JP3436785B2 - Substrate cleaning equipment - Google Patents
Substrate cleaning equipmentInfo
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばＬＣＤ用のガラ
ス基板を純水などの洗浄液を用いて洗浄する基板の洗浄
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＣＤ用カラーフィルターの製造工程で
は、赤・緑・青・黒色のパターンを例えばガラス基板に
形成する場合、赤・緑・青・黒色の顔料を含んだ感光性
樹脂があらかじめガラス基板に塗布され、そして乾燥さ
れる。その後、所定のパターンを露光し現像処理が行わ
れる。この現像処理では、従来、図７に示すような現像
装置が使用されている。
【０００３】現像装置１の左側には、ガラス基板２を搬
入する搬入口３が、また、右側にはガラス基板２を搬出
する搬出口４が設けられている。そして、搬入口３と搬
出口４の間は、現像処理槽５、液切り槽６、洗浄槽７、
乾燥処理槽８にそれぞれ区画されている。
【０００４】各槽５〜８には、ガラス基板２を搬入し、
また搬出する開口部が形成されている。また、ガラス基
板２を水平に搬送する搬送機構も設けられている。搬送
機構は、ガラス基板２両端の下縁に接する多数のローラ
９や、これら各ローラ９を回転駆動するモータ、そし
て、モータの回転をローラ９に伝えるヘリカル歯車など
から構成されている。
【０００５】現像処理槽５内では、ノズル１０からガラ
ス基板２上に現像液が噴霧される。また、液切り槽６に
は、現像処理槽５側と洗浄槽７側に、ガラス基板２の上
方および下方からドライエアーなどの気体を噴射する１
対の第１エアーナイフ１１および第２エアーナイフ１２
が設けられている。なお、第１エアーナイフ１１および
第２エアーナイフ１２は、ガラス基板２が搬送される搬
送路に対しある角度を持って対向するように取り付けら
れている。
【０００６】第１エアーナイフ１１から噴射される気体
は、ガラス基板２上の現像液を搬送方向と逆方向、すな
わち、現像処理槽５側へ押し戻し液切り槽６への現像液
の持ち込みを少なくしている。また、第２エアーナイフ
１２から噴射される気体は、ガラス基板２が液切り槽６
から洗浄槽７に移動する際に、洗浄槽７側からガラス基
板２上を介して液切り槽６側へ侵入する純水を、搬送方
向と同方向すなわち洗浄槽７側へ押し戻し、洗浄槽７側
からの純水の侵入を防止している。
【０００７】また、洗浄槽７には、ローラ９の回転で搬
送されるガラス基板の搬送路を横断するようにパイプが
配置され、パイプにはノズル１４が一定ピッチで取り付
けられている。そして、各ノズル１４から０．５〜１．
５ｋｇ／ｃｍ2 の噴射圧力で純水が噴射され、その下方
を通過するガラス基板２上の現像液を洗い落とすように
なっている。
【０００８】また、乾燥処理槽８では、搬送されるガラ
ス基板２に対し、その上方及び下方からドライエアーな
どの気体を噴射する第３エアーナイフ１３が、第１エア
ーナイフ１１と同様にガラス基板２の搬送路に対向し、
そして、ある角度を持って設けられている。なお、エア
ーナイフ１３から噴射される気体によって、ガラス基板
２の表面が乾燥される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の装置で
は、例えばＬＣＤ用のカラーフィルターの製造工程にお
いて、赤・緑・青・黒色のパターンをガラス基板に形成
する場合、赤・緑・青・黒色のそれぞれの顔料を含んだ
感光性樹脂があらかじめガラス基板に塗布され、そして
乾燥され、さらに所定のパターンが露光され、現像処理
される。
【００１０】この場合、所定のパターン以外の所の感光
性樹脂がとれずに残る、いわゆる現像残渣が発生する。
現像残渣は、現像液が劣化したり、また液温が低下した
りすると多く発生する。このような現像残渣は、洗浄槽
で洗浄しても純水の噴射圧力が低いなどの理由で必ずし
も十分に除去されない。また、各ノズル１４から噴射さ
れる純水が円錐状であるため、純水の噴射圧力を上げて
も隣接するノズルから噴射される純水同士がガラス基板
２表面に到達する前にぶつかりあい、ガラス基板２表面
を洗浄する純水の圧力が減少してしまう。さらに、ノズ
ル１４の直下部分と各ノズル間の下方部分とで、基板表
面を洗浄する純水の圧力に大きな差が生じ、基板表面に
洗浄ムラができる。このような理由から、ガラス基板２
の表面が均一に洗浄されず、また、残渣が十分に除去で
きない。
【００１１】このため、残渣が残らないように柔らかい
布等を用いて人手で基板表面を拭き現像残渣を除去する
方法がある。しかし、人手による作業は熟練を要し、ま
た、生産効率が悪くなる。
【００１２】なお、現像残渣を除去する作業を機械化す
るために、合成樹脂等を植毛したロール状のブラシを使
用し、そのブラシ部分に洗浄液を流しながら回転させて
ガラス基板表面に接触させ、洗浄する方法が提案されて
いる。この方法では、現像残渣は除去できるものの、赤
・緑・青・黒色のそれぞれの顔料を含んだ感光性樹脂の
パターンが傷つく場合があり、品質上に問題が発生す
る。
【００１３】本発明は、上記した欠点を解決するもの
で、その目的は、現像残渣を良好に除去できる基板の洗
浄装置を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板を搬送す
る搬送手段と、前記基板を洗浄する洗浄液が供給される
パイプと、このパイプにそれぞれが所定の間隔で取り付
けられ、かつ、前記基板の搬送方向に直交する方向に対
し、スプレーパターンの長手方向が３°〜３０°の角度
で前記基板に洗浄液を噴射する複数個のノズルとを具備
した基板の洗浄装置において、前記パイプに取り付けら
れるノズルの取付ピッチを、前記基板の中心付近をＬ１
とし、前記基板の両端付近をＬ２とした場合に、Ｌ１＞
Ｌ２としたことを特徴とする。
【００１５】
【００１６】
【００１７】
【００１８】
【００１９】
【作用】上記の構成によれば、ノズルから噴射される洗
浄液のスプレーパターンに長手方向と短手方向とがあ
り、その長手方向が、ガラス基板の搬送方向に直交する
方向に対し３゜〜３０゜の角度を持っている。また、各
ノズルで形成されるスプレ一パターン同士はそのほぼ短
手方向で隣接している。したがって、複数個のノズルか
ら扇状に噴射される洗浄液のぶつかりあいが少なくな
り、ガラス基板の表面を洗浄する洗浄液の圧力の低下が
小さい。
【００２０】さらに、パイプに取り付けられるノズルの
取付ピッチを、ガラス基板の中央付近の取付ピッチＬ１
を両端付近の取付ピッチＬ２より大きくしている。この
場合、中心付近のノズル直下部分と両端付近のノズル直
下部分とでガラス基板を洗浄するノズルの個数に差が少
なくなり、現像処理されたガラス基板の表面が均一に、
そしてむらなく洗浄される。
【００２１】
【００２２】
【実施例】本発明の一実施例について、図１を参照して
説明する。図１は、本発明を構成する各部の配置が分か
るように、ガラス基板２の搬送方向と直交する平面で一
部を断面して示している。
【００２３】図１で、符号２０は洗浄槽であり、洗浄槽
２０はガラス基板２の搬送方向にある長さを持つように
構成されている。また、洗浄槽２０の上面には開閉可能
な蓋板２０ａが取り付けられている。洗浄槽２０内を搬
送されるガラス基板２の搬送路より上方の側面には排気
口２１があり、排気口２１は工場排気ダクト（図示せ
ず）に接続されている。洗浄槽２０の底２０ｂは傾斜
し、リターン配管２２に向かって低くなっている。ま
た、洗浄槽２０の下方には純水タンク２３が配置され、
洗浄槽２０で噴射された純水は、リターン配管２２を通
して純水タンク２３に回収される。
【００２４】また、洗浄槽２０内には、現像処理された
ガラス基板２を水平に搬送する搬送機構が設けられてい
る。搬送機構は、ガラス基板２両端の下縁に接する多数
のローラ２４や、各ローラ２４を回転駆動するモータ２
５、そしてモータ２５の回転を各ローラ２４に伝えるヘ
リカル歯車２６などから構成されている。
【００２５】また、ガラス基板２の搬送路を横断する方
向にパイプ２８が配置され、パイプ２８には所定の取付
ピッチＬでノズル２７が取り付けられている。パイプ２
８には洗浄液供給ポンプ２９の働きで洗浄液例えば純水
が供給される。そして、パイプ２８に供給された純水
は、ノズル２７から５〜４０kg/cm 2 に加圧されて噴射
される。
【００２６】ここで、ノズル２７から噴射される純水の
断面形状の例を図２や図３で示す。純水の断面形状はい
わゆるスプレーパターンと呼ばれ、本発明の場合、スプ
レーパターンは直交する２つの方向で一方は長く、他方
で短くなっている。なお、スプレーパターンの全体の形
状はノズルの構造などで調整される。
【００２７】例えば図２のスプレーパターン４ａは、噴
射の中心Ｇからその長手方向に徐々に細くなるねこの目
形状になっている。また、図３のスプレーパターン４ｂ
は、長手方向にほぼ一様の幅で先端が丸い、長円形状に
なっている。
【００２８】図４は、例えばねこの目形状のスプレーパ
ターンを有するノズル２７を、パイプ２８に等間隔に取
り付けた状態を示している。そして、ノズル２７から噴
射される洗浄液のスプレーパターンの長手方向を結ぶ直
線Ａと基板の搬送方向に直交する直線Ｂとの角度αが、
３°〜３０°になっている。この構成によれば、スプレ
ーパターン同士はほぼ短手方向に隣接するため、ノズル
２７から噴射される純水同士が、ガラス基板２表面に到
達する前にぶつかることが少なくなる。したがって、ガ
ラス基板２表面を洗浄する洗浄力の低下は小さい。
【００２９】なお、角度αの値は、スプレーパターン４
の形状や、ノズルの口径、純水の噴出圧力、噴射高さ等
により適宜調整される。
【００３０】図６（ａ）は、パイプ２８に取り付けられ
るノズルのピッチを、ガラス基板２の中心付近をＬ１と
し、また、ガラス基板２の両端付近をＬ２とした場合
に、Ｌ１＞Ｌ２となるようにし、そして、スプレーパタ
ーン４の長手方向が基板の搬送方向に直交する直線Ｂに
対し３゜〜３０゜の角度αになるようにしている。ま
た、図６（ｂ）は、そのときのスプレーパターン４の長
手方向を直線で示し、ガラス基板２の上方から見た状態
を示している。
【００３１】ところで、図５のようにノズル２７がパイ
プ２８にピッチＬで等間隔に取り付けられている場合、
ガラス基板２の中心付近例えばノズル２７ａの直下部分
では、ガラス基板２は搬送中に７個のスプレーパターン
４を通過する。また、両端付近例えばノズル２７ｂの直
下部分では５個のスプレーパターン４を通過する。よっ
て、ノズル２７ａの直下部分と、両端付近例えばノズル
２７ｂの直下部分とでは、ガラス基板２表面が通過する
スプレーパターン４の個数に差がある。しかし、図６の
場合は、ガラス基板２の中心付近例えばノズル２７ａの
直下部分では５個、そして、両端付近例えばノズル２７
ｂの直下部分では４個のスプレーパターン４を通過す
る。したがって、図６の構成の場合、ガラス基板２表面
が通過するスプレーパターン４の数は、位置による差が
少なくなり、洗浄液によるガラス基板２の洗浄が全面に
亘って均一化される。
【００３２】
【００３３】
【００３４】
【発明の効果】本発明によれば、ノズルから噴射される
洗浄液のぶつかりあいが少なくなり、現像処理後の現像
残渣を効率的に除去できる。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate cleaning apparatus for cleaning a glass substrate for an LCD using a cleaning liquid such as pure water. 2. Description of the Related Art In a process of manufacturing a color filter for an LCD, when a red / green / blue / black pattern is formed on, for example, a glass substrate, a photosensitive resin containing a red / green / blue / black pigment is used. Is previously applied to a glass substrate and dried. After that, a predetermined pattern is exposed and development processing is performed. In this developing process, a developing device as shown in FIG. 7 has been conventionally used. On the left side of the developing device 1, there is provided a carry-in port 3 for carrying in the glass substrate 2, and on the right side there is provided a carry-out port 4 for carrying out the glass substrate 2. Then, between the carry-in port 3 and the carry-out port 4, a developing processing tank 5, a liquid draining tank 6, a cleaning tank 7,
Each is divided into drying treatment tanks 8. The glass substrates 2 are loaded into each of the tanks 5 to 8,
An opening for carrying out is formed. In addition, a transport mechanism for transporting the glass substrate 2 horizontally is also provided. The transport mechanism includes a number of rollers 9 in contact with the lower edges of both ends of the glass substrate 2, a motor for rotating each of the rollers 9, a helical gear for transmitting the rotation of the motor to the rollers 9, and the like. In the developing tank 5, a developing solution is sprayed from the nozzle 10 onto the glass substrate 2. Further, a gas such as dry air is injected into the liquid draining tank 6 from above and below the glass substrate 2 toward the developing tank 5 and the cleaning tank 7.
A pair of first air knife 11 and second air knife 12
Is provided. In addition, the first air knife 11 and the second air knife 12 are attached so as to be opposed to the transport path on which the glass substrate 2 is transported at a certain angle. The gas injected from the first air knife 11 pushes the developing solution on the glass substrate 2 in a direction opposite to the transport direction, that is, back to the developing processing tank 5 side, and reduces the carry-in of the developing solution into the liquid draining tank 6. are doing. The gas injected from the second air knife 12 is supplied to the glass substrate 2 by the liquid draining tank 6.
When the cleaning water moves from the cleaning tank 7 to the cleaning tank 7, the pure water that enters the draining tank 6 from the cleaning tank 7 via the glass substrate 2 is pushed back in the same direction as the transport direction, that is, toward the cleaning tank 7. Prevents pure water from entering from the side. Further, a pipe is arranged in the cleaning tank 7 so as to traverse the transport path of the glass substrate transported by the rotation of the roller 9, and nozzles 14 are attached to the pipe at a constant pitch. Then, from each nozzle 14, 0.5 to 1.
Pure water is injected at an injection pressure of 5 kg / cm 2 , and the developing solution on the glass substrate 2 passing below is washed off. In the drying tank 8, a third air knife 13 for injecting a gas such as dry air from above and below the glass substrate 2 to be conveyed is provided in the same manner as the first air knife 11. Opposite the transport path 2
And it is provided with a certain angle. The surface of the glass substrate 2 is dried by the gas injected from the air knife 13. [0009] In the above-mentioned conventional apparatus, for example, when a red / green / blue / black pattern is formed on a glass substrate in a process of manufacturing a color filter for an LCD, the red / green A photosensitive resin containing each of blue and black pigments is applied to a glass substrate in advance, dried, and a predetermined pattern is exposed and developed. [0010] In this case, a so-called development residue is generated in which the photosensitive resin other than the predetermined pattern remains without being removed.
Development residues often occur when the developer is deteriorated or when the temperature of the solution is lowered. Such a development residue is not always sufficiently removed even if it is washed in a washing tank because of a low injection pressure of pure water. Further, since the pure water jetted from each nozzle 14 has a conical shape, even if the jet pressure of the pure water is increased, the pure water jetted from the adjacent nozzles collide with each other before reaching the surface of the glass substrate 2, The pressure of pure water for cleaning the surface of the glass substrate 2 decreases. Further, a large difference is generated in the pressure of pure water for cleaning the substrate surface between a portion directly below the nozzle 14 and a lower portion between the nozzles, resulting in uneven cleaning of the substrate surface. For this reason, the glass substrate 2
Cannot be uniformly washed, and residues cannot be sufficiently removed. For this reason, there is a method of removing the development residue by manually wiping the substrate surface using a soft cloth or the like so that no residue remains. However, manual work requires skill and production efficiency is reduced. In order to mechanize the operation of removing the development residue, a roll-shaped brush planted with synthetic resin or the like is used, and the brush portion is rotated while flowing a cleaning liquid, and is brought into contact with the surface of the glass substrate. A way to do that has been proposed. With this method, although the development residue can be removed, the pattern of the photosensitive resin containing each of the red, green, blue, and black pigments may be damaged, which causes a problem in quality. An object of the present invention is to solve the above-mentioned disadvantages, and an object of the present invention is to provide an apparatus for cleaning a substrate which can remove development residues satisfactorily. According to the present invention , there is provided a transfer means for transferring a substrate, a pipe to which a cleaning solution for cleaning the substrate is supplied, and a pipe attached to the pipe at a predetermined interval. , including with respect to the direction perpendicular to the conveying direction of the substrate, and a plurality of nozzles the longitudinal direction of the spray pattern for injecting a cleaning liquid to the substrate at an angle of 3 ° to 30 °
In the cleaned substrate cleaning apparatus,
The mounting pitch of the nozzle to be set is L1 near the center of the substrate.
When L2 is near both ends of the substrate, L1>
L2. According to the above configuration, the spray pattern of the cleaning liquid sprayed from the nozzle has a longitudinal direction and a lateral direction, and the longitudinal direction is It has an angle of 3 ° to 30 ° with respect to a direction perpendicular to the glass substrate transport direction. Further, the spray patterns formed by the nozzles are adjacent to each other in a substantially short direction. Therefore, the collision of the cleaning liquid ejected in a fan shape from the plurality of nozzles is reduced, and the pressure of the cleaning liquid for cleaning the surface of the glass substrate is not greatly reduced . Further , the mounting pitch of the nozzles mounted on the pipe is set to the mounting pitch L1 near the center of the glass substrate.
Is larger than the mounting pitch L2 near both ends. In this case, the difference in the number of nozzles for cleaning the glass substrate between the portion immediately below the nozzle near the center and the portion immediately below the nozzle near both ends is reduced, and the surface of the developed glass substrate is uniform,
And it is washed evenly. An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a partial cross-sectional view taken on a plane orthogonal to the glass substrate 2 transport direction so that the arrangement of each part constituting the present invention can be understood. In FIG. 1, reference numeral 20 denotes a cleaning tank, and the cleaning tank 20 is configured to have a certain length in the direction of transport of the glass substrate 2. A lid 20a that can be opened and closed is attached to the upper surface of the cleaning tank 20. An exhaust port 21 is provided on a side surface above the transport path of the glass substrate 2 transported in the cleaning tank 20, and the exhaust port 21 is connected to a factory exhaust duct (not shown). The bottom 20 b of the cleaning tank 20 is inclined and becomes lower toward the return pipe 22. In addition, a pure water tank 23 is disposed below the washing tank 20,
The pure water injected in the cleaning tank 20 is collected in a pure water tank 23 through a return pipe 22. A transport mechanism for horizontally transporting the developed glass substrate 2 is provided in the cleaning tank 20. The transport mechanism includes a number of rollers 24 in contact with lower edges of both ends of the glass substrate 2, and a motor 2 that rotationally drives each roller 24.
5, a helical gear 26 for transmitting the rotation of the motor 25 to each roller 24, and the like. A pipe 28 is arranged in a direction crossing the transport path of the glass substrate 2, and a nozzle 27 is mounted on the pipe 28 at a predetermined mounting pitch L. Pipe 2
A cleaning liquid, for example, pure water is supplied to 8 by the operation of the cleaning liquid supply pump 29. Then, the pure water supplied to the pipe 28 is pressurized from the nozzle 27 to 5 to 40 kg / cm 2 and injected. Here, examples of the cross-sectional shape of the pure water injected from the nozzle 27 are shown in FIG. 2 and FIG. The cross-sectional shape of pure water is called a so-called spray pattern, and in the present invention, the spray pattern is longer in one of two orthogonal directions and shorter in the other. The overall shape of the spray pattern is adjusted by the structure of the nozzle. For example, the spray pattern 4a in FIG. 2 has a cat's eye shape that gradually narrows in the longitudinal direction from the center G of the spray. Also, the spray pattern 4b of FIG.
Has an oval shape with a substantially uniform width in the longitudinal direction and a rounded tip. FIG. 4 shows a state in which nozzles 27 having, for example, a cat-shaped spray pattern are attached to a pipe 28 at equal intervals. Then, the angle α between a straight line A connecting the longitudinal directions of the spray pattern of the cleaning liquid sprayed from the nozzle 27 and a straight line B orthogonal to the transport direction of the substrate is:
3 ° to 30 °. According to this configuration, since the spray patterns are substantially adjacent to each other in the short direction, the pure water jetted from the nozzle 27 is less likely to collide with each other before reaching the surface of the glass substrate 2. Therefore, a decrease in the cleaning power for cleaning the surface of the glass substrate 2 is small. The value of the angle α is determined by the spray pattern 4
Of and shape, the diameter of Roh nozzle, jet pressure of the pure water, is suitably adjusted by injection height, etc.. FIG . 6 (a) shows a state in which
The nozzle pitch is defined as L1 near the center of the glass substrate 2.
And the case where both ends of the glass substrate 2 are near L2.
To, set to be L1> L2, and the longitudinal direction of the spray pattern 4 is set to be 3 ° to 30 ° angle α with respect to a straight line B perpendicular to the conveying direction of the substrate. FIG. 6B shows the longitudinal direction of the spray pattern 4 at that time as a straight line, and shows a state viewed from above the glass substrate 2 . By the way, as shown in FIG.
In the case where they are attached at equal pitches to the
Near the center of the glass substrate 2, for example, immediately below the nozzle 27a, the glass substrate 2 passes through the seven spray patterns 4 during transportation. In the vicinity of both ends, for example, immediately below the nozzle 27b, five spray patterns 4 pass. Yo
And a portion directly below the nozzle 27a and near both ends, for example, the nozzle
With the portion directly below 27b, the surface of the glass substrate 2 passes
There is a difference in the number of spray patterns 4. However, in FIG.
In the case, the vicinity of the center of the glass substrate 2, for example, the nozzle 27a
5 directly below and near both ends, for example, nozzle 27
In the part immediately below b, four spray patterns 4 pass
You. Therefore, in the case of the configuration of FIG.
The number of spray patterns 4 through which
Less, cleaning of the glass substrate 2 with the cleaning liquid
Uniform over the entire surface. According to the present invention, the collision of the cleaning liquid jetted from the nozzles is reduced, and the development residue after the development processing can be efficiently removed.
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例を搬送方向に直交する平面で
一部を断面した各部の配置図である。
【図２】ノズルから噴射された純水の断面形状（スプレ
ーパターンがねこの目形状）である。
【図３】ノズルから噴射された純水の断面形状（スプレ
ーパターンが長円形状）である。
【図４】ねこの目形状のスプレーパターンを有するノズ
ルの配置を示す図である。
【図５】図５（ａ）は、スプレーパターン４の長手方向
を結ぶ直線が、基板の搬送方向に直交する方向の直線に
対して角度αを３°〜３０°になるようにし、そしてノ
ズルをパイプに等間隔に配置した図で、図５（ｂ）はス
プレーパターン４を直線状に略示した図である。
【図６】図６（ａ）スプレーパターン４の長手方向を結
ぶ直線が、基板の搬送方向に直交する方向の直線に対し
て角度αを３°〜３０°になるようにし、そしてパイプ
に取り付けるノズルのピッチを相違させて配置した図
で、図６（ｂ）はスプレーパターン４を直線状に略示し
た図である。
【図７】従来の現像装置を示す側面図である。
【符号の説明】
２…ガラス基板
４、４ａ、４ｂ…スプレーパターン
２０…洗浄槽
２７、２７ａ、２７ｂ…ノズル
２８…パイプ
２９…洗浄液供給ポンプBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an arrangement view of each part of an embodiment of the present invention, a part of which is sectioned by a plane orthogonal to a transport direction. FIG. 2 is a cross-sectional shape of a pure water sprayed from a nozzle (spray pattern is a cat eye shape). FIG. 3 is a sectional view of a pure water jetted from a nozzle (an elliptical spray pattern). FIG. 4 is a diagram showing an arrangement of nozzles having a cat-shaped spray pattern. FIG. 5A shows that the angle α is set to 3 ° to 30 ° with respect to a straight line connecting the longitudinal direction of the spray pattern 4 with respect to a straight line orthogonal to the substrate transfer direction, and Are arranged at equal intervals on the pipe, and FIG. 5B is a diagram schematically showing the spray pattern 4 in a straight line. FIG. 6 (a) is such that a straight line connecting the longitudinal directions of the spray pattern 4 has an angle α of 3 ° to 30 ° with respect to a straight line in a direction orthogonal to the substrate transport direction, and is attached to a pipe. FIG. 6B schematically shows the spray pattern 4 in a linear shape. FIG. 7 is a side view showing a conventional developing device. [Description of Signs] 2 ... Glass substrate 4, 4a, 4b ... Spray pattern 20 ... Cleaning tank 27, 27a, 27b ... Nozzle 28 ... Pipe 29 ... Cleaning liquid supply pump
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304 B08B 3/02 G02F 1/1333 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/304 B08B 3/02 G02F 1/1333
Claims (1)
洗浄する洗浄液が供給されるパイプと、このパイプにそ
れぞれが所定の間隔で取り付けられ、かつ、前記基板の
搬送方向に直交する方向に対し、スプレーパターンの長
手方向が３°〜３０°の角度で前記基板に洗浄液を噴射
する複数個のノズルとを具備した基板の洗浄装置におい
て、前記パイプに取り付けられるノズルの取付ピッチ
を、前記基板の中心付近をＬ１とし、前記基板の両端付
近をＬ２とした場合に、Ｌ１＞Ｌ２としたことを特徴と
する基板の洗浄装置。(57) [Claim 1] A transport means for transporting a substrate, a pipe to which a cleaning liquid for cleaning the substrate is supplied, and each pipe is attached to the pipe at a predetermined interval, and A substrate cleaning apparatus comprising: a plurality of nozzles for injecting a cleaning liquid onto the substrate at an angle of 3 ° to 30 ° in a longitudinal direction of a spray pattern with respect to a direction perpendicular to a substrate transport direction.
The mounting pitch of the nozzles mounted on the pipe
L1 near the center of the substrate, and with both ends of the substrate
The characteristic is that L1> L2 when near is L2.
A substrate washing apparatus for.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00604794A JP3436785B2 (en) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | Substrate cleaning equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00604794A JP3436785B2 (en) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | Substrate cleaning equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07211683A JPH07211683A (en) | 1995-08-11 |
| JP3436785B2 true JP3436785B2 (en) | 2003-08-18 |
Family
ID=11627714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00604794A Expired - Fee Related JP3436785B2 (en) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | Substrate cleaning equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3436785B2 (en) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4007766B2 (en) | 2000-02-29 | 2007-11-14 | 東京エレクトロン株式会社 | Liquid processing apparatus and liquid processing method |
| US20040250837A1 (en) * | 2003-06-13 | 2004-12-16 | Michael Watson | Ware wash machine with fluidic oscillator nozzles |
| JP4648839B2 (en) * | 2006-01-18 | 2011-03-09 | 住友化学株式会社 | Color filter and manufacturing method thereof |
| JP6389379B2 (en) * | 2014-06-06 | 2018-09-12 | 武蔵エンジニアリング株式会社 | Liquid material dropping apparatus and method |
| CN104330907B (en) * | 2014-10-30 | 2017-06-06 | 深圳市华星光电技术有限公司 | TFT substrate spray equipment and etch system |
| JP6560309B2 (en) * | 2017-08-15 | 2019-08-14 | 三洋化成工業株式会社 | Filter cleaning device |
-
1994
- 1994-01-25 JP JP00604794A patent/JP3436785B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07211683A (en) | 1995-08-11 |
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Legal Events
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090606 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090606 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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