすべて正常な論理値であることを判定する第1の論理ゲートと、前記第1の論理ゲートの出力信号に基づいて冗長メモリセルから読み出されたデータを出力する第2の論理ゲートとを備えた構成にしている。
【0032】
第3の発明は、第1の発明における出力回路を、第1及び第2の試験信号と該第1または第2の試験信号に基づいて生成される内部制御信号がすべて正常な論理値であることを判定する第1の論理ゲートと、前記第1の論理ゲートの出力信号に基づいて前記冗長メモリセルから読み出されたデータを出力する第2の論理ゲートとを備えた構成にしている。
【0034】
第1〜第3の発明によれば、以上のように半導体記憶装置を構成したので、次のような作用が行われる。
半導体記憶装置の冗長メモリセルの試験時に、外部から第1及び第2の試験信号が同時に印加されたときに内部の信号が正常であれば、この半導体記憶装置の出力回路からハイレベルの信号が出力され、冗長メモリセルの試験構成が正常であることが判定される。次に、第1または第2の試験信号の内の一方のみを印加して、対応する冗長メモリを試験すると、出力回路からは該当するメモリセルから読み出されたデータに応じた信号が出力される。従って、冗長メモリセルの試験が正常に行われているか否かを確認することができる。
【0041】
【発明の実施の形態】
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態を示すDRAMの構成図であり、図2中の要素と共通の要素には共通の符号が付されている。
このDRAMは、冗長メモリセルを有するメモリセルアレイ10を有している。メモリセルアレイ10は、平行に配置されたm本のワード線WLi(但し、i=1〜m)と1本の冗長ワード線WLrを有している。また、これらのワード線WLi,WLrに交差するように、平行に配置されたn組のビット線対BLj,/BLj(但し、j=1〜n)と1組の冗長ビット線対BLr,/BLrを有している。
【0042】
ワード線WLiとビット線対BLj,/BLjとの各交差箇所には、それぞれ本来のメモリセル11i,j が配置されている。また、冗長ワード線WLrと、ビット線対BLj,/BLj及び冗長ビット線対BLr,/BLrとの各交差箇所には、冗長メモリセル12r,k (但し、k=1〜n,r)が配置されている。更に、冗長ビット線対BLr,/BLrと、ワード線WLi及び冗長ワード線WLrとの各交差箇所には、冗長メモリセル13l,r (但し、l=1〜m,r)が配置されている。
【0043】
各メモリセル11i,j は、図示しないが、それぞれ1個のキャパシタと1個の絶縁ゲート型のトランジスタで構成されている。そして、トランジスタがワード線WLiによってオン/オフ制御され、ビット線BLj,/BLjからキャパシタへのデータの書き込みまたは読み出しが行われるようになっている。各冗長メモリセル12r,k ,13l,r も同様である。
【0044】
このDRAMは、ワード線WLiを選択するための行アドレスデコーダ20を有している。行アドレスデコーダ20は、行アドレス信号RADが与えられたときに、これを解読して行選択信号R1,R2,…,Rmの内のいずれか1つを“H”にして出力するものである。行アドレスデコーダ20の出力側には、行置換回路30とワード線ドライバ40が接続されている。
【0045】
行置換回路30は、特定のワード線WLiまたはこのワード線WLiに接続されたメモリセル11に欠陥があるときに、そのワード線WLiの使用を禁止して冗長ワード線WLrをその代替として置き換えるための回路である。
【0046】
行置換回路30は試験用のパッド31を有し、このパッド31は抵抗32を介して接地電位GNDにプルダウンされると共に、インバータ33に接続されている。インバータ33の出力側は、2入力のNAND34の一方の入力側に接続されている。NAND34の他方の入力側には、行アドレス信号RADが活性化された時に、同時に活性化されて“H”となる制御信号XRが与えられるようになっている。NAND34の出力側はノードN1に接続されている。
【0047】
制御信号XRは、更にPMOS35のゲートに与えられるようになっている。PMOS35のソースとドレインは、それぞれ電源電位VCCとノードN2に接続されている。
【0048】
ノードN1,N2間には、m組の直列接続されたNMOS36iとヒューズ37iが並列に接続され、これらの各NMOS36iのゲートには、それぞれ行選択信号Riが与えられている。また、ノードN2には、直列に接続された2個のインバータ38a,38bからなる保持回路が接続されている。更に、ノードN2にはインバータ39が接続され、このインバータ39の出力側から制御信号XFが出力されるようになっている。
【0049】
ワード線ドライバ40は、各行選択信号Riに対応した2入力のNAND41iを有しており、これらのNAND41iに一方の入力側に行選択信号Riが与えられ、他方の入力側に制御信号XFが共通に与えられるようになっている。各NAND41iの出力側は、それぞれ反転増幅器42iを介してワード線WLiに接続されている。更に、ワード線ドライバ40は、制御信号XFを入力とする反転増幅器43を有しており、この反転増幅器43の出力側に冗長ワード線WLrが接続されている。
【0050】
各ビット線対BLj,/BLjは、それぞれセンスアンプ51jに接続されると共に、スイッチ用のNMOS52j,53jを介して、データ線DL,/DLに接続されている。また、冗長ビット線対BLr,/BLrは、センスアンプ51rに接続されると共に、スイッチ用のNMOS52r,53rを介して、データ線DL,/DLに接続されている。これらのNMOS52j,53j,52r,53rは、列選択信号CADに基づいて、列アドレスデコーダ60と列切替回路70から制御されるようになっている。
【0051】
列アドレスデコーダ60は、列アドレス信号CADが与えられたときに、これを解読して列選択信号C1,C2,…,Cnの内のいずれか1つを“H”にして出力するものである。列アドレスデコーダ60の出力側には、列切替回路70が接続されている。
【0052】
列切替回路70は試験用のパッド71を有しており、このパッド71は抵抗72を介して接地電位GNDにプルダウンされると共に、インバータ73に接続されている。インバータ73の出力側は、2入力のNAND74の一方の入力側に接続されている。NAND74の他方の入力側には、電源投入直後の一定時間だけ“L”となり、その後“H”に変化する初期信号INTが与えられるようになっている。NAND74の出力側はノードNC0に接続され、このノードNC0に制御信号YFDが出力されるようになっている。
【0053】
ノードNC0は、ヒューズ751を介してノードNC1に接続され、このノードNC1がヒューズ752を介してノードNC2に接続されている。以下同様に、ヒューズ752,753,…,75nを介して、ノードNC3,NC4,…,NCnが接続されている。ノードNCnは、PMOS76を介して電源電位VCCに接続されると共に、PMOS77を介して電源電位VCCに接続されている。PMOS76のゲートには、制御信号YFDがインバータ78を介して与えられ、PMOS77のゲートには、ノードNCnの電位がインバータ79を介して与えられている。これらのPMOS76,77、及びインバータ79による保持回路で、ノードNCnの電位が保持されるようになっている。
【0054】
列切替回路70は、列アドレスデコーダ60から与えられる各列選択信号Cjに対応して、それぞれノードNCjのレベルでオン/オフ制御される2つのTG80j,81jを有している。TG80jは、ノードNCjが“L”の時にオン状態となり、“H”の時にオフ状態となるものである。一方、TG81jは、ノードNCjが“L”の時にオフ状態となり、“H”の時にオン状態となるものである。
【0055】
TG80jの出力側は、ビット線対BLj,/BLjに対応するスイッチ用のNMOS52j,53jのゲートに接続されている。一方、TG81jの出力側は、ビット線対BLj+1 ,/BLj+1 に対応するスイッチ用のNMOS52j +1,53j +1のゲートに接続されている。また、列選択信号Cnに対応するTG81nの出力側は、冗長ビット線対BLr,/BLrに対応するスイッチ用のNMOS52r,53rのゲートに接続されている。
【0056】
データ線DL,/DLは、リードアンプ90に接続されている。リードアンプ90は、データ線DL,/DLに接続されたビット線対BLj,/BLjの信号を増幅して“H”または“L”のデータ信号DBを出力するものである。リードアンプ90の出力側には、出力バッファ100Aが接続されている。
【0057】
出力バッファ100Aは、2入力の否定的論理和ゲート(以下、「NOR」という)104を有しており、このNOR104の第1の入力側に、データ信号DBが与えられるようになっている。一方、NOR104の第2の入力側には、4入力の論理積ゲート(以下、「AND」という)105が接続され、このAND105の入力側に、制御信号YFDと試験信号RRT,CRTが与えられると共に、制御信号XFがインバータ106を介して与えられるようになっている。NOR104の出力側には、PMOS102とNMOS103によるCMOSインバータが接続されており、このCMOSインバータから出力データDOUTが出力されるようになっている。
【0058】
次に、試験時の動作を説明する。
冗長メモリセルの試験に先立って、DRAMのパッド31,71に同時にプローブを接触させて、“H”レベルの信号を印加し、試験回路チェックを行う。この時、試験回路の論理ミス、形成された回路パターンの不良、或いはプローブの接触不良等が存在しなければ、試験信号RRT,CRT、及び制御信号YFDは“H”となり、制御信号XFは“L”となる。これにより、出力バッファ100AのAND105の出力信号は“H”となり、出力データDOUTは、リードアンプ90から出力されるデータ信号DBに関係なく、常に“H”となる。
【0059】
もしも、試験回路の論理ミス、形成された回路パターンの不良、或いはプローブの接触不良等が存在すると、AND105の出力信号は“L”となり、出力データDOUTは、リードアンプ90から出力されるデータ信号DBに応じて、“H”,“L”に変化する。
【0060】
試験回路チェックにおいて、出力データDOUTが常に“H”であることを確認した後、冗長メモリセルの試験を行う。冗長メモリセルの試験は、前述した通り、パッド31,71の一方に“H”の信号を印加するので、出力バッファ100AのAND105の出力信号は“L”となる。これにより、出力データDOUTは、リードアンプ90から出力されるデータ信号DBに応じて“H”,“L”に変化し、従来通りの冗長メモリセルの試験が行われる。
【0061】
以上のように、この第1の実施形態のDRAMは、2つの試験信号RRT,CRTを同時に印加したときに、出力データDOUTを“H”に固定する出力バッファ100Aを有している。これにより、内部に冗長メモリセルの試験状態が正しく設定されているか否かを、チェックすることができるという利点がある。
【0062】
(第2の実施形態)
図3は、本発明の第2の実施形態を示す出力バッファの回路図である。この出力バッファ100Bは、図1中の出力バッファ100Aに代えて設けられるもので、図1中の要素と共通の要素には共通の符号が付されている。
【0063】
この出力バッファ100Bは、試験信号RRT,CRT、制御信号YFD、及びインバータ106で反転された制御信号XFが入力される4入力のNAND107を有している。NAND107の出力側は、2入力のNAND108の一方の入力側に接続され、このNAND108の他方の入力側には、リードアンプ90から出力されるデータ信号DBが与えられるようになっている。NAND108の出力側には、PMOS102とNMOS103によるCMOSインバータが接続されており、このCMOSインバータから出力データDOUTが出力されるようになっている。
【0064】
この出力バッファ100Bでは、試験信号RRT,CRT、及び制御信号YFDが“H”で、制御信号XFが“L”の時にのみ、NAND107の出力信号が“L”となり、出力データDOUTは、データ信号DBに関係なく、常に“L”となる。その他の動作は、第1の実施形態と同様で、同様の利点を有する。
【0065】
(第3の実施形態)
図4(a)〜(d)は、本発明の第3の実施形態を示す出力バッファの回路図である。これらの各出力バッファ100C〜100Fは、それぞれ図1中の出力バッファ100Aに代えて設けられるもので、図1中の要素と共通の要素には共通の符号が付されている。
【0066】
図4(a)の出力バッファ100Cは、図1中の出力バッファ100AにおけるAND105を3入力のAND105Aに代えて、制御信号YFDの入力を省略したものである。また、図4(b)の出力バッファ100Dは、図1中の出力バッファ100AにおけるAND105を3入力のAND105Aに代えると共に、インバータ106を削除し、制御信号XFの入力を省略したものである。いずれも、制御信号XF,YFDを同時に確認することはできないが、その他の動作は第1の実施形態とほぼ同様で、同様の利点を有する。
【0067】
図4(c)の出力バッファ100Eは、図3の出力バッファ100BにおけるNAND107を3入力のNAND107Aに代えて、制御信号YFDの入力を省略したものである。また、図4(d)の出力バッファ100Fは、図3の出力バッファ100BにおけるNAND107を3入力のNAND107Aに代えると共に、インバータ106を削除し、制御信号XFの入力を省略したものである。いずれも、制御信号XF,YFDを同時に確認することはできないが、その他の動作は第2の実施形態とほぼ同様で、同様の利点を有する。
【0073】
(第4の実施形態)
図5は、本発明の第4の実施形態を示す出力バッファの回路図である。
この出力バッファ100Hは、試験信号RRTと制御信号XFが与えられる2入力のNAND113と、試験信号CRTとインバータ114で反転された制御信号YFDが与えられる2入力のNAND115を有している。NAND113,115の出力側は、2入力のNAND116の入力側に接続され、このNAND116の出力側が、ノードN11に接続されている。
【0074】
更に、この出力バッファ100Hは、電源電位VCCとノードN12の間に、並列に接続されたPMOS117とNMOS118を有しており、このPMOS117とNMOS118のゲートがノードN11に接続されている。また、ノードN12と接地電位GNDの間には、PMOS102とNMOS103によるCMOSインバータが接続されている。CMOSインバータの入力側には、データ信号DBがインバータ102を介して与えられ、出力側から出力データDOUTが出力されるようになっている。
【0075】
この出力バッファ100Hでは、冗長メモリセルの試験時に内部の制御信号XF,YFDが正しいレベルにならない場合、即ち、試験信号RRTが“H”で制御信号XFが“H”、または、試験信号CRTが“H”で制御信号YFDが“L”の場合にのみ、NAND116の出力信号(即ち、ノードN11)が“H”となる。これにより、PMOS117がオフ状態、NMOS118がオン状態となり、ノードN12の電位はVCC−Vt(但し、VtはNMOS118の閾値電圧)となる。このため、出力データDOUTの“H”の電位は、電源電位VCCまで上昇せず、VCC−Vtとなる。
【0076】
一方、冗長メモリセルの試験構成が正常に設定された場合や、通常のメモリアクセス時には、ノードN11は“L”となる。これにより、PMOS117がオン状態、NMOS118がオフ状態となり、ノードN12は電源電位VCCとなって、出力データDOUTの“H”の電位は、電源電位VCCまで上昇する。
【0077】
以上のように、この第4の実施形態の出力バッファ100Hは、冗長メモリセルの試験時に、内部の制御信号が正しく設定されない場合に、出力用のCMOSインバータ回路の電源電圧を低下させる構成にしている。これにより、出力データDOUTの“H”の電位を確認することにより、内部に試験状態が正しく設定されているか否かをチェックすることができるという利点がある。
【0078】
(第5の実施形態)
図6は、本発明の第5の実施形態を示す出力バッファの回路図である。
この出力バッファ200は、従来のシンクロナスDRAM(以下、「SDRAM」という)用の出力バッファに適用したものであり、一点鎖線で囲んだ部分は、従来の出力タイミング調整回路210である。
【0079】
出力タイミング調整回路210は、データ信号DBをクロック信号CLKに同期して順次遅延させるためのフリップフロップ(以下、「FF」という)211,212と、データ信号DBまたは遅延されたデータ信号を選択して出力するためのTG213,214,215で構成されている。
【0080】
出力タイミング調整回路210では、レイテンシ1の場合、制御信号LT1を“H”にしてTG213をオン状態にし、クロック信号CLKと同一クロック周期内に出力を行うようになっている。また、レイテンシ2,3の場合、それぞれ制御信号LT2,LT3を“H”にして、TG214,215をオン状態にし、クロック信号CLKから1,2クロック周期だけ遅らせて出力を行うようになっている。
【0081】
一方、この第5の実施形態の出力バッファ200では、更に、試験信号RRT,CRT、及び制御信号XF,YFDの論理を加え、冗長メモリセルの内部の試験状態が正しく設定されたときに、レイテンシ4に相当するタイミングで出力データDOUTを出力するための回路が追加されている。
【0082】
即ち、この出力バッファ200は、試験信号RRTとインバータ221で反転された制御信号XFが与えられる2入力のNAND222と、試験信号CRTと制御信号YFDが与えられる2入力のNAND223を有している。NAND222,223の出力側は、2入力のNAND224に接続され、このNAND224から出力される制御信号LT4が、NOR225〜227の一方の入力側に与えられるようになっている。NOR225〜227の他方の入力側には、それぞれ制御信号L1〜L3が与えられ、これらのNOR225〜227から、それぞれ制御信号LT1〜LT3が、出力タイミング調整回路210に与えられるようになっている。
【0083】
また、この出力バッファ200は、FF212の出力信号を更に1クロック周期だけ遅延されるためのFF228を有しており、このFF228の出力側に、制御信号LT4で制御されるTG229が接続されている。TG213〜215,229の出力側は、インバータ230を介してPMOS231とNMOS232によるCMOSインバータに接続され、このCMOSインバータから出力データDOUTが出力されるようになっている。
【0084】
この出力バッファ200では、冗長メモリセル試験時に内部の状態が正しく設定されていれば、NAND224から出力される制御信号LT4が“H”となり、TG229がオン状態となってレイテンシ4のタイミングで出力データDOUTが出力される。
【0085】
以上のように、この第5の実施形態の出力バッファ200は、冗長メモリセルの試験時に、内部の制御信号が正しく設定されていれば、レイテンシ4のタイミングで出力データDOUTを出力させる構成にしている。これにより、出力データDOUTの出力タイミングをチェックすることにより、内部に試験状態が正しく設定されているか否かをチェックすることができるという利点がある。
【0086】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されず、種々の変形が可能である。この変形例としては、例えば、次のようなものがある。
(a) 図1中の行置換回路30の構成は、図示したものに限定されない。列切替回路70と同様の行切替回路を使用しても良い。また、図1中の列切替回路70に代えて、行置換回路30と同様の列置換回路を使用しても良い。
【0087】
(b) 出力バッファ100A等における論理ゲートの構成は、例示したものに限定されない。同様の条件設定ができるものであれば、どの様に論理ゲートを組み合わせて構成しても良い。
【0088】
(c) DRAMに適用した例を説明したが、SRAM(Static Random Access Memory)等のその他の方式の半導体記憶装置にも同様に適用できる。
【0089】
(d) 行方向と列方向に冗長メモリセルをそれぞれ1組ずつ備えたDRAMを例にして説明したが、例えば、行方向だけに冗長メモリセルを備えた半導体記憶装置にも同様に適用できる。また、同一方向に複数組の冗長メモリセルを備えた半導体記憶装置にも同様に適用できる。
【0090】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明によれば、第1及び第2の試験信号を同時に印加した時に、冗長メモリセルに対する試験状態が正しく設定されていればハイレベルを出力する出力回路を有している。これにより、内部に試験状態が正しく設定されているか否かをチェックすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施形態を示すDRAMの構成図である。
【図2】 従来のDRAMの一例を示す構成図である。
【図3】 本発明の第2の実施形態を示す出力バッファの回路図である。
【図4】 本発明の第3の実施形態を示す出力バッファの回路図である。
【図5】 本発明の第4の実施形態を示す出力バッファの回路図である。
【図6】 本発明の第5の実施形態を示す出力バッファの回路図である。
【符号の説明】
10 メモリセルアレイ
20 行アドレスデコーダ
30 行置換回路
40 ワード線ドライバ
60 列アドレスデコーダ
70 列切替回路
100A〜100H,200 出力バッファ
104 NOR
105 AND
107,108,113,115,116 NAND
Claims (3)
- メモリセルに欠陥がある場合にその欠陥メモリセルに代えて用いるためにワード線に対応して設けられた第1の冗長メモリセル及びビット線に対応して設けられた第2の冗長メモリセルと、前記第1及び第2の冗長メモリセルの試験時に外部から試験状態を設定するための第1及び第2の試験信号がそれぞれ印加される第1及び第2の電極と、前記メモリセル及び前記冗長メモリセルから読み出されるデータを出力する出力回路とを備えた半導体記憶装置において、
前記出力回路は、前記第1及び第2の電極に前記第1及び第2の試験信号が同時に与えられたときには前記冗長メモリセルから読み出されるデータに拘らず常にハイレベルの信号を出力し、該第1及び第2の試験信号の内の一方の試験信号が与えられたときには試験対象の冗長メモリセルから読み出されるデータに応じた信号を出力するように構成したことを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記出力回路は、前記第1及び第2の試験信号と該第1及び第2の試験信号に基づいてそれぞれ生成される第1及び第2の内部制御信号がすべて正常な論理値であることを判定する第1の論理ゲートと、前記第1の論理ゲートの出力信号に基づいて前記冗長メモリセルから読み出されたデータを出力する第2の論理ゲートとを備えたことを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
- 前記出力回路は、前記第1及び第2の試験信号と該第1または第2の試験信号に基づいて生成される内部制御信号がすべて正常な論理値であることを判定する第1の論理ゲートと、前記第1の論理ゲートの出力信号に基づいて前記冗長メモリセルから読み出されたデータを出力する第2の論理ゲートとを備えたことを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
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