JPH07196609A - １−ヒドロキシインドール類の製法 - Google Patents
１−ヒドロキシインドール類の製法Info
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- JPH07196609A JPH07196609A JP5354280A JP35428093A JPH07196609A JP H07196609 A JPH07196609 A JP H07196609A JP 5354280 A JP5354280 A JP 5354280A JP 35428093 A JP35428093 A JP 35428093A JP H07196609 A JPH07196609 A JP H07196609A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Indole Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 従来合成が困難とされていた１−ヒドロキシ
インドール類の製法およびその中間体を提供すること。 【構成】 式２で表される１−ヒドロキシ−２−オキシ
インドール化合物から出発して式１で表される１−ヒド
ロキシインドール化合物を製造する方法であり、（１）
式２の化合物に式ＨＯ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｒで表わされる化
合物を反応させて式３の化合物を得る工程、（２）式３
の化合物の２位のオキソ基を還元脱離する工程、（３）
３位に求電子反応によって導入される置換Ｂを導入した
後、公知の方法でＲ−ＣＨ2ＣＨ2−基を除去する工程、
より成る。 〔式中、Ａは任意に置換されていてもよいベンゼン環で
あり、Ｂは求電子反応によって導入される置換基であり
Ｒは２−ピリジル基またはトリアルキルシリル基であ
る〕
インドール類の製法およびその中間体を提供すること。 【構成】 式２で表される１−ヒドロキシ−２−オキシ
インドール化合物から出発して式１で表される１−ヒド
ロキシインドール化合物を製造する方法であり、（１）
式２の化合物に式ＨＯ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｒで表わされる化
合物を反応させて式３の化合物を得る工程、（２）式３
の化合物の２位のオキソ基を還元脱離する工程、（３）
３位に求電子反応によって導入される置換Ｂを導入した
後、公知の方法でＲ−ＣＨ2ＣＨ2−基を除去する工程、
より成る。 〔式中、Ａは任意に置換されていてもよいベンゼン環で
あり、Ｂは求電子反応によって導入される置換基であり
Ｒは２−ピリジル基またはトリアルキルシリル基であ
る〕
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、１−ヒドロキシインド
ール類の製法およびその中間体に関する。
ール類の製法およびその中間体に関する。
【０００２】
【従来の技術】インドール化合物は広く天然に、また医
薬品として存在し、その化学はよく研究されている。そ
の中で、１−アルコキシ−または１−ヒドロキシインド
ール類の化学はまだ未開発の分野であり、それらの合成
や反応性についての報告は少ない。１−メトキシインド
ール類は、植物界にかなり存在し生理活性のあるものも
あり興味がもたれているが、対応するインドール類より
不安定なため合成が困難である。１−ヒドロキシインド
ール類は更に不安定な物質であり、最も単純な１−ヒド
ロキシインドールは純品としては単離できておらず、他
の１−ヒドロキシ体も電子吸引性基の置換されているも
のや２位に置換基のある比較的安定なものに限り合成で
きると報告されている［R.M.Acheson,Advances in Hete
rocyclic Chemistry,Vol.51,Ed.by A.R.Katritzky,Acad
emic Press,Inc.,New York,1990,pp105-175；T.F.Spand
e,The Chemistry of Heterocyclic Compounds,Vol.25,P
artIII,Ed.by W.J.Houlihan,Interscience Publicatio
n,New York,1979,pp153-164］。
薬品として存在し、その化学はよく研究されている。そ
の中で、１−アルコキシ−または１−ヒドロキシインド
ール類の化学はまだ未開発の分野であり、それらの合成
や反応性についての報告は少ない。１−メトキシインド
ール類は、植物界にかなり存在し生理活性のあるものも
あり興味がもたれているが、対応するインドール類より
不安定なため合成が困難である。１−ヒドロキシインド
ール類は更に不安定な物質であり、最も単純な１−ヒド
ロキシインドールは純品としては単離できておらず、他
の１−ヒドロキシ体も電子吸引性基の置換されているも
のや２位に置換基のある比較的安定なものに限り合成で
きると報告されている［R.M.Acheson,Advances in Hete
rocyclic Chemistry,Vol.51,Ed.by A.R.Katritzky,Acad
emic Press,Inc.,New York,1990,pp105-175；T.F.Spand
e,The Chemistry of Heterocyclic Compounds,Vol.25,P
artIII,Ed.by W.J.Houlihan,Interscience Publicatio
n,New York,1979,pp153-164］。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来合成が
困難とされていた１−ヒドロキシインドール類の製法お
よびその中間体を提供することを目的とする。
困難とされていた１−ヒドロキシインドール類の製法お
よびその中間体を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的に
鑑み鋭意検討した結果、２−ピリジルエチル基または２
−（トリアルキルシリル）エチル基を１−ヒドロキシイ
ンドール類の水酸基の保護に用いることにより上記目的
が達成できることを見いだし、本発明を完成した。
鑑み鋭意検討した結果、２−ピリジルエチル基または２
−（トリアルキルシリル）エチル基を１−ヒドロキシイ
ンドール類の水酸基の保護に用いることにより上記目的
が達成できることを見いだし、本発明を完成した。
【０００５】本発明は、式１
【０００６】
【０００７】（式中、Ａ環は任意の官能基で置換されて
いてもよいベンゼン環であり、Ｂは求電子反応によって
導入される置換基である。）で表される１−ヒドロキシ
インドール類を製造するにあたり、(1)式２
いてもよいベンゼン環であり、Ｂは求電子反応によって
導入される置換基である。）で表される１−ヒドロキシ
インドール類を製造するにあたり、(1)式２
【０００８】
【０００９】（式中、Ａ環は前記と同意義である。）で
表される１−ヒドロキシ−２−オキシインドール類を式
ＨＯＣＨ2ＣＨ2−Ｒ（式中、Ｒは２−ピリジル基または
２−トリアルキルシリル基である。）で表される化合物
と反応させ、式３
表される１−ヒドロキシ−２−オキシインドール類を式
ＨＯＣＨ2ＣＨ2−Ｒ（式中、Ｒは２−ピリジル基または
２−トリアルキルシリル基である。）で表される化合物
と反応させ、式３
【００１０】
【００１１】（式中、Ａ環およびＲは前記と同意義であ
る。）で表される１−Ｏ−置換−２−オキシインドール
類を得る工程、(2)１−Ｏ−置換−２−オキシインドー
ル類を還元し、式４
る。）で表される１−Ｏ−置換−２−オキシインドール
類を得る工程、(2)１−Ｏ−置換−２−オキシインドー
ル類を還元し、式４
【００１２】
【００１３】（式中、Ａ環およびＲは前記と同意義であ
る。）で表される１−Ｏ−置換インドール類を得る工
程、(3)１−Ｏ−置換インドール類の３位に求電子反応
によって導入される置換基Ｂを導入し、式５
る。）で表される１−Ｏ−置換インドール類を得る工
程、(3)１−Ｏ−置換インドール類の３位に求電子反応
によって導入される置換基Ｂを導入し、式５
【００１４】
【００１５】（式中、Ａ環、ＢおよびＲは前記と同意義
である。）で表される１−Ｏ，３−置換インドール類を
得る工程、および(4)１−Ｏ，３−置換インドール類を
２−トリメチルシリルエチル基を除去する公知の方法を
用いることにより除去する工程からなる１−ヒドロキシ
インドール類の製法である。
である。）で表される１−Ｏ，３−置換インドール類を
得る工程、および(4)１−Ｏ，３−置換インドール類を
２−トリメチルシリルエチル基を除去する公知の方法を
用いることにより除去する工程からなる１−ヒドロキシ
インドール類の製法である。
【００１６】また、他の本発明は、式２
【００１７】
【００１８】（式中、Ａ環は任意の官能基で置換されて
いてもよいベンゼン環である。）で表される１−ヒドロ
キシ−２−オキシインドール類を式ＨＯＣＨ2ＣＨ2−Ｒ
（式中、Ｒは２−ピリジル基または２−トリアルキルシ
リル基である。）で表される化合物と反応させることを
特徴とする、式３
いてもよいベンゼン環である。）で表される１−ヒドロ
キシ−２−オキシインドール類を式ＨＯＣＨ2ＣＨ2−Ｒ
（式中、Ｒは２−ピリジル基または２−トリアルキルシ
リル基である。）で表される化合物と反応させることを
特徴とする、式３
【００１９】
【００２０】（式中、Ａ環およびＲは前記と同意義であ
る。）で表される１−Ｏ−置換−２−オキシインドール
類の製法である。
る。）で表される１−Ｏ−置換−２−オキシインドール
類の製法である。
【００２１】また、他の本発明は、式
【００２２】
【００２３】（式中、Ｒは２−ピリジル基または２−ト
リアルキルシリル基である。）で表される１−Ｏ−置換
−２−オキシインドール類である。
リアルキルシリル基である。）で表される１−Ｏ−置換
−２−オキシインドール類である。
【００２４】また、他の本発明は、式
【００２５】
【００２６】（式中、Ｒは２−ピリジル基または２−ト
リアルキルシリル基である。）で表される１−Ｏ−置換
インドール類である。
リアルキルシリル基である。）で表される１−Ｏ−置換
インドール類である。
【００２７】以下、本発明を詳細に説明する。
【００２８】本発明において出発原料として使用される
式２の１−ヒドロキシ−２−オキシインドール類のＡ環
は本発明の製法に何ら係わるものではないので、そのＡ
環に本発明の製法に何ら影響を与えないいずれの官能基
が置換されていてもよい。置換された当該官能基は１〜
５個の同一または異なった官能基であり、たとえばそれ
らはアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、シアノ基、アリール基、アラルキル
基などである。式ＨＯＣＨ2ＣＨ2−Ｒで表される化合物
におけるトリアルキルシリル基中のアルキル基とは炭素
原子数１〜５のアルキル基であり、好ましくはメチル
基、エチル基、プロピル基などである。中でも、メチル
基は取扱い上最も好ましい。
式２の１−ヒドロキシ−２−オキシインドール類のＡ環
は本発明の製法に何ら係わるものではないので、そのＡ
環に本発明の製法に何ら影響を与えないいずれの官能基
が置換されていてもよい。置換された当該官能基は１〜
５個の同一または異なった官能基であり、たとえばそれ
らはアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、シアノ基、アリール基、アラルキル
基などである。式ＨＯＣＨ2ＣＨ2−Ｒで表される化合物
におけるトリアルキルシリル基中のアルキル基とは炭素
原子数１〜５のアルキル基であり、好ましくはメチル
基、エチル基、プロピル基などである。中でも、メチル
基は取扱い上最も好ましい。
【００２９】本発明の製造方法の(1)の工程は、氷冷下
〜溶媒の還流温度で攪拌することにより容易に進行す
る。本反応において使用される溶媒は塩化メチレン、ク
ロロホルムなどの塩素系溶媒、エーテル、テトラヒドロ
フラン、ジエトキシエタンなどのエーテル系溶媒などが
用いられるが、好ましくはクロロホルムが用いられる。
反応時間は３０分間〜数１０時間であるが、有機溶媒と
してクロロホルムを用いた場合は１時間で充分であり極
めて好適である。本反応で得られる１−Ｏ−置換−２−
オキシインドール類は新規な化合物であり、インドール
の１位水酸基を式−ＣＨ2ＣＨ2−Ｒで保護した事例は報
告がない。
〜溶媒の還流温度で攪拌することにより容易に進行す
る。本反応において使用される溶媒は塩化メチレン、ク
ロロホルムなどの塩素系溶媒、エーテル、テトラヒドロ
フラン、ジエトキシエタンなどのエーテル系溶媒などが
用いられるが、好ましくはクロロホルムが用いられる。
反応時間は３０分間〜数１０時間であるが、有機溶媒と
してクロロホルムを用いた場合は１時間で充分であり極
めて好適である。本反応で得られる１−Ｏ−置換−２−
オキシインドール類は新規な化合物であり、インドール
の１位水酸基を式−ＣＨ2ＣＨ2−Ｒで保護した事例は報
告がない。
【００３０】１−Ｏ−置換−２−オキシインドール類を
還元する(2)の工程は、ジイソブチルアルミニウムヒド
リド（ＤＩＢＡＬ）を用いることによって収率よく進行
する。その他、リチウムアルミニウムヒドリド（ＬｉＡ
ｌＨ4）などを用いる反応によって目的物を得ることが
できる。
還元する(2)の工程は、ジイソブチルアルミニウムヒド
リド（ＤＩＢＡＬ）を用いることによって収率よく進行
する。その他、リチウムアルミニウムヒドリド（ＬｉＡ
ｌＨ4）などを用いる反応によって目的物を得ることが
できる。
【００３１】工程(3)はインドール類の３位に求電子反
応によって導入される置換基を導入することによって、
最終物である１−ヒドロキシインドール類の１位水酸基
をより安定化させることを目的としたものである。従っ
て、本発明は求電子反応によって３位に導入される置換
基の種類によって何等影響されるものでなく、またその
導入手段も一般にインドール類の３位に求電子反応によ
って導入される置換基を導入する公知の手段を用いるこ
とができる。当該置換の一例を例示すれば、ホルミル
基、アシル基、スルホニル基、シアノ基、アミド基、ジ
アルキルアミノメチル基などを挙げることができる。
応によって導入される置換基を導入することによって、
最終物である１−ヒドロキシインドール類の１位水酸基
をより安定化させることを目的としたものである。従っ
て、本発明は求電子反応によって３位に導入される置換
基の種類によって何等影響されるものでなく、またその
導入手段も一般にインドール類の３位に求電子反応によ
って導入される置換基を導入する公知の手段を用いるこ
とができる。当該置換の一例を例示すれば、ホルミル
基、アシル基、スルホニル基、シアノ基、アミド基、ジ
アルキルアミノメチル基などを挙げることができる。
【００３２】１−Ｏ，３−置換インドール類の１位水酸
基の保護基−ＣＨ2ＣＨ2−Ｒは、２−トリメチルシリル
エチル基を除去する公知の方法を用いることにより除去
することができる。本反応で用いられる試薬としてはボ
ロントリフルオライド・エーテラート（ＢＦ3・Ｅｔ
2Ｏ）、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライド
［（ｎ−Ｂｕ）4Ｎ+Ｆ-］などを用いることができる。
基の保護基−ＣＨ2ＣＨ2−Ｒは、２−トリメチルシリル
エチル基を除去する公知の方法を用いることにより除去
することができる。本反応で用いられる試薬としてはボ
ロントリフルオライド・エーテラート（ＢＦ3・Ｅｔ
2Ｏ）、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライド
［（ｎ−Ｂｕ）4Ｎ+Ｆ-］などを用いることができる。
【００３３】
【発明の効果】１−ヒドロキシインドール類の１位水酸
基の保護基としてはメチル基などの単なるアルキル基で
は脱保護できないので、これまでにアセチル基などによ
る保護が試みられていた。しかし、本発明者は、さらに
緩和かつ選択的に脱保護できる２−（２−ピリジル）エ
チル基または２−トリメチルシリルエチル基を水酸基の
保護基として見いだした。そして、これを用いることに
より、従来合成が困難とされていた１−ヒドロキシイン
ドール類を合成することに成功した。
基の保護基としてはメチル基などの単なるアルキル基で
は脱保護できないので、これまでにアセチル基などによ
る保護が試みられていた。しかし、本発明者は、さらに
緩和かつ選択的に脱保護できる２−（２−ピリジル）エ
チル基または２−トリメチルシリルエチル基を水酸基の
保護基として見いだした。そして、これを用いることに
より、従来合成が困難とされていた１−ヒドロキシイン
ドール類を合成することに成功した。
【００３４】２−（２−ピリジル）エチル基または２−
トリメチルシリルエチル基は１−ヒドロキシインドール
類の１位水酸基の保護基としてはこれまでに用いられた
ことはなく、保護ののちいくつかの反応を行い、最後に
この保護基を除くことにより種々の１−ヒドロキシイン
ドール類を製造することが可能であるので、大変有用で
ある。
トリメチルシリルエチル基は１−ヒドロキシインドール
類の１位水酸基の保護基としてはこれまでに用いられた
ことはなく、保護ののちいくつかの反応を行い、最後に
この保護基を除くことにより種々の１−ヒドロキシイン
ドール類を製造することが可能であるので、大変有用で
ある。
【００３５】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。 実施例１１−［２−（トリメチルシリル）エトキシ］−２−オキ
シインドールの製造 １−ヒドロキシ−２−オキシインドール（４９７ｍｇ，
３３．３ｍｍｏｌ）、２−（トリメチルシリル）エタノ
ール（０．５０ｍｌ，１．２ｍｏｌ ｅｑ．）およびト
リフェニルホスフィン（１．０６ｇ，１．２ｍｏｌ ｅ
ｑ．）の無水クロロホルム溶液（２０ｍｌ）に氷冷下ジ
エチルジアゾカルボネート（０．６２ｍｌ，１．２ｍｏ
ｌ ｅｑ．）を加え、１時間攪拌した。溶媒を減圧下を
留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒；ベンゼン：酢酸エチル＝５：１）で精製
し、表記化合物（７９３ｍｇ，９５％）を得た。
する。 実施例１１−［２−（トリメチルシリル）エトキシ］−２−オキ
シインドールの製造 １−ヒドロキシ−２−オキシインドール（４９７ｍｇ，
３３．３ｍｍｏｌ）、２−（トリメチルシリル）エタノ
ール（０．５０ｍｌ，１．２ｍｏｌ ｅｑ．）およびト
リフェニルホスフィン（１．０６ｇ，１．２ｍｏｌ ｅ
ｑ．）の無水クロロホルム溶液（２０ｍｌ）に氷冷下ジ
エチルジアゾカルボネート（０．６２ｍｌ，１．２ｍｏ
ｌ ｅｑ．）を加え、１時間攪拌した。溶媒を減圧下を
留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒；ベンゼン：酢酸エチル＝５：１）で精製
し、表記化合物（７９３ｍｇ，９５％）を得た。
【００３６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ（ｐｐ
ｍ）；０．０７（９Ｈ，ｓ），０．９３〜１．５０（２
Ｈ，ｍ），３．４７（２Ｈ，ｓ），４．００〜４．５０
（２Ｈ，ｍ），６．６７〜７．４７（４Ｈ，ｍ） ＩＲ（ｎｅａｔ） （ｃｍ-1）；１７４０，１６２０
ｍ）；０．０７（９Ｈ，ｓ），０．９３〜１．５０（２
Ｈ，ｍ），３．４７（２Ｈ，ｓ），４．００〜４．５０
（２Ｈ，ｍ），６．６７〜７．４７（４Ｈ，ｍ） ＩＲ（ｎｅａｔ） （ｃｍ-1）；１７４０，１６２０
【００３７】実施例２１−［２−（トリメチルシリル）エトキシ］インドール
の製造 アルゴン気流下、実施例１で得た１−［２−（トリメチ
ルシリル）エトキシ］−２−オキシインドール（１．８
１ｇ，７．２５ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン
（８ｍｌ）溶液に、ドライアイス／アセトン冷却下（−
７８℃）シリンジで１．５Ｍ濃度のＤＩＢＡＬ（７．２
４ｍｌ，１．５ｅｑ．）溶液をゆっくり加え、１時間攪
拌した。反応終了後、１０％塩酸水溶液（３０ｍｌ）を
加えてアルミニウムコンプレックスを分解し、エーテル
（２回，７０ｍｌ）抽出し、飽和食塩水（３０ｍｌ）で
洗浄後芒硝乾燥した。溶媒を減圧下を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ベンゼ
ン）で精製し、表記化合物（１．４９ｇ，６．３９ｍｍ
ｏｌ，８８．２２％）を得た。
の製造 アルゴン気流下、実施例１で得た１−［２−（トリメチ
ルシリル）エトキシ］−２−オキシインドール（１．８
１ｇ，７．２５ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン
（８ｍｌ）溶液に、ドライアイス／アセトン冷却下（−
７８℃）シリンジで１．５Ｍ濃度のＤＩＢＡＬ（７．２
４ｍｌ，１．５ｅｑ．）溶液をゆっくり加え、１時間攪
拌した。反応終了後、１０％塩酸水溶液（３０ｍｌ）を
加えてアルミニウムコンプレックスを分解し、エーテル
（２回，７０ｍｌ）抽出し、飽和食塩水（３０ｍｌ）で
洗浄後芒硝乾燥した。溶媒を減圧下を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ベンゼ
ン）で精製し、表記化合物（１．４９ｇ，６．３９ｍｍ
ｏｌ，８８．２２％）を得た。
【００３８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ（ｐｐ
ｍ）；０．０７（９Ｈ，ｓ），０．８７〜１．４３（２
Ｈ，ｍ），３．９７〜４．５３（２Ｈ，ｍ），６．２７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），６．８０〜７．７３
（５Ｈ，ｍ） ＥＩ−ＭＳ （ｍ／ｚ）；２３３（Ｍ+，０．６１），
２０５（Ｍ+−２８，１８．０１），７３（１００） High resolution ＭＳ （ｍ／ｚ）； 計算値（Ｃ13Ｈ19ＮＯＳｉとして）：２３３．１２３
６，実測値：２３３．１２２０
ｍ）；０．０７（９Ｈ，ｓ），０．８７〜１．４３（２
Ｈ，ｍ），３．９７〜４．５３（２Ｈ，ｍ），６．２７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），６．８０〜７．７３
（５Ｈ，ｍ） ＥＩ−ＭＳ （ｍ／ｚ）；２３３（Ｍ+，０．６１），
２０５（Ｍ+−２８，１８．０１），７３（１００） High resolution ＭＳ （ｍ／ｚ）； 計算値（Ｃ13Ｈ19ＮＯＳｉとして）：２３３．１２３
６，実測値：２３３．１２２０
【００３９】実施例３１−［２−（トリメチルシリル）エトキシ］インドール
−３−カルバルデヒドの製造 氷冷下、乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（５ｍ
ｌ）に塩化リン（ＰＯＣｌ3）（０．８ｍｌ，３ｅ
ｑ．）を加え、１５分間攪拌した。次いで、１−［２−
（トリメチルシリル）エトキシ］インドール（６７１ｍ
ｇ，２．８７ｍｍｏｌ）の乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド溶液（１ｍｌ）を２０分間かけて滴下し、氷冷下
２０分間、室温で３時間攪拌した。反応終了後、氷およ
び１０％水酸化ナトリウム水溶液（３０ｍｌ）を加え、
エーテル抽出（２回，７０ｍｌ）し、飽和食塩水（４０
ｍｌ）で洗浄後、芒硝乾燥した。溶媒を減圧下を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
溶媒；ベンゼン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、表記
化合物（６５３ｍｇ，２．５０ｍｍｏｌ，８６．９０
％）を得た。 ｍ．ｐ． ６２〜６３℃
−３−カルバルデヒドの製造 氷冷下、乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（５ｍ
ｌ）に塩化リン（ＰＯＣｌ3）（０．８ｍｌ，３ｅ
ｑ．）を加え、１５分間攪拌した。次いで、１−［２−
（トリメチルシリル）エトキシ］インドール（６７１ｍ
ｇ，２．８７ｍｍｏｌ）の乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド溶液（１ｍｌ）を２０分間かけて滴下し、氷冷下
２０分間、室温で３時間攪拌した。反応終了後、氷およ
び１０％水酸化ナトリウム水溶液（３０ｍｌ）を加え、
エーテル抽出（２回，７０ｍｌ）し、飽和食塩水（４０
ｍｌ）で洗浄後、芒硝乾燥した。溶媒を減圧下を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
溶媒；ベンゼン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、表記
化合物（６５３ｍｇ，２．５０ｍｍｏｌ，８６．９０
％）を得た。 ｍ．ｐ． ６２〜６３℃
【００４０】実施例４１−ヒドロキシインドール−３−カルバルデヒドの製造 １−［２−（トリメチルシリル）エトキシ］インドール
−３−カルバルデヒドの乾燥アセトニトリル（３ｍｌ）
に室温下ボロントリフルオライド・エーテラート（０．
０６５ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。溶媒を減圧
留去し残渣に水（２０ｍｌ）を加え、エーテル（５０ｍ
ｌ）で抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄後、芒硝乾
燥した。溶媒を減圧下を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒；ベンゼン：酢酸エチ
ル＝２：１）で精製し、表記化合物（７２ｍｇ，８４
％）を得た。 ｍ．ｐ． １４５〜１５２℃
−３−カルバルデヒドの乾燥アセトニトリル（３ｍｌ）
に室温下ボロントリフルオライド・エーテラート（０．
０６５ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。溶媒を減圧
留去し残渣に水（２０ｍｌ）を加え、エーテル（５０ｍ
ｌ）で抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄後、芒硝乾
燥した。溶媒を減圧下を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒；ベンゼン：酢酸エチ
ル＝２：１）で精製し、表記化合物（７２ｍｇ，８４
％）を得た。 ｍ．ｐ． １４５〜１５２℃
Claims (4)
- 【請求項１】 式 （式中、Ａ環は任意の官能基で置換されていてもよいベ
ンゼン環であり、Ｂは求電子反応によって導入される置
換基である。）で表される１−ヒドロキシインドール類
を製造するにあたり、(1)式 （式中、Ａ環は前記と同意義である。）で表される１−
ヒドロキシ−２−オキシインドール類を式ＨＯＣＨ2Ｃ
Ｈ2−Ｒ（式中、Ｒは２−ピリジル基または２−トリア
ルキルシリル基である。）で表される化合物と反応さ
せ、式 （式中、Ａ環およびＲは前記と同意義である。）で表さ
れる１−Ｏ−置換−２−オキシインドール類を得る工
程、(2)１−Ｏ−置換−２−オキシインドール類を還元
し、式 （式中、Ａ環およびＲは前記と同意義である。）で表さ
れる１−Ｏ−置換インドール類を得る工程、(3)１−Ｏ
−置換インドール類の３位に求電子反応によって導入さ
れる置換基Ｂを導入し、式 （式中、Ａ環、ＢおよびＲは前記と同意義である。）で
表される１−Ｏ，３−置換インドール類を得る工程、お
よび(4)１−Ｏ，３−置換インドール類を２−トリメチ
ルシリルエチル基を除去する公知の方法を用いることに
より除去する工程からなる１−ヒドロキシインドール類
の製法。 - 【請求項２】 式 （式中、Ａ環は任意の官能基で置換されていてもよいベ
ンゼン環である。）で表される１−ヒドロキシ−２−オ
キシインドール類を式ＨＯＣＨ2ＣＨ2−Ｒ（式中、Ｒは
２−ピリジル基または２−トリアルキルシリル基であ
る。）で表される化合物と反応させることを特徴とす
る、式 （式中、Ａ環およびＲは前記と同意義である。）で表さ
れる１−Ｏ−置換−２−オキシインドール類の製法。 - 【請求項３】 式 （式中、Ｒは２−ピリジル基または２−トリアルキルシ
リル基である。）で表される１−Ｏ−置換−２−オキシ
インドール類。 - 【請求項４】 式 （式中、Ｒは２−ピリジル基または２−トリアルキルシ
リル基である。）で表される１−Ｏ−置換インドール
類。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35428093A JP3495774B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | １−ヒドロキシインドール類の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35428093A JP3495774B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | １−ヒドロキシインドール類の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07196609A true JPH07196609A (ja) | 1995-08-01 |
| JP3495774B2 JP3495774B2 (ja) | 2004-02-09 |
Family
ID=18436482
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35428093A Expired - Fee Related JP3495774B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | １−ヒドロキシインドール類の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3495774B2 (ja) |
-
1993
- 1993-12-28 JP JP35428093A patent/JP3495774B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3495774B2 (ja) | 2004-02-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |