JPH07211683A - Cleaning equipment for substrate - Google Patents
Cleaning equipment for substrateInfo
- Publication number
- JPH07211683A JPH07211683A JP6006047A JP604794A JPH07211683A JP H07211683 A JPH07211683 A JP H07211683A JP 6006047 A JP6006047 A JP 6006047A JP 604794 A JP604794 A JP 604794A JP H07211683 A JPH07211683 A JP H07211683A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- glass substrate
- cleaning
- nozzle
- spray pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えばＬＣＤ用のガラ
ス基板を純水などの洗浄液を用いて洗浄する基板の洗浄
装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate cleaning apparatus for cleaning a glass substrate for LCD, for example, with a cleaning liquid such as pure water.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ＬＣＤ用カラーフィルターの製造工程で
は、赤・緑・青・黒色のパターンを例えばガラス基板に
形成する場合、赤・緑・青・黒色の顔料を含んだ感光性
樹脂があらかじめガラス基板に塗布され、そして乾燥さ
れる。その後、所定のパターンを露光し現像処理が行わ
れる。この現像処理では、従来、図７に示すような現像
装置が使用されている。2. Description of the Related Art In the process of manufacturing a color filter for LCD, when a pattern of red, green, blue, and black is formed on a glass substrate, for example, a photosensitive resin containing red, green, blue, and black pigments is preliminarily glass. It is applied to the substrate and dried. Then, a predetermined pattern is exposed and a developing process is performed. In this developing process, conventionally, a developing device as shown in FIG. 7 has been used.
【０００３】現像装置１の左側には、ガラス基板２を搬
入する搬入口３が、また、右側にはガラス基板２を搬出
する搬出口４が設けられている。そして、搬入口３と搬
出口４の間は、現像処理槽５、液切り槽６、洗浄槽７、
乾燥処理槽８にそれぞれ区画されている。An inlet 3 for loading the glass substrate 2 is provided on the left side of the developing device 1, and an outlet 4 for loading the glass substrate 2 is provided on the right side. Then, between the carry-in port 3 and the carry-out port 4, a development processing tank 5, a draining tank 6, a cleaning tank 7,
Each is divided into the drying treatment tank 8.
【０００４】各槽５〜８には、ガラス基板２を搬入し、
また搬出する開口部が形成されている。また、ガラス基
板２を水平に搬送する搬送機構も設けられている。搬送
機構は、ガラス基板２両端の下縁に接する多数のローラ
９や、これら各ローラ９を回転駆動するモータ、そし
て、モータの回転をローラ９に伝えるヘリカル歯車など
から構成されている。A glass substrate 2 is loaded into each of the tanks 5-8,
Further, an opening for carrying out is formed. A transport mechanism for horizontally transporting the glass substrate 2 is also provided. The transport mechanism is composed of a large number of rollers 9 in contact with the lower edges of both ends of the glass substrate 2, motors that rotate and drive the rollers 9, and a helical gear that transmits the rotation of the motors to the rollers 9.
【０００５】現像処理槽５内では、ノズル１０からガラ
ス基板２上に現像液が噴霧される。また、液切り槽６に
は、現像処理槽５側と洗浄槽７側に、ガラス基板２の上
方および下方からドライエアーなどの気体を噴射する１
対の第１エアーナイフ１１および第２エアーナイフ１２
が設けられている。なお、第１エアーナイフ１１および
第２エアーナイフ１２は、ガラス基板２が搬送される搬
送路に対しある角度を持って対向するように取り付けら
れている。In the development processing tank 5, the developing solution is sprayed from the nozzle 10 onto the glass substrate 2. In addition, a gas such as dry air is jetted from the upper side and the lower side of the glass substrate 2 to the developing tank 5 side and the cleaning tank 7 side in the liquid draining tank 1.
Pair of first air knife 11 and second air knife 12
Is provided. The first air knife 11 and the second air knife 12 are attached so as to face the conveyance path along which the glass substrate 2 is conveyed at an angle.
【０００６】第１エアーナイフ１１から噴射される気体
は、ガラス基板２上の現像液を搬送方向と逆方向、すな
わち、現像処理槽５側へ押し戻し液切り槽６への現像液
の持ち込みを少なくしている。また、第２エアーナイフ
１２から噴射される気体は、ガラス基板２が液切り槽６
から洗浄槽７に移動する際に、洗浄槽７側からガラス基
板２上を介して液切り槽６側へ侵入する純水を、搬送方
向と同方向すなわち洗浄槽７側へ押し戻し、洗浄槽７側
からの純水の侵入を防止している。The gas jetted from the first air knife 11 pushes the developing solution on the glass substrate 2 in the direction opposite to the conveying direction, that is, it pushes it back to the developing processing tank 5 side and brings the developing solution into the liquid cutting tank 6 less. is doing. In addition, the gas jetted from the second air knife 12 is discharged from the glass substrate 2 in the drainage tank 6
When moving from the cleaning tank 7 to the cleaning tank 7, the pure water that enters the draining tank 6 side from the cleaning tank 7 side through the glass substrate 2 is pushed back to the cleaning tank 7 side in the same direction as the transport direction. Prevents intrusion of pure water from the side.
【０００７】また、洗浄槽７には、ローラ９の回転で搬
送されるガラス基板の搬送路を横断するようにパイプが
配置され、パイプにはノズル１４が一定ピッチで取り付
けられている。そして、各ノズル１４から０．５〜１．
５ｋｇ／ｃｍ2 の噴射圧力で純水が噴射され、その下方
を通過するガラス基板２上の現像液を洗い落とすように
なっている。Further, in the cleaning tank 7, a pipe is arranged so as to traverse the conveyance path of the glass substrate conveyed by the rotation of the roller 9, and nozzles 14 are attached to the pipe at a constant pitch. Then, from each nozzle 14 0.5-1.
Pure water is sprayed at a spraying pressure of 5 kg / cm 2 , and the developing solution on the glass substrate 2 passing thereunder is washed off.
【０００８】また、乾燥処理槽８では、搬送されるガラ
ス基板２に対し、その上方及び下方からドライエアーな
どの気体を噴射する第３エアーナイフ１３が、第１エア
ーナイフ１１と同様にガラス基板２の搬送路に対向し、
そして、ある角度を持って設けられている。なお、エア
ーナイフ１３から噴射される気体によって、ガラス基板
２の表面が乾燥される。Further, in the drying treatment tank 8, the third air knife 13 for injecting a gas such as dry air from above and below the glass substrate 2 to be conveyed has the same glass substrate as the first air knife 11. Facing the transport path of 2,
And it is provided with a certain angle. The surface of the glass substrate 2 is dried by the gas jetted from the air knife 13.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の装置で
は、例えばＬＣＤ用のカラーフィルターの製造工程にお
いて、赤・緑・青・黒色のパターンをガラス基板に形成
する場合、赤・緑・青・黒色のそれぞれの顔料を含んだ
感光性樹脂があらかじめガラス基板に塗布され、そして
乾燥され、さらに所定のパターンが露光され、現像処理
される。In the conventional device described above, for example, in the process of manufacturing a color filter for an LCD, when a pattern of red, green, blue, and black is formed on a glass substrate, red, green, blue, A photosensitive resin containing each black pigment is applied to a glass substrate in advance, dried, and a predetermined pattern is exposed and developed.
【００１０】この場合、所定のパターン以外の所の感光
性樹脂がとれずに残る、いわゆる現像残渣が発生する。
現像残渣は、現像液が劣化したり、また液温が低下した
りすると多く発生する。このような現像残渣は、洗浄槽
で洗浄しても純水の噴射圧力が低いなどの理由で必ずし
も十分に除去されない。また、各ノズル１４から噴射さ
れる純水が円錐状であるため、純水の噴射圧力を上げて
も隣接するノズルから噴射される純水同士がガラス基板
２表面に到達する前にぶつかりあい、ガラス基板２表面
を洗浄する純水の圧力が減少してしまう。さらに、ノズ
ル１４の直下部分と各ノズル間の下方部分とで、基板表
面を洗浄する純水の圧力に大きな差が生じ、基板表面に
洗浄ムラができる。このような理由から、ガラス基板２
の表面が均一に洗浄されず、また、残渣が十分に除去で
きない。In this case, a so-called development residue is generated, in which the photosensitive resin in a portion other than the predetermined pattern remains without being removed.
Development residues often occur when the developing solution is deteriorated or the solution temperature is lowered. Such a development residue is not always sufficiently removed even if it is washed in a washing tank because of a low jet pressure of pure water. Further, since the pure water sprayed from each nozzle 14 has a conical shape, even if the spraying pressure of the pure water is increased, the pure water sprayed from the adjacent nozzles collide with each other before reaching the surface of the glass substrate 2, The pressure of pure water for cleaning the surface of the glass substrate 2 is reduced. Further, a large difference occurs in the pressure of the pure water for cleaning the substrate surface between the portion directly below the nozzle 14 and the lower portion between the nozzles, resulting in uneven cleaning of the substrate surface. For this reason, the glass substrate 2
Surface is not uniformly washed, and the residue cannot be removed sufficiently.
【００１１】このため、残渣が残らないように柔らかい
布等を用いて人手で基板表面を拭き現像残渣を除去する
方法がある。しかし、人手による作業は熟練を要し、ま
た、生産効率が悪くなる。Therefore, there is a method in which the development residue is removed by manually wiping the substrate surface with a soft cloth or the like so that the residue does not remain. However, manual work requires skill and the production efficiency becomes poor.
【００１２】なお、現像残渣を除去する作業を機械化す
るために、合成樹脂等を植毛したロール状のブラシを使
用し、そのブラシ部分に洗浄液を流しながら回転させて
ガラス基板表面に接触させ、洗浄する方法が提案されて
いる。この方法では、現像残渣は除去できるものの、赤
・緑・青・黒色のそれぞれの顔料を含んだ感光性樹脂の
パターンが傷つく場合があり、品質上に問題が発生す
る。In order to mechanize the work of removing the development residue, a roll-shaped brush in which synthetic resin or the like is planted is used, and the cleaning liquid is made to flow while rotating to bring it into contact with the surface of the glass substrate for cleaning. The method of doing is proposed. With this method, the development residue can be removed, but the pattern of the photosensitive resin containing the red, green, blue, and black pigments may be damaged, which causes a problem in quality.
【００１３】本発明は、上記した欠点を解決するもの
で、その目的は、現像残渣を良好に除去できる基板の洗
浄装置を提供することにある。The present invention solves the above-mentioned drawbacks, and an object of the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus capable of satisfactorily removing development residues.
【００１４】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明の基板の洗浄装置
は、基板を搬送する搬送手段と、前記基板を洗浄する洗
浄液が供給されるパイプと、このパイプにそれぞれが所
定の間隔で取り付けられ、かつ、前記基板の搬送方向に
直交する方向に対し、スプレーパターンの長手方向が３
°〜３０°の角度で前記基板に洗浄液を噴射する複数個
のノズルとから構成されている。A substrate cleaning apparatus according to the present invention comprises a transfer means for transferring a substrate, a pipe to which a cleaning liquid for cleaning the substrate is supplied, and pipes attached at predetermined intervals. In addition, the longitudinal direction of the spray pattern is 3 with respect to the direction orthogonal to the transfer direction of the substrate.
It is composed of a plurality of nozzles for spraying the cleaning liquid onto the substrate at an angle of 30 °.
【００１５】また、前記パイプに取り付けられるノズル
の取付ピッチを、前記基板の中心付近をＬ１とし、前記
基板の両端付近をＬ２とした場合に、Ｌ１＞Ｌ２として
いる。The mounting pitch of the nozzles mounted on the pipe is L1> L2, where L1 is near the center of the substrate and L2 is near both ends of the substrate.
【００１６】また、前記ノズルから噴射される洗浄液の
噴射圧力を５〜４０ｋｇ／ｃｍ2 としている。The spraying pressure of the cleaning liquid sprayed from the nozzle is set to 5 to 40 kg / cm 2 .
【００１７】また、前記ノズルのスプレーパターンをね
この目形状としている。Further, the spray pattern of the nozzle is in the shape of a cat.
【００１８】また、前記ノズルのスプレーパターンを長
円形状としている。The spray pattern of the nozzle is elliptical.
【００１９】[0019]
【作用】上記の構成によれば、ノズルから噴射される洗
浄液のスプレーパターンに長手方向と短手方向とがあ
り、その長手方向が、ガラス基板の搬送方向に直交する
方向に対し３°〜３０°の角度を持っている。また、各
ノズルで形成されるスプレーパターン同士はそのほぼ短
手方向で隣接している。したがって、複数個のノズルか
ら扇状に噴射される洗浄液のぶつかりあいが少なくな
り、ガラス基板の表面を洗浄する洗浄液の圧力の低下が
小さい。また、ガラス基板は、洗浄中に複数個のノズル
のスプレーパターンを通過することになり、良好な洗浄
が行える。According to the above construction, the cleaning liquid sprayed from the nozzle has a longitudinal direction and a lateral direction, and the longitudinal direction is 3 ° to 30 ° with respect to the direction orthogonal to the glass substrate transport direction. Have an angle of °. Further, the spray patterns formed by the respective nozzles are adjacent to each other in the substantially lateral direction. Therefore, the collision of the cleaning liquid sprayed in a fan shape from the plurality of nozzles is reduced, and the pressure drop of the cleaning liquid for cleaning the surface of the glass substrate is small. Further, the glass substrate passes through the spray patterns of a plurality of nozzles during cleaning, and good cleaning can be performed.
【００２０】また、パイプに取り付けられるノズルの取
付ピッチを、ガラス基板の中央付近の取付ピッチＬ１を
両端付近の取付ピッチＬ２より大きくしている。この場
合、中心付近のノズル直下部分と両端付近のノズル直下
部分とでガラス基板を洗浄するノズルの個数に差が少な
くなり、現像処理されたガラス基板の表面が均一に、そ
してむらなく洗浄される。Further, the mounting pitch of the nozzles mounted on the pipe is set so that the mounting pitch L1 near the center of the glass substrate is larger than the mounting pitch L2 near both ends. In this case, the difference in the number of nozzles for cleaning the glass substrate between the portion directly below the nozzle near the center and the portion immediately below the nozzle near both ends is reduced, and the surface of the developed glass substrate is uniformly and evenly washed. .
【００２１】また、ノズルから噴射される洗浄液の噴射
圧力を５〜４０ｋｇ／ｃｍ2 にし、また、ノズルのスプ
レーパタンの形状をねこの目形状、あるいは長円形状と
することにより、現像残渣を効率よく除去できる。Further, by making the spraying pressure of the cleaning liquid sprayed from the nozzle 5 to 40 kg / cm 2 and making the spray pattern of the nozzle a cat-like shape or an oval shape, the development residue can be efficiently removed. Can be removed well.
【００２２】[0022]
【実施例】本発明の一実施例について、図１を参照して
説明する。図１は、本発明を構成する各部の配置が分か
るように、ガラス基板２の搬送方向と直交する平面で一
部を断面して示している。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a partial cross-sectional view taken along a plane orthogonal to the transport direction of the glass substrate 2 so that the arrangement of each part constituting the present invention can be seen.
【００２３】図１で、符号２０は洗浄槽であり、洗浄槽
２０はガラス基板２の搬送方向にある長さを持つように
構成されている。また、洗浄槽２０の上面には開閉可能
な蓋板２０ａが取り付けられている。洗浄槽２０内を搬
送されるガラス基板２の搬送路より上方の側面には排気
口２１があり、排気口２１は工場排気ダクト（図示せ
ず）に接続されている。洗浄槽２０の底２０ｂは傾斜
し、リターン配管２２に向かって低くなっている。ま
た、洗浄槽２０の下方には純水タンク２３が配置され、
洗浄槽２０で噴射された純水は、リターン配管２２を通
して純水タンク２３に回収される。In FIG. 1, reference numeral 20 is a cleaning tank, and the cleaning tank 20 is constructed so as to have a length in the transfer direction of the glass substrate 2. Further, a lid plate 20a that can be opened and closed is attached to the upper surface of the cleaning tank 20. An exhaust port 21 is provided on the side surface above the transfer path of the glass substrate 2 transferred in the cleaning tank 20, and the exhaust port 21 is connected to a factory exhaust duct (not shown). The bottom 20b of the cleaning tank 20 is inclined and is lowered toward the return pipe 22. A pure water tank 23 is arranged below the cleaning tank 20,
The pure water sprayed in the cleaning tank 20 is collected in the pure water tank 23 through the return pipe 22.
【００２４】また、洗浄槽２０内には、現像処理された
ガラス基板２を水平に搬送する搬送機構が設けられてい
る。搬送機構は、ガラス基板２両端の下縁に接する多数
のローラ２４や、各ローラ２４を回転駆動するモータ２
５、そしてモータ２５の回転を各ローラ２４に伝えるヘ
リカル歯車２６などから構成されている。Further, in the cleaning tank 20, there is provided a carrying mechanism for carrying the developed glass substrate 2 horizontally. The transport mechanism includes a large number of rollers 24 in contact with the lower edges of both ends of the glass substrate 2 and a motor 2 for rotating and driving each roller 24.
5, and a helical gear 26 that transmits the rotation of the motor 25 to each roller 24.
【００２５】また、ガラス基板２の搬送路を横断する方
向にパイプ２８が配置され、パイプ２８には所定の取付
ピッチＬでノズル２７が取り付けられている。パイプ２
８には洗浄液供給ポンプ２９の働きで洗浄液例えば純水
が供給される。そして、パイプ２８に供給された純水
は、ノズル２７から５〜４０kg/cm 2 に加圧されて噴射
される。Further, a pipe 28 is arranged in a direction traversing the conveyance path of the glass substrate 2, and nozzles 27 are attached to the pipe 28 at a predetermined attachment pitch L. Pipe 2
A cleaning liquid, such as pure water, is supplied to 8 by the function of a cleaning liquid supply pump 29. Then, the pure water supplied to the pipe 28 is pressurized from the nozzle 27 to 5 to 40 kg / cm 2 and sprayed.
【００２６】ここで、ノズル２７から噴射される純水の
断面形状の例を図２や図３で示す。純水の断面形状はい
わゆるスプレーパターンと呼ばれ、本発明の場合、スプ
レーパターンは直交する２つの方向で一方は長く、他方
で短くなっている。なお、スプレーパターンの全体の形
状はノズルの構造などで調整される。Here, an example of the cross-sectional shape of pure water sprayed from the nozzle 27 is shown in FIGS. The cross-sectional shape of pure water is called a so-called spray pattern, and in the present invention, the spray pattern is long in one of two orthogonal directions and short in the other. The overall shape of the spray pattern is adjusted by the nozzle structure or the like.
【００２７】例えば図２のスプレーパターン４ａは、噴
射の中心Ｇからその長手方向に徐々に細くなるねこの目
形状になっている。また、図３のスプレーパターン４ｂ
は、長手方向にほぼ一様の幅で先端が丸い、長円形状に
なっている。For example, the spray pattern 4a shown in FIG. 2 has a cat-like shape in which the center G of the jet is gradually narrowed in the longitudinal direction. Also, the spray pattern 4b in FIG.
Has an oval shape with a substantially uniform width in the longitudinal direction and a rounded tip.
【００２８】図４は、例えばねこの目形状のスプレーパ
ターンを有するノズル２７を、パイプ２８に等間隔に取
り付けた状態を示している。そして、ノズル２７から噴
射される洗浄液のスプレーパターンの長手方向を結ぶ直
線Ａと基板の搬送方向に直交する直線Ｂとの角度αが、
３°〜３０°になっている。この構成によれば、スプレ
ーパターン同士はほぼ短手方向に隣接するため、ノズル
２７から噴射される純水同士が、ガラス基板２表面に到
達する前にぶつかることが少なくなる。したがって、ガ
ラス基板２表面を洗浄する洗浄力の低下は小さい。FIG. 4 shows a state in which the nozzles 27 having, for example, a cat-shaped spray pattern are attached to the pipe 28 at equal intervals. The angle α between the straight line A connecting the longitudinal directions of the spray patterns of the cleaning liquid jetted from the nozzles 27 and the straight line B orthogonal to the substrate transport direction is
It is 3 ° to 30 °. According to this configuration, since the spray patterns are adjacent to each other in the lateral direction, the pure water sprayed from the nozzles 27 is less likely to hit each other before reaching the surface of the glass substrate 2. Therefore, the reduction of the cleaning power for cleaning the surface of the glass substrate 2 is small.
【００２９】なお、角度αの値は、スプレーパターン４
の形状や、パイプ２８に対するノズルの取付ピッチＬ、
ノズルの口径、純水の噴出圧力、噴射高さ等により適宜
調整される。The value of the angle α is the spray pattern 4
Shape, the nozzle mounting pitch L to the pipe 28,
It is appropriately adjusted depending on the diameter of the nozzle, the ejection pressure of pure water, the ejection height, and the like.
【００３０】図５（ａ）は、ノズル２７をパイプ２８に
等間隔に取り付け、そして、スプレーパターン４の長手
方向が基板の搬送方向に直交する直線Ｂに対し３°〜３
０°の角度αになるようにした状態を示している。ま
た、図５（ｂ）は、そのときのスプレーパターン４の長
手方向を直線で示し、ガラス基板２の上方から見た状態
を示している。なお、矢印Ｙはガラス基板２の搬送方向
である。また、複数個のノズル２７から例えば５〜４０
kg/cm 2 の噴射圧力で純水が噴射され、ガラス基板２表
面を洗浄している。In FIG. 5A, the nozzles 27 are attached to the pipe 28 at equal intervals, and the longitudinal direction of the spray pattern 4 is 3 ° to 3 ° with respect to a straight line B orthogonal to the substrate transfer direction.
It shows a state in which the angle α is 0 °. Further, FIG. 5B shows a state in which the spray pattern 4 at that time is indicated by a straight line and is viewed from above the glass substrate 2. It should be noted that the arrow Y indicates the transport direction of the glass substrate 2. Also, from a plurality of nozzles 27, for example, 5 to 40
Pure water is sprayed at a spraying pressure of kg / cm 2 to clean the surface of the glass substrate 2.
【００３１】この場合、ガラス基板２の中心付近例えば
ノズル２７ａの直下部分では、ガラス基板２は搬送中に
７個のスプレーパターン４を通過する。また、両端付近
例えばノズル２７ｂの直下部分では５個のスプレーパタ
ーン４を通過する。したがって、ガラス基板２は搬送中
に複数のノズル２７から噴射される純水で洗浄されるこ
とになり、現像残渣が効率的に除去される。In this case, in the vicinity of the center of the glass substrate 2, for example, directly below the nozzle 27a, the glass substrate 2 passes through the seven spray patterns 4 during transportation. In addition, near the both ends, for example, a portion immediately below the nozzle 27b, the five spray patterns 4 are passed. Therefore, the glass substrate 2 is washed with the pure water sprayed from the plurality of nozzles 27 during transportation, and the development residue is efficiently removed.
【００３２】図６（ａ）は、パイプ２８に取り付けられ
るノズルのピッチを、ガラス基板２の中心付近をＬ１と
し、また、ガラス基板２の両端付近をＬ２とした場合
に、Ｌ１＞Ｌ２となるようにし、そして、スプレーパタ
ーン４の長手方向が基板の搬送方向に直交する直線Ｂに
対し３°〜３０°の角度αになるようにしている。ま
た、図６（ｂ）は、そのときのスプレーパターン４の長
手方向を直線で示し、ガラス基板２の上方から見た状態
を示している。In FIG. 6A, when the pitch of nozzles attached to the pipe 28 is L1 near the center of the glass substrate 2 and L2 near both ends of the glass substrate 2, L1> L2. Then, the longitudinal direction of the spray pattern 4 is set to an angle α of 3 ° to 30 ° with respect to the straight line B orthogonal to the substrate transport direction. In addition, FIG. 6B shows a state in which the spray pattern 4 at that time is indicated by a straight line and is viewed from above the glass substrate 2.
【００３３】ところで、図５のようにノズル２７がパイ
プ２８にピッチＬで等間隔に取り付けられている場合、
ガラス基板２の中心付近例えばノズル２７ａの直下部分
と、両端付近例えばノズル２７ｂの直下部分とでは、ガ
ラス基板２表面が通過するスプレーパターン４の個数に
差がある。しかし、図６の場合は、ガラス基板２の中心
付近例えばノズル２７ａの直下部分では５個、そして、
両端付近例えばノズル２７ｂの直下部分では４個のスプ
レーパターン４を通過する。したがって、図６の構成の
場合、ガラス基板２表面が通過するスプレーパターン４
の数は、位置による差が少なくなり、洗浄液によるガラ
ス基板２の洗浄が全面に亘って均一化される。By the way, when the nozzles 27 are attached to the pipe 28 at equal intervals with a pitch L as shown in FIG.
There is a difference in the number of spray patterns 4 through which the surface of the glass substrate 2 passes near the center of the glass substrate 2, for example, a portion immediately below the nozzle 27a and between both ends, for example, a portion immediately below the nozzle 27b. However, in the case of FIG. 6, there are five near the center of the glass substrate 2, for example, in the portion directly below the nozzle 27a, and
In the vicinity of both ends, for example, in the portion directly below the nozzle 27b, the four spray patterns 4 are passed. Therefore, in the case of the configuration of FIG. 6, the spray pattern 4 through which the surface of the glass substrate 2 passes
As for the number, the difference due to the position is reduced, and the cleaning of the glass substrate 2 with the cleaning liquid is made uniform over the entire surface.
【００３４】[0034]
【発明の効果】本発明によれば、ノズルから噴射される
洗浄液のぶつかりあいが少なくなり、現像処理後の現像
残渣を効率的に除去できる。According to the present invention, the collision of the cleaning liquid sprayed from the nozzle is reduced, and the development residue after the development processing can be efficiently removed.
【図１】本発明の一実施例を搬送方向に直交する平面で
一部を断面した各部の配置図である。FIG. 1 is a layout view of each part of which an embodiment of the present invention is partially sectioned in a plane orthogonal to the transport direction.
【図２】ノズルから噴射された純水の断面形状（スプレ
ーパターンがねこの目形状）である。FIG. 2 is a cross-sectional shape of pure water ejected from a nozzle (spray pattern is a cat's eye shape).
【図３】ノズルから噴射された純水の断面形状（スプレ
ーパターンが長円形状）である。FIG. 3 is a cross-sectional shape of pure water sprayed from a nozzle (spray pattern is oval shape).
【図４】ねこの目形状のスプレーパターンを有するノズ
ルの配置を示す図である。FIG. 4 is a view showing an arrangement of nozzles having a cat-shaped spray pattern.
【図５】図５（ａ）は、スプレーパターン４の長手方向
を結ぶ直線が、基板の搬送方向に直交する方向の直線に
対して角度αを３°〜３０°になるようにし、そしてノ
ズルをパイプに等間隔に配置した図で、図５（ｂ）はス
プレーパターン４を直線状に略示した図である。FIG. 5 (a) shows that the straight line connecting the longitudinal directions of the spray pattern 4 has an angle α of 3 ° to 30 ° with respect to the straight line in the direction orthogonal to the substrate transfer direction, and FIG. 5 (b) is a diagram schematically showing the spray pattern 4 in a linear shape.
【図６】図６（ａ）スプレーパターン４の長手方向を結
ぶ直線が、基板の搬送方向に直交する方向の直線に対し
て角度αを３°〜３０°になるようにし、そしてパイプ
に取り付けるノズルのピッチを相違させて配置した図
で、図６（ｂ）はスプレーパターン４を直線状に略示し
た図である。FIG. 6 (a) The straight line connecting the longitudinal directions of the spray pattern 4 is set such that the angle α is 3 ° to 30 ° with respect to the straight line in the direction orthogonal to the substrate transport direction, and is attached to the pipe. FIG. 6B is a view schematically showing the spray pattern 4 in a linear shape, in which the nozzle pitches are arranged differently.
【図７】従来の現像装置を示す側面図である。FIG. 7 is a side view showing a conventional developing device.
２…ガラス基板 ４、４ａ、４ｂ…スプレーパターン ２０…洗浄槽 ２７、２７ａ、２７ｂ…ノズル ２８…パイプ ２９…洗浄液供給ポンプ 2 ... Glass substrate 4, 4a, 4b ... Spray pattern 20 ... Cleaning tank 27, 27a, 27b ... Nozzle 28 ... Pipe 29 ... Cleaning liquid supply pump
Claims (5)
洗浄する洗浄液が供給されるパイプと、このパイプにそ
れぞれが所定の間隔で取り付けられ、かつ、前記基板の
搬送方向に直交する方向に対し、スプレーパターンの長
手方向が３°〜３０°の角度で前記基板に洗浄液を噴射
する複数個のノズルとを具備したことを特徴とする基板
の洗浄装置。1. A transfer means for transferring a substrate, a pipe to which a cleaning liquid for cleaning the substrate is supplied, and pipes attached to the pipe at predetermined intervals, respectively, and in a direction orthogonal to the transfer direction of the substrate. On the other hand, a substrate cleaning apparatus comprising: a plurality of nozzles for spraying a cleaning liquid onto the substrate at an angle of 3 ° to 30 ° in the longitudinal direction of the spray pattern.
付ピッチを、前記基板の中心付近をＬ１とし、前記基板
の両端付近をＬ２とした場合に、Ｌ１＞Ｌ２としたこと
を特徴とする請求項１記載の基板の洗浄装置。2. The mounting pitch of nozzles mounted on the pipe is L1> L2 when L1 is near the center of the substrate and L2 is near both ends of the substrate. The substrate cleaning apparatus described.
圧力を５〜４０ｋｇ／ｃｍ2 としたことを特徴とする請
求項１または２記載の基板の洗浄装置。3. The substrate cleaning apparatus according to claim 1, wherein the spraying pressure of the cleaning liquid sprayed from the nozzle is 5 to 40 kg / cm 2 .
目形状としたことを特徴とする請求項１、２または３記
載の基板の洗浄装置。4. The substrate cleaning apparatus according to claim 1, 2 or 3, wherein the spray pattern of the nozzle is in the shape of a cat.
状としたことを特徴とする請求項１、２または３記載の
基板の洗浄装置。5. The substrate cleaning apparatus according to claim 1, 2 or 3, wherein the spray pattern of the nozzle has an oval shape.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00604794A JP3436785B2 (en) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | Substrate cleaning equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00604794A JP3436785B2 (en) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | Substrate cleaning equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07211683A true JPH07211683A (en) | 1995-08-11 |
| JP3436785B2 JP3436785B2 (en) | 2003-08-18 |
Family
ID=11627714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00604794A Expired - Fee Related JP3436785B2 (en) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | Substrate cleaning equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3436785B2 (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005000667A (en) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Premark Feg Llc | Ware wash machine with fluidic oscillator nozzles |
| JP2007193029A (en) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Color filter and its manufacturing method |
| US7314054B2 (en) | 2000-02-29 | 2008-01-01 | Tokyo Electron Limited | Liquid processing apparatus with nozzle having planar ejecting orifices |
| CN104330907A (en) * | 2014-10-30 | 2015-02-04 | 深圳市华星光电技术有限公司 | TFT (Thin Film Transistor) substrate spraying device and etching system |
| CN106461989A (en) * | 2014-06-06 | 2017-02-22 | 武藏工业株式会社 | Liquid material dropping device and method |
| JP2019034270A (en) * | 2017-08-15 | 2019-03-07 | 三洋化成工業株式会社 | Filter cleaning device |
-
1994
- 1994-01-25 JP JP00604794A patent/JP3436785B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7314054B2 (en) | 2000-02-29 | 2008-01-01 | Tokyo Electron Limited | Liquid processing apparatus with nozzle having planar ejecting orifices |
| JP2005000667A (en) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Premark Feg Llc | Ware wash machine with fluidic oscillator nozzles |
| JP2007193029A (en) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Color filter and its manufacturing method |
| JP4648839B2 (en) * | 2006-01-18 | 2011-03-09 | 住友化学株式会社 | Color filter and manufacturing method thereof |
| CN106461989A (en) * | 2014-06-06 | 2017-02-22 | 武藏工业株式会社 | Liquid material dropping device and method |
| CN104330907A (en) * | 2014-10-30 | 2015-02-04 | 深圳市华星光电技术有限公司 | TFT (Thin Film Transistor) substrate spraying device and etching system |
| CN104330907B (en) * | 2014-10-30 | 2017-06-06 | 深圳市华星光电技术有限公司 | TFT substrate spray equipment and etch system |
| JP2019034270A (en) * | 2017-08-15 | 2019-03-07 | 三洋化成工業株式会社 | Filter cleaning device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3436785B2 (en) | 2003-08-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100253834B1 (en) | Substrate processing apparatus | |
| JP3918401B2 (en) | Substrate drying apparatus, drying method, and substrate manufacturing method | |
| US6073369A (en) | Substrate drying apparatus and method | |
| CA1117754A (en) | Apparatus used in the treatment of a continuous strip of metal | |
| JPH10189528A (en) | Apparatus and method for cleaning of substrate | |
| JP3436785B2 (en) | Substrate cleaning equipment | |
| JP4352194B2 (en) | Substrate drying apparatus and substrate drying method | |
| JP2002148818A (en) | Liquid chemical processing equipment and method | |
| JP2000223458A (en) | Substrate-processing apparatus | |
| KR101065982B1 (en) | Nozzle and substrate processing apparatus | |
| JP2000162424A (en) | Developing device for color filter substrate | |
| JPH09276773A (en) | Substrate treating device | |
| JP2003133217A (en) | Substrate processing apparatus | |
| JP3766968B2 (en) | Substrate processing method and substrate processing apparatus | |
| JP3452895B2 (en) | Substrate processing equipment | |
| JP2003068702A (en) | Substrate processing apparatus | |
| JPH09179312A (en) | Developing device for substrate | |
| JP3447890B2 (en) | Substrate processing equipment | |
| JPH09213669A (en) | Substrate treating device | |
| JPH09225420A (en) | Substrate treating device | |
| JP3489992B2 (en) | Substrate processing equipment | |
| JP2001314824A (en) | Cleaning apparatus, etching apparatus, cleaning method, and etching method | |
| JPH07302779A (en) | Draining drying device for substrate | |
| JP3851370B2 (en) | Substrate drainer | |
| JP3581483B2 (en) | Substrate processing equipment |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090606 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090606 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100606 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110606 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110606 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120606 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |