JPH07206474A - 透明ガラス基板の処理方法 - Google Patents
透明ガラス基板の処理方法Info
- Publication number
- JPH07206474A JPH07206474A JP2367794A JP2367794A JPH07206474A JP H07206474 A JPH07206474 A JP H07206474A JP 2367794 A JP2367794 A JP 2367794A JP 2367794 A JP2367794 A JP 2367794A JP H07206474 A JPH07206474 A JP H07206474A
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- JP
- Japan
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- glass substrate
- transparent glass
- hydrofluoric acid
- substrate
- buffered hydrofluoric
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- Pending
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガラス表面に微細な凹凸を発生させることな
くバッファードフッ酸処理することが可能な透明ガラス
基板の処理方法を提供する。 【構成】 透明ガラス基板をバッファードフッ酸にて処
理するに当たり、予め透明ガラス基板を前処理洗浄して
基板表面のダスト、有機物等の汚染物を除去しておく。
洗浄液としては、硫酸と過酸化水素水の混合液、フッ
酸、イソプロピルアルコール等のアルコール類を使用す
ることが望ましい。
くバッファードフッ酸処理することが可能な透明ガラス
基板の処理方法を提供する。 【構成】 透明ガラス基板をバッファードフッ酸にて処
理するに当たり、予め透明ガラス基板を前処理洗浄して
基板表面のダスト、有機物等の汚染物を除去しておく。
洗浄液としては、硫酸と過酸化水素水の混合液、フッ
酸、イソプロピルアルコール等のアルコール類を使用す
ることが望ましい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は透明ガラス基板の処理方
法に関し、特にフラットパネルディスプレイ用ガラス基
板の処理方法に関するものである。
法に関し、特にフラットパネルディスプレイ用ガラス基
板の処理方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶ディスプレイ等のフラットパネルデ
ィスプレイやイメージセンサー等の電子デバイスは、透
明ガラス基板上に多数の薄膜半導体素子が形成されたも
のであるが、これらの素子の一部に酸化Ｓｉ膜や窒化Ｓ
ｉ膜が使用されている。
ィスプレイやイメージセンサー等の電子デバイスは、透
明ガラス基板上に多数の薄膜半導体素子が形成されたも
のであるが、これらの素子の一部に酸化Ｓｉ膜や窒化Ｓ
ｉ膜が使用されている。
【０００３】ところで上記デバイスの製造工程におい
て、酸化Ｓｉ膜や窒化Ｓｉ膜をエッチングしてパターニ
ングするためには、バッファードフッ酸（ＢＨＦ）にて
処理するのが一般的である。このバッファードフッ酸に
よる処理は、工程のスル−プットを向上させるために、
ガラス基板をバッファードフッ酸の槽に浸漬する方法が
多用されている。
て、酸化Ｓｉ膜や窒化Ｓｉ膜をエッチングしてパターニ
ングするためには、バッファードフッ酸（ＢＨＦ）にて
処理するのが一般的である。このバッファードフッ酸に
よる処理は、工程のスル−プットを向上させるために、
ガラス基板をバッファードフッ酸の槽に浸漬する方法が
多用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらこのよう
な方法を用いた場合、ガラス基板全体がバッファードフ
ッ酸に曝されるため、膜が形成されていないガラス基板
の面にバッファードフッ酸の侵食による微細な凹凸が発
生する。この微細な凹凸は、パタ−ンずれの原因となっ
て半導体素子の機能を損なったり、また特にフラットパ
ネルディスプレイに於いては、光が散乱して基板の透過
率を著しく低下させるためディスプレイとしての表示機
能を損なうといった問題を引き起こしてしまう。
な方法を用いた場合、ガラス基板全体がバッファードフ
ッ酸に曝されるため、膜が形成されていないガラス基板
の面にバッファードフッ酸の侵食による微細な凹凸が発
生する。この微細な凹凸は、パタ−ンずれの原因となっ
て半導体素子の機能を損なったり、また特にフラットパ
ネルディスプレイに於いては、光が散乱して基板の透過
率を著しく低下させるためディスプレイとしての表示機
能を損なうといった問題を引き起こしてしまう。
【０００５】本発明はこのような問題を解決するもの
で、ガラス表面に微細な凹凸を発生させることなくバッ
ファードフッ酸処理を行うことが可能な透明ガラス基板
の処理方法を提供することを目的とする。
で、ガラス表面に微細な凹凸を発生させることなくバッ
ファードフッ酸処理を行うことが可能な透明ガラス基板
の処理方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記問題を
解決するために鋭意研究を行った結果、バッファードフ
ッ酸処理を行う前に、透明ガラス基板表面のダスト、有
機物等の汚染物を除去することにより、上記目的が達成
できることを見いだし、本発明として提案するものであ
る。
解決するために鋭意研究を行った結果、バッファードフ
ッ酸処理を行う前に、透明ガラス基板表面のダスト、有
機物等の汚染物を除去することにより、上記目的が達成
できることを見いだし、本発明として提案するものであ
る。
【０００７】即ち、本発明の透明ガラス基板の処理方法
は、透明ガラス基板をバッファードフッ酸にて処理する
に当たり、予め透明ガラス基板を前処理洗浄して基板表
面の汚染物を除去しておくことを特徴とする。
は、透明ガラス基板をバッファードフッ酸にて処理する
に当たり、予め透明ガラス基板を前処理洗浄して基板表
面の汚染物を除去しておくことを特徴とする。
【０００８】さらに本発明の方法を詳述する。
【０００９】まずバッファードフッ酸処理が必要な透明
ガラス基板を用意する。例えばフラットパネルディスプ
レイ用のガラス基板の場合は、基板上に酸化Ｓｉ膜や窒
化Ｓｉ膜が形成され、さらにフォトレジストが形成され
たものを用いる。
ガラス基板を用意する。例えばフラットパネルディスプ
レイ用のガラス基板の場合は、基板上に酸化Ｓｉ膜や窒
化Ｓｉ膜が形成され、さらにフォトレジストが形成され
たものを用いる。
【００１０】次に、透明ガラス基板を前処理洗浄する。
透明ガラス基板を前処理洗浄する洗浄液としては、ガラ
ス基板表面のダスト、有機物等の汚染物を除去できるも
のであればよく、例えば酸や有機溶剤を使用することが
できる。中でも硫酸と過酸化水素水の混合液、フッ酸、
又はイソプロピルアルコール等のアルコール類を使用す
ることが好ましい。なおフラットパネルディスプレイ用
ガラス基板を処理する場合、形成されたフォトレジスト
を剥離させることのないフッ酸を使用することが望まし
いが、この場合、ガラスは耐フッ酸性が低いためにその
濃度や洗浄条件に留意する必要がある。具体的には１０
重量％以下の濃度のフッ酸を用い、処理時間を１５分以
内にすることが望ましい。
透明ガラス基板を前処理洗浄する洗浄液としては、ガラ
ス基板表面のダスト、有機物等の汚染物を除去できるも
のであればよく、例えば酸や有機溶剤を使用することが
できる。中でも硫酸と過酸化水素水の混合液、フッ酸、
又はイソプロピルアルコール等のアルコール類を使用す
ることが好ましい。なおフラットパネルディスプレイ用
ガラス基板を処理する場合、形成されたフォトレジスト
を剥離させることのないフッ酸を使用することが望まし
いが、この場合、ガラスは耐フッ酸性が低いためにその
濃度や洗浄条件に留意する必要がある。具体的には１０
重量％以下の濃度のフッ酸を用い、処理時間を１５分以
内にすることが望ましい。
【００１１】また酸や有機溶剤の代わりにアルカリを用
いて前処理洗浄しても差し支えない。
いて前処理洗浄しても差し支えない。
【００１２】続いて、必要に応じてガラス基板を純水に
て再洗浄する。これは使用した洗浄液によってガラス基
板が再汚染されるのを防止するためである。
て再洗浄する。これは使用した洗浄液によってガラス基
板が再汚染されるのを防止するためである。
【００１３】その後、透明ガラス基板をバッファードフ
ッ酸の槽に浸漬する等の方法によってエッチング処理す
ればよい。なおこのバッファードフッ酸処理は、空気中
のダスト等によって基板表面が再び汚染されないよう
に、前処理洗浄後に速やかに行うことが重要である。
ッ酸の槽に浸漬する等の方法によってエッチング処理す
ればよい。なおこのバッファードフッ酸処理は、空気中
のダスト等によって基板表面が再び汚染されないよう
に、前処理洗浄後に速やかに行うことが重要である。
【００１４】
【作用】透明ガラス基板をバッファードフッ酸で処理す
ると、以下のような機構により、ガラス基板表面に微細
な凹凸が生じると考えられる。
ると、以下のような機構により、ガラス基板表面に微細
な凹凸が生じると考えられる。
【００１５】つまりガラス基板表面にダストが存在して
いると、これを核としてガラスとバッファードフッ酸の
反応生成物が析出する。また表面に有機物が付着してい
ると、これがバッファードフッ酸中に拡散し、反応生成
物のバッファードフッ酸中への溶解度を局所的に急激に
低下させ、基板表面に反応生成物を多量に析出させる。
そして析出した反応生成物が基板表面を部分的にマスク
するために侵食ムラが生じて微細な凹凸が発生する。
いると、これを核としてガラスとバッファードフッ酸の
反応生成物が析出する。また表面に有機物が付着してい
ると、これがバッファードフッ酸中に拡散し、反応生成
物のバッファードフッ酸中への溶解度を局所的に急激に
低下させ、基板表面に反応生成物を多量に析出させる。
そして析出した反応生成物が基板表面を部分的にマスク
するために侵食ムラが生じて微細な凹凸が発生する。
【００１６】そこで透明ガラス基板に前処理洗浄を行っ
てガラス基板表面のダスト、有機物等の汚染物を除去す
ることにより、バッファードフッ酸処理時に反応生成物
が析出し難くなり、基板表面がバッファードフッ酸によ
って均一に侵食される。その結果、ガラス基板表面の微
細な凹凸の発生を防止できる。
てガラス基板表面のダスト、有機物等の汚染物を除去す
ることにより、バッファードフッ酸処理時に反応生成物
が析出し難くなり、基板表面がバッファードフッ酸によ
って均一に侵食される。その結果、ガラス基板表面の微
細な凹凸の発生を防止できる。
【００１７】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明の透明ガラス
基板の処理方法を説明する。
基板の処理方法を説明する。
【００１８】表１は、本発明の方法によって処理したサ
ンプル（試料Ｎｏ．１〜３）、及び従来の方法によって
処理したサンプル（試料Ｎｏ．４）をそれぞれ示してい
る。
ンプル（試料Ｎｏ．１〜３）、及び従来の方法によって
処理したサンプル（試料Ｎｏ．４）をそれぞれ示してい
る。
【００１９】
【表１】
【００２０】まず、透明ガラス基板として１００ｍｍ
φ、厚さ１．１ｍｍのウェハー形状のアルミノシリケー
トガラスを用意した。また硫酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）と過酸化
水素水（Ｈ2 Ｏ2 ）の混合液、５％フッ酸（ＨＦ）、イ
ソプロピルアルコール、及びバッファードフッ酸を用意
した。なお硫酸と過酸化水素水の混合液は、９７％硫酸
と３０％過酸化水素水とを４：１の容積比で混合したも
のである。またバッファードフッ酸は、５０％フッ酸と
４０％フッ化アンモニウム水溶液（ＮＨ4 Ｆ）とを１：
３０の容積比で混合したものを用いた。
φ、厚さ１．１ｍｍのウェハー形状のアルミノシリケー
トガラスを用意した。また硫酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）と過酸化
水素水（Ｈ2 Ｏ2 ）の混合液、５％フッ酸（ＨＦ）、イ
ソプロピルアルコール、及びバッファードフッ酸を用意
した。なお硫酸と過酸化水素水の混合液は、９７％硫酸
と３０％過酸化水素水とを４：１の容積比で混合したも
のである。またバッファードフッ酸は、５０％フッ酸と
４０％フッ化アンモニウム水溶液（ＮＨ4 Ｆ）とを１：
３０の容積比で混合したものを用いた。
【００２１】次に前処理洗浄及びバッファードフッ酸処
理手順について述べる。まず試料Ｎｏ．１〜３のガラス
基板は、その表面が汚染されないよう注意深く純水にて
５分間洗浄し、その後各種の洗浄液中に表中の条件で浸
漬して前処理洗浄を行った。次いで洗浄液より引き上
げ、再び純水にて５分間洗浄した。その後、２０℃のバ
ッファードフッ酸中に３０分浸漬した後、再び純水にて
５分間洗浄し、乾燥後、光学顕微鏡にて表面の観察を行
い、凹凸の有無を確認した。結果を表１に示す。また比
較例である試料Ｎｏ．４については、前処理洗浄を行わ
ず、他は実施例と同一条件で処理した。なお、これらの
処理は全てクリーンルーム中で行った。
理手順について述べる。まず試料Ｎｏ．１〜３のガラス
基板は、その表面が汚染されないよう注意深く純水にて
５分間洗浄し、その後各種の洗浄液中に表中の条件で浸
漬して前処理洗浄を行った。次いで洗浄液より引き上
げ、再び純水にて５分間洗浄した。その後、２０℃のバ
ッファードフッ酸中に３０分浸漬した後、再び純水にて
５分間洗浄し、乾燥後、光学顕微鏡にて表面の観察を行
い、凹凸の有無を確認した。結果を表１に示す。また比
較例である試料Ｎｏ．４については、前処理洗浄を行わ
ず、他は実施例と同一条件で処理した。なお、これらの
処理は全てクリーンルーム中で行った。
【００２２】表１から明らかなように、前処理洗浄を施
した試料Ｎｏ．１〜３は何れもガラス基板の表面に凹凸
が認められなかった。これに対し、前処理洗浄を行わな
かった試料Ｎｏ．４はガラス基板表面に微細な凹凸が認
められた。
した試料Ｎｏ．１〜３は何れもガラス基板の表面に凹凸
が認められなかった。これに対し、前処理洗浄を行わな
かった試料Ｎｏ．４はガラス基板表面に微細な凹凸が認
められた。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の透明ガラ
ス基板の処理方法によれば、微細な凹凸を発生させるこ
となくバッファードフッ酸処理を行うことが可能であ
る。それゆえ、特にフラットパネルディスプレイ等の電
子デバイスの製造工程における酸化Ｓｉ膜や窒化Ｓｉ膜
のエッチング方法として好適である。
ス基板の処理方法によれば、微細な凹凸を発生させるこ
となくバッファードフッ酸処理を行うことが可能であ
る。それゆえ、特にフラットパネルディスプレイ等の電
子デバイスの製造工程における酸化Ｓｉ膜や窒化Ｓｉ膜
のエッチング方法として好適である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 茂 滋賀県大津市晴嵐２丁目７番１号 日本電 気硝子株式会社内 (72)発明者 宮本 光雄 大阪市中央区高麗橋２−６−10 森田化学 工業株式会社内 (72)発明者 石田 彰一 大阪市中央区高麗橋２−６−10 森田化学 工業株式会社内 (72)発明者 北 直英 大阪市中央区高麗橋２−６−10 森田化学 工業株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 透明ガラス基板をバッファードフッ酸に
て処理するに当たり、予め透明ガラス基板を前処理洗浄
して基板表面の汚染物を除去しておくことを特徴とする
透明ガラス基板の処理方法。 - 【請求項２】 透明ガラス基板を、酸又は有機溶剤を用
いて前処理洗浄することを特徴とする請求項１の透明ガ
ラス基板の処理方法。 - 【請求項３】 透明ガラス基板を、硫酸と過酸化水素水
の混合液、フッ酸、又はアルコール類を用いて前処理洗
浄することを特徴とする請求項１又は２の透明ガラス基
板の処理方法。 - 【請求項４】 透明ガラス基板が、フラットパネルディ
スプレイ用ガラス基板であることを特徴とする請求項１
乃至３の透明ガラス基板の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2367794A JPH07206474A (ja) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | 透明ガラス基板の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2367794A JPH07206474A (ja) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | 透明ガラス基板の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07206474A true JPH07206474A (ja) | 1995-08-08 |
Family
ID=12117110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2367794A Pending JPH07206474A (ja) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | 透明ガラス基板の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07206474A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5792327A (en) * | 1994-07-19 | 1998-08-11 | Corning Incorporated | Adhering metal to glass |
| US5851366A (en) * | 1994-07-19 | 1998-12-22 | Corning Incorporated | Adhering metal to glass |
| JP2001342041A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-11 | Asahi Glass Co Ltd | 光学部材及びその洗浄方法 |
-
1994
- 1994-01-25 JP JP2367794A patent/JPH07206474A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5792327A (en) * | 1994-07-19 | 1998-08-11 | Corning Incorporated | Adhering metal to glass |
| US5851366A (en) * | 1994-07-19 | 1998-12-22 | Corning Incorporated | Adhering metal to glass |
| JP2001342041A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-11 | Asahi Glass Co Ltd | 光学部材及びその洗浄方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20040527 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |