JPH07215941A - ５−ピラゾールメルカプタン誘導体及びその中間体の製造方法 - Google Patents
５−ピラゾールメルカプタン誘導体及びその中間体の製造方法Info
- Publication number
- JPH07215941A JPH07215941A JP5316384A JP31638493A JPH07215941A JP H07215941 A JPH07215941 A JP H07215941A JP 5316384 A JP5316384 A JP 5316384A JP 31638493 A JP31638493 A JP 31638493A JP H07215941 A JPH07215941 A JP H07215941A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- methyl
- hydrogen atom
- reaction
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 27
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims abstract description 17
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 12
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims abstract description 6
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 claims abstract description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 67
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 67
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical group ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 22
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 19
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 15
- -1 malonate compound Chemical class 0.000 claims description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000012039 electrophile Substances 0.000 claims description 9
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 claims description 7
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 claims description 6
- 125000006656 (C2-C4) alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 claims description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 3
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical group [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 2
- 125000006502 nitrobenzyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 abstract description 3
- 229940100389 Sulfonylurea Drugs 0.000 abstract description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 abstract description 2
- YROXIXLRRCOBKF-UHFFFAOYSA-N sulfonylurea Chemical class OC(=N)N=S(=O)=O YROXIXLRRCOBKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L Malonate Chemical compound [O-]C(=O)CC([O-])=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- 230000002363 herbicidal effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 21
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 20
- 239000002585 base Substances 0.000 description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- LTMHNWPUDSTBKD-UHFFFAOYSA-N diethyl 2-(ethoxymethylidene)propanedioate Chemical compound CCOC=C(C(=O)OCC)C(=O)OCC LTMHNWPUDSTBKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 3
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 2
- HDZGCSFEDULWCS-UHFFFAOYSA-N monomethylhydrazine Chemical compound CNN HDZGCSFEDULWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000006503 p-nitrobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1[N+]([O-])=O)C([H])([H])* 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- SVRJUBQCBKFRCB-UHFFFAOYSA-N (ethylidene-lambda4-sulfanylidene)methanethiol Chemical class C(C)=S=CS SVRJUBQCBKFRCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobutane Chemical compound CCCCCl VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N Propyl levulinate Chemical compound CCCOC(=O)CCC(C)=O QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJFAYQIBOAGBLC-BYPYZUCNSA-N Selenium-L-methionine Chemical compound C[Se]CC[C@H](N)C(O)=O RJFAYQIBOAGBLC-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 150000003842 bromide salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N carbon disulfide-14c Chemical compound S=[14C]=S QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfate Chemical compound CCOS(=O)(=O)OCC DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008406 diethyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- VDQVEACBQKUUSU-UHFFFAOYSA-M disodium;sulfanide Chemical compound [Na+].[Na+].[SH-] VDQVEACBQKUUSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002022 dithiocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000007069 methylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- KGCNHWXDPDPSBV-UHFFFAOYSA-N p-nitrobenzyl chloride Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(CCl)C=C1 KGCNHWXDPDPSBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N potassium ethoxide Chemical compound [K+].CC[O-] RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl chloride Chemical compound CC(C)(C)Cl NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D231/18—One oxygen or sulfur atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C337/00—Derivatives of thiocarbonic acids containing functional groups covered by groups C07C333/00 or C07C335/00 in which at least one nitrogen atom of these functional groups is further bound to another nitrogen atom not being part of a nitro or nitroso group
- C07C337/02—Compounds containing any of the groups, e.g. thiocarbazates
- C07C337/04—Compounds containing any of the groups, e.g. thiocarbazates the other nitrogen atom being further doubly-bound to a carbon atom
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 スルホニルウレア系除草剤の合成に有用な５
−ピラゾールメルカプタン誘導体及びその中間体の製造
方法を提供する。 【構成】 マロネート化合物を塩基存在下でチオカルボ
キシレート化合物と反応させることを特徴とする下記一
般式(Ｉ)で示される５−ピラゾールメルカプタン誘導体
の製造方法。 ［式中、ＲはＣ 1−Ｃ 4アルキル基、Ｃ 2−Ｃ 4アルケ
ニル基、アリルアルキル基又はアリル基であり；Ｒ 1は
水素原子、Ｃ 1−Ｃ 4アルキル基、アリル基又はプロパ
ギル基であり；Ｒ 2は水素原子、Ｃ 1−Ｃ 4アルキル基
であるか任意の位置にハロゲン原子、ニトロ基及びメチ
ル基からなる群から選択される１又は２以上の置換基を
有するフェニル基であり；Ｒ 3は水素原子、メチル基、
エチル基又はフェニル基である。］
−ピラゾールメルカプタン誘導体及びその中間体の製造
方法を提供する。 【構成】 マロネート化合物を塩基存在下でチオカルボ
キシレート化合物と反応させることを特徴とする下記一
般式(Ｉ)で示される５−ピラゾールメルカプタン誘導体
の製造方法。 ［式中、ＲはＣ 1−Ｃ 4アルキル基、Ｃ 2−Ｃ 4アルケ
ニル基、アリルアルキル基又はアリル基であり；Ｒ 1は
水素原子、Ｃ 1−Ｃ 4アルキル基、アリル基又はプロパ
ギル基であり；Ｒ 2は水素原子、Ｃ 1−Ｃ 4アルキル基
であるか任意の位置にハロゲン原子、ニトロ基及びメチ
ル基からなる群から選択される１又は２以上の置換基を
有するフェニル基であり；Ｒ 3は水素原子、メチル基、
エチル基又はフェニル基である。］
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はスルホニルウレア系除草
剤の合成に有用な下記一般式(Ｉ)で示される５−ピラゾ
ールメルカプタン誘導体及びその中間体の製造方法に関
するものである。
剤の合成に有用な下記一般式(Ｉ)で示される５−ピラゾ
ールメルカプタン誘導体及びその中間体の製造方法に関
するものである。
【化５】 [式中、Ｒ1は水素原子、Ｃ1−Ｃ4アルキル基、アリル基
又はプロパギル基であり;Ｒ2は水素原子、Ｃ1−Ｃ4アル
キル基であるか任意の位置にハロゲン原子、ニトロ基及
びメチル基からなる群から選択される１又は２以上の置
換基を有するフェニル基であり;Ｒ3は水素原子、メチル
基、エチル基又はフェニル基である。]
又はプロパギル基であり;Ｒ2は水素原子、Ｃ1−Ｃ4アル
キル基であるか任意の位置にハロゲン原子、ニトロ基及
びメチル基からなる群から選択される１又は２以上の置
換基を有するフェニル基であり;Ｒ3は水素原子、メチル
基、エチル基又はフェニル基である。]
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】上記
一般式(Ｉ)の化合物は公知物質として、その製造方法は
例えば、ヨーロッパ公開特許第８７７８０号、日本国特
許公開昭６１−２１０００３号、日本国特許公開昭６１
−２１００８４号等に記載されている。特に、日本国特
許公開昭６１−２１００８４号によれば下記反応式に従
ってジエチルエトキシメチレンマロネートから３段階の
工程を経て目的化合物(Ｉ')を製造している。
一般式(Ｉ)の化合物は公知物質として、その製造方法は
例えば、ヨーロッパ公開特許第８７７８０号、日本国特
許公開昭６１−２１０００３号、日本国特許公開昭６１
−２１００８４号等に記載されている。特に、日本国特
許公開昭６１−２１００８４号によれば下記反応式に従
ってジエチルエトキシメチレンマロネートから３段階の
工程を経て目的化合物(Ｉ')を製造している。
【化６】
【０００３】上記反応式をより具体的に説明すれば、先
ずジエチルエトキシメチレンマロネートとメチルヒドラ
ジンを環化反応させ上記一般式(III')の化合物を生成さ
せ、次にホスホラスオキシクロライド(ＰＯＣl3)を使用
して９０〜１００℃の温度で６５時間以上反応させ、化
合物(III')のハイドロキシ基をクロル化してクロロ基に
換えた後、ここで生成された化合物(II')をＤＭＦ溶媒
の存在下でナトリウムスルフィド(Ｎa2Ｓ)と７０〜８０
℃で３.５時間反応させ目的化合物(Ｉ')を製造してい
る。
ずジエチルエトキシメチレンマロネートとメチルヒドラ
ジンを環化反応させ上記一般式(III')の化合物を生成さ
せ、次にホスホラスオキシクロライド(ＰＯＣl3)を使用
して９０〜１００℃の温度で６５時間以上反応させ、化
合物(III')のハイドロキシ基をクロル化してクロロ基に
換えた後、ここで生成された化合物(II')をＤＭＦ溶媒
の存在下でナトリウムスルフィド(Ｎa2Ｓ)と７０〜８０
℃で３.５時間反応させ目的化合物(Ｉ')を製造してい
る。
【０００４】しかし、前述した公知の方法によって、目
的化合物を製造する場合、３段階の複雑な反応工程を経
なければならないことはいうまでもなく、上記反応段階
中、環化反応による生成物中には下記一般式(Ｉ")のよ
うな異性体が副生成物として生じ純度を落とすため再結
晶工程のような精製工程を追加に経なければならず、全
体的に高い反応温度と長時間の反応時間を要するのみな
らず収率も８０％以下(特に、クロル化段階においては
収率が３０〜４０％に過ぎない)で低いものしか得られ
ない。
的化合物を製造する場合、３段階の複雑な反応工程を経
なければならないことはいうまでもなく、上記反応段階
中、環化反応による生成物中には下記一般式(Ｉ")のよ
うな異性体が副生成物として生じ純度を落とすため再結
晶工程のような精製工程を追加に経なければならず、全
体的に高い反応温度と長時間の反応時間を要するのみな
らず収率も８０％以下(特に、クロル化段階においては
収率が３０〜４０％に過ぎない)で低いものしか得られ
ない。
【化７】
【０００５】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者等は上
記一般式(Ｉ)化合物をより効果的で経済的に合成できる
方法につき研究を進めた結果、エチリデンジチオカルボ
ン酸誘導体を出発物質として１段階反応工程によって上
記一般式(Ｉ)化合物を効果的に合成することがが判明し
本発明を完成するに至った。
記一般式(Ｉ)化合物をより効果的で経済的に合成できる
方法につき研究を進めた結果、エチリデンジチオカルボ
ン酸誘導体を出発物質として１段階反応工程によって上
記一般式(Ｉ)化合物を効果的に合成することがが判明し
本発明を完成するに至った。
【０００６】すなわち、本発明の目的は下記一般式(II
I)のマロネート化合物を塩基存在下で下記一般式(II)の
カルボジチオアート化合物と反応させることを特徴とし
て下記一般式(Ｉ)で示される５−ピラゾールメルカプタ
ン誘導体を製造する方法を提供することにある。
I)のマロネート化合物を塩基存在下で下記一般式(II)の
カルボジチオアート化合物と反応させることを特徴とし
て下記一般式(Ｉ)で示される５−ピラゾールメルカプタ
ン誘導体を製造する方法を提供することにある。
【化８】 [式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前述した通りであり、ＲはＣ
1−Ｃ4アルキル基(望ましくはメチル基、エチル基)、Ｃ
2−Ｃ4アルケニル基(望ましくはアリル基)、アリルアル
キル基(望ましくはベンジル基)又はアリル基(望ましく
はフェニル基)を示す。]
1−Ｃ4アルキル基(望ましくはメチル基、エチル基)、Ｃ
2−Ｃ4アルケニル基(望ましくはアリル基)、アリルアル
キル基(望ましくはベンジル基)又はアリル基(望ましく
はフェニル基)を示す。]
【０００７】本発明による上記反応は下記反応図式(１)
に従って先ず、上記一般式(II)の化合物を一般式(III)
の化合物と反応させて下記一般式(IV)のエチリデンカル
ボジチオアート化合物を得、得られた化合物(IV)は直ち
に脱カルボキシル化され環を形成して下記一般式(Ｉ'")
のピラゾールメルカプタン塩基性塩が生成し、これを酸
処理すれば目的の一般式(Ｉ)のピラゾールメルカプタン
化合物が得られる。
に従って先ず、上記一般式(II)の化合物を一般式(III)
の化合物と反応させて下記一般式(IV)のエチリデンカル
ボジチオアート化合物を得、得られた化合物(IV)は直ち
に脱カルボキシル化され環を形成して下記一般式(Ｉ'")
のピラゾールメルカプタン塩基性塩が生成し、これを酸
処理すれば目的の一般式(Ｉ)のピラゾールメルカプタン
化合物が得られる。
【化９】 [式中、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前述した通りであり、Ｂ
+は塩基性基(base radical)を示し、Ａ-は酸基(acid ra
dical)を示す。］
+は塩基性基(base radical)を示し、Ａ-は酸基(acid ra
dical)を示す。］
【０００８】前述した反応は望ましくは無水条件に窒素
大気下で行うことによって良い合成結果を得ることがで
きる。本発明の反応はほぼ定量的に進行するが、場合に
よって、反応物質の使用量は上記一般式（ＩＩ）の化合
物に対し一般式(III)の化合物を通常過剰量使用して反
応させることもあり、望ましくは１.０当量〜２.０当
量、特に望ましくは１.０〜１.１当量の比率で使用する
のが効果的である。
大気下で行うことによって良い合成結果を得ることがで
きる。本発明の反応はほぼ定量的に進行するが、場合に
よって、反応物質の使用量は上記一般式（ＩＩ）の化合
物に対し一般式(III)の化合物を通常過剰量使用して反
応させることもあり、望ましくは１.０当量〜２.０当
量、特に望ましくは１.０〜１.１当量の比率で使用する
のが効果的である。
【０００９】本発明による上記反応は溶媒を使用しない
こともあるが、望ましくは溶媒存在下で反応させるのが
良く、８〜２０時間程度反応させれば反応が完了する。
この際、使用する溶媒はメタノール、エタノール、t−
ブタノール等のようなアルコール類、エチレンジクロラ
イド、メチレンジクロライド等をアルキルハライド類や
ベンゼン、n−ヘキサン、トルエン等、反応に副影響を
与えなければ、いかなる溶媒も使用可能であるが、望ま
しくはアルコール類、特にエタノールが最も良く、反応
温度は０℃〜１５０℃、好ましくは使用する溶媒の還流
温度で行う。
こともあるが、望ましくは溶媒存在下で反応させるのが
良く、８〜２０時間程度反応させれば反応が完了する。
この際、使用する溶媒はメタノール、エタノール、t−
ブタノール等のようなアルコール類、エチレンジクロラ
イド、メチレンジクロライド等をアルキルハライド類や
ベンゼン、n−ヘキサン、トルエン等、反応に副影響を
与えなければ、いかなる溶媒も使用可能であるが、望ま
しくはアルコール類、特にエタノールが最も良く、反応
温度は０℃〜１５０℃、好ましくは使用する溶媒の還流
温度で行う。
【００１０】本発明の反応において、望ましくは使用し
得る塩基としては、ナトリウム、カリウム、リチウム等
のようなアルカリ金属の(Ｃ1−Ｃ5)アルコキサイド、ハ
イドロキサイド又はカボネートを使用するか、ピリジ
ン、トリエチルアミン等の３級アミン塩基を使用し得る
が、望ましくはアルカリ金属(Ｃ1−Ｃ5)アルコキサイド
又はアルカリ金属ハイドロキサイドであり、特にナトリ
ウムエトキサイド又はナトリウムハイドロキサイドが最
も望ましく、その使用量は出発物質である一般式(II)の
化合物を基準にして１.０当量〜５.０当量が可能である
が、望ましくは１.１当量〜１.５当量である。
得る塩基としては、ナトリウム、カリウム、リチウム等
のようなアルカリ金属の(Ｃ1−Ｃ5)アルコキサイド、ハ
イドロキサイド又はカボネートを使用するか、ピリジ
ン、トリエチルアミン等の３級アミン塩基を使用し得る
が、望ましくはアルカリ金属(Ｃ1−Ｃ5)アルコキサイド
又はアルカリ金属ハイドロキサイドであり、特にナトリ
ウムエトキサイド又はナトリウムハイドロキサイドが最
も望ましく、その使用量は出発物質である一般式(II)の
化合物を基準にして１.０当量〜５.０当量が可能である
が、望ましくは１.１当量〜１.５当量である。
【００１１】一方、本発明の反応中生成する上記一般式
(IV)の化合物は公知文献に記載されていない新規の物質
として、必要によっては一般式(IV)の化合物を分離して
前述した反応と同一条件にて反応させ本発明の目的物質
(Ｉ)を製造することができる。
(IV)の化合物は公知文献に記載されていない新規の物質
として、必要によっては一般式(IV)の化合物を分離して
前述した反応と同一条件にて反応させ本発明の目的物質
(Ｉ)を製造することができる。
【００１２】従って、本発明は下記一般式(IV)で示され
る新規のエチリデンカルボジチオアート化合物を提供
し、さらに、下記反応図式(２)に示した通り、一般式(I
V)の化合物を塩基存在下で環化反応を行うことを特徴と
する一般式(Ｉ)の化合物の製造方法も本発明の目的に含
まれる。
る新規のエチリデンカルボジチオアート化合物を提供
し、さらに、下記反応図式(２)に示した通り、一般式(I
V)の化合物を塩基存在下で環化反応を行うことを特徴と
する一般式(Ｉ)の化合物の製造方法も本発明の目的に含
まれる。
【化１０】 [式中、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前述した通りである。]
【００１３】上記反応図式(２)による反応は前述した反
応図式(１)による反応と同一の条件で効果的に行われ、
この反応によって製造される目的化合物は９９％程度の
高純度であるのが特徴である。上記で詳細に説明した本
発明の方法によれば、いずれの場合も１段階の工程であ
り、非常に簡単で、効果的に目的化合物(Ｉ)を合成でき
ることのみならず、公知の方法のように異性体が生成す
る恐れが無く、相当に緩和な反応条件で短時間に反応を
完了させることができ、高純度の目的化合物を高収率で
得ることができる。
応図式(１)による反応と同一の条件で効果的に行われ、
この反応によって製造される目的化合物は９９％程度の
高純度であるのが特徴である。上記で詳細に説明した本
発明の方法によれば、いずれの場合も１段階の工程であ
り、非常に簡単で、効果的に目的化合物(Ｉ)を合成でき
ることのみならず、公知の方法のように異性体が生成す
る恐れが無く、相当に緩和な反応条件で短時間に反応を
完了させることができ、高純度の目的化合物を高収率で
得ることができる。
【００１４】一方、本発明の出発物質として使用される
上記一般式(II)及び(III)の化合物等は全て公知の化合
物で商業的に容易に購入して使用することが出来るが、
特に、出発物質(II)化合物は直接合成して使用するのが
より経済的である。
上記一般式(II)及び(III)の化合物等は全て公知の化合
物で商業的に容易に購入して使用することが出来るが、
特に、出発物質(II)化合物は直接合成して使用するのが
より経済的である。
【００１５】しかし、一般式(II)の化合物を公知の方法
によって製造することになれば、大部分の場合、反応選
択性に問題点が存在する。例えば、一般式(II)の化合物
はモノアルキルヒドラジンをアルコールのような極性溶
媒中でカリウムハイドロキサイド及び二硫化炭素(Ｃ
Ｓ2)と反応させた後、同一溶媒中でよう化メチルとエス
テル化反応させて製造するか[アクタ・ケミカ・スカン
ジナビカ(Acta. Chem.Ｓcand.)２３(６),１９１６−３
４(１９６９)]又は米国特許第４０６４２６２、日本国
特開昭第６１−１０９７７１号等に記載されている方法
によって製造することができるが、このような公知方法
の場合にはエステル化反応段階で反応選択性が落ちて、
下記構造式(II")のような副産物が生成することがある
ので目的化合物(Ｉ)の収率が６０〜８５％に落ちること
になる問題点がある。
によって製造することになれば、大部分の場合、反応選
択性に問題点が存在する。例えば、一般式(II)の化合物
はモノアルキルヒドラジンをアルコールのような極性溶
媒中でカリウムハイドロキサイド及び二硫化炭素(Ｃ
Ｓ2)と反応させた後、同一溶媒中でよう化メチルとエス
テル化反応させて製造するか[アクタ・ケミカ・スカン
ジナビカ(Acta. Chem.Ｓcand.)２３(６),１９１６−３
４(１９６９)]又は米国特許第４０６４２６２、日本国
特開昭第６１−１０９７７１号等に記載されている方法
によって製造することができるが、このような公知方法
の場合にはエステル化反応段階で反応選択性が落ちて、
下記構造式(II")のような副産物が生成することがある
ので目的化合物(Ｉ)の収率が６０〜８５％に落ちること
になる問題点がある。
【化１１】 [式中、Ｒは前述した通りである。]
【００１６】従って、本発明者等はこのような従来の問
題点を解決するために研究を重ねた結果、エステル化反
応段階で非極性溶媒と相転移触媒とを使用する２相系反
応を行うことによって反応選択性を顕著に向上させるこ
とができ、高純度及び高収率で目的化合物(IV)を製造す
ることが出来ることを見出した。
題点を解決するために研究を重ねた結果、エステル化反
応段階で非極性溶媒と相転移触媒とを使用する２相系反
応を行うことによって反応選択性を顕著に向上させるこ
とができ、高純度及び高収率で目的化合物(IV)を製造す
ることが出来ることを見出した。
【００１７】従って、本発明のもう一つの目的は次の反
応図式(３)によって本発明の出発物質である化合物(II)
の新しい製造方法を提供することも含む。
応図式(３)によって本発明の出発物質である化合物(II)
の新しい製造方法を提供することも含む。
【化１２】 [式中、Ｒ及びＲ2は前述した通りであり、Ｘはハロゲン
を示し、Ｍはアルカリ金属を示す。]上記方法を具体的
に説明すれば次の通りである。
を示し、Ｍはアルカリ金属を示す。]上記方法を具体的
に説明すれば次の通りである。
【００１８】先ず塩基を溶媒に完全に溶解させた後、二
硫化炭素を一括投入し、アルキルヒドラジン(Ｖ)を徐々
に滴加した後、反応がさらに進行しない時まで十分撹拌
する。この際、塩基は金属ハイドロキサイドを使用する
が、特にナトリウムハイドロキサイド又はカリウムハイ
ドロキサイドが望ましい。二硫化炭素と塩基との使用量
は化合物(Ｖ)を基準に各々１.０〜１.５当量、望ましく
は１.０１〜１.０５当量である。溶媒として水又はアル
コールを使用することができるが、水を４.０当量以上
使用するのが全体的に均一の反応を誘導することができ
るので有利である。反応温度は通常０〜４０℃範囲を維
持するが、０〜１５℃の温度範囲で反応させるのが反応
物質の損失を防止することができるので望ましい。特に
二硫化炭素を投入する前に反応容器の内部温度を０〜５
℃程度に冷却するのが好ましい。アルキル物質である化
合物(Ｖ)を投入する際は反応器の内部温度が１５℃を越
えないように徐々に投入することが好ましい。
硫化炭素を一括投入し、アルキルヒドラジン(Ｖ)を徐々
に滴加した後、反応がさらに進行しない時まで十分撹拌
する。この際、塩基は金属ハイドロキサイドを使用する
が、特にナトリウムハイドロキサイド又はカリウムハイ
ドロキサイドが望ましい。二硫化炭素と塩基との使用量
は化合物(Ｖ)を基準に各々１.０〜１.５当量、望ましく
は１.０１〜１.０５当量である。溶媒として水又はアル
コールを使用することができるが、水を４.０当量以上
使用するのが全体的に均一の反応を誘導することができ
るので有利である。反応温度は通常０〜４０℃範囲を維
持するが、０〜１５℃の温度範囲で反応させるのが反応
物質の損失を防止することができるので望ましい。特に
二硫化炭素を投入する前に反応容器の内部温度を０〜５
℃程度に冷却するのが好ましい。アルキル物質である化
合物(Ｖ)を投入する際は反応器の内部温度が１５℃を越
えないように徐々に投入することが好ましい。
【００１９】次に、ジチオカルボン酸誘導体が生成して
いる反応混合物に非極性有機溶媒と相転移触媒を加えた
後、目的化合物に従って適切な親電子体を投入すること
によってエステル化反応を行う。この反応に使用する非
極性有機溶媒は非プロトン性溶媒、具体的にはメチレン
ジクロライド、エチレンジクロライド、n−ヘキサン、n
−ヘプタン又はトルエン等が望ましい。非極性有機溶媒
は通常の反応に使用する溶媒量程度、例えば、５〜４０
当量を使用する。
いる反応混合物に非極性有機溶媒と相転移触媒を加えた
後、目的化合物に従って適切な親電子体を投入すること
によってエステル化反応を行う。この反応に使用する非
極性有機溶媒は非プロトン性溶媒、具体的にはメチレン
ジクロライド、エチレンジクロライド、n−ヘキサン、n
−ヘプタン又はトルエン等が望ましい。非極性有機溶媒
は通常の反応に使用する溶媒量程度、例えば、５〜４０
当量を使用する。
【００２０】相転移触媒は四級アンモニウムハライド又
は三級アミンを使用することができるが、四級アンモニ
ウムハライドが望ましく、特に望ましくはテトラブチル
アンモニウムブロマイドである。この使用量は０.００
１〜１.０当量、望ましくは０.０１〜０.１当量であ
る。親電子体はアルキルスルフェート(Ｒ2ＳＯ4)又はア
ルキルハライド(Ｒ−Ｘ)を使用することができ、その使
用量は１.０〜２.０当量、望ましくは１.０１〜１.０５
当量を使用するが、この場合、親電子体は２〜３時間に
わたって一定速度により投入するのが好ましい。ここで
「アルキル」とは本発明による目的化合物の置換基Ｒに
定義されたもの等を全て含む広い意味で使用されるが、
適切に使用されることができる親電子体はメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、アリル、ブチル、t−ブ
チル、ベンジル又はp−ニトロベンジル基等のスルフェ
ート化合物或いはクロライド又はブロマイド化合物であ
り、特にジメチルスルフェート、アリルブロマイド又は
ベンジルクロライドが最も望ましい。エステル化反応温
度は０℃〜溶媒の還流温度範囲が可能であるが、０〜２
５℃範囲で反応させることが副産物の生成を最少にし、
最も良い結果が得られる。
は三級アミンを使用することができるが、四級アンモニ
ウムハライドが望ましく、特に望ましくはテトラブチル
アンモニウムブロマイドである。この使用量は０.００
１〜１.０当量、望ましくは０.０１〜０.１当量であ
る。親電子体はアルキルスルフェート(Ｒ2ＳＯ4)又はア
ルキルハライド(Ｒ−Ｘ)を使用することができ、その使
用量は１.０〜２.０当量、望ましくは１.０１〜１.０５
当量を使用するが、この場合、親電子体は２〜３時間に
わたって一定速度により投入するのが好ましい。ここで
「アルキル」とは本発明による目的化合物の置換基Ｒに
定義されたもの等を全て含む広い意味で使用されるが、
適切に使用されることができる親電子体はメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、アリル、ブチル、t−ブ
チル、ベンジル又はp−ニトロベンジル基等のスルフェ
ート化合物或いはクロライド又はブロマイド化合物であ
り、特にジメチルスルフェート、アリルブロマイド又は
ベンジルクロライドが最も望ましい。エステル化反応温
度は０℃〜溶媒の還流温度範囲が可能であるが、０〜２
５℃範囲で反応させることが副産物の生成を最少にし、
最も良い結果が得られる。
【００２１】上述した本発明の方法によれば、９５％以
上の純度の目的化合物(II)を９５〜９９％の高い収率で
得ることができるので工業的な面で多くの利点を有す
る。以上本発明の全ての製造工程を反応式で示すと次の
反応図式(４)の通りである。
上の純度の目的化合物(II)を９５〜９９％の高い収率で
得ることができるので工業的な面で多くの利点を有す
る。以上本発明の全ての製造工程を反応式で示すと次の
反応図式(４)の通りである。
【化１３】 [式中、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｍ及びＸは上述した通りで
ある。]以下、本発明を実施例によってより具体的に説
明する。しかし、これらの実施例等は本発明について理
解を助ける為のもののみで、本発明の範囲を制限するも
のではない。以下の実施例によって生成した化合物の純
度は気体クロマトグラフィにより分析した。
ある。]以下、本発明を実施例によってより具体的に説
明する。しかし、これらの実施例等は本発明について理
解を助ける為のもののみで、本発明の範囲を制限するも
のではない。以下の実施例によって生成した化合物の純
度は気体クロマトグラフィにより分析した。
【００２２】実施例１ ２−メチルジカルボジチオ酸メチルエステルの合成 水５.０gにナトリウムハイドロキサイド４２０mg(１０.
５mＭ)を入れて完全に溶かした後、冷却して０〜５℃を
維持した。この温度で二硫化炭素７９９mg(１０.５mＭ)
を一度に投入し、内部温度が１０℃を越えないように注
意しながらメチルヒドラジン４６１mg(１０.０mＭ)を３
０分間にわたって徐々に注入した。１０℃程度を維持し
ながら３時間継続撹拌した後、この反応混合物にメチレ
ンジクロライド１０.０gとテトラn−ブチルアンモニウ
ムブロマイド４２mg(０.１５mＭ)を付加した後、ジメチ
ルスルフェート１２７４mg(１０.１mＭ)を３０分に互っ
て徐々に投入し、さらに１時間反応を進行させる。有機
層を分離して無水硫酸マグネシウムで乾燥した後濾過し
溶媒を蒸溜して標題化合物１２９４mg(収率９５％)を
得、気体クロマトグラフィで９８％の純度を確認した。
５mＭ)を入れて完全に溶かした後、冷却して０〜５℃を
維持した。この温度で二硫化炭素７９９mg(１０.５mＭ)
を一度に投入し、内部温度が１０℃を越えないように注
意しながらメチルヒドラジン４６１mg(１０.０mＭ)を３
０分間にわたって徐々に注入した。１０℃程度を維持し
ながら３時間継続撹拌した後、この反応混合物にメチレ
ンジクロライド１０.０gとテトラn−ブチルアンモニウ
ムブロマイド４２mg(０.１５mＭ)を付加した後、ジメチ
ルスルフェート１２７４mg(１０.１mＭ)を３０分に互っ
て徐々に投入し、さらに１時間反応を進行させる。有機
層を分離して無水硫酸マグネシウムで乾燥した後濾過し
溶媒を蒸溜して標題化合物１２９４mg(収率９５％)を
得、気体クロマトグラフィで９８％の純度を確認した。
【００２３】実施例２ ２−メチルカルボジチオ酸アリルエステルの合成 親電子体としてジメチルスルフェートの代わりにアリル
ブロマイド１２２２mg(１０.１mＭ)を使用することを除
いて、実施例１と類似した方法で反応を行って標題化合
物１５５８mg(収率９６％)を収得し、気体クロマトグラ
フィで９７％の純度を確認した。
ブロマイド１２２２mg(１０.１mＭ)を使用することを除
いて、実施例１と類似した方法で反応を行って標題化合
物１５５８mg(収率９６％)を収得し、気体クロマトグラ
フィで９７％の純度を確認した。
【００２４】実施例３ ２−メチルカルボジチオ酸ベンジルエステルの合成 エステル化溶媒としてメチレンクロライドの代わりにn
−ヘキサン３０.０gを使用し親電子体としてジメチルス
ルフェートの代わりにベンジルクロライド１２７９mg
(１０.０mＭ)を使用して実施例１に記載と同様の方法に
よって反応を行った後、メチレンジクロライドによって
生成物を抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過し
て標題化合物２１０２mg(収率９９％)を得、気体クロマ
トグラフィで９５％の純度を確認した。
−ヘキサン３０.０gを使用し親電子体としてジメチルス
ルフェートの代わりにベンジルクロライド１２７９mg
(１０.０mＭ)を使用して実施例１に記載と同様の方法に
よって反応を行った後、メチレンジクロライドによって
生成物を抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過し
て標題化合物２１０２mg(収率９９％)を得、気体クロマ
トグラフィで９５％の純度を確認した。
【００２５】実施例４ ２−メチルカルボジチオ酸エチルエステルの合成 親電子体としてジエチルスルフェート１５５５mg(１０.
１mＭ)を使用する以外は実施例１又は３に記載と同様の
方法によって反応を行って、標題化合物１４２５mg(収
率:９５％、純度:９６％)を得た。
１mＭ)を使用する以外は実施例１又は３に記載と同様の
方法によって反応を行って、標題化合物１４２５mg(収
率:９５％、純度:９６％)を得た。
【００２６】実施例５ ２−メチルカルボジチオ酸プロピルエステルの合成 親電子体としてジプロピルスルフェート１８３８mg(１
０.０mＭ)を使用する以外は実施例１又は３に記載と同
様の方法によって反応を行って、標題化合物１５９１mg
(収率:９７％、純度:９５％)を得た。
０.０mＭ)を使用する以外は実施例１又は３に記載と同
様の方法によって反応を行って、標題化合物１５９１mg
(収率:９７％、純度:９５％)を得た。
【００２７】実施例６ ２−メチルカルボジチオ酸イソプロピルエステルの合成 親電子体としてイソプロピルクロライド７９３mg(１０.
１mＭ)を使用する以外は実施例１又は３に記載と同様の
方法によって反応を行って標題化合物１５４２mg(収率:
９４％、純度:９６％)を得た。
１mＭ)を使用する以外は実施例１又は３に記載と同様の
方法によって反応を行って標題化合物１５４２mg(収率:
９４％、純度:９６％)を得た。
【００２８】実施例７ ２−メチルカルボジチオ酸ブチルエステルの合成 親電子体としてブチルクロライド９４４mg(１０.１mＭ)
を使用する以外は実施例１又は３に記載と同様の方法に
よって反応を行って標題化合物１７１８mg(収率:９６
％、純度:９５％)を得た。
を使用する以外は実施例１又は３に記載と同様の方法に
よって反応を行って標題化合物１７１８mg(収率:９６
％、純度:９５％)を得た。
【００２９】実施例８ ２−メチルカルボジチオ酸t−ブチルエステルの合成 親電子体としてt−ブチルクロライド９４４mg(１０.１m
Ｍ)を使用する以外は実施例１又は３に記載と同様の方
法によって反応を行って標題化合物１７５４mg(収率:９
８％、純度:９３％)を得た。
Ｍ)を使用する以外は実施例１又は３に記載と同様の方
法によって反応を行って標題化合物１７５４mg(収率:９
８％、純度:９３％)を得た。
【００３０】実施例９ ２−メチルカルボジチオ酸p−ニトロベンジルエステル
の合成 親電子体としてp−ニトロベンジルクロライド１７３２m
g(１０.１mＭ)を使用する以外は実施例１又は３に記載
と同様の方法によって反応を行って標題化合物２４４２
mg(収率:９５％、純度:９６％)を得た。
の合成 親電子体としてp−ニトロベンジルクロライド１７３２m
g(１０.１mＭ)を使用する以外は実施例１又は３に記載
と同様の方法によって反応を行って標題化合物２４４２
mg(収率:９５％、純度:９６％)を得た。
【００３１】実施例１０〜１３ ベンジル３−[２',２'−(ジエトキシカボニル)エチリデ
ン]−２−メチルカルボジチオアートの合成 実施例１０〜１３では標題化合物を下記表１に記載され
ている溶媒、塩基及び反応条件に従って下記の反応過程
を経て合成する。窒素大気下で溶媒１０mlにジエチルエ
トキシメチレンマロネート８８２mg(４.０８mＭ)とベン
ジル２−メチルカルボジチオアート８４９mg(４.００m
Ｍ)を入れて４０℃で加熱して完全な均一溶液を作る。
この反応混合物に塩基を約１０分にわたって投入した
後、表１に記載されている反応条件に従って反応を進行
させた。ＴＬＣ(Ｒf:０.３５、展開液n−ヘキサン／エ
チルアセテート＝４／１)によって反応の完了を確認
し、反応液に水を投入する。反応液でメチレンジクロラ
イドで有機層を抽出し、硫酸マグネシウムによって水を
除去した後、溶媒を溜去して液状の標題化合物を得た。
結果を下記表１に示す。生成物は下記のような物理的性
質を有することを確認した。1 Ｈ ＮＭＲ(２７０ＭＨz,ＣＤＣl3／ＴＭＳ);δ１.２４
５−１.３８５(m,６Ｈ),３.７６６(s,３Ｈ),４.１６１
−４.３０４(m,４Ｈ),４.４０８(s,２Ｈ),７.２７２−
７.３６０(m,５Ｈ),７.８８４(d,１Ｈ,Ｊ＝１１.１Ｈ
z),１０.４０４(d,１Ｈ,Ｊ＝１１.１Ｈz) ＭＳ(７０eＶ);m／z３８２(Ｍ+),３３６,２９０,２５
９,２２３
ン]−２−メチルカルボジチオアートの合成 実施例１０〜１３では標題化合物を下記表１に記載され
ている溶媒、塩基及び反応条件に従って下記の反応過程
を経て合成する。窒素大気下で溶媒１０mlにジエチルエ
トキシメチレンマロネート８８２mg(４.０８mＭ)とベン
ジル２−メチルカルボジチオアート８４９mg(４.００m
Ｍ)を入れて４０℃で加熱して完全な均一溶液を作る。
この反応混合物に塩基を約１０分にわたって投入した
後、表１に記載されている反応条件に従って反応を進行
させた。ＴＬＣ(Ｒf:０.３５、展開液n−ヘキサン／エ
チルアセテート＝４／１)によって反応の完了を確認
し、反応液に水を投入する。反応液でメチレンジクロラ
イドで有機層を抽出し、硫酸マグネシウムによって水を
除去した後、溶媒を溜去して液状の標題化合物を得た。
結果を下記表１に示す。生成物は下記のような物理的性
質を有することを確認した。1 Ｈ ＮＭＲ(２７０ＭＨz,ＣＤＣl3／ＴＭＳ);δ１.２４
５−１.３８５(m,６Ｈ),３.７６６(s,３Ｈ),４.１６１
−４.３０４(m,４Ｈ),４.４０８(s,２Ｈ),７.２７２−
７.３６０(m,５Ｈ),７.８８４(d,１Ｈ,Ｊ＝１１.１Ｈ
z),１０.４０４(d,１Ｈ,Ｊ＝１１.１Ｈz) ＭＳ(７０eＶ);m／z３８２(Ｍ+),３３６,２９０,２５
９,２２３
【表１】 表(１) 実施例 溶 媒 塩基1) 反応温度 反応時間 収率 純度2) 番 号 (使用当量) (℃) (時間) (％) (％) 10 EtOH NaOEt(1.05) 40 1.5 99 98 11 EtOH NaOEt(2.0) 40 0.5 98 97 12 THF KOEt(1.10) 0 0.5 98 96 13 MDC Et3N(2.0) 還流 72 85 80 ＊＊ 注: 1) 塩基の当量は一般式(II)のカルボジチオ
アート基準 2) 純度はＧＣ面積％
アート基準 2) 純度はＧＣ面積％
【００３２】実施例１４ メチル３−[２',２'−(ジエトキシカボニル)エチリデ
ン]−２−メチルカルボジチオアートの合成 窒素大気下で無水エタノール１０mlにジエチルエトキシ
メチレンマロネート８８２mg(４.０８mＭ)とメチル２−
メチルカルボジチオアート５４５mg(４.００mＭ)を入
れ、４０℃で加熱して完全に溶液状態に作る。ナトリウ
ムエトキサイド３２７mg(４.８０mＭ)を入れて約４０℃
で１時間反応させた後反応液に水を投入する。有機層を
メチレンジクロライドによって抽出し硫酸マグネシウム
によって乾燥し濾過した後、溶媒を完全に溜去して下記
のように確認された標題化合物１２１３mg(収率:９９
％、純度:９８％)を得た。1 Ｈ ＮＭＲ(２７０ＭＨz,ＣＤＣl3／ＴＭＳ);δ１.３０
６(t,３Ｈ,Ｊ＝７.３Ｈz),１.３６５(t,３Ｈ,Ｊ＝６.５
Ｈz),２.５５７(Ｓ,３Ｈ),３.７７５(Ｓ,３Ｈ),４.２１
６(q,２Ｈ,Ｊ＝７.３Ｈz),４.２９９(q,２Ｈ,Ｊ＝６.５
Ｈz),７.８９８(d,１Ｈ,Ｊ＝１１.０Ｈz),１０.４２４
(d,１Ｈ,Ｊ＝１１.０Ｈz)ＭＳ(７０eＶ);m／z３０６(Ｍ
+),２５９,２０４,１８７
ン]−２−メチルカルボジチオアートの合成 窒素大気下で無水エタノール１０mlにジエチルエトキシ
メチレンマロネート８８２mg(４.０８mＭ)とメチル２−
メチルカルボジチオアート５４５mg(４.００mＭ)を入
れ、４０℃で加熱して完全に溶液状態に作る。ナトリウ
ムエトキサイド３２７mg(４.８０mＭ)を入れて約４０℃
で１時間反応させた後反応液に水を投入する。有機層を
メチレンジクロライドによって抽出し硫酸マグネシウム
によって乾燥し濾過した後、溶媒を完全に溜去して下記
のように確認された標題化合物１２１３mg(収率:９９
％、純度:９８％)を得た。1 Ｈ ＮＭＲ(２７０ＭＨz,ＣＤＣl3／ＴＭＳ);δ１.３０
６(t,３Ｈ,Ｊ＝７.３Ｈz),１.３６５(t,３Ｈ,Ｊ＝６.５
Ｈz),２.５５７(Ｓ,３Ｈ),３.７７５(Ｓ,３Ｈ),４.２１
６(q,２Ｈ,Ｊ＝７.３Ｈz),４.２９９(q,２Ｈ,Ｊ＝６.５
Ｈz),７.８９８(d,１Ｈ,Ｊ＝１１.０Ｈz),１０.４２４
(d,１Ｈ,Ｊ＝１１.０Ｈz)ＭＳ(７０eＶ);m／z３０６(Ｍ
+),２５９,２０４,１８７
【００３３】実施例１５ アリル３−[２',２'−(ジエトキシカボニル)エチリデ
ン]−２−メチルカルボジチオアートの合成 窒素大気下で無水エタノール１０mlにジエチルエトキシ
メチレンマロネート８８２mg(４.０８mＭ)とアリル２−
メチルカルボジチオアート６４９mg(４.００mＭ)を入れ
て４０℃で加熱して完全に溶液状態にする。ナトリウム
エトキサイド３２７mg(４.８０mＭ)を入れて約４０℃で
３０分間反応させた後反応液に水を投入する。有機層を
メチレンジクロライドによって抽出し、硫酸マグネシウ
ムによって乾燥し濾過した後、溶媒を完全に蒸溜して下
記のように確認された標題化合物１２６３mg(収率:９５
％、純度:９８％)を得た。1 Ｈ ＮＭＲ(２７０ＭＨz,ＣＤＣl3／ＴＭＳ);δ１.２５
６−１.３８７(m,６Ｈ),３.７６(s,３Ｈ),３.８５８(d,
２Ｈ,Ｊ＝６.８Ｈz),４.１７５−４.３３５(m,４Ｈ),
５.１５３−５.３３６(m,２Ｈ),５.８２４−５.９２４
(m,１Ｈ),７.８８７(d,１Ｈ,Ｊ＝１１.１Ｈz),１０.４
１５(d,１Ｈ,Ｊ＝１１.１Ｈz)ＭＳ(７０eＶ);m／z３３
２(Ｍ+),２８７,２４５,２１７
ン]−２−メチルカルボジチオアートの合成 窒素大気下で無水エタノール１０mlにジエチルエトキシ
メチレンマロネート８８２mg(４.０８mＭ)とアリル２−
メチルカルボジチオアート６４９mg(４.００mＭ)を入れ
て４０℃で加熱して完全に溶液状態にする。ナトリウム
エトキサイド３２７mg(４.８０mＭ)を入れて約４０℃で
３０分間反応させた後反応液に水を投入する。有機層を
メチレンジクロライドによって抽出し、硫酸マグネシウ
ムによって乾燥し濾過した後、溶媒を完全に蒸溜して下
記のように確認された標題化合物１２６３mg(収率:９５
％、純度:９８％)を得た。1 Ｈ ＮＭＲ(２７０ＭＨz,ＣＤＣl3／ＴＭＳ);δ１.２５
６−１.３８７(m,６Ｈ),３.７６(s,３Ｈ),３.８５８(d,
２Ｈ,Ｊ＝６.８Ｈz),４.１７５−４.３３５(m,４Ｈ),
５.１５３−５.３３６(m,２Ｈ),５.８２４−５.９２４
(m,１Ｈ),７.８８７(d,１Ｈ,Ｊ＝１１.１Ｈz),１０.４
１５(d,１Ｈ,Ｊ＝１１.１Ｈz)ＭＳ(７０eＶ);m／z３３
２(Ｍ+),２８７,２４５,２１７
【００３４】実施例１６ メチル２−メチルカルボジチオアート化合物から４−エ
トキシカボニル−１−メチル−５−ピラゾールメルカプ
タンの合成 無水エタノール１０mlにジエチルエトキシメチレンマロ
ネート８８２mgとメチル２−メチルカルボジチオアート
５４５mgを窒素大気下で加熱して反応混合物が均一の溶
液になるようにする。ここにナトリウム１１０mgと無水
エタノール５mlとを反応させて得たナトリウムエトキサ
イドを室温で１０分にわたって投入し、反応混合物を１
０時間程度加熱還流させる。ＴＬＣ又はＧＣによって反
応の完了を確認して反応が完了すればここに水１０mlと
メチレンジクロライド２５mlとを加えた後２０％硫酸で
pＨを約８程度で調節して層分離する。水層を取ってpＨ
を２に調整し生成物をメチレンジクロライド２５mlで抽
出する。抽出された混合物から溶媒を蒸発させ真空蒸溜
(沸点:１０７℃、０.１torr)して標題化合物７０７mg
(収率:９５％、純度:９５％)を得た。
トキシカボニル−１−メチル−５−ピラゾールメルカプ
タンの合成 無水エタノール１０mlにジエチルエトキシメチレンマロ
ネート８８２mgとメチル２−メチルカルボジチオアート
５４５mgを窒素大気下で加熱して反応混合物が均一の溶
液になるようにする。ここにナトリウム１１０mgと無水
エタノール５mlとを反応させて得たナトリウムエトキサ
イドを室温で１０分にわたって投入し、反応混合物を１
０時間程度加熱還流させる。ＴＬＣ又はＧＣによって反
応の完了を確認して反応が完了すればここに水１０mlと
メチレンジクロライド２５mlとを加えた後２０％硫酸で
pＨを約８程度で調節して層分離する。水層を取ってpＨ
を２に調整し生成物をメチレンジクロライド２５mlで抽
出する。抽出された混合物から溶媒を蒸発させ真空蒸溜
(沸点:１０７℃、０.１torr)して標題化合物７０７mg
(収率:９５％、純度:９５％)を得た。
【００３５】実施例１７ アリル２−メチルカルボジチオアートから４−エトキシ
カボニル−１−メチル−５−ピラゾールメルカプタンの
合成 無水エタノール１０mlにジエチルエトキシメチレンマロ
ネート８８２mgとアリル２−メチルカルボジチオアート
６４９mgを窒素大気下で加熱して反応混合物が均一の溶
液になるようにする。ここにナトリウム１１０mgと無水
エタノール５ｍｌとを反応させて得られたナトリウムエ
トキサイドを室温で１０分にわたって投入し反応混合物
を１０時間程度加熱還流させる。ＴＬＣ又はＧＣによっ
て反応の完了を確認し反応が完了するとエタノールを蒸
留し除去する。以下、実施例１６に記載と同様の処理過
程を経て標題化合物７００ｍｇ（収率:９４％、純度:９
６％)を得た。
カボニル−１−メチル−５−ピラゾールメルカプタンの
合成 無水エタノール１０mlにジエチルエトキシメチレンマロ
ネート８８２mgとアリル２−メチルカルボジチオアート
６４９mgを窒素大気下で加熱して反応混合物が均一の溶
液になるようにする。ここにナトリウム１１０mgと無水
エタノール５ｍｌとを反応させて得られたナトリウムエ
トキサイドを室温で１０分にわたって投入し反応混合物
を１０時間程度加熱還流させる。ＴＬＣ又はＧＣによっ
て反応の完了を確認し反応が完了するとエタノールを蒸
留し除去する。以下、実施例１６に記載と同様の処理過
程を経て標題化合物７００ｍｇ（収率:９４％、純度:９
６％)を得た。
【００３６】実施例１８ ベンジル２−メチルカルボジチオアートから４−エトキ
シカボニル−１−メチル−５−ピラゾールメルカプタン
の合成 無水エタノール１０mlにジエチルエトキシメチレンマロ
ネート８８２mgとベンジル２−メチルカルボジチオアー
ト５４５mgとを窒素大気下で加熱して反応混合物が均一
の溶液になるようにする。ここにナトリウム１１０mgと
無水エタノール５mlとを反応させて得られたナトリウム
エトキサイドを室温で１０分にわたって投入し反応混合
物を１０時間程度加熱還流させる。ＴＬＣ又はＧＣによ
って反応の完了を確認し反応が完了すれぱエタノールを
蒸溜して除去する。以下実施例１６に記載と同様の処理
過程を経て標題化合物６８５mg(収率:９２％、純度:９
７％)を得た。
シカボニル−１−メチル−５−ピラゾールメルカプタン
の合成 無水エタノール１０mlにジエチルエトキシメチレンマロ
ネート８８２mgとベンジル２−メチルカルボジチオアー
ト５４５mgとを窒素大気下で加熱して反応混合物が均一
の溶液になるようにする。ここにナトリウム１１０mgと
無水エタノール５mlとを反応させて得られたナトリウム
エトキサイドを室温で１０分にわたって投入し反応混合
物を１０時間程度加熱還流させる。ＴＬＣ又はＧＣによ
って反応の完了を確認し反応が完了すれぱエタノールを
蒸溜して除去する。以下実施例１６に記載と同様の処理
過程を経て標題化合物６８５mg(収率:９２％、純度:９
７％)を得た。
【００３７】実施例１９ メチルカルボジチオアート化合物から４−エトキシカボ
ニル−１−メチル−５−ピラゾールメルカプタンの合成 無水エタノール１０mlにメチル３−[２',２'−(ジエト
キシカボニル)エチリデン]−２−メチルカルボジチオア
ート１２２６mgとナトリウムエトキサイド３２７mgを入
れて窒素大気下で加熱して１０時間程度還流させる。Ｔ
ＬＣ又はＧＣによって反応完了を確認して、反応が完了
すればエタノールを蒸溜して除去する。ここに水１０ml
とメチルジクロライド２５mlとを加えた後、２０％硫酸
によってpＨを約８程度に調整して層分離する。水層を
取ってpＨを２に調整し生成物をメチレンジクロライド
２５mlで抽出した後、真空蒸溜(bp.１０７,０.１torr)
して標題化合物７０８mg(収率:９５％、純度:９９％)を
得た。1Ｈ ＮＭＲ(ＣＤＣl3);δ７.８７(s,１Ｈ),６.４
５(s,１Ｈ),４.３１(q,２Ｈ),３.７８(s,３Ｈ),１.３６
(t,３Ｈ)
ニル−１−メチル−５−ピラゾールメルカプタンの合成 無水エタノール１０mlにメチル３−[２',２'−(ジエト
キシカボニル)エチリデン]−２−メチルカルボジチオア
ート１２２６mgとナトリウムエトキサイド３２７mgを入
れて窒素大気下で加熱して１０時間程度還流させる。Ｔ
ＬＣ又はＧＣによって反応完了を確認して、反応が完了
すればエタノールを蒸溜して除去する。ここに水１０ml
とメチルジクロライド２５mlとを加えた後、２０％硫酸
によってpＨを約８程度に調整して層分離する。水層を
取ってpＨを２に調整し生成物をメチレンジクロライド
２５mlで抽出した後、真空蒸溜(bp.１０７,０.１torr)
して標題化合物７０８mg(収率:９５％、純度:９９％)を
得た。1Ｈ ＮＭＲ(ＣＤＣl3);δ７.８７(s,１Ｈ),６.４
５(s,１Ｈ),４.３１(q,２Ｈ),３.７８(s,３Ｈ),１.３６
(t,３Ｈ)
【００３８】実施例２０ ナトリウムハイドロキサイド塩基を使用した４−エトキ
シカボニル−１−メチル−５−ピラゾールメルカプタン
の合成 実施例１９にて塩基としてナトリウムハイドロキサイド
１７６mgを入れて１０時間反応させる。以下同様に行っ
て標題化合物７００mg(収率:９４％、純度９８％)を得
た。
シカボニル−１−メチル−５−ピラゾールメルカプタン
の合成 実施例１９にて塩基としてナトリウムハイドロキサイド
１７６mgを入れて１０時間反応させる。以下同様に行っ
て標題化合物７００mg(収率:９４％、純度９８％)を得
た。
【００３９】実施例２１ アリルカルボジチオアート化合物から４−エトキシカボ
ニル−１−メチル−５−ピラゾールメルカプタンの合成 実施例１５で合成した化合物１３３０mgを使用する以外
には実施例１９の方法と同様に行って標題化合物７２３
mg(収率:９７％、純度:９９％)以上を得た。
ニル−１−メチル−５−ピラゾールメルカプタンの合成 実施例１５で合成した化合物１３３０mgを使用する以外
には実施例１９の方法と同様に行って標題化合物７２３
mg(収率:９７％、純度:９９％)以上を得た。
【００４０】実施例２２ ベンジルカルボジチオアート化合物から４−エトキシカ
ボニル−１−メチル−５−ピラゾールメルカプタンの合
成 実施例１０〜１３で合成した化合物１５３２mgを使用す
る以外には実施例１９の方法と同様に行って標題化合物
７３０mg(収率:９８％、純度:９８％)以上を得た。
ボニル−１−メチル−５−ピラゾールメルカプタンの合
成 実施例１０〜１３で合成した化合物１５３２mgを使用す
る以外には実施例１９の方法と同様に行って標題化合物
７３０mg(収率:９８％、純度:９８％)以上を得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 １９９３−０３５１２ (32)優先日 1993年３月９日 (33)優先権主張国 韓国（ＫＲ） (72)発明者 リー・ジェチョル 大韓民国デジョン、ユソング、ドリョンド ン386−４番 (72)発明者 サ・ジョングシン 大韓民国デジョン、デドッグ、ボッドン 285−１番 ユウォン・アパートメント５ −1306 (72)発明者 ジョ・スンジョング 大韓民国デジョン、ユソング、ドリョンド ン386−４番 ラッキー・アパートメン ト・エイ−307 (72)発明者 チョ・ジンホ 大韓民国デジョン、ユソング、ドリョンド ン381−42番 ラッキー・アパートメント ６−206
Claims (14)
- 【請求項１】 下記一般式(III)のマロネート化合物を
塩基の存在下で下記一般式(II)のジチオカルボキシレー
ト化合物と反応させることを特徴とする下記一般式(Ｉ)
で示される５−ピラゾールメルカプタン誘導体の製造方
法。 【化１】 [式中、 ＲはＣ1−Ｃ4アルキル基、Ｃ2−Ｃ4アルケニル基、アリ
ルアルキル基又はアリル基であり;Ｒ1は水素原子、Ｃ1
−Ｃ4アルキル基、アリル基又はプロパギル基であり;Ｒ
2は水素原子、Ｃ1−Ｃ4アルキル基であるか任意の位置
にハロゲン原子、ニトロ基及びメチル基からなる群から
選択される１又は２以上の置換基を有するフェニル基で
あり;Ｒ3は水素原子、メチル基、エチル基又はフェニル
基である。] - 【請求項２】 Ｒはメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、t−ブチル、アリルベンジル又はp
−ニトロベンジル基であり;Ｒ1はメチル又はエチルであ
り;Ｒ2はメチルであり;Ｒ3は水素原子であることを特徴
とする請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 使用された塩基がナトリウムエトキサイ
ド、ナトリウムハイドロキサイド又はカリウムハイドロ
キサイドであり、その使用量が一般式(II)の化合物を基
準にして１.０〜５.０当量であることを特徴とする請求
項１記載の方法。 - 【請求項４】 反応をエタノール溶媒中で行うことを特
徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。 - 【請求項５】 下記一般式(IV)のエチリデンカルボジチ
オアート化合物を塩基と反応させることを特徴とする下
記一般式(Ｉ)で示される５−ピラゾールメルカプタン誘
導体の製造方法。 【化２】 [式中、 ＲはＣ1−Ｃ4アルキル基、Ｃ2−Ｃ4アルケニル基、アリ
ルアルキル基又はアリル基であり;Ｒ1は水素原子、Ｃ1
−Ｃ4アルキル基、アリル基又はプロパギル基であり;Ｒ
2は水素原子、Ｃ1−Ｃ4アルキル基であるか任意の位置
にハロゲン原子、ニトロ基及びメチル基からなる群から
選択される１又は２以上の置換基を有するフェニルであ
り;R3は水素原子、メチル基、エチル基又はフェニル基
である。] - 【請求項６】 Ｒはメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、t−ブチル、アリルベンジル又はp
−ニトロベンジル基であり;Ｒ1はメチル又はエチルであ
り;Ｒ2はメチル基であり;Ｒ3は水素原子であることを特
徴とする請求項５記載の方法。 - 【請求項７】 使用される塩基がナトリウムエトキサイ
ド、ナトリウムハイドロキサイド又はカリウムイハイド
ロキサイドであり、その使用量が一般式(IV)の化合物を
基準にして１.０〜５.０当量であることを特徴とする請
求項５記載の方法。 - 【請求項８】 反応をエタノール溶媒中で行うことを特
徴とする請求項５〜７のいずれか１項記載の方法。 - 【請求項９】 下記一般式(IV)で示される新規エチリデ
ンカルボジチオアート誘導体。 【化３】 [式中、 ＲはＣ1−Ｃ4アルキル基、Ｃ2−Ｃ4アルケニル基、アリ
ルアルキル基又はアリル基であり;Ｒ1は水素原子、Ｃ1
−Ｃ4アルキル基、アリル基又はプロパギル基であり;Ｒ
2は水素原子、Ｃ1−Ｃ4アルキル基であるか任意の位置
にハロゲン原子、ニトロ基及びメチル基からなる群から
選択される１又は２以上の置換基を有するフェニルであ
り;Ｒ3は水素原子、メチル基、エチル基又はフェニル基
である。] - 【請求項１０】 塩基を溶解した水溶液中でアルキルハ
イドラジンを二硫化炭素と反応させた後、これを親電子
体(Ｒ−Ｃl、Ｒ−Ｂr又はＲ2ＳＯ4)とエステル化反応さ
せ、下記一般式(II)のカルボジチオアート誘導体を製造
する方法であって、エステル化反応を非極性溶媒及び相
転移触媒の存在下で行うことを特徴とする改良方法。 【化４】 [式中、 ＲはＣ1−Ｃ4アルキル基、Ｃ2−Ｃ4アルケニル基、アリ
ルアルキル基又はアリル基でありＲ2は水素原子、Ｃ1−
Ｃ4アルキル基であるか任意の位置にハロゲン原子、ニ
トロ基及びメチル基からなる群から選択される１又は２
以上の置換基を有するフェニルである。] - 【請求項１１】 非極性溶媒がメチレンクロライド、エ
チレンクロライド、n−ヘキサン、n−ヘプタン又はトル
エンであることを特徴とする請求項１０記載の方法。 - 【請求項１２】 相転移触媒が四級アンモニウムハライ
ド又は３級アミンであり、その使用量がアルキルハイド
ラジンを基準にして０.００１〜１.０当量であることを
特徴とする請求項１０記載の方法。 - 【請求項１３】 相転移触媒がテトラブチルアンモニウ
ムブロマイドである請求項１２記載の方法。 - 【請求項１４】 エステル化反応温度が０〜２５℃であ
る請求項１０〜１３のいずれか１項記載の方法。
Applications Claiming Priority (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019920024734A KR950013852B1 (ko) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | 4-에톡시카보닐-1-메틸-5-피라졸머캅탄의 제조방법 |
| KR1019920024736A KR950013853B1 (ko) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | 4-에톡시카보닐-i-메틸-5-피라졸머캅탄의 제조방법 |
| KR1019920025112A KR960005519B1 (ko) | 1992-12-22 | 1992-12-22 | 신규 에틸리덴디티오카르바즈산 유도체 및 그의 제조방법 |
| KR1992-24736 | 1993-03-09 | ||
| KR1993-03512 | 1993-03-09 | ||
| KR1992-24734 | 1993-03-09 | ||
| KR1992-25112 | 1993-03-09 | ||
| KR1019930003512A KR960010100B1 (ko) | 1993-03-09 | 1993-03-09 | 2-메틸디티오카바즈산 에스테르의 제조방법 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8179244A Division JP2648297B2 (ja) | 1992-12-17 | 1996-07-09 | カルボジチオアート誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07215941A true JPH07215941A (ja) | 1995-08-15 |
| JP2580477B2 JP2580477B2 (ja) | 1997-02-12 |
Family
ID=27482968
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5316384A Expired - Fee Related JP2580477B2 (ja) | 1992-12-17 | 1993-12-16 | ５−ピラゾールメルカプタン誘導体の製造方法及びその中間体 |
| JP8179244A Expired - Fee Related JP2648297B2 (ja) | 1992-12-17 | 1996-07-09 | カルボジチオアート誘導体の製造方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8179244A Expired - Fee Related JP2648297B2 (ja) | 1992-12-17 | 1996-07-09 | カルボジチオアート誘導体の製造方法 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US5405965A (ja) |
| EP (1) | EP0602589B1 (ja) |
| JP (2) | JP2580477B2 (ja) |
| AT (1) | ATE139767T1 (ja) |
| BR (1) | BR9305092A (ja) |
| DE (1) | DE69303352T2 (ja) |
| DK (1) | DK0602589T3 (ja) |
| ES (1) | ES2088625T3 (ja) |
| GR (1) | GR3020747T3 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5877339A (en) * | 1996-11-07 | 1999-03-02 | Bayer Corporation | Process for preparing methyl dithiocarbazinate by reacting methyl bromide with the reaction product of carbon disulfide and hydrazine in an aqueous medium |
| US6025514A (en) * | 1996-11-07 | 2000-02-15 | Bayer Corporation | Process for preparing methyl dithiocarbazinate by reacting methyl bromide with the reaction product of carbon disulfide, hydrazine and an adjunct base |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS559062A (en) * | 1978-07-04 | 1980-01-22 | Basf Ag | Pyrazole ether derivatives and herbicide containing their compounds |
| JPS61109771A (ja) * | 1984-11-02 | 1986-05-28 | Nissan Chem Ind Ltd | ピラゾ−ル誘導体およびその製法 |
| JPS624272A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-10 | Nissan Chem Ind Ltd | ５−置換チオピラゾ−ル誘導体 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3736343A (en) * | 1969-08-13 | 1973-05-29 | Monsanto Co | Lower alkyl 3-(5-chlorosalicylidene)dithiocarbazates |
| US4064262A (en) * | 1976-04-05 | 1977-12-20 | Ici Australia Limited | S-methyl 3-furfurylidene-2-methyl-dithiocarbazate and its use as a fungicide |
| GB2073172A (en) * | 1980-04-03 | 1981-10-14 | Shell Int Research | Pesticidal Pyrazole Derivatives |
| AU614485B2 (en) * | 1982-02-27 | 1991-09-05 | Nissan Chemical Industries Ltd. | Pyrazolesulfonylurea derivative, preparation thereof, herbicide containing said derivative as active ingredient and herbicidal method by use thereof |
| US4477462A (en) * | 1983-05-31 | 1984-10-16 | Chevron Research Company | Fungicidal 1-methyl-3,4-dihalo-5-alkylthiopyrazoles |
-
1993
- 1993-12-14 EP EP93120124A patent/EP0602589B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-12-14 DE DE69303352T patent/DE69303352T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-12-14 ES ES93120124T patent/ES2088625T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-12-14 AT AT93120124T patent/ATE139767T1/de not_active IP Right Cessation
- 1993-12-14 DK DK93120124.8T patent/DK0602589T3/da active
- 1993-12-15 US US08/166,864 patent/US5405965A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-12-16 JP JP5316384A patent/JP2580477B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-12-16 BR BR9305092A patent/BR9305092A/pt not_active IP Right Cessation
-
1994
- 1994-11-15 US US08/341,893 patent/US5416220A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-02-10 US US08/386,825 patent/US5468896A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-02-10 US US08/386,867 patent/US5466854A/en not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-07-09 JP JP8179244A patent/JP2648297B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-08-07 GR GR960402113T patent/GR3020747T3/el unknown
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS559062A (en) * | 1978-07-04 | 1980-01-22 | Basf Ag | Pyrazole ether derivatives and herbicide containing their compounds |
| JPS61109771A (ja) * | 1984-11-02 | 1986-05-28 | Nissan Chem Ind Ltd | ピラゾ−ル誘導体およびその製法 |
| JPS624272A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-10 | Nissan Chem Ind Ltd | ５−置換チオピラゾ−ル誘導体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5416220A (en) | 1995-05-16 |
| JPH0925265A (ja) | 1997-01-28 |
| DK0602589T3 (da) | 1996-07-29 |
| US5466854A (en) | 1995-11-14 |
| ES2088625T3 (es) | 1996-08-16 |
| US5405965A (en) | 1995-04-11 |
| DE69303352T2 (de) | 1996-11-07 |
| ATE139767T1 (de) | 1996-07-15 |
| JP2648297B2 (ja) | 1997-08-27 |
| US5468896A (en) | 1995-11-21 |
| GR3020747T3 (en) | 1996-11-30 |
| EP0602589B1 (en) | 1996-06-26 |
| DE69303352D1 (de) | 1996-08-01 |
| BR9305092A (pt) | 1994-08-16 |
| JP2580477B2 (ja) | 1997-02-12 |
| EP0602589A1 (en) | 1994-06-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0001500A1 (en) | 1-Carbocyclic aryl-2-mono or -bis(alkoxycarbonyl) guanidino ethanes, and methods for their preparation and the preparation therefrom of 4,5-dihydro-2-alkoxycarbonylamino-5-carbocyclic aryl imidazoles | |
| JPH0578305A (ja) | ビグアニド誘導体の製造方法 | |
| JP2580477B2 (ja) | ５−ピラゾールメルカプタン誘導体の製造方法及びその中間体 | |
| EP1053218B1 (en) | Diol compounds as intermediates for preparing antimycotic compounds | |
| WO1979000023A1 (en) | A novel process for preparation of a therapeutically active pyridine compound | |
| US5663365A (en) | Process for the preparation of pyrazolones | |
| JPS6036428B2 (ja) | ３‐ヒドロキシ‐１，２，４‐トリアゾール誘導体の製造方法 | |
| CA1119179A (en) | Process for preparing n-tritylimidazole compounds | |
| JPH01168675A (ja) | １，３−ジアルキルピラゾール−５−カルボン酸エステル類の製造法 | |
| JP3496078B2 (ja) | 新規なヒドラゾン誘導体及びその製造法 | |
| KR950013853B1 (ko) | 4-에톡시카보닐-i-메틸-5-피라졸머캅탄의 제조방법 | |
| KR950013852B1 (ko) | 4-에톡시카보닐-1-메틸-5-피라졸머캅탄의 제조방법 | |
| JP3855686B2 (ja) | ３，３−ジアルコキシ−２−ヒドロキシイミノ誘導体及びその製造法 | |
| JPH07118238A (ja) | １−アルキル−５−ピラゾールカルボン酸エステル類の製法 | |
| JPH09132554A (ja) | ４−アルコキシ−１，１，１−トリフルオロ−３−ブテン−２−オンの製造方法 | |
| JP3275437B2 (ja) | 脂肪族β−ケトエステルの製造法 | |
| JPH0348909B2 (ja) | ||
| KR960010100B1 (ko) | 2-메틸디티오카바즈산 에스테르의 제조방법 | |
| JPH0236164A (ja) | ２‐ニトロ‐５‐（置換アリールオキシ）ベンゾヒドロキシム酸誘導体の製造法 | |
| JPH0344375A (ja) | ５―ヒドロキシピラゾール類の製造法 | |
| JPH07215913A (ja) | ２，４，５−トリハロゲノ−３−メチル安息香酸の製造方法 | |
| JPH0359888B2 (ja) | ||
| JPH02300155A (ja) | ２―アシル―２―アリールオキシ又はヘテロ環オキシアセトニトリル類およびアミノピラゾール類の製造方法 | |
| JPH05194336A (ja) | アミノアクリル酸誘導体 | |
| JPS5946282A (ja) | 光学活性ラクトンの製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071121 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081121 Year of fee payment: 12 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |