JPH07228552A - 光学活性な２−ヒドロキシアルキルベンゾアート誘導体のジアステレオマー混合物およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 反強誘電性液晶化合物の中間原料として有
用な新規の含フッ素化合物およびその製造方法を提供す
る。 【構成】 新規化合物であるｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−
２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルアルキル＝４
−ベンジルオキシベンゾアートおよびａｎｔｉ−（１
Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチル
アルキル＝４−ベンジルオキシベンゾアートからなるジ
アステレオマー混合物、並びに有機溶媒中で、（Ｓ）−
１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロアルキルケ
トンを原料とし、アルカリ金属水素化物、４−ベンジル
オキシベンゾイルクロリドおよび金属水素化物を用いて
前記新規化合物を製造する方法。 【効果】 この新規化合物は、反強誘電性液晶化合物の
中間原料等として有用であり、簡単な操作で、効率的
に、かつ高収率で製造出来る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば大画面液晶ディ
スプレイおよび電子デバイス等の素材である反強誘電性
液晶化合物の中間原料として有用である新規の光学活性
な含フッ素化合物からなるジアステレオマー混合物およ
びその製造方法である。

【０００２】

【従来の技術】大画面液晶ディスプレイ等の素材である
反強誘電性液晶化合物の中間原料として有用である
（Ｒ）−１−トリフルオロメチルアルキル＝４−ベンジ
ルオキシベンゾアートは知られている。しかしながら、
この化合物から誘導される反強誘電性液晶化合物は強誘
電性液晶相がかなり高温側に存在するため、室温作動性
に劣り、かつ応答速度も遅く、大画面液晶ディスプレイ
材料として実用化されるに至っておらず、室温でのスイ
ッチング操作が容易な材料が強く求められている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、室温で作動し、かつ高速応答性であり、スイッチン
グ操作の容易な反強誘電性液晶化合物の中間原料として
有用な新規の光学活性なジアステレオマー混合物につき
鋭意研究した結果、本発明の化合物を発明し、また該化
合物を効率的に、高収率で製造する方法を見出し、本発
明を完成した。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は新規化合物であ
る式（１）で示されるｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒ
ドロキシ−１−トリフルオロメチルアルキル＝４−ベン
ジルオキシベンゾアート〔以下、ｓｙｎ体（１Ｓ，２
Ｒ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアートと
いう〕およびａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキ
シ−１−トリフルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオ
キシベンゾアート〔以下、ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型
２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアートという〕
からなるジアステレオマー混合物（以下、本発明化合物
という）である。

【０００５】

【化３】

【０００６】また、本発明は、有機溶媒中で、式（２）
で示される（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリ
フルオロエチルアルキルケトン（以下、原料化合物とい
う）とアルカリ金属水素化物を反応させ、次いで反応生
成物と４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドを反応さ
せた後、精製分離した生成物を、有機溶媒中で、金属水
素化物を用いて還元することにより、本発明化合物を製
造する方法に関するものである。

【０００７】

【化４】

【０００８】〔本発明化合物：ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）
型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアートおよび
ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベンジル
オキシベンゾアートからなるジアステレオマー混合物〕
本発明化合物は、前述の式（１）で示されるジアステレ
オマー混合物であり、式中、Ｒで表わされるアルキル基
は、炭素数３〜１０の直鎖状アルキル基、すなわち、ｎ
−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘ
キシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニ
ル基およびｎ−デシル基であり、それらの中でも製造の
容易性から有用であるアルキル基は炭素数４〜８の直鎖
状アルキル基である。

【０００９】本発明化合物の特に好ましい具体例を示す
と、ｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−ト
リフルオロメチルヘキシル＝４−ベンジルオキシベンゾ
アートおよびａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキ
シ−１−トリフルオロヘキシル＝４−ベンジルオキシベ
ンゾアートからなるジアステレオマー混合物、ｓｙｎ−
（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメ
チルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアートおよび
ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリ
フルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾア
ートからなるジアステレオマー混合物、およびｓｙｎ−
（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメ
チルデシル＝４−ベンジルオキシベンゾアートおよびａ
ｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフ
ルオロメチルデシル＝４−ベンジルオキシベンゾアート
からなるジアステレオマー混合物等が挙げられる。

【００１０】〔原料化合物：（Ｓ）−１−ヒドロキシ−
２，２，２−トリフルオロエチルアルキルケトン〕原料
化合物である、前述の式（２）で示される（Ｓ）−１−
ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチルアルキル
ケトンは新規化合物であり、既に出願済である（特願平
５−７７６４５）。

【００１１】上記化合物を具体的に説明すると、式中、
Ｒで表わされる直鎖状アルキル基は式（１）のＲに対応
し、好適な化合物の具体例としては、（Ｓ）−１−ヒド
ロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−ブチル
ケトン、（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフ
ルオロエチル ｎ−ヘキシルケトンおよび（Ｓ）−１−
ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−オ
クチルケトン等が挙げられる。

【００１２】〔原料化合物の製造方法〕原料化合物の製
造方法について具体的に説明すると、（Ｓ）−トリフル
オロ乳酸エチルエステルと、式（３）で示されるグリニ
ヤール試薬を反応させ（原第一段反応）、次いで反応生
成物を鉱酸で加水分解する（原第二段反応）ことにより
得ることが出来る。

【００１３】 ＲＭｇＢｒ （３） （式中、Ｒは式（１）に対応する）

【００１４】（原第一段反応）原第一段反応は、（Ｓ）
−トリフルオロ乳酸エチルエステルをエーテル溶媒に溶
解した溶液に、グリニャール試薬をエーテル溶媒に溶解
した溶液を滴下して行うのが好ましい。

【００１５】エーテル溶媒としてはジエチルエーテル、
ジグリム、およびＴＨＦ等が挙げられる。（Ｓ）−トリ
フルオロ乳酸エチルエステルとエーテル溶媒との配合割
合は（Ｓ）−トリフルオロ乳酸エチルエステル１モルに
対して、エーテル３〜７リットルが好ましい。グリニヤ
ール試薬とエーテル溶媒との配合割合はグリニヤール試
薬１モルに対して１〜４リットルが好ましい。

【００１６】（Ｓ）−トリフルオロ乳酸エチルエステル
とグリニヤール試薬の供給割合は、（Ｓ）−トリフルオ
ロ乳酸エチルエステル１モルに対して、グリニヤール試
薬は、１．９〜２．１モルが好ましい。また、（Ｓ）−
トリフルオロ乳酸エチルエステルへのグリニヤール試薬
の供給速度はグリニヤール試薬１モルを３００〜５００
分程度かけて滴下するのが好ましい。

【００１７】反応温度は−１００℃〜−４０℃が好まし
く、例えばドライアイスアセトン浴を使用して−７８℃
に保持して行なえばよい。グリニヤール試薬の反応系へ
の供給完了後、例えば２時間程度撹拌保持して、未反応
（Ｓ）−トリフルオロ乳酸エチルエステルを充分反応さ
せ、付加生成物を生成させ、次いで攪拌しながら１時間
程度かけて２５℃まで昇温するとよい。

【００１８】（原第二段反応）原第二段反応は、原第一
段反応で生成した付加生成物を鉱酸で加水分解し、原料
化合物を製造する。

【００１９】鉱酸としては、塩酸、硫酸、硝酸等が挙げ
られ、特に好ましい鉱酸は塩酸である。鉱酸は原料とし
て使用した（Ｓ）−トリフルオロ乳酸エチルエステル１
モルに対して、２〜３グラム当量が好ましい。鉱酸の濃
度は１〜５Ｎが好ましい。

【００２０】加水分解反応は、原第一段反応で得られた
反応液に鉱酸の水溶液を滴下して行うのが一般的である
が、鉱酸の水溶液に原第一段反応で得られた反応液を滴
下して行う方法を用いても差し支えない。鉱酸水溶液の
滴下時間は（Ｓ）−トリフルオロ乳酸エチルエステル１
モルに対して６０〜１２０分間が好ましい。

【００２１】加水分解反応は出来るだけ穏やかな温度で
行うことが好ましく、常温が特に好適である。鉱酸の滴
下後、更に常温付近で３０分以上攪拌保持することによ
り、反応を完結させることが好ましい。

【００２２】加水分解反応終了後、エーテル抽出等の操
作によって反応液から生成物を分離し、抽出液に無水硫
酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧
で留去し、残ったシロップ状物質をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー等により精製し、無色透明な液状の生
成物である原料化合物を取得することができる。

【００２３】〔本発明化合物：ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）
型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアートおよび
ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベンジル
オキシベンゾアートからなるジアステレオマー混合物の
製造方法〕本発明化合物は前述した通りであり、式
（４）で示されるように、まず、有機溶媒中で、上述し
た原料化合物とアルカリ金属水素化物を反応させ、反応
生成物を生成させる。

【００２４】次いで、該反応生成物と４−ベンジルオキ
シベンゾイルクロリドを反応させた後、中間生成物であ
る（Ｓ）−１−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキ
シ）−２，２，２−トリフルオロエチルアルキルケトン
〔以下、（Ｓ）−（ベンゾイルオキシ）アルキルケトン
という〕を精製分離する（第一段反応）。

【００２５】

【化５】

【００２６】次いで、式（５）で示されるように、該
（Ｓ）−（ベンゾイルオキシ）アルキルケトンを、有機
溶媒中で、金属水素化物を用いて還元することにより本
発明化合物を製造することが出来る（第二段反応）。

【００２７】

【化６】

【００２８】以下、本発明化合物の製造方法について更
に詳細に説明する。

【００２９】（第一段反応）第一段反応は、前述の式
（４）に示したように、まず、有機溶媒中で、原料化合
物とアルカリ金属水素化物を反応させ、反応生成物を生
成する。

【００３０】有機溶媒としては特に限定されるものでは
なく、例えばジエチルエーテル、ｎ−ヘキサン、トルエ
ンおよびＴＨＦ等が挙げられ、特に好ましくはジエチル
エーテルである。

【００３１】上記有機溶媒は、原料化合物１モルを基準
として、１〜５リットルが好ましく、特に好ましくは２
〜４リットルである。１リットル未満では反応熱の上昇
により水素の発生速度が増大して危険となる場合があ
り、５リットルを超えると経済的とはいえなくなる。

【００３２】アルカリ金属水素化物としては水素化リチ
ウム、水素化ナトリウムおよび水素化カリウム等が挙げ
られ、経済的に安価である等の点から、水素化ナトリウ
ムが特に好ましい。市販のアルカリ金属水素化物は通
常、油性であるので、ｎ−ヘキサン等で洗浄精製乾燥し
た後、有機溶媒に懸濁したものを用いるのがよい。

【００３３】アルカリ金属水素化物は、原料化合物１モ
ルを基準として１．０〜１．２モルが好ましい。１．０
モル未満では反応生成物の収率低下を招き、１．２モル
を超えると経済的とはいえない。

【００３４】この反応は、水素の異常発生を避け、反応
生成物を高収率で得るために、アルカリ金属水素化物の
有機溶媒懸濁液中に、原料化合物の有機溶媒溶液を滴下
することが好ましい。有機溶媒の使用比率はアルカリ金
属水素化物／原料化合物＝１／９程度の容量比に按分す
ることが好ましい。

【００３５】原料化合物の反応系への供給速度は、原料
化合物１モルを３０〜９０分程度かけて滴下するのが好
ましい。滴下をあまり短時間で行うと、反応熱によって
反応温度が上昇し、水素の発生速度が増大して危険を伴
う恐れがあり、滴下速度が遅いと経済的とはいえない。

【００３６】上記の反応は−１０℃〜１０℃が好まし
く、特に好ましくは０℃付近である。−１０℃未満では
経済的とはいえず、１０℃を超えると反応熱によって反
応温度が上昇し、水素の発生速度が増大し、危険を伴う
恐れがある。

【００３７】原料化合物の滴下完了後、撹拌しながら、
室温迄昇温し、引きつづき６０分間程度撹拌保持して、
反応を完結させ、反応生成物を得る。

【００３８】次いで、該反応生成物と、４−ベンジルオ
キシベンゾイルクロリドを有機溶媒中で反応させること
により、（Ｓ）−（ベンゾイルオキシ）アルキルケトン
を生成させる。

【００３９】有機溶媒は前述の反応で用いた有機溶媒が
使用できる。従って前述の反応により得られた反応生成
物溶液に、４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドの有
機溶媒溶液を直接加えることにより、反応を行うことが
出来る。

【００４０】４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドの
反応系への供給割合は、原料化合物１モルを基準とし
て、１．１〜１．３モルが好ましい。１．１モル未満で
は本発明化合物の収率の低下を招く恐れがあり、１．３
モルを超えると後述の精製操作が煩雑になるとともに、
経済的とはいえない。

【００４１】４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドは
有機溶媒に溶解して反応系へ供給するのが好ましい。有
機溶媒の好適な混合割合は４−ベンジルオキシベンゾイ
ルクロリド１モルに対して０．５〜２リットルが好まし
く、特に好ましくは０．９〜１．５リットルである。
０．５リットル未満では反応温度の制御が困難となる場
合があり、２リットルを超えると経済的とはいえない。

【００４２】４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドの
反応系への供給速度は、原料化合物１モルを基準として
１〜３時間が好ましい。あまり短時間ではゲル化する危
険があるとともに、反応温度の制御が困難となる場合が
あり、滴下速度があまり遅くては経済的とはいえない。

【００４３】この反応温度は−１０℃〜１０℃が好まし
く、特に好ましくは０℃付近である。−１０℃以下では
経済的とはいえず、１０℃を超えると反応温度の制御が
困難となる恐れがある。

【００４４】４−ベンジルオキシベンゾイルクロリド溶
液の滴下完了後、攪拌しながら室温まで昇温し、室温で
１５０分間程度撹拌保持することにより、反応を完結さ
せるとよい。

【００４５】反応終了後、例えば室温で、１規定塩酸を
用いて、過剰のアルカリ金属水素化物あるいは４−ベン
ジルオキシベンゾイルクロリドを、それぞれ塩化アルカ
リあるいは４−ベンジルオキシベンゾアートとし、次い
で５％炭酸水素ナトリウム溶液等によってｐＨ８程度に
調整することにより、４−ベンジルオキシベンゾアート
を水に可溶なソーダ塩とした後、エーテルを加えて生成
物を抽出し、続いて抽出液を水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧除去す
ることにより、残った淡黄色のシロップ状物質を得る。
次いで、この物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー等により精製し、活性炭等で脱色し、無色透明な液状
の中間生成物である（Ｓ）−（ベンゾイルオキシ）アル
キルケトンを得る。

【００４６】なお、原料化合物である（Ｓ）−１−ヒド
ロキシ−２，２，２−トリフルオロエチルアルキルケト
ンの１位の不斉炭素原子に結合した水酸基を、４−ベン
ジルオキシベンゾイルオキシ基に置換しても、１位の不
斉炭素原子の不斉中心は反転を起こさず、（Ｓ）−（ベ
ンゾイルオキシ）アルキルケトンとなることは確認済み
である。

【００４７】（第二段反応）次に、式（５）における反
応を説明すると、上記のようにして得られた（Ｓ）−
（ベンゾイルオキシ）アルキルケトンを、有機溶媒中
で、金属水素化物を用いて還元することにより、（Ｓ）
−（ベンゾイルオキシ）アルキルケトンのカルボニル炭
素へのヒドリドのジアステレオ面区別した攻撃を経由し
て付加生成物が生成し、これを酸処理することにより本
発明化合物が製造される。

【００４８】好適な金属水素化物としては水素化ジイソ
ブチルアルミニウム、水素化アルミニウムリチウムおよ
び水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられる。水素化アル
ミニウムリチウムを用いる場合は水素化アルミニウムリ
チウムの有機溶媒溶液が用いられ、例えば市販の水素化
アルミニウムリチウムの有機溶媒溶液としては１モル／
リットルのＴＨＦ溶液が挙げられる。

【００４９】これらの金属水素化物は、（Ｓ）−（ベン
ゾイルオキシ）アルキルケトンのカルボニル基をジアス
テレオ面区別還元して、ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｓ）型とａ
ｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｒ）型との生成比率に最も大きな影
響を及ぼすと考えられる。従って目的に応じて、金属水
素化物を適宜選択すればよい。すなわち特定の金属水素
化物を用いることにより、ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｓ）型あ
るいはａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｒ）型を選択的に生成させ
ることができる。

【００５０】例えば、ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒ
ドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアートに富んだ本発明
化合物を得るのに好適な金属水素化物として、水素化ジ
イソブチルアルミニウムが挙げられ、他方、ａｎｔｉ体
（１Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベン
ゾアートに富んだ本発明化合物を得るのに好適な金属水
素化物として水素化アルミニウムリチウムの有機溶媒溶
液が挙げられる。

【００５１】（Ｓ）−（ベンゾイルオキシ）アルキルケ
トンと金属水素化物の反応系への供給割合は、金属水素
化物の種類によって異なるが、例えば金属水素化物とし
て水素化ジイソブチルアルミニウムあるいは水素化ホウ
素ナトリウムを用いる場合は、（Ｓ）−（ベンゾイルオ
キシ）アルキルケトン１モルに対して１．０〜１．２グ
ラム当量（水素原子換算、以下同じ）が好ましい。１．
０グラム当量未満では本発明化合物の収率低下を招く恐
れがあり、１．２グラム当量を超えると経済的とはいえ
ない。

【００５２】一方、金属水素化物として水素化アルミニ
ウムリチウムを用いる場合は、（Ｓ）−（ベンゾイルオ
キシ）アルキルケトン１モルに対して１．０〜１．１グ
ラム当量が好ましい。１．０グラム当量未満では本発明
化合物の収率低下を招く恐れがあり、１．１グラム当量
を超えると、（Ｓ）−（ベンゾイルオキシ）アルキルケ
トンにおけるエステル部分も還元されて副生物が増大
し、収率の低下を招く恐れがある。

【００５３】有機溶媒としては、ＴＨＦ、ジエチルエー
テル、ｎ−ヘキサン、トルエンおよびメタノール等が挙
げられる。

【００５４】有機溶媒の使用割合は（Ｓ）−（ベンゾイ
ルオキシ）アルキルケトン１モルを基準として、１．６
〜４リットルが好ましい。１．６リットル未満では
（Ｓ）−（ベンゾイルオキシ）アルキルケトンにおける
エステル部分も還元され、副生成物が増大する可能性が
あり、４リットルを超えると経済的とはいえない。

【００５５】（Ｓ）−（ベンゾイルオキシ）アルキルケ
トンと金属水素化物の好適な混合方法は、例えば、
（Ｓ）−（ベンゾイルオキシ）アルキルケトンの有機溶
媒溶液に、金属水素化物の有機溶媒溶液を滴下するのが
好適である。逆の供給方法を行うと、（Ｓ）−（ベンゾ
イルオキシ）アルキルケトンにおけるエステル部分も還
元されて、副生成物が増大し、収率の低下を招く恐れが
ある。

【００５６】例えば、（Ｓ）−（ベンゾイルオキシ）ア
ルキルケトン１モルと、金属水素化物として水素化ジイ
ソブチルアルミニウムを前述した好適な量である１．０
〜１．２グラム当量用いた場合、上記した有機溶媒の好
適な量のうちの１リットル程度を水素化ジイソブチルア
ルミニウムに対して用い、残りの量を（Ｓ）−（ベンゾ
イルオキシ）アルキルケトンに対して用いるのが好適で
ある。

【００５７】また、金属水素化物として水素化アルミニ
ウムリチウムの有機溶媒溶液を用いた場合、上記した有
機溶媒の好適な量のうち、（Ｓ）−（ベンゾイルオキ
シ）アルキルケトン１モルに対して有機溶媒１．５リッ
トル程度を用い、残りの有機溶媒は水素化アルミニウム
リチウムの有機溶媒を利用するのが好適である。

【００５８】（Ｓ）−（ベンゾイルオキシ）アルキルケ
トン溶液中への金属水素化物溶液の滴下時間は、（Ｓ）
−（ベンゾイルオキシ）アルキルケトン１モルに対して
４０〜９０分が好ましい。４０分未満では反応熱の除去
が困難であるとともに、（Ｓ）−（ベンゾイルオキシ）
アルキルケトンにおけるエステル部分も還元されて、副
生物が増大する恐れがある。９０分間を超えると経済的
とはいえない。

【００５９】（Ｓ）−（ベンゾイルオキシ）アルキルケ
トンと金属水素化物との反応温度は−１０℃〜１０℃が
好ましい。−１０℃未満では経済的といえず、１０℃を
超えると反応温度の制御が困難になるとともに（Ｓ）−
（ベンゾイルオキシ）アルキルケトンにおけるエステル
部分も還元され、副生物が増大する恐れがある。滴下完
了後、室温に昇温して、９０分程度攪拌保持して、反応
を完結させる。

【００６０】次いで得られた付加生成物を、常法に従い
酸処理することにより、ジアステレオマー混合物である
本発明化合物を生成させる。

【００６１】酸としては鉱酸が適しており、具体的には
塩酸、硫酸、硝酸等があげられるが、それらの中でも塩
酸が最適である。塩酸を例にとると、その使用量は
（Ｓ）−（ベンゾイルオキシ）アルキルケトン１モルに
対して１〜２モルが好ましい。１モル未満では付加生成
物の分解が不十分となり、収率の低下を招く恐れがあ
り、２モルを超えると経済的とはいえない。またその濃
度は０．５〜２規定が好ましく、特に好ましくは０．８
〜１．２規定である。０．５規定未満では加水分解反応
時間が長くかかり、経済的とはいえない。２規定を超え
ると反応熱の制御が困難となり、収率の低下を招く。

【００６２】付加生成物溶液中への酸の滴下時間は、
（Ｓ）−（ベンゾイルオキシ）アルキルケトン１モルに
対して、２０〜４０分間である。２０分間未満では反応
熱の制御が困難となり収率の低下を招く恐れがあり、４
０分間を超えると経済的とはいえない。

【００６３】酸処理温度は−１０℃〜１０℃が好まし
く、特に好ましくは０℃である。−１０℃未満では経済
的とはいえず、１０℃を超えると反応熱の制御が困難と
なり、収率の低下を招く。滴下終了後、０℃で３０分間
程度攪拌保持して、反応を完結させる。

【００６４】酸処理完了後、室温まで昇温して、エーテ
ルを加えて目的生成物を抽出し、次いで抽出液を水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、溶媒を減圧濃縮することにより無色透明な液状の目
的生成物を製造することが出来る。

【００６５】〔本発明化合物がｓｙｎ体およびａｎｔｉ
体のジアステレオマー混合物であることの確認〕上記目
的生成物である本発明化合物は、前述の式（５）中に示
した通り、ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝
ベンジルオキシベンゾアートおよびａｎｔｉ体（１Ｓ，
２Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアート
からなるジアステレオマー混合物である。なお、本発明
化合物がｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型およびａｎｔｉ体
（１Ｓ，２Ｓ）型のジステレオマー混合物であること
は、以下により確認済みである。

【００６６】後記同定例２より明らかなごとく、まず、
別途、（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフル
オロエチルアルキルケトンを金属水素化物を用いて有機
溶媒中で還元することにより得られ、各種スペクトル分
析の結果より確認された１，１，１−トリフルオロアル
カン−２，３−ジオールを、光学異性体分離用カラムを
有するガスクロマトグラフィーで分析することにより、
２本の光学異性体ピークが得られ、第１ピークとしてｓ
ｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロアル
カン−２，３−ジオールが検出され、第２ピークとして
ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロ
アルカン−２，３−ジオールが検出される〔なお、これ
らの化合物は新規化合物であり、既に出願済みである
（特願平５−１３２４５３）〕。

【００６７】また、前述の反応で得られた目的生成物で
ある本発明化合物を、酸により加水分解することにより
誘導され、各種スペクトル分析の結果より確認された
１，１，１−トリフルオロアルカン−２，３−ジオール
を、上記と同様に光学異性体分離用カラムを有するガス
クロマトグラフィーで分析すると、２本の光学異性体ピ
ークが得られ、第１ピークの保持時間は、上記で得たｓ
ｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロアル
カン−２，３−ジオールの保持時間と一致し、第２ピー
クの保持時間は、上記で得たａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）
−１，１，１−トリフルオロアルカン−２，３−ジオー
ルの保持時間と一致することより、本発明化合物を酸に
より加水分解して得たジオール誘導体は、ｓｙｎ−（２
Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロアルカン−２，
３−ジオールおよびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，
１，１−トリフルオロアルカン−２，３−ジオールのジ
アステレオマー混合物であることが確認される。

【００６８】従って、本発明化合物がｓｙｎ体（１Ｓ，
２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアート
およびａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベ
ンジルオキシベンゾアートからなるジアステレオマー混
合物であることが確認される。

【００６９】〔本発明化合物におけるｓｙｎ体（１Ｓ，
２Ｒ）型／ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型の生成比率〕後
記同定例２より明らかなごとく、目的生成物より誘導さ
れた前記ジオール誘導体を光学異性体分離用カラムを用
するガスクロマトグラフィーにより分析することにより
得られる第１ピーク〔ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型〕、お
よび第２ピーク〔ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型〕の各面
積比から、目的生成物のｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型およ
びａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型の生成比率を確認するこ
とが出来る。

【００７０】また、同じく後記同定例２より明らかなご
とく、目的生成物を¹⁹ＦＮＭＲスペクトルで分析するこ
とにより得られる２本のピークのうち、−１．３３ｐｐ
ｍのピークはｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ
＝ベンジルオキシベンゾアートであり、−３．５０ｐｐ
ｍのピークはａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロキ
シ＝ベンジルオキシベンゾアートであることより、これ
らのピークの面積比から、目的生成物のｓｙｎ体（１
Ｓ，２Ｒ）型およびａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型の生成
比率を確認することが出来る。

【００７１】本発明の製造方法によれば、金属水素化物
の種類にもよるが、ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒド
ロキシ＝ベンジルオキシベンゾアート／ａｎｔｉ体（１
Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾア
ート＝７０〜２５／３０〜７５（面積比）からなるジア
ステレオマー混合物である本発明化合物が得られる。

【００７２】

【実施例】以下、参考例および実施例に基づいて本発明
を具体的に説明する。 （参考例１）〔原料化合物：（Ｓ）−１−ヒドロキシ−
２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−ヘキシルケトン
の製造〕 （原第一段反応）還流冷却器、温度計、撹拌機、ロート
を備えた四ツ口丸底フラスコに、立体配置既知の（Ｓ）
−トリフルオロ乳酸（光学純度９９．５％ｅ．ｅ）〔日
本化学会誌、１９８９（９）Ｐ１５７６〜１５８６、久
保田等著「含トリフルオロメチル化合物構成試薬として
のα−アルコキシ−１，１，３，３，３−ペンタフルオ
ロプロペンの合成と反応」の文献記載の方法により合成
したもの〕より誘導された（Ｓ）−トリフルオロ乳酸エ
チルエステル５１．６ｇ（３００ミリモル）とエーテル
１５００ｍｌを入れ、ドライアイスアセトンバス中に浸
漬し、撹拌しながら−７８℃に冷却した。

【００７３】この溶液を撹拌しながら、ｎ−ヘキシルマ
グネシウム＝ブロミド１１３．４ｇ（６００ミリモル）
のエーテル溶液１，５００ｍｌを滴下ロートから、反応
温度−５０℃以下で１８０分間かけて滴下した。滴下完
了後、−７８℃で２時間撹拌放置した後、ドライアイス
アセトンバスを取り去り、撹拌しながら６０分間かけ
て、室温まで昇温した。

【００７４】（原第二段反応）次いで、上述で得られた
反応液に２規定塩酸水溶液６００ｍｌを室温で５０分間
かけて滴下し、滴下完了後３０分間撹拌した。得られた
反応液をエーテルで抽出し、抽出液に無水硫酸マグネシ
ウムを加えて水分を除去した後、エーテルを減圧留去
し、シロップ状の粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー〔溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロパノール＝
９０／１０（容量比）〕で精製し、無色透明な液状の生
成物〔収量３８．２ｇ（１８０ミリモル）収率６０％〕
を得た。

【００７５】この生成物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、１−ヒドロキ
シ−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−ヘキシルケ
トンであることが確認された

【００７６】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ) ：０．５〜２．０５ｐｐｍ （１１Ｈ，ｍ） ：２．２０〜２．９５ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：３．４５ｐｐｍ （１Ｈ，ｍ） ：３．７２〜４．５０ｐｐｍ （１Ｈ，ｂ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ） ：−２．１７ｐｐｍ ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） ：1,７３０ｃｍ^-1 （ＣＯ） ：3,５１０ｃｍ^-1 （ＯＨ） ＭＳスペクトル ：ｍ／ｚ ２１２ （Ｍ⁺ ）

【００７７】また、 ¹ＨＮＭＲスペクトル図およびＩＲ
吸収スペクトル図を、それぞれ図１および図２に示す。

【００７８】また、この生成物を次の条件下で、光学活
性な液体クロマトグラフィーにかけた。 ・光学異性体分離カラム〔商品名：アミロース系光学異
性体分離用ＨＰＬＣカラム；ダイセル化学工業（株）
製〕 ：分離剤…アミロース・トリス〔（Ｓ）−１−フェニル
エチルカルバメートをシリカゲルでコーティングしたも
の（商品名 ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＳ）〕 ：サイズ４．６mmφ×２５０mmH ・溶離液 ：ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝
９６／４（容量比） ・流速 ：０．５ml／min ・カラム温度 ：常温 ・検出 ：紫外検出器で波長２５４nmの紫外吸収を用い
た。 ・試料 ：０．１ｍｇ

【００７９】上記光学活性な液体クロマトグラフィーの
チャートは図３の通りであり、１本の光学活性なピーク
が得られ、その保持時間は以下の通りであった。 保持時間：１０．６９分

【００８０】次いで上記生成物の比施光度〔α〕²⁵ _D お
よび光学純度を求めたところ以下の通りであった。 比施光度〔α〕²⁵ _D ：−９．５０（ｃ＝３．４７、メタ
ノール） 光学純度：９９．５％ｅｅ

【００８１】以上の結果より、生成物は（Ｓ）−１−ヒ
ドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−ヘキ
シルケトンであることが確認された。

【００８２】（実施例１）〔本発明化合物：ｓｙｎ−
（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメ
チルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアートおよび
ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリ
フルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾア
ートからなるジアステレオマー混合物の製造〕 （金属水素化物：水素化ジイソブチルアルミニウム） （第一段反応）〔（Ｓ）−１−（４−ベンジルオキシベ
ンゾイルオキシ）−２，２，２−トリフルオロエチル
ｎ−ヘキシルケトンの製造〕 温度計、攪拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四つ口丸底フラスコにｎ−ヘキサンで洗浄精製乾燥した
水素化ナトリウム４．９ｇ（２０４ミリモル）とジエチ
ルエーテル５０ｍｌを入れ、該フラスコを氷水バス中に
挿入し、攪拌しながら、０℃の懸濁液を調合した。

【００８３】次いで滴下ロートに参考例１で得た（Ｓ）
−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル
ｎ−ヘキシルケトン３６．０ｇ（１７０ミリモル）とジ
エチルエーテル４５０ｍｌを入れ、均一な溶液とし、攪
拌しながら、２８分間かけて滴下した。滴下完了後、氷
水バスを取り去り、攪拌しながら２５℃迄昇温し、引き
つづき２５℃で６０分間攪拌保持し、反応を完結させ
た。

【００８４】次いで上述のフラスコを、再度、氷水バス
中に挿入し、０℃に保持した。別途、滴下ロートに４−
ベンジルオキシベンゾイルクロリド５０．３ｇ（２０４
ミリモル）とジエチルエーテル２００ｍｌを入れ、攪拌
しながら、５５分間かけて滴下した。滴下完了後、氷水
バスを取り去り、攪拌しながら、２５℃迄昇温させ、引
きつづき２５℃で１５０分間攪拌保持して、反応を完結
させた。

【００８５】反応終了後、２５℃で１規定塩酸１７０ｍ
ｌを入れ、６０分間攪拌保持した後、５％炭酸水素ナト
リウム溶液でｐＨ８に調整した。次いでエーテルで抽出
し、抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを
加えて水分を除去した後、減圧濃縮により溶媒を留去
し、残った淡黄色のシロップ状物質をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー〔溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロピ
ルアルコール＝９６／４（容量比）〕にて精製した溶液
に、粒状活性炭３ｇを加えて３０分間攪拌した後、粒状
活性炭をろ別し、溶離液を減圧濃縮し、無色透明な液状
の生成物〔収量６１ｇ（１４５ミリモル）、収率８５
％〕を得た。

【００８６】この生成物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、１−（４−ベ
ンジルオキシベンゾイルオキシ）−２，２，２−トリフ
ルオロエチル ｎ−ヘキシルケトンであることが確認さ
れた。

【００８７】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ） ：０．４０〜１．７５ｐｐｍ （１１Ｈ，ｍ） ：２．２０〜２．７２ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：３．９０〜４．５５ｐｐｍ （３Ｈ，ｍ） ：６．６５〜７．７１ｐｐｍ （９Ｈ，ｍ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ） ：−５．５０ｐｐｍ ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） ：１，７４０ｃｍ^-1 （ＣＯ） ：１，７７０ｃｍ^-1 （ＣＯＯ） ＭＳスペクトル ：ｍ／Ｚ ４２２ （Ｍ⁺ ）

【００８８】また ¹ＨＮＭＲスペクトル図、ＩＲ吸収ス
ペクトル図をそれぞれ図４および図５に示す。

【００８９】この生成物は後述の同定例１より、（Ｓ）
−１−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−２，
２，２−トリフルオロエチル ｎ−ヘキシルケトンであ
ることが確認された。

【００９０】（第二段反応）〔金属水素化物として水素
化ジイソブチルアルミニウムを用いたｓｙｎ−（１Ｓ，
２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルオク
チル＝４−ベンジルオキシベンゾアートおよびａｎｔｉ
−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロ
メチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアートから
なるジアステレオマー混合物の製造〕 温度計、攪拌機、還流冷却器および滴下ロートを備えた
四つ口丸底フラスコに、第一段反応で得た（Ｓ）−１−
（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−２，２，２
−トリフルオロエチル ｎ−ヘキシルケトン５４．９ｇ
（１３０ミリモル）とＴＨＦ１３０ｍｌを入れ、攪拌し
ながら均一な溶液とし、氷水バス中に挿入し、０℃に調
整した。

【００９１】また、水素化ジイソブチルアルミニウム２
０．３ｇ（１４３ミリモル）とＴＨＦ１３０ｍｌを滴下
ロートに入れ、上記溶液を攪拌しながら、０℃で２５分
間かけて滴下した。

【００９２】滴下完了後、氷水バスを取り去り、攪拌し
ながら２５℃迄昇温し、引きつづき、２５℃で９０分間
攪拌保持して、反応を完結させた。

【００９３】次いで、上記で得られた反応液を再度、氷
水バスで０℃に冷却し、滴下ロートに１規定塩酸２００
ｍｌを入れ、６分間かけて滴下し、滴下完了後、０℃で
３０分間攪拌保持して反応を完結させた。得られた反応
液をエーテルで抽出し、抽出液に無水硫酸マグネシウム
を加えて水分を除去した後、エーテルを減圧留去し、無
色透明な液状の目的生成物〔収量４８．３ｇ（１１４ミ
リモル）収率８７．３％〕を得た。

【００９４】この目的生成物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、
ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳスペクトルを測定した結
果は次の通りであり、２−ヒドロキシ−１−トリフルオ
ロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアートで
あることが確認された。

【００９５】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ） ：０．４５〜１．９２ｐｐｍ （１３Ｈ、ｍ） ：２．８３〜３．２０ｐｐｍ （１Ｈ、ｍ） ：３．８４〜４．２１ｐｐｍ （１Ｈ、ｍ） ：４．２１〜４．６４ｐｐｍ （ＯＨ、ｂ） ：４．７６〜４．９３ｐｐｍ （２Ｈ、ｍ） ：６．６４〜７．８３ｐｐｍ （１０Ｈ、ｍ） ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） ：１，１１０ｃｍ^-1（ＣＯＣ） ：１，７６０ｃｍ^-1（ＣＯ） ：３，４５０ｃｍ^-1（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／Ｚ ４２４（Ｍ⁺ ）

【００９６】¹ＨＮＭＲスペクトル図およびＩＲ吸収ス
ペクトル図を、それぞれ図６および図７に示す。

【００９７】また、この生成物の¹⁹ＦＮＭＲスペクトル
を測定した結果は次の通りであり、その結果および後記
同定例２より、実施例１の第二段反応で得た目的生成物
がｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリ
フルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾア
ート／ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１
−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベ
ンゾアート＝７０／３０（面積比）からなるジアステレ
オマー混合物であることが判明した。

【００９８】¹⁹ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘ
ｔ．ＣＦ₃ ＣＯＯＨ） ：−１．３３ｐｐｍ 面積比 ７０％〔ｓｙｎ体（１
Ｓ，２Ｒ）型^*1〕 ：−３．５０ｐｐｍ 面積比 ３０％〔ａｎｔｉ体（１
Ｓ，２Ｓ）型^*1〕 （*1 後記同定例２により確認）

【００９９】（同定例１）〔実施例１の第一段反応で得
られた中間生成物が、（Ｓ）−１−（４−ベンジルオキ
シベンゾイルオキシ）−２，２，２−トリフルオロエチ
ル ｎ−ヘキシルケトンであることの同定〕 実施例１の第一段反応で得られた中間生成物である
（Ｓ）−１−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）
−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−ヘキシルケト
ン４．２２ｇ（１０ミリモル）と、３規定塩酸５０ｍｌ
とメタノール２００ｍｌを、還流冷却器、温度計、撹拌
機、ロートを備えた四ツ口丸底フラスコを入れ、撹拌し
ながら、８０℃まで昇温し、６時間還流して、加水分解
反応を行った。反応終了後、室温まで冷却した後、エー
テル抽出し、得られた抽出液を２０％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液２０ｍｌで洗浄し、次いで水２００ｍｌで洗浄
したのち、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去
した後、エーテルを減圧留去し、無色透明な液状の生成
物〔収量１．７０ｇ（８ミリモル）収率８０％〕を得
た。

【０１００】この生成物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトル、１Ｒ吸収スペクトルおよびＭＳスペ
クトルを測定した結果、参考例１と同一であり、１−ヒ
ドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−ヘキ
シルケトンであることが確認された。

【０１０１】また上記生成物を参考例１と同様な条件で
光学活性な液体クロマトグラフィーで分析したところ、
保持時間が参考例１と一致する１本の光学活性ピークが
得られ、またこの生成物の比旋光度および光学純度を測
定したところ、参考例１と一致したことより、この生成
物が（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオ
ロエチル ｎ−ヘキシルケトンであることが確認され
た。

【０１０２】以上のことより、（Ｓ）−１−ヒドロキシ
−２，２，２−トリフルオロエチルｎ−ヘキシルケトン
の１位の不斉炭素原子に結合した水酸基を、４−ベンジ
ルオキシベンゾイルオキシ基に置換しても１位の不斉炭
素原子の不斉中心は反転を起さず、（Ｓ）−１−（４−
ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−２，２．２−トリ
フルオロエチル ｎ−ヘキシルケトンが得られることが
判明した。

【０１０３】（同定例２）〔実施例１の第二段反応で得
られた目的生成物が、ｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒ
ドロキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベン
ジルオキシベンゾアートおよびａｎｔｉ−（１Ｓ，２
Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルオクチ
ル＝４−ベンジルオキシベンゾアートからなるジアステ
レオマー混合物であることの同定〕 実施例１の第二段反応で得られた目的生成物を用いて以
下の同定を行った。まず、該目的生成物を酸で加水分解
することによりジオール誘導体を生成した。次いでこの
ジオール誘導体を光学異性体分離用カラムを有するガス
クロマトグラフィーにかけた結果、２本の光学活性なピ
ークが検出され、第１ピークおよび第２ピークの保持時
間に間隔があること、また第１ピーク／第２ピーク＝７
０／３０（面積比）であることを確認した。

【０１０４】次いで、前記ジオール誘導体をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにかけ、第１フラクションお
よび第２フラクションを分取した。各フラクションをパ
ラトルエンスルホン酸を用いてアセタール交換反応を行
い、１，３−ジオキソラン誘導体とし、２７０ＭＨｚの
¹ＨＮＭＲスペクトルを求めることにより、第１フラク
ションから誘導された１，３−ジオキソラン誘導体がｔ
ｒａｎｓ体であり、第２フラクションから誘導された
１，３−ジオキソラン誘導体がｃｉｓ体であることを確
認し、これより、ジオール誘導体の第１フラクションが
ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型であり、第２フラクションが
ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型であることが確認された。

【０１０５】上記の結果より、実施例１の第二段反応で
得られた目的生成物がｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒ
ドロキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベン
ジルオキシベンゾアート／ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−
２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４
−ベンジルオキシベンゾアート＝７０／３０（面積比）
からなるジアステレオマー混合物であることを確認し
た。

【０１０６】上記同定例を更に具体的に説明する。還流
冷却器、温度計、攪拌機および滴下ロートを備えた四つ
口丸底フラスコに実施例１の第二段反応で得た目的生成
物１２．７２ｇ（３０ミリモル）、３規定塩酸１５０ｍ
ｌおよびメタノール６００ｍｌを加えて、攪拌しなが
ら、８０℃まで昇温し、６時間還流して加水分解反応を
行った。

【０１０７】反応終了後、室温まで冷却した後、エーテ
ル抽出し、得られた抽出液を２０％炭酸水素ナトリウム
水溶液６０ｍｌで洗浄し、次いで水６００ｍｌで洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムを加えて、水分を除去した
後、エーテルを減圧留去し、無色透明な液状の生成物
〔収量５．１４ｇ（２４ミリモル）収率８０％〕を得
た。

【０１０８】得られた生成物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、
¹⁹ＦＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、１，１，
１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールであること
が確認された。¹ ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ） ：０．６５〜２．１６ｐｐｍ （１３Ｈ，ｍ） ：２．９０〜３．６０ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：３．６０〜４．２４ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ） ：−０．４０ｐｐｍ 面積比 ７０％〔ｓｙｎ体（１
Ｓ，２Ｒ）型^*2〕 ：−１．８５ｐｐｍ 面積比 ３０％〔ａｎｔｉ体（１
Ｓ，２Ｓ）型^*2〕 （ *2 本同定例により確認） ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） ：３，４００ｃｍ^-1（ＯＨ） ＭＳスペクトル ：ｍ／Ｚ ２１４（Ｍ⁺ ）

【０１０９】また ¹ＨＮＭＲスペクトル図、およびＩＲ
吸収スペクトル図をそれぞれ図８および図９に示す。

【０１１０】上記で得た生成物を下記条件で光学異性体
分離用カラムを有するガスクロマトグラフィーにかけ
た。 カラム ：商品名シクロデックスβ２３６Ｍ（クロム
パック社製） 内径０．２５ｍｍφ，長さ２５ｍ シリカキャピラリーカラム カラム温度：８０℃×１０分保持した後、昇温速度４℃
／ｍｉｎで、２００℃まで昇温 キャリアーガス：ヘリウム ：流速 ガス流量７０ｍｌ／ｍｉｎ ：スプリット比１００／１ 検出 ：ＦＩＤ

【０１１１】上記ガスクロマトグラフィーのチャートは
図１０の通りであり、図１０の解析結果は次の通りであ
り、光学活性な２本のピークが検出され、第１ピークお
よび第２ピークの保持時間に間隔があること、また第１
ピーク／第２ピーク＝７０／３０（面積比）であること
を確認した。

【０１１２】第１ピーク 〔ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロ
ノナン−２，３−ジオール^*3〕 ・保持時間：３７．０分 ・面積比 ：７０％ 第２ピーク 〔ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオ
ロノナン−２，３−ジオール^*3〕 ・保持時間：３８．５分 ・面積比 ：３０％ （*3 本同定例により確認）

【０１１３】また、上記生成物〔４．２８ｇ（２０ミリ
モル）〕をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離
液ｎ−ヘキサン）にかけ、第１フラクションと第２フラ
クションを分取し、溶媒を留去して次の通り第１フラク
ションと第２フラクションを得た。

【０１１４】第１フラクション 〔ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロ
ノナン−２，３−ジオール^*3〕 ・収得量 ：２．７０ｇ（１２．６ミリモル） ・収得率 ：６３％ 第２フラクション 〔ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオ
ロノナン−２，３−ジオール^*3〕 ・収得量 ：１．１６ｇ（５．４ミリモル） ・収得率 ：２７％ （*3 本同定例により確認）

【０１１５】還流冷却器、温度計、攪拌機および滴下ロ
ートを備えた四つ口丸底フラスコに、上記各フラクショ
ンを各４ミリモルと、２，２−ジメトキシプロパン４ｍ
ｇおよびパラトルエンスルホン酸０．１ｇを加えて、９
０℃で５時間還流し、アセタール交換反応を行い、反応
終了後、各反応生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶離液ｎ−ヘキサン）を用いて分取し、８２℃
で蒸留し、留分を濃縮して、いずれも無色透明な液状の
各生成物を得た。

【０１１６】これらの各生成物の６０ＭＨｚの ¹ＨＮＭ
Ｒスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳスペクト
ルを測定した結果は次の通りであり、各々２，２−ジメ
チル−４−ｎ−ヘキシル−５−トリフルオロメチル−
１，３−ジオキソラン（以下、１，３−ジオキソラン誘
導体という）であることが確認された。

【０１１７】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ） ：０．８０〜２．００ｐｐｍ （１３Ｈ，ｍ） ：２．８０〜４．３０ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） ：１，０９０ｃｍ^-1 （ＣＯＣ） ：２，９４０ｃｍ^-1 （ＣＨ） ＭＳスペクトル ：ｍ／Ｚ ２５４ （Ｍ⁺ ）

【０１１８】また ¹ＨＮＭＲスペクトル図、ＩＲ吸収ス
ペクトル図をそれぞれ図１１および図１２に示す。

【０１１９】更に、上記各１，３−ジオキソラン誘導体
を¹⁹ＦＮＭＲスペクトルで測定した結果は、次の通りで
あった。¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ） 第１フラクションから誘導された１，３−ジオキソラン
誘導体 ：−０．２７ｐｐｍ 第２フラクションから誘導された１，３−ジオキソラン
誘導体 ：−３．５０ｐｐｍ

【０１２０】また、上記各１，３−ジオキソラン誘導体
の２７０ＭＨｚの ¹ＨＮＭＲスペクトルを求めた結果は
表１の通りであり、メチル基とメチンプロトンの位置か
ら、第１フラクションから誘導された１，３−ジオキソ
ラン誘導体は、ｔｒａｎｓ−２，２−ジメチル−４−ｎ
−ヘキシル−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキ
ソランであり、第２フラクションから誘導された１，３
−ジオキソラン誘導体は、ｃｉｓ−２，２−ジメチル−
４−ｎ−ヘキシル−５−トリフルオロメチル−１，３−
ジオキソランであることが確認された。

【０１２１】

【表１】

【０１２２】上記の結果より、前述のジオール誘導体の
第１フラクションはｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，
１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールであり、第
２フラクションはａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，
１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールであること
が確認され、かつそれらのフラクションの収得比率は第
１フラクション／第２フラクション＝６３／２３（％）
〔７０／３０（収得比）〕であり、これが光学異性体分
離用カラムを有するガスクロマトグラフフィーで検出さ
れた第１ピークおよび第２ピークの面積比と一致したこ
とから、該ジオール誘導体はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−
１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールお
よびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフル
オロノナン−２，３−ジオールからなるジアステレオマ
ー混合物であり、その生成比率はｓｙｎ体（２Ｓ，３
Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型＝７０／３０（面
積比）であることが判明した。

【０１２３】従って、実施例１の第二段反応で得られた
目的生成物はｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ
−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキ
シベンゾアートおよびａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−
ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベ
ンジルオキシベンゾアートからなるジアステレオマー混
合物であリ、その生成比率はｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型
／ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型＝７０／３０（面積比）
であることが確認された。

【０１２４】また、実施例１の第二段反応で得られた目
的生成物の¹⁹ＦＮＭＲスペクトルの第１ピーク（−１．
３３ｐｐｍ）と第２ピーク（−３．５０ｐｐｍ）の面積
比は７０／３０であり、この比が、上記で明らかとなっ
た実施例１の第二段反応で得られた目的生成物のｓｙｎ
体（２Ｓ，３Ｒ）型／ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型の面
積比と一致したことより、目的生成物の¹⁹ＦＮＭＲスペ
クトルの第１ピーク（−１．３３ｐｐｍ）はｓｙｎ体
（２Ｓ，３Ｒ）型であり、また第２ピーク（−３．５０
ｐｐｍ）はａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型であることが判
明した。

【０１２５】従って、目的生成物を¹⁹ＦＮＭＲスペクト
ルで分析することにより得られる２つのピークのうち、
−１．３３ｐｐｍのピークはｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−
２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４
−ベンジルオキシベンゾアートを示し、−３．５０ｐｐ
ｍのピークはａｎｔｉ体−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロ
キシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジル
オキシベンゾアートを示すこと、またこれらのピークの
面積比から、目的生成物のｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型お
よびａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型の生成比率を確認出来
ることが明確となった。

【０１２６】（実施例２）〔本発明化合物：ｓｙｎ−
（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメ
チルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアートおよび
ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリ
フルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾア
ートからなるジアステレオマー混合物の製造〕 （金属水素化物：水素化アルミニウムリチウム有機溶媒
溶液） （第一段反応）〔（Ｓ）−１−（４−ベンジルオキシベ
ンゾイルオキシ）−２，２，２−トリフルオロエチル
ｎ−ヘキシルケトンの製造〕実施例１の第一段反応と同
様にして、（Ｓ）−１−（４−ベンジルオキシベンゾイ
ルオキシ）−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−ヘ
キシルケトン〔収量６１ｇ（１４５ミリモル）、収率８
５％〕を得た。

【０１２７】（第二段反応）〔金属水素化物として水素
化アルミニウムリチウム有機溶媒溶液を用いたｓｙｎ−
（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメ
チルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアートおよび
ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリ
フルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾア
ートからなるジアステレオマー混合物の製造〕 温度計、攪拌機、還流冷却器、および滴下ロートを備え
た四つ口丸底フラスコに、上記第一段反応で得た（Ｓ）
−１−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−２，
２，２−トリフルオロエチル−ｎ−ヘキシルケトン５
４．９ｇ（１３０ミリモル）とＴＨＦ１９５ｍｌを入
れ、他方、滴下ロートに水素化アルミニウムリチウム溶
液３４ｍｌ〔水素化アルミニウムリチウム１．２９ｇ
（３４ミリモル）をＴＨＦ溶媒で溶解した水素化アルミ
ニウムリチウム溶液〔濃度１モル／リットル（アルドリ
ッチ社製）〕を入れた以外は実施例１の第二段反応と同
様に反応を行い、無色透明な液状の目的生成物〔収量４
８．５ｇ（１１５ミリモル）収率８８．２％〕を得た。
なお、第一段反応の原料化合物である（Ｓ）−１−ヒド
ロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−ヘキシ
ルケトンを基準とした目的生成物の収率は７７％であっ
た。

【０１２８】上記目的生成物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、
ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳスペクトルを測定した結
果は実施例１と同様であり、２−ヒドロキシ−１−トリ
フルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾア
ートであることが確認された。

【０１２９】また、実施例２で得た目的生成物を¹⁹ＦＮ
ＭＲスペクトルを測定した結果、次の通りであった。¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ） −１．３３ｐｐｍ 面積比 ２５％〔ｓｙｎ体（１Ｓ，
２Ｒ）型^*4〕 −３．５０ｐｐｍ 面積比 ７５％〔ａｎｔｉ体（１
Ｓ，２Ｓ）型^*4〕 （ *4 後記同定例３により確認）

【０１３０】上記の結果と、後記同定例３より、実施例
２で得た目的生成物がｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒ
ドロキシ−１−トリフルオロメチルアルキル＝４−ベン
ジルオキシベンゾアート／ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−
２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルアルキル＝４
−ベンジルオキシベンゾアート＝２５／７５（面積比）
からなるジアステレオマー混合物であることが判明し
た。

【０１３１】（同定例３）〔実施例２の第二段反応で得
られた目的生成物が、ｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒ
ドロキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベン
ジルオキシベンゾアートおよびａｎｔｉ−（１Ｓ，２
Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルオクチ
ル＝４−ベンジルオキシベンゾアートからなるジアステ
レオマー混合物であることの同定〕 実施例１の第二段反応で得られた目的生成物に代えて、
実施例２の第二段反応で得られた目的生成物を用いた以
外は、同定例１と同様にして同定を行なった結果、該生
成物を酸で加水分解することにより生成した１，１，１
−トリフルオロノナン−２，３−ジオールを光学異性体
分離用カラムを有するガスクロマトグラフィーで分析し
たチャートは図１３の通りであり、図１３の解析結果は
次の通りであった。

【０１３２】第１ピーク 〔ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロ
ノナン−２，３−ジオール^*5〕 ・保持時間：３７．０分 ・面積比 ：２５％ 第２ピーク 〔ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオ
ロノナン−２，３−ジオール^*5〕 ・保持時間：３８．５分 ・面積比 ：７５％ （*5 本同定例により確認）

【０１３３】また、上記生成物〔４．７１ｇ（２２ミリ
モル）〕をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離
液ｎ−ヘキサン）にかけ、第１フラクションと第２フラ
クションを分取し、溶媒を留去して次の通り第１フラク
ションと第２フラクションを得た。

【０１３４】第１フラクション 〔ｓｙｎ−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−
ジオール^*5〕 ・収得量 ：１．０６ｇ（５．０ミリモル） ・収得率 ：２２．５％ 第２フラクション 〔ａｎｔｉ−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３
−ジオール^*5〕 ・収得量 ：３．１８ｇ（１４．９ミリモル） ・収得率 ：６７．５％ （*5 本同定例により確認）

【０１３５】また、上記各フラクションを６０ＭＨｚの
¹ＨＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルにかけ確認された、各２，２−ジメチル−４
−ｎ−ヘキシル−５−トリフルオロノナン−１，３−ジ
オキソランの２７０ＭＨｚの¹ＨＮＭＲスペクトルを求
めた結果は、同定例１と同じであった。

【０１３６】以上の結果より、同定例２と同様の理由
で、実施例２の第二段反応で得た目的生成物がｓｙｎ−
（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメ
チルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾアート／ａｎ
ｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフル
オロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾアート
＝２５／７５（面積比）からなるジアステレオマー混合
物であることが裏付けられた。

【０１３７】

【発明の効果】本発明は、大画面液晶ディスプレイ等の
素材である反強誘電性液晶化合物の中間原料として有用
である新規の光学活性な２−ヒドロキシ−１−トリフル
オロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾアート
のジアステレオマー混合物の提供であり、また該混合物
を高収率に製造することが出来る製法を提供するもので
あり、更に本発明の製法ではｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型
／ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型の生成比率が異なる光学
活性なジアステレオマー混合物を製造することが出来
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】参考例１で得た１−ヒドロキシ−２，２，２−
トリフルオロエチル ｎ−ヘキシルケトンの ¹ＨＮＭＲ
スペクトル図である。

【図２】参考例１で得た１−ヒドロキシ−２，２，２−
トリフルオロエチル ｎ−ヘキシルケトンのＩＲ吸収ス
ペクトル図である。

【図３】参考例１で得た（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，
２，２−トリフルオロエチルｎ−ヘキシルケトンの光学
活性な液体クロマトグラフィーのチャートである。

【図４】実施例１の第一段反応で得た１−（４−ベンジ
ルオキシベンゾイルオキシ）−２，２，２−トリフルオ
ロエチル ｎ−ヘキシルケトンの ¹ＨＮＭＲスペクトル
図である。

【図５】実施例１の第一段反応で得た１−（４−ベンジ
ルオキシベンゾイルオキシ）−２，２，２−トリフルオ
ロエチル ｎ−ヘキシルケトンのＩＲ吸収スペクトル図
である。

【図６】実施例１の第二段反応で得た２−ヒドロキシ−
１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシ
ベンゾアートの ¹ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図７】実施例１の第二段反応で得た２−ヒドロキシ−
１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシ
ベンゾアートのＩＲ吸収スペクトル図である。

【図８】同定例２で得た１，１，１−トリフルオロノナ
ン−２，３−ジオールの ¹ＨＮＭＲスペクトル図であ
る。

【図９】同定例２で得た１，１，１−トリフルオロノナ
ン−２，３−ジオールのＩＲ吸収スペクトル図である。

【図１０】同定例２で得たｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−
１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールお
よびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフル
オロノナン−２，３−ジオールの光学異性体分離用カラ
ムを有するガスクロマトグラフィーのチャートである。

【図１１】同定例２で得た２，２−ジメチル−４−ｎ−
ヘキシル−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソ
ランの ¹ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図１２】同定例２で得た２，２−ジメチル−４−ｎ−
ヘキシル−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソ
ランのＩＲ吸収スペクトル図である。

【図１３】同定例３で得たｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−
１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールお
よびａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフル
オロノナン−２，３−ジオールの光学異性体分離用カラ
ムを有するガスクロマトグラフィーのチャートである。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式（１）で示されるｓｙｎ−（１Ｓ，２
   Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルアルキ
   ル＝４−ベンジルオキシベンゾアートおよびａｎｔｉ−
   （１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメ
   チルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾアートからな
   るジアステレオマー混合物。 【化１】
2. 【請求項２】 有機溶媒中で、式（２）で示される
   （Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエ
   チルアルキルケトンとアルカリ金属水素化物を反応さ
   せ、次いで該反応生成物と４−ベンジルオキシベンゾイ
   ルクロリドを反応させた後、精製分離した生成物を、有
   機溶媒中で、金属水素化物を用いて還元することを特徴
   とする請求項１記載のｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒ
   ドロキシ−１−トリフルオロメチルアルキル＝４−ベン
   ジルオキシベンゾアートおよびａｎｔｉ−（１Ｓ，２
   Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルアルキ
   ル＝４−ベンジルオキシベンゾアートからなるジアステ
   レオマー混合物の製造方法。 【化２】