JPH07228554A

JPH07228554A - 光学活性な２−ヒドロキシアルキルベンゾアート誘導体のジアステレオマー混合物の製造方法

Info

Publication number: JPH07228554A
Application number: JP4303594A
Authority: JP
Inventors: Toshio Kubota; 俊夫久保田; Norihisa Iijima; 典久飯島
Original assignee: Toagosei Co Ltd
Current assignee: Toagosei Co Ltd
Priority date: 1994-02-17
Filing date: 1994-02-17
Publication date: 1995-08-29

Abstract

(57)【要約】【目的】反強誘電性液晶化合物の中間原料として有
用な新規の光学活性な含フッ素化合物の製造方法を提供
する。【構成】有機溶媒中で、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−
１，１，１−トリフルオロアルカン−２，３−ジオール
およびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフル
オロアルカン−２，３−ジオールからなるジアステレオ
マー混合物を原料とし、アルカリ金属水素化物および４
−ベンジルオキシベンゾイルクロリドを用いて、ａｎｔ
ｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオ
ロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾアートお
よびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−ト
リフルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾ
アートからなるジアステレオマー混合物を製造する方
法。【効果】反強誘電性液晶化合物の中間原料等として有
用である新規の光学活性な含フッ素化合物を、簡単な操
作で、効率的に、かつ高収率で製造出来る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば大画面液晶ディ
スプレイおよび電子デバイス等の素材である反強誘電性
液晶化合物の中間原料として有用である新規の光学活性
な含フッ素化合物からなるジアステレオマー混合物の製
造方法である。

【０００２】

【従来の技術】大画面液晶ディスプレイ等の素材である
反強誘電性液晶化合物の中間原料として有用である
（Ｒ）−１−トリフルオロメチルアルキル＝４−ベンジ
ルオキシベンゾアートは知られている。しかしながら、
この化合物から誘導される反強誘電性液晶化合物は強誘
電性液晶相がかなり高温側に存在するため、室温作動性
に劣り、かつ応答速度も遅く、大画面液晶ディスプレイ
材料として実用化されるに至っておらず、室温でのスイ
ッチング操作が容易な材料が強く求められている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、室温で作動し、かつ高速応答性であり、スイッチン
グ操作の容易な反強誘電性液晶化合物の中間原料として
有用な新規の光学活性なジアステレオマー混合物につき
鋭意研究した結果、新規化合物である式（２）で示され
るａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−ト
リフルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾ
アート〔以下、ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロ
キシ＝ベンジルオキシベンゾアートという〕およびｓｙ
ｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオ
ロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾアート
〔以下、ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝ベ
ンジルオキシベンゾアートという〕からなるジアステレ
オマー混合物を発明し、更に式（３）で示される（Ｓ）
−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチルア
ルキルケトン〔以下、（Ｓ）−体ケトンという〕とアル
カリ金属水素化物を反応させ、次いで反応生成物と４−
ベンジルオキシベンゾイルクロリドを反応させた後、精
製分離した生成物を、有機溶媒中で、金属水素化物を用
いて還元することにより前記ジアステレオマー混合物を
製造する方法を発明した。これらの発明は出願済みであ
る（出願日：平成６年２月１６日）。

【０００４】

【化４】

【０００５】

【化５】

【０００６】本発明者らは、上記製造方法とは異なる製
造方法につき鋭意研究した結果、本発明を完成した。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、有機溶媒中
で、式（１）で示されるａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−
１，１，１−トリフルオロアルカン−２，３−ジオール
〔以下、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールという〕
とｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロ
アルカン−２，３−ジオール〔以下、ｓｙｎ体（２Ｓ，
３Ｒ）型ジオールという〕からなるジアステレオマー混
合物（以下、原料化合物という）と、該原料化合物１モ
ルを基準として１モルのアルカリ金属水素化物を反応さ
せ、次いで反応生成物と、前記反応において原料として
用いた原料化合物１モルを基準として１モルの４−ベン
ジルオキシベンゾイルクロリドを反応させることを特徴
とする前述の式（２）で示されるａｎｔｉ体（１Ｓ，２
Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアートお
よびｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝ベンジ
ルオキシベンゾアートからなるジアステレオマー混合物
（以下、本発明化合物という）の製造方法である。

【０００８】

【化６】

【０００９】〔本発明化合物：ａｎｔｉ体（１Ｓ，２
Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアートお
よびｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝ベンジ
ルオキシベンゾアートからなるジアステレオマー混合
物〕本発明化合物は、前述の式（２）で示されるジアス
テレオマー混合物であり、式中、Ｒで表わされるアルキ
ル基は、炭素数３〜１０の直鎖状アルキル基、すなわ
ち、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、
ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ
−ノニル基およびｎ−デシル基であり、それらの中でも
製造の容易性から有用であるアルキル基は炭素数４〜８
の直鎖状アルキル基である。

【００１０】本発明化合物の特に好ましい具体例を示す
と、ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−
トリフルオロメチルヘキシル＝４−ベンジルオキシベン
ゾアートおよびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキ
シ−１−トリフルオロメチルヘキシル＝４−ベンジルオ
キシベンゾアートからなるジアステレオマー混合物、ａ
ｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフ
ルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアー
トおよびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１
−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベ
ンゾアートからなるジアステレオマー混合物、およびａ
ｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフ
ルオロメチルデシル＝４−ベンジルオキシベンゾアート
およびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−
トリフルオロメチルデシル＝４−ベンジルオキシベンゾ
アートからなるジアステレオマー混合物等が挙げられ
る。

【００１１】〔原料化合物：ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）
型ジオールおよびｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオールか
らなるジアステレオマー混合物〕前掲の式（１）で示さ
れる原料化合物は新規化合物であり、既に出願済である
（特願平５−１３２４５３）。

【００１２】上記化合物について具体的に説明すると、
式中、Ｒで表わされるアルキル基は、炭素数３〜１０の
直鎖状アルキル基、すなわち、ｎ−プロピル基、ｎ−ブ
チル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチ
ル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基およびｎ−デシル
基であり、それらの中でも製造の容易性から有用である
アルキル基は炭素数４〜８の直鎖状アルキル基である。

【００１３】原料化合物の特に好ましい具体例を示す
と、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフル
オロヘプタン−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２
Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，
３−ジオールからなるジアステレオマー混合物、ａｎｔ
ｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロノナン
−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−
１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールか
らなるジアステレオマー混合物、およびａｎｔｉ−（２
Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロウンデカン−
２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，
１，１−トリフルオロウンデカン−２，３−ジオールか
らなるジアステレオマー混合物等が挙げられる。

【００１４】原料化合物は、前記式（３）で示される
（Ｓ）−体ケトン（以下、出発原料化合物ともいう）
を、例えば下式（４）に示されるように、有機溶媒中
で、金属水素化物を用いて還元することにより、出発原
料化合物の１位の炭素原子に結合したカルボニル炭素へ
のヒドリドのジアステレオ面区別した攻撃を経由して得
られた反応生成物を、常法に従い酸処理することにより
得られる。

【００１５】

【化７】

【００１６】〔出発原料化合物：（（Ｓ）−体ケト
ン）：（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフル
オロエチルアルキルケトン〕出発原料化合物である、前
述の式（３）に示されている（Ｓ）−体ケトンは新規化
合物であり、既に出願済みである（特願平５−７７６４
５）。

【００１７】上記化合物を具体的に説明すると、式中、
Ｒで表わされる直鎖状アルキル基は式（１）のＲに対応
し、好適な化合物の具体例としては、（Ｓ）−１−ヒド
ロキシ−２，２，２−トリフルオロエチルｎ−ブチル
ケトン、（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフ
ルオロエチルｎ−ヘキシルケトンおよび（Ｓ）−１−
ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチルｎ−オ
クチルケトン等が挙げられる。

【００１８】〔出発原料化合物の製造方法〕出発原料化
合物の製造方法について具体的に説明すると、（Ｓ）−
トリフルオロ乳酸エチルエステルと、式（５）で示され
るグリニヤール試薬を反応させ、次いで反応生成物を鉱
酸で加水分解することにより得ることが出来る。

【００１９】ＲＭｇＢｒ（５）（ただし式中、Ｒは式（１）に対応する）

【００２０】上記反応は、（Ｓ）−トリフルオロ乳酸エ
チルエステルのエーテル溶媒溶液に、グリニャール試薬
のエーテル溶媒溶液を滴下して行うのが好ましい。エー
テル溶媒としてはジエチルエーテル、ジグリム、および
ＴＨＦ等が挙げられる。（Ｓ）−トリフルオロ乳酸エチ
ルエステルとエーテル溶媒との配合割合は（Ｓ）−トリ
フルオロ乳酸エチルエステル１モルに対して、エーテル
溶媒３〜７リットルが好ましい。グリニヤール試薬とエ
ーテル溶媒との配合割合はグリニヤール試薬１モルに対
して１〜４リットルが好ましい。

【００２１】（Ｓ）−トリフルオロ乳酸エチルエステル
とグリニヤール試薬の供給割合は、（Ｓ）−トリフルオ
ロ乳酸エチルエステル１モルに対して、グリニヤール試
薬は、１．９〜２．１モルが好ましい。また、（Ｓ）−
トリフルオロ乳酸エチルエステルへのグリニヤール試薬
の供給速度はグリニヤール試薬１モルを３００〜５００
分程度かけて滴下するのが好ましい。

【００２２】反応温度は−１００℃〜−４０℃が好まし
く、例えばドライアイスアセトン浴を使用して−７８℃
に保持して行なえばよい。グリニヤール試薬の反応系へ
の供給完了後、例えば２時間程度撹拌保持して、未反応
（Ｓ）−トリフルオロ乳酸エチルエステルを充分反応さ
せ、付加生成物を生成させ、次いで攪拌しながら１時間
程度かけて２５℃まで昇温するとよい。

【００２３】次いで、上記反応で生成した付加生成物を
鉱酸で加水分解し、出発原料化合物を製造する。

【００２４】鉱酸としては、塩酸、硫酸、硝酸等が挙げ
られ、特に好ましい鉱酸は塩酸である。鉱酸は原料とし
て使用した（Ｓ）−トリフルオロ乳酸エチルエステル１
モルに対して、２〜３グラム当量が好ましい。鉱酸の濃
度は１〜５Ｎが好ましい。

【００２５】加水分解反応は、得られた反応液に鉱酸の
水溶液を滴下して行うのが一般的であるが、鉱酸の水溶
液に反応液を滴下して行う方法を用いても差し支えな
い。鉱酸水溶液の滴下時間は（Ｓ）−トリフルオロ乳酸
エチルエステル１モルに対して６０〜１２０分間が好ま
しい。

【００２６】加水分解反応は出来るだけ穏やかな温度で
行うことが好ましく、常温が特に好適である。鉱酸の滴
下後、更に常温付近で３０分以上攪拌保持することによ
り、反応を完結させることが好ましい。

【００２７】加水分解反応終了後、エーテル抽出等の操
作によって反応液から生成物を分離し、抽出液に無水硫
酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧
留去し、残ったシロップ状物質をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー等により精製し、無色透明な液状の生成
物である出発原料化合物を取得することができる。

【００２８】〔原料化合物の製造方法〕原料化合物は、
前述したように、上記で述べた出発原料化合物を、有機
溶媒中で、金属水素化物を用いて還元し、これを常法に
従い酸処理することにより製造される。

【００２９】好適な金属水素化物としては、水素化アル
ミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウムお
よび水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられる。

【００３０】これらの金属水素化物は、出発原料化合物
のカルボニル基をジアステレオ面区別還元して得られ
る、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールおよびｓｙｎ
体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオールの生成比率に最も大きな影
響を及ぼすと考えられる。従って目的に応じて金属水素
化物を適宜選択すればよい。すなわち、特定の金属水素
化物を用いることにより、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型
ジオールを選択的に優位に生成させることが出来る。

【００３１】例えば、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型に富
んだ原料化合物を得るのに好適な金属水素化物として
は、水素化アルミニウムリチウムが最適である。

【００３２】出発原料化合物と金属水素化物との反応系
への供給割合は、出発原料化合物１モルに対して、金属
水素化物２．０〜２．４グラム当量（水素原子換算、以
下同じ）が好ましく、特に好適には２．０５〜２．１５
グラム当量である。

【００３３】有機溶媒としては、ｎ−ヘキサン、ジエチ
ルエーテル、トルエン、ＴＨＦおよびメタノール等が挙
げられる。ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールおよび
ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオールの生成比率は、有機
溶媒の種類によっても影響を受けるため、金属水素化物
の種類に対応させて有機溶媒を適宜選択することが望ま
しい。

【００３４】例えば、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型に富
んだ原料化合物を得るのに好適な有機溶媒の一例はジエ
チルエーテルである。これと、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３
Ｓ）型の生成を優先させる水素化アルミニウムリチウム
等の金属水素化物を用いることによって、生成するａｎ
ｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型を効果的に増加させることが出
来る。

【００３５】出発原料化合物と金属水素化物の好適な混
合方法は、金属水素化物の種類によって異なり、例えば
水素化アルミニウムリチウムの場合は、これを含有した
有機溶媒の懸濁液中に、出発原料化合物を含有した有機
溶媒溶液を滴下するのが好適であり、その滴下時間は出
発原料化合物１モルに対して６０〜１２０分程度が好ま
しい。

【００３６】有機溶媒の使用量は、出発原料化合物１モ
ルを基準として、１．０〜２．０リットルが好ましい。
例えば、出発原料化合物と、金属水素化物として水素化
アルミニウムリチウムを前述した特に好適な量である
２．０５〜２．１５グラム当量用いた場合、上記した有
機溶媒の好適な量のうちの０．５リットル程度を出発原
料化合物の溶媒として用い、残りの量を水素化アルミニ
ウムリチウムに対して用いるのが好適である。

【００３７】出発原料化合物と金属水素化物との反応温
度は−１０℃〜１０℃が好ましい。出発原料化合物の滴
下完了後、室温まで昇温し、６時間程度撹拌保持するこ
とにより反応を完結させる。

【００３８】次いで得られた反応生成物を常法に従い酸
処理することにより、原料化合物であるａｎｔｉ体（２
Ｓ，３Ｓ）型ジオールおよびｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型
ジオールからなるジアステレオマー混合物を生成させ
る。

【００３９】酸としては鉱酸が適しており、具体的には
塩酸、硫酸、硝酸等が挙げられる。例えば、塩酸を用い
た場合は、出発原料化合物１モルを基準として、１規定
塩酸２〜３リットルを１３分間程度かけて滴下し、３０
分間程度撹拌保持する。

【００４０】上記酸処理温度は０℃〜１０℃が好まし
い。酸処理後、室温まで昇温した後、エーテル等の抽出
剤を加えて目的生成物を抽出し、次いで、抽出液を水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した
後、溶媒を減圧濃縮することにより、原料化合物を取得
する。

【００４１】上記のようにして得られた原料化合物は、
後記同定例１により明らかなごとく、光学異性体分離用
カラムを有するガスクロマトグラフィーで分析すること
によって、光学活性な２本のピークが得られ、第１ピー
クとしてｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオールが検出さ
れ、また第２ピークとしてａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型
ジオールが検出される。これらのピークの面積比から、
ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）
型の生成比率を確認することができる。

【００４２】上記の製造方法によれば、金属水素化物の
種類にもよるが、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ
体（２Ｓ，３Ｒ）型＝８８〜５６／１２〜４４（面積
比）のａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型に富んだジアステレ
オマー混合物である原料化合物が得られる。

【００４３】〔本発明化合物；ａｎｔｉ体（１Ｓ，２
Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアートお
よびｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝ベンジ
ルオキシベンゾアートからなるジアステレオマー混合物
の製造〕本発明化合物は、式（６）に示されるように、
原料化合物と、原料化合物１モルを基準として１モルの
アルカリ金属水素化物を反応させ（第一段反応）、次い
で反応生成物と、第一段反応において用いた原料化合物
１モルを基準として、１モルの４−ベンジルオキシベン
ゾイルクロリドを反応させて、ａｎｔｉ体（１Ｓ，２
Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアートお
よびｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝ベンジ
ルオキシベンゾアートからなるジアステレオマー混合物
である本発明化合物を生成させる（第二段反応）。

【００４４】

【化８】

【００４５】上記反応は次のように推定される。原料化
合物の２位の不斉炭素原子に結合した水酸基はトリフル
オロメチル基の強電子吸引力により酸性であり、他方、
３位の不斉炭素原子に結合した水酸基はアルコールの性
質を示す。従って、原料化合物１モルとアルカリ金属水
素化物１モルを反応させることにより、原料化合物の２
位の不斉炭素原子に結合した水酸基のみが選択的に反応
して反応生成物を生成する（第一段反応）。

【００４６】次いで該反応生成物と、第一段反応におい
て用いた原料化合物１モルを基準として、１モルの４−
ベンジルオキシベンゾイルクロリドを反応させると、該
反応生成物のアルカリ金属と、４−ベンジルオキシベン
ゾイルクロリドの塩素が反応し、本発明化合物を生成す
る（第二段反応）。

【００４７】以下、各反応につき更に詳細に説明する。

【００４８】（第一段反応）原料化合物としては、ａｎ
ｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型に富んだ本発明化合物を製造す
る場合には、前述した式（４）で示される方法、すなわ
ち有機溶媒中で、式（３）で示される（Ｓ）−体ケトン
を金属水素化物を用いて還元することにより製造された
ものを用いることが好ましく、この方法によれば、前述
したとおり、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体
（２Ｓ，３Ｒ）型＝８８〜５６／１２〜４４（面積比）
のａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型に富んだジアステレオマ
ー混合物である原料化合物が得られる。

【００４９】ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ体
（１Ｓ，２Ｒ）型の生成比率が特に高い本発明化合物を
得たい場合は、金属水素化物の種類として水素化アルミ
ニウムリチウムを用いて製造された原料化合物を用いる
方法が最適である。

【００５０】なお、後述の同定例２より明らかなよう
に、本発明化合物におけるａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型
／ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型の生成比率は、原料化合物
のａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３
Ｒ）型の生成比率と変わることがない。

【００５１】アルカリ金属水素化物としては水素化リチ
ウム、水素化ナトリウムおよび水素化カリウム等が挙げ
られ、経済的に安価である等の点から、水素化ナトリウ
ムが特に好ましい。市販のアルカリ金属水素化物は通
常、油性であるので、ｎ−ヘキサン等で洗浄精製乾燥し
た後、有機溶媒に懸濁したものを用いるのがよい。

【００５２】アルカリ金属水素化物の使用量は、原料化
合物１モルを基準として１モルである。１モル未満では
反応生成物の収率低下を招く。１モルを超えると過剰の
アルカリ金属水素化物が原料化合物の３位の不斉炭素原
子に結合した水酸基とも反応し、副生成物が増大し、最
終的に本発明化合物の収率を低下させる他、精製操作が
煩雑になる。

【００５３】有機溶媒としては特に限定されるものでは
なく、例えばジエチルエーテル、ｎ−ヘキサン、トルエ
ンおよびＴＨＦ等が挙げられ、特に好ましくはジエチル
エーテルである。

【００５４】上記有機溶媒は、原料化合物１モルを基準
として、３〜８リットルが好ましく、特に好ましくは５
〜６リットルである。３リットル未満では反応熱の上昇
により水素の発生速度が増大して危険となる場合があ
り、８リットルを超えると経済的とはいえなくなる。

【００５５】上記反応はアルカリ性で行なうことが好ま
しく、アルカリ金属水素化物の有機溶媒懸濁液中に、原
料化合物の有機溶媒溶液を滴下することが好ましい。逆
の滴下を行うと、アルカリ金属水素化物が原料化合物の
３位の不斉炭素原子に結合した水素基とも反応し、反応
生成物の収率の低下を招く恐れがあるために好ましくな
い。有機溶媒の使用比率はアルカリ金属水素化物／原料
化合物＝１／９の容量比に按分するのが好ましい。

【００５６】原料化合物の反応系への供給速度は、原料
化合物１モルを３０〜６０分程度かけて滴下するのが好
ましい。３０分未満では水素の発生速度が増大して危険
を伴う恐れがあり、６０分を超えると経済的とはいえな
い。

【００５７】上記の反応は−１０℃〜１０℃が好まし
く、特に好ましくは０℃付近である。−１０℃未満では
経済的とはいえず、１０℃を超えると水素の発生速度が
増大し、危険を伴う恐れがある。

【００５８】原料化合物の滴下完了後、撹拌しながら、
室温迄昇温し、引きつづき６０分間程度撹拌を保持し
て、反応を完結させ、反応生成物を得る。

【００５９】（第二段反応）第一段反応で得られた反応
生成物１モルと、第一段反応に用いた原料化合物１モル
を基準として、１モルの４−ベンジルオキシベンゾイル
クロリドを有機溶媒中で反応させることにより、本発明
化合物を生成させる。

【００６０】有機溶媒は前述の反応で用いた有機溶媒が
使用できる。従って前述の反応により得られた反応生成
物溶液に、４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドの有
機溶媒溶液を直接加えることにより、反応を行うことが
出来る。

【００６１】４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドの
反応系への供給割合は、第一段反応に用いた原料化合物
１モルを基準として１モルである。１モル未満では本発
明化合物の収率の低下を招き、１モルを超えると、反応
生成物におけるアルカリ金属が結合していない水酸基と
も反応し、副生物が増大し、本発明化合物の精製操作が
煩雑になる。

【００６２】４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドは
有機溶媒に溶解して反応系へ供給するのが好ましい。有
機溶媒の好適な混合割合は４−ベンジルオキシベンゾイ
ルクロリド１モルに対して１〜４リットルが好ましく、
特に好ましくは２〜３リットルである。１リットル未満
では４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドが溶解しに
くくなる恐れがあり、４リットルを超えると経済的とは
いえない。

【００６３】４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドの
反応系への供給速度は、第一段反応に用いた原料化合物
１モルを基準として、１〜２時間が好ましい。１時間未
満では反応温度の制御が困難となる場合があり、２時間
を超えると経済的とはいえなくなる。

【００６４】この反応温度は−１０℃〜１０℃が好まし
く、特に好ましくは０℃付近である。−１０℃未満では
経済的とはいえず、１０℃を超えると反応温度の制御が
困難となる恐れがある。

【００６５】４−ベンジルオキシベンゾイルクロリド溶
液の滴下完了後、更に常温付近で１５０分間程度撹拌保
持することにより、反応を完結させるとよい。

【００６６】反応終了後、反応液を氷水に入れ、１規定
塩酸等でｐＨを５〜６程度に調整した後、エーテルを加
えて生成物を抽出し、続いて抽出液を０．５規定炭酸水
素ナトリウム水溶液および水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧留去
することにより、淡黄色のシロップ状の目的生成物を得
ることが出来る。

【００６７】なお、上記各反応で述べた原料化合物とア
ルカリ金属水素化物、あるいはこれらの化合物の反応か
ら得られた反応生成物と４−ベンジルオキシベンゾイル
クロリドの、各反応モル比は、厳密な意味での等モルで
ある必要はなく、数％程度の増減は許容される。

【００６８】得られた目的生成物は、下記に述べる通
り、本発明化合物であるａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２
−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアートおよびｓｙ
ｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシ
ベンゾアートからなるジアステレオマー混合物であるこ
とが確認される。

【００６９】後記実施例１および同定例２により明らか
なように、目的生成物を¹⁹ＦＮＭＲスペクトルで分析す
ることにより、ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型およびｓｙ
ｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型からなるジアステレオマー混合物
であることを示す２つのピークが得られ、また、目的生
成物を酸で加水分解することにより得た１，１，１−ト
リフルオロアルカン−２，３−ジオールを光学異性体分
離用カラムを有するガスクロマトグラフイーにかけた結
果によれば、２本の光学活性なピークが得られることか
ら、目的生成物すなわち本発明化合物が、光学活性なジ
アステレオマー混合物、すなわちａｎｔｉ体（１Ｓ，２
Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアートお
よびｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝ベンジ
ルオキシベンゾアートからなるジアステレオマー混合物
であることが確認される。

【００７０】また、後記同定例２において明らかにする
とおり、ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ体（１
Ｓ，２Ｒ）型の生成比率が既知であるジアステレオマー
混合物である原料化合物の、２位の不斉炭素原子に結合
した水酸基を４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ基に
置換しても、反応前後の光学活性なａｎｔｉ体／ｓｙｎ
体の生成比率は変化しない。すなわち、目的生成物にお
けるａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ体（１Ｓ，２
Ｒ）型の生成比率は、原料化合物におけるａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型の生成比
率と変わることがない。

【００７１】従って、目的生成物を¹⁹ＦＮＭＲスペクト
ルで分析して得られた２本のピークのうち、原料化合物
のａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型の面積比と一致する方
が、ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベン
ジルオキシベンゾアートであり、原料化合物のｓｙｎ体
（２Ｓ，３Ｒ）型の面積比と一致する方が、ｓｙｎ体
（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベン
ゾアートであり、また、上記各ピークの面積比から、目
的生成物におけるａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ
体（１Ｓ，２Ｒ）型の生成比率を確認することが出来
る。

【００７２】また、上記の製造方法によれば、ａｎｔｉ
体（１Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベ
ンゾアート／ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ
＝ベンジルオキシベンゾアート＝８８〜５６／１２〜４
４（面積比）からなるジアステレオマー混合物である本
発明化合物が得られる。

【００７３】

【実施例】以下、参考例および実施例に基づいて本発明
を具体的に説明する。（参考例１）〔出発原料化合物：（Ｓ）−１−ヒドロキ
シ−２，２，２−トリフルオロエチルｎ−ヘキシルケ
トンの製造〕還流冷却器、温度計、撹拌機、ロートを備えた四ツ口丸
底フラスコに、立体配置既知の（Ｓ）−トリフルオロ乳
酸（光学純度９９．５％ｅ．ｅ）〔日本化学会誌、１９
８９（９）Ｐ１５７６〜１５８６、久保田等著「含トリ
フルオロメチル化合物構成試薬としてのα−アルコキシ
−１，１，３，３，３−ペンタフルオロプロペンの合成
と反応」の文献記載の方法により合成したもの〕より誘
導された（Ｓ）−トリフルオロ乳酸エチルエステル５
１．６ｇ（３００ミリモル）とエーテル１５００ｍｌを
入れ、ドライアイスアセトンバス中に浸漬し、撹拌しな
がら−７８℃に冷却した。

【００７４】この溶液を撹拌しながら、ｎ−ヘキシルマ
グネシウム＝ブロミド１１３．４ｇ（６００ミリモル）
のエーテル溶液１，５００ｍｌを滴下ロートから、反応
温度−５０℃以下で１８０分間かけて滴下した。滴下完
了後、−７８℃で２時間撹拌保持した後、ドライアイス
アセトンバスを取り去り、撹拌しながら６０分間かけ
て、室温まで昇温した。

【００７５】次いで、上述で得られた反応液に２規定塩
酸水溶液６００ｍｌを室温で５０分間かけて滴下し、滴
下完了後３０分間撹拌した。得られた反応液をエーテル
で抽出し、抽出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分
を除去した後、エーテルを減圧留去し、シロップ状の粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー〔溶離液
ｎ−ヘキサン／イソプロパノール＝９０／１０（容量
比）〕で精製し、無色透明な液状の生成物〔収量３８．
２ｇ（１８０ミリモル）収率６０％〕を得た。

【００７６】この生成物の¹ＨＮＭＲスペクトル、¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、１−ヒドロキ
シ−２，２，２−トリフルオロエチルｎ−ヘキシルケ
トンであることが確認された。

【００７７】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ) ：０．５〜２．０５ｐｐｍ（１１Ｈ，ｍ）：２．２０〜２．９５ｐｐｍ（２Ｈ，ｍ）：３．４５ｐｐｍ（１Ｈ，ｍ）：３．７２〜４．５０ｐｐｍ（１Ｈ，ｂ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ）：−２．１７ｐｐｍＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ）：１，７３０ｃｍ^-1 （ＣＯ）：３，５１０ｃｍ^-1 （ＯＨ）ＭＳスペクトル：ｍ／ｚ２１２（Ｍ⁺）

【００７８】また、¹ＨＮＭＲスペクトル図およびＩＲ
吸収スペクトル図を、それぞれ図１および図２に示す。

【００７９】また、この生成物を次の条件下で、光学活
性な液体クロマトグラフィーにかけた。・光学異性体分離カラム〔商品名：アミロース系光学異
性体分離用ＨＰＬＣカラム；ダイセル化学工業（株）
製〕：分離剤…アミロース・トリス〔（Ｓ）−１−フェニル
エチルカルバメートをシリカゲルでコーティングしたも
の（商品名ＣＨＩＲＡＬＰＡＫＡＳ）〕：サイズ４．６mmφ×２５０mmH ・溶離液：ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝
９６／４（容量比）・流速：０．５ml／min ・カラム温度：常温・検出：紫外検出器で波長２５４nmの紫外吸収を用い
た。・試料：０．１ｍｇ

【００８０】上記光学活性な液体クロマトグラフィーの
チャートは図３の通りであり、１本の光学活性なピーク
が得られ、その保持時間は以下の通りであった。保持時間：１０．６９分

【００８１】次いで上記生成物の比施光度〔α〕²⁵ _Dお
よび光学純度を求めたところ以下の通りであった。比施光度〔α〕²⁵ _D：−９．５０（ｃ＝３．４７、メタ
ノール）光学純度：９９．５％ｅｅ

【００８２】以上の結果より、生成物は（Ｓ）−１−ヒ
ドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチルｎ−ヘキ
シルケトンであることが確認された。

【００８３】（参考例２）〔原料化合物：ａｎｔｉ−
（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロノナン−
２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，
１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールからな
るジアステレオマー混合物の製造〕（金属水素化物：水素化アルミニウムリチウム）還流冷
却器、温度計、攪拌機、滴下ロートを備えた四ツ口丸底
フラスコに、水素化アルミニウムリチウム３．６ｇ（９
５ミリモル）とジエチルエーテル２００ｍｌを入れ、氷
水バス中に挿入し、０℃の水素化アルミニウムリチウム
懸濁液を調合した。

【００８４】次いで、滴下ロートに参考例１で得た
（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエ
チルｎ−ヘキシルケトン３８．２ｇ（１８０ミリモ
ル）とジエチルエーテル９０ｍｌとの均一な溶液を入
れ、撹拌しながら４０分間で滴下した。滴下完了後、氷
水バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで昇温し、室
温で６時間撹拌保持し、反応を完結させた。

【００８５】次いで、反応液を再度氷水バスで０℃に冷
却し、撹拌しながら、１規定塩酸４５０ｍｌを５分間か
けて滴下し、０℃で撹拌しながら３０分間保持した。次
いで氷水バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで昇温
した後、反応液にジエチルエーテルを加えて生成物を抽
出し、抽出液に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水後、
減圧濃縮し、無色透明な液状の生成物〔３７．８ｇ（１
７６ミリモル）収率９８％〕を得た。

【００８６】得られた生成物の¹ＨＮＭＲスペクトル、
¹⁹ＦＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、１，１，
１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールであること
が確認された。¹ ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃）：０．６５〜２．１６ｐｐｍ（１３Ｈ，ｍ）：２．９０〜３．６０ｐｐｍ（２Ｈ，ｍ）：３．６０〜４．２４ｐｐｍ（２Ｈ，ｍ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（from ext. ＣＦ₃ＣＯＯＨ）：−０．４０ｐｐｍ面積比１２％〔ｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型^*1〕：−１．８５ｐｐｍ面積比８８％〔ａｎｔｉ体（２
Ｓ，３Ｓ）型^*1〕（*1 後記同定例１により確認）ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ）：３，４００ｃｍ^-1（ＯＨ）ＭＳスペクトル：ｍ／Ｚ２１４（Ｍ⁺）

【００８７】また¹ＨＮＭＲスペクトル図、およびＩＲ
吸収スペクトル図をそれぞれ図４および図５に示す。

【００８８】上記で得た各生成物を下記条件で光学異性
体分離用カラムを有するガスクロマトグラフィーにかけ
た。カラム：商品名シクロデックスβ２３６Ｍ（クロム
パック社製）内径０．２５ｍｍφ，長さ２５ｍシリカキャピラリーカラムカラム温度：８０℃×１０分保持した後、昇温速度４℃
／ｍｉｎで、２００℃まで昇温キャリアーガス：ヘリウム：流速ガス流量７０ｍｌ／ｍｉｎ：スプリット比１００／１検出：ＦＩＤ

【００８９】上記ガスクロマトグラフィーのチャートは
図６の通りである。

【００９０】第１ピーク〔ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロ
ノナン−２，３−ジオール^*1〕・保持時間：３７．０分・面積比：１２％第２ピーク〔ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオ
ロノナン−２，３−ジオール^*1〕・保持時間：３８．５分・面積比：８８％（*1 後記同定例１により確認）

【００９１】図６の解析結果より、光学活性な２本のピ
ークが検出され、第１ピークおよび第２ピークの保持時
間に間隔が有り、また第１ピーク／第２ピーク＝１２／
８８（面積比）であることを確認した。

【００９２】従って得られた生成物は、出発原料化合物
として（Ｓ）−体ケトンを用いて、ジアステレオ面区別
還元して得たジオール誘導体であること、上記の結果お
よび後記の同定例１より、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−
１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールお
よびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオ
ロノナン−２，３−ジオールからなるジアステレオマー
混合物であり、その生成比率はａｎｔｉ体（２Ｓ，３
Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型＝８８／１２（面積
比）であることが判明した。

【００９３】（同定例１）参考例２で得られた生成物
〔８．５６ｇ（４０ミリモル）〕をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶離液ｎ−ヘキサン）にかけ、第１
フラクションと第２フラクションを分取し、溶媒を留去
して次の通り第１フラクションと第２フラクションを得
た。

【００９４】第１フラクション〔ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロ
ノナン−２，３−ジオール^*2〕・収得量：０．９３ｇ（４．３６ミリモル）・収得率：１０．９％第２フラクション〔ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオ
ロノナン−２，３−ジオール^*2〕・収得量：６．８５ｇ（３２ミリモル）・収得率：８０％（*2 本同定例により確認）

【００９５】還流冷却器、温度計、攪拌機および滴下ロ
ートを備えた四つ口丸底フラスコに、上記第１フラクシ
ョンまたは第２フラクションの各生成物４ミリモルと、
２，２−ジメトキシプロパン４ｍｇおよびパラトルエン
スルホン酸０．１ｇを加えて、９０℃で５時間還流し、
アセタール交換反応を行い、反応終了後、各反応生成物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液ｎ−ヘ
キサン）を用いて分取し、８２℃で蒸留し、留分を濃縮
して、いずれも無色透明な液状の誘導生成物を得た。

【００９６】これらの各誘導生成物の６０ＭＨｚの¹Ｈ
ＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、いずれも２，
２−ジメチル−４−ｎ−ヘキシル−５−トリフルオロメ
チル−１，３−ジオキソラン（以下、１，３−ジオキソ
ラン誘導体という）であることが確認された。

【００９７】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃）：０．８０〜２．００ｐｐｍ（１３Ｈ，ｍ）：２．８０〜４．３０ｐｐｍ（２Ｈ，ｍ）ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ）：１，０９０ｃｍ^-1 （ＣＯＣ）：２，９４０ｃｍ^-1 （ＣＨ）ＭＳスペクトル：ｍ／Ｚ２５４（Ｍ⁺）

【００９８】また¹ＨＮＭＲスペクトル図、ＩＲ吸収ス
ペクトル図をそれぞれ図７および図８に示す。

【００９９】更に、上記各１，３−ジオキソラン誘導体
を¹⁹ＦＮＭＲスペクトルで測定した結果は、次の通りで
あった。¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍｅｘｔ．ＣＦ₃ＣＯ
ＯＨ）第１フラクションから誘導された１，３−ジオキソラン
誘導体：−０．２７ｐｐｍ〔ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型^*2〕第２フラクションから誘導された１，３−ジオキソラン
誘導体：−３．５０ｐｐｍ〔ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型^*2〕（*2 本同定例により確認）

【０１００】また、上記の各１，３−ジオキソラン誘導
体の２７０ＭＨｚの¹ＨＮＭＲスペクトルを求めた結果
は表１の通りであり、メチル基とメチンプロトンの位置
から、第１フラクションから誘導された１，３−ジオキ
ソラン誘導体は、ｔｒａｎｓ−２，２−ジメチル−４−
ｎ−ヘキシル−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオ
キソランであり、第２フラクションから誘導された１，
３−ジオキソラン誘導体は、ｃｉｓ−２，２−ジメチル
−４−ｎ−ヘキシル−５−トリフルオロメチル−１，３
−ジオキソランであることが確認された。

【０１０１】

【表１】

【０１０２】上記の結果より、前述の第１フラクション
はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロ
ノナン−２，３−ジオールであり、第２フラクションは
ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロ
ノナン−２，３−ジオールであることが確認された。

【０１０３】また、それらのフラクションの収得比率は
第１フラクション／第２フラクション＝１０．９／８０
（％）〔１２／８８（収得比）〕であり、それが参考例
２で得た光学異性体分離用カラムを有するガスクロマト
グラフィーで検出した第１ピークと第２ピークの各面積
比と一致したことより、参考例２で得た光学異性体分離
用カラムを有するガスクロマトグラフィーで検出した第
１ピークはｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリ
フルオロノナン−２，３−ジオールで、第２ピークはａ
ｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロノ
ナン−２，３−ジオールであり、その生成比率はａｎｔ
ｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型＝８
８／１２（面積比）であることが判明した。従って、参
考例２で得られた生成物は、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）
−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオール
およびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフル
オロノナン−２，３−ジオールのジアステレオマー混合
物であり、その生成比率はａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型
／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型＝８８／１２（面積比）で
あることが確認された。

【０１０４】〔実施例１〕〔本発明化合物：ａｎｔｉ−
（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメ
チルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアートおよび
ｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリフ
ルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアー
トからなるジアステレオマー混合物の製造〕（第一段反応）温度計、攪拌機、還流冷却器および滴下
ロートを備えた四つ口丸底フラスコにｎ−ヘキサンで洗
浄精製乾燥した水素化ナトリウム３．６ｇ（１５０ミリ
モル）とジエチルエーテル８０ｍｌを入れ、該フラスコ
を氷水バス中に挿入し、攪拌しながら、０℃の懸濁液を
調合した。

【０１０５】次いで滴下ロートに参考例２で得たａｎｔ
ｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロノナン
−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−
１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールの
ジアステレオマー混合物〔ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型
／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型＝８８／１２（面積比）〕
３２．１ｇ（１５０ミリモル）とジエチルエーテル７２
０ｍｌを入れ、均一な溶液とし、攪拌しながら、１８分
間かけて滴下した。滴下完了後、氷水バスを取り去り、
攪拌しながら２５℃迄昇温し、引きつづき２５℃で６０
分間攪拌保持し、反応を完結させた。

【０１０６】（第二段反応）次いで上記フラスコを再
度、氷水バス中に挿入し、０℃に保持した。滴下ロート
に４−ベンジルオキシベンゾイルクロリド３７ｇ（１５
０ミリモル）とジエチルエーテル３６０ｍｌを、攪拌し
ながら、３５分間かけて滴下した。滴下完了後、氷水バ
スを取り去り、攪拌しながら、２５℃迄昇温させ、引き
つづき２５℃で１５０分間攪拌保持して、反応を完結さ
せた。

【０１０７】反応終了後、反応液を氷水中に入れ、１規
定塩酸によりｐＨを５〜６に調整した。次いでエーテル
抽出し、得られた抽出液を０．５規定炭酸水素ナトリウ
ム水溶液および水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムを加えて水分を除去し、減圧濃縮により溶媒を留去
し、淡黄色のシロップ状の目的生成物〔収量５０．９ｇ
（１２０ミリモル）、収率８０％〕を得た。

【０１０８】この目的生成物の¹ＨＮＭＲスペクトル、
ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳスペクトルを測定した結
果は次の通りであり、２−ヒドロキシ−１−トリフルオ
ロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアートで
あることが確認された。

【０１０９】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃）：０．４５〜１．９２ｐｐｍ（１３Ｈ、ｍ）：２．８３〜３．２０ｐｐｍ（１Ｈ、ｍ）：３．８４〜４．２１ｐｐｍ（１Ｈ、ｍ）：４．２１〜４．６４ｐｐｍ（ＯＨ、ｂ）：４．７６〜４．９３ｐｐｍ（２Ｈ、ｍ）：６．６４〜７．８３ｐｐｍ（１０Ｈ、ｍ）ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ）：１，１１０ｃｍ^-1（ＣＯＣ）：１，７６０ｃｍ^-1（ＣＯ）：３，４５０ｃｍ^-1（ＯＨ）ＭＳスペクトルｍ／Ｚ４２４（Ｍ⁺）

【０１１０】¹ＨＮＭＲスペクトル図およびＩＲ吸収ス
ペクトル図を、それぞれ図９および図１０に示す。

【０１１１】また、この目的生成物の¹⁹ＦＮＭＲスペク
トルを測定した結果は次の通りであった。¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍｅｘｔ．ＣＦ₃ＣＯ
ＯＨ）：−１．３３ｐｐｍ面積比１２％〔ｓｙｎ体（１
Ｓ，２Ｒ）型^*3〕：−３．５０ｐｐｍ面積比８８％〔ａｎｔｉ体（１
Ｓ，２Ｓ）型^*3〕（*3 後記同定例２により確認）

【０１１２】上記結果と後記同定例２より、目的生成物
はａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−ト
リフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾ
アートおよびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ
−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキ
シベンゾアートからなるジアステレオマー混合物であ
り、その生成比率はａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙ
ｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型＝８８／１２（面積比）であるこ
とが判明した。

【０１１３】〔同定例２〕実施例１で得られた目的生成
物を用いて以下の同定を行った。すなわちまず、該目的
生成物を酸で加水分解することにより、１，１，１−ト
リフルオロノナン−２，３−ジオールを生成した。具体
的には、還流冷却器、温度計、撹拌機、ロートを備えた
四ツ口丸底フラスコに、実施例１で得た目的生成物４．
２４ｇ（１０ミリモル）と３規定塩酸５０ｍｌとメタノ
ール２００ｍｌを加えて、撹拌しながら、８０℃の温度
まで昇温し、８０℃で６時間還流して、加水分解反応を
行った。

【０１１４】反応終了後、室温まで冷却した後、エーテ
ルで抽出し、得られた抽出液を２０％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液２０ｍｌで洗浄し、次いで水２００ｍｌで洗浄
したのち、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去
し、粒状活性炭０．０２ｇを入れ３０分間攪拌した後、
濾過して得たろ液より溶媒を減圧留去して、無色透明な
液状の生成物〔収量１．７１ｇ（８ミリモル）収率８０
％〕を得た。

【０１１５】得られた生成物の¹ＨＮＭＲスペクトル、
¹⁹ＦＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルを測定した結果は参考例２と同じであり、
１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールで
あることが確認された。

【０１１６】次いでこの生成物を、参考例２と同様にし
て光学異性体分離用カラムを有するガスクロマトグラフ
ィーにより分析した結果、図６と同様なチャートが得ら
れた。すなわち、第１ピークおよび第２ピークの各保持
時間および面積比が、参考例２の結果と一致した。すな
わち、この生成物はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，
１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオール／ｓｙ
ｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロノナン
−２，３−ジオール＝８８／１２（面積比）からなるジ
アステレオマー混合物である。

【０１１７】ところで、原料化合物〔ａｎｔｉ体（２
Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型＝８８／１２
（面積比）〕の２位の不斉炭素原子に結合した水酸基
を、４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ基に置換した
場合、仮に、２位の不斉炭素原子上で１００％のラセミ
化を起こせば、目的生成物であるジアステレオマー混合
物は、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，
３Ｒ）型＝５０／５０の生成比率となる。

【０１１８】また、各反応のいずれかにおいて２位の不
斉炭素原子上で不斉中心がわずかでもラセミ化を起こせ
ば、それに対応して、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓ
ｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型＝５０／５０の生成比率に近づ
く。

【０１１９】しかしながら、前述したように、目的生成
物を加水分解して得た生成物が、原料化合物と同一のａ
ｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールおよびｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型ジオールからなるジアステレオマー混合物
であり、かつａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体
（２Ｓ，３Ｒ）型の面積比と一致する事と、上記の考察
から、原料化合物の２位の不斉炭素原子に結合した水酸
基の４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ基による置換
では、２位の不斉炭素原子の不斉中心のラセミ化は起こ
らないことが確認された。

【０１２０】従って、目的生成物はａｎｔｉ−（１Ｓ，
２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチルオク
チル＝４−ベンジルオキシベンゾアートおよびｓｙｎ−
（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメ
チルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアートからな
るジアステレオマー混合物であり、ａｎｔｉ体（１Ｓ，
２Ｓ）型／ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型＝８８／１２（面
積比）であることが確認された。

【０１２１】また、実施例１で得られた目的生成物の¹⁹
ＦＮＭＲスペクトルの第１ピーク（−１．３３ｐｐｍ）
と第２ピーク（−３．５０ｐｐｍ）の面積比は１２／８
８であり、この比が、上記で明らかとなった実施例１の
目的生成物のｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型／ａｎｔｉ体
（１Ｓ，２Ｓ）型の面積比と一致したことより、目的生
成物を、¹⁹ＦＮＭＲスペクトルで分析することにより得
られる２本のピークのうち、原料化合物のｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型の面積比と一致するピーク（−１．３３ｐ
ｐｍ）はｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１
−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベ
ンゾアートであり、また原料化合物のａｎｔｉ体（２
Ｓ，３Ｓ）型の面積比と一致するピーク（−３．５０ｐ
ｐｍ）はａｎｔｉ体−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ
−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキ
シベンゾアートであること、また、上記各ピークの面積
比から、目的生成物のａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型およ
びｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型の生成比率を確認出来るこ
とが明確となった。

【０１２２】

【発明の効果】本発明は、大画面液晶ディスプレイ等の
素材である反強誘電性液晶化合物の中間原料として有用
である新規のａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロキ
シ＝ベンジルオキシベンゾアートおよびｓｙｎ体（１
Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾア
ートからなるジアステレオマー混合物を、高収率で、効
率的に製造することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】参考例１で得た１−ヒドロキシ−２，２，２−
トリフルオロエチルｎ−ヘキシルケトンの¹ＨＮＭＲ
スペクトル図である。

【図２】参考例１で得た１−ヒドロキシ−２，２，２−
トリフルオロエチルｎ−ヘキシルケトンのＩＲ吸収ス
ペクトル図である。

【図３】参考例１で得た（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，
２，２−トリフルオロエチルｎ−ヘキシルケトンの光学
活性な液体クロマトグラフィーのチャートである。

【図４】参考例２で得た１，１，１−トリフルオロノナ
ン−２，３−ジオールの¹ＨＮＭＲスペクトル図であ
る。

【図５】参考例２で得た１，１，１−トリフルオロノナ
ン−２，３−ジオールのＩＲ吸収スペクトル図である。

【図６】参考例２で得たｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，
１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールおよび
ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロ
ノナン−２，３−ジオールの光学異性体分離用カラムを
有するガスクロマトグラフィーのチャートである。

【図７】同定例１で得た２，２−ジメチル−４−ｎ−ヘ
キシル−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラ
ンの¹ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図８】同定例１で得た２，２−ジメチル−４−ｎ−ヘ
キシル−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラ
ンのＩＲ吸収スペクトル図である。

【図９】実施例１で得た２−ヒドロキシ−１−トリフル
オロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアート
の¹ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図１０】実施例１で得た２−ヒドロキシ−１−トリフ
ルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアー
トのＩＲ吸収スペクトル図である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】有機溶媒中で、式（１）で示されるａｎ
ｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロアル
カン−２，３−ジオールとｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−
１，１，１−トリフルオロアルカン−２，３−ジオール
からなるジアステレオマー混合物と、該ジアステレオマ
ー混合物１モルを基準として１モルのアルカリ金属水素
化物を反応させ、次いで反応生成物と、前記反応におい
て原料として用いたジアステレオマー混合物１モルを基
準として１モルの４−ベンジルオキシベンゾイルクロリ
ドを反応させることを特徴とする、式（２）で示される
ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリ
フルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾア
ートおよびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−
１−トリフルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシ
ベンゾアートからなるジアステレオマー混合物の製造方
法。【化１】【化２】
【請求項２】式（１）で示されるジアステレオマー混
合物が、有機溶媒中で、式（３）で示される（Ｓ）−１
−ヒドロキシ−２，２−２−トリフルオロエチルアルキ
ルケトンを金属水素化物を用いて還元することにより製
造されるものであることを特徴とする請求項１記載の製
造方法。【化３】
【請求項３】金属水素化物が水素化アルミニウムリチ
ウムであることを特徴とする請求項２記載の製造方法。