JPH0719493A - 電子レンジ - Google Patents

電子レンジ

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JPH0719493A
JPH0719493A JP16200293A JP16200293A JPH0719493A JP H0719493 A JPH0719493 A JP H0719493A JP 16200293 A JP16200293 A JP 16200293A JP 16200293 A JP16200293 A JP 16200293A JP H0719493 A JPH0719493 A JP H0719493A
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food
cooked
microwave
temperature sensor
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Hiroyuki Noguchi
浩幸 野口
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Toshiba AVE Co Ltd
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Toshiba Corp
Toshiba AVE Co Ltd
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  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
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  • Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明の電子レンジは、被加熱調理物の位置
に応じてマイクロ波供給パターンを変更できるようにす
る。 【構成】 制御装置は、温度センサからの出力信号を読
み込み(ステップS1,S6)、これに基づいて温度上
昇があるか否かの判断をし(ステップS7)、温度上昇
がほとんどなければ、ステップS8に示すように、被加
熱調理物が回転皿の端部側にあると判定し、上部の口部
の開口時間t1に対して下部の口部の開口時間t2が長
くなるように設定し、上記温度上昇があれば(ステップ
S7の「Y」)、ステップS9に示すように、少なくと
も被加熱調理物が回転皿の中央部に位置すると判定し、
上部および下部の口部開口時間をほぼ同じとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、加熱調理室内へのマイ
クロ波の供給制御に改良を施した電子レンジに関する。
【0002】
【従来の技術】周知のように、電子レンジでは、加熱調
理室の天井壁もしくは側壁の一部にマイクロ波供給口を
有し、マグネトロンにより生成したマイクロ波をこのマ
イクロ波供給口から加熱調理室内に供給して被加熱調理
物を加熱調理するようにしている。被加熱調理物は、通
常は加熱調理室において回転皿に載せられるようになっ
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、被加熱調理
物を加熱調理室の回転皿に配置する場合、回転皿の中央
部に載せられたり、あるいは端部側に載せられたりす
る。このとき、従来のものでは、マイクロ波の照射パタ
ーンが常に一定であるため、被加熱調理物に対してマイ
クロ波照射効率、換言すれば加熱効率が高いとは限ら
ず、加熱時間が長くなったり、電力量が無駄に多くなっ
たりする問題があった。
【0004】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、被加熱調理物の位置に応じてマイク
ロ波供給パターンを変更できて、被加熱調理物に対する
加熱効率の向上を図り得る電子レンジを提供するにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の電子レンジは、
マグネトロンにより生成したマイクロ波を加熱調理室内
に供給して被加熱調理物を加熱調理するようにしたもの
において、マイクロ波を前記加熱調理室内に供給するた
めの口部を前記加熱調理室側壁の上下部に設け、前記上
部の口部および下部の口部の開口度を調節する開口調節
手段を設け、前記加熱調理室内に配置される被加熱調理
物の位置を検出する位置検出手段を設け、この位置検出
手段からの検出結果に基づいて前記開口調節手段を制御
するマイクロ波供給制御手段を設けたところに特徴を有
する(請求項1の発明)。
【0006】この場合、位置検出手段を、加熱調理室内
における被加熱調理物載置領域のほぼ中央部の温度を検
出する温度センサと、この温度センサによる検出温度の
変化がほとんどないときには被加熱調理物が被加熱調理
物載置領域の端部側にあると判定し、前記変化があると
きには被加熱調理物が被加熱調理物載置領域の少なくと
もほぼ中央部にあると判定する判定手段とから構成し、
マイクロ波供給制御手段を、被加熱調理物が被加熱調理
物載置領域の端部側にあると判定されたときには下部の
口部からのマイクロ波供給量が上部の口部からのマイク
ロ波供給量より多くなるように開口調節手段を制御し、
被加熱調理物が被加熱調理物載置領域の少なくともほぼ
中央部にあると判定されたときには上部の口部および下
部の口部の双方からマイクロ波を供給するように開口調
節手段を制御するように構成しても良い(請求項2の発
明)。
【0007】さらにまた、位置検出手段を、加熱調理室
内における被加熱調理物載置領域の端部側の温度を検出
する温度センサと、この温度センサによる検出温度の変
化がほとんどないときには被加熱調理物が被加熱調理物
載置領域の中央部にあると判定し、前記変化があるとき
には被加熱調理物が被加熱調理物載置領域の少なくとも
端部側にあると判定するする判定手段とから構成し、マ
イクロ波供給制御手段を、被加熱調理物が被加熱調理物
載置領域のほぼ中央部にあると判定されたときには上部
の口部からのマイクロ波供給量が下部の口部からのマイ
クロ波供給量より多くなるように開口調節手段を制御
し、被加熱調理物が被加熱調理物載置領域の少なくとも
端部側にあると判定されたときには上部の口部および下
部の口部の双方からマイクロ波を供給するように開口調
節手段を制御するように構成しても良い(請求項3の発
明)。
【0008】前記温度センサは、赤外線温度センサから
構成するようにしても良い(請求項4の発明)。
【0009】また、マイクロ波供給制御手段は、マイク
ロ波供給量の制御を、上部の口部あるいは下部の口部の
開口時間の調節により行なうようにしても良いし(請求
項5の発明)、マイクロ波供給量の制御を、上部の口部
あるいは下部の口部の有効開口面積の調節により行なう
ようにしても良い(請求項6の発明)。
【0010】
【作用】上記手段においては、マイクロ波を加熱調理室
内に供給するための口部を加熱調理室側壁の上下部に設
けているから、各口部のマイクロ波供給量を変化させる
ことにより、被加熱調理物載置領域の中央部と端部側と
の加熱強度を変化させることが可能となった。そして、
位置検出手段により被加熱調理物載置領域における被加
熱調理物の位置を検出し、そしてマイクロ波供給制御手
段により、被加熱調理物の位置に応じて開口調節手段を
制御するから、加熱強度分布パターンを被加熱調理物の
位置に合わせて変更することが可能となる。この結果、
被加熱調理物に対する加熱効率を高めることが可能とな
る。
【0011】この場合、位置検出手段を、加熱調理室内
における被加熱調理物載置領域のほぼ中央部の温度を検
出する温度センサと、この温度センサによる検出温度の
変化がほとんどないときには被加熱調理物が被加熱調理
物載置領域の端部側にあると判定し、前記変化があると
きには被加熱調理物が被加熱調理物載置領域の少なくと
もほぼ中央部にあると判定する判定手段とから構成すれ
ば、温度センサを利用して被加熱調理物の位置を検出す
ることが可能であり、また、マイクロ波供給制御手段
を、被加熱調理物が被加熱調理物載置領域の端部側にあ
ると判定されたときには下部の口部からのマイクロ波供
給量が上部の口部からのマイクロ波供給量より多くなる
ように開口調節手段を制御し、被加熱調理物が被加熱調
理物載置領域の少なくともほぼ中央部にあると判定され
たときには上部の口部および下部の口部の双方からマイ
クロ波を供給するように開口調節手段を制御するように
構成すれば、被加熱調理物を無駄なく集中的に加熱する
ことが可能である。
【0012】さらにまた、位置検出手段を、加熱調理室
内における被加熱調理物載置領域の端部側の温度を検出
する温度センサと、この温度センサによる検出温度の変
化がほとんどないときには被加熱調理物が被加熱調理物
載置領域の中央部にあると判定し、変化があると被加熱
調理物が被加熱調理物載置領域の少なくとも端部側にあ
ると判定するする判定手段とから構成しても、温度セン
サを利用して被加熱調理物の位置を検出することが可能
であり、マイクロ波供給制御手段を、被加熱調理物が被
加熱調理物載置領域のほぼ中央部にあると判定されたと
きには上部の口部からのマイクロ波供給量が下部の口部
からのマイクロ波供給量より多くなるように開口調節手
段を制御し、被加熱調理物が被加熱調理物載置領域の少
なくとも端部側にあると判定されたときには上部の口部
および下部の口部の双方からマイクロ波を供給するよう
に開口調節手段を制御するように構成しても、被加熱調
理物を無駄なく集中的に加熱することが可能である。
【0013】上述の温度センサを、赤外線温度センサか
ら構成すれば、被加熱調理物の温度を非接触にて検出す
ることが可能である。
【0014】
【実施例】以下、本発明の第1の実施例につき図1ない
し図13を参照しながら説明する。まず、図3におい
て、外箱1の内部には、内ケース2が配設されており、
この内ケース2の内部は加熱調理室3とされている。前
記外箱1の前面には、加熱調理室3を開閉するための扉
4が設けられていると共に、操作パネル5が設けられて
いる。前記加熱調理室3の右側壁(内ケース2の右側
壁)3aの上下部には、マイクロ波を供給するための口
部6および7が形成されている。そして、加熱調理室3
の底部には、回転皿8が配設されている。
【0015】図4に示すように、上記回転皿8に載せら
れる被加熱調理物の重量は、重量センサ9により検出さ
れるようになっており、また該回転皿8はターンテーブ
ル駆動用モータ10により回転されるようになってい
る。この回転皿8は、この実施例においては被加熱調理
物載置領域に相当するものであり、加熱調理室3におけ
る天井壁には、回転皿8のほぼ中央部(被加熱調理物載
置領域の中央部)上方に位置して温度センサ11が配設
されている。この温度センサ11は赤外線温度センサか
らなる。
【0016】なお、上記重量センサ9は、図5に示すよ
うに、フレーム13に固定された固定電極板14と、回
転皿8に載せられる被加熱調理物の重量に応じて軸方向
に変位する回転軸10aによって変位する可動電極板1
5とを有して構成されており、いわゆる静電容量形であ
って、周波数変換回路を備えており、その重量検出出力
は、図6に示すように重量に比例した周波数として出力
されるようになっている。
【0017】前記口部6および7が形成された右壁部3
aの裏側には、これら口部6および7を包囲するように
導波管16が設けられており、この導波管16の外側部
にはマグネトロン17が配設されている。このマグネト
ロン17のアンテナ17aは導波管16内に位置してい
る。
【0018】図7および図8に示すように、前記各口部
6および7は、それぞれ開口調節手段18および19に
より、その開口度が零から全開までリニアに調節される
ようになっており、それぞれ開閉板18aおよび19a
を有する。いま、口部6に対応する開口調節手段18に
ついて述べる。前記右壁部3aの裏側には図示しない取
付具を介して上開閉板駆動用モータ20が取り付けられ
ており、この上開閉板駆動用モータ20の回転軸20a
は開閉板18aの回動軸に連結されている。また、この
モータ20の回転軸20aにはギア21が一体回転する
ように取着されている。さらに、上開閉板駆動用モータ
20と並ぶようにしてポテンショメータ22が図示しな
い取付具を介して右壁部3aに取り付けられており、こ
のポテンショメータ22の入力軸22aには前記ギア2
1と噛合するギア23が取着されている。
【0019】上記ポテンショメータ22は図9および図
10に示すように摺動抵抗器からなるものであり、上開
閉板駆動用モータ20の回転角、従って開閉板18aの
回動角に応じて摺動接点22bが摺動し、これにて出力
電圧Vpが変化するようになっている(図11参照)。
この結果、出力電圧Vpから開閉板18aの回動角度が
判るようになっている。
【0020】なお、下部の開閉板19aを備えた開口調
節手段19も同様に構成されており、従って、図8に示
すように、下開閉板駆動用モータ24、ギア25、ポテ
ンショメータ26、ギア26aが設けられている。
【0021】次に、図2において電気的構成について述
べる。制御装置27はマイクロコンピュータ、各種駆動
回路、A/D変換器等を有して構成されており、その入
力としては、重量センサ9、温度センサ11、各ポテン
ショメータ22および26からの出力信号が与えられる
他に、前記操作パネル5に設けられた各種スイッチ2
8、扉4の開閉を検出する扉スイッチ29、加熱調理室
3内のガス量を検出するべく図示しない排気路に設けら
れたガスセンサ30からの出力信号が与えられるように
なっている。さらに、そして、この制御装置27は、マ
イクロコンピュータに保有する運転プログラムに従い、
各種の入力に応じて、ターンテーブル駆動用モータ1
0、マグネトロン17、上開閉板駆動用モータ20、下
開閉板駆動用モータ24、マグネトロン17を冷却する
ための冷却ファンモータ31、前記操作パネル5に設け
られた表示器32a、ブザー32bを駆動制御するよう
になっている。
【0022】上記制御装置27は、調理運転を制御する
と共にマイクロ波供給制御手段として機能すると共に、
温度センサ11とで位置検出手段33を構成する判定手
段として機能するものであり、上記構成の作用と共にこ
の機能について述べる。図1には、制御装置27の制御
内容を示しており、このフローチャートは、各種スイッ
チ28におけるメニュー設定スイッチの操作により「あ
たため」が指定され、時間設定スイッチにより調理時間
T1が設定された上で、スタートスイッチが操作された
ときにスタートする。まず、温度センサ11からの出力
信号を読み込む(ステップS1)。次いで、上開閉板駆
動用モータ20を駆動して開閉板18aを口部6開放方
向へ回動させ、また、開閉板19aは閉鎖状態としてお
く(ステップS2)。このとき、開閉板18および19
の開度は、ポテンショメータ22および26からの出力
電圧Vpにより検知できる。
【0023】そして、マグネトロン17および冷却ファ
ンモータ31を駆動して加熱を開始する(ステップS
3)と共に、タイムカウントを開始する(ステップS
4)。マグネトロン17の駆動によりマイクロ波が口部
6から加熱調理室3内に供給されて、被加熱調理物が加
熱されてゆく。この後、所定時間T2が経過すると(ス
テップS5にて判断)、温度センサ11からの出力信号
を読み込んで(ステップS6)、この時の温度と前記ス
テップS1での温度とに基づいて温度上昇があるか否か
の判断をする(ステップS7)。温度上昇がほとんどな
ければ(ステップS7の「N」)、ステップS8に示す
ように、被加熱調理物が回転皿8の端部側にあると判定
して、上部の口部6の開口時間t1に対する下部の口部
7の開口時間t2が長くなるように設定する。この場
合、上記t1は10秒、t2は20秒に設定している。
【0024】また、上記温度上昇があれば(ステップS
7の「Y」)、ステップS9に示すように、被加熱調理
物が回転皿8の中央部、または中央部および端部側に載
置されている、つまり少なくとも被加熱調理物が回転皿
8の中央部に位置すると判定し、上部の口部6の開口時
間t1を15秒、下部の口部7の開口時間t2も15秒
にそれぞれ設定する。
【0025】ここで、温度センサ11の温度の変化によ
り被加熱調理物の位置を判定できる理由について述べる
と、いま、温度センサ11は、回転皿8の中央部の温度
を検出し得るように設けられているから、この中央部に
被加熱調理物があれば、加熱が開始されることにより、
この被加熱調理物の温度が変化(上昇)することで検出
温度も上昇するところとなり、また、中央部に被加熱調
理物がなければ、その中央部の温度がさほど変化(上
昇)しないところとなる。従って、回転皿8の中央の温
度を検出する温度センサ11の検出温度がほとんど変化
しなければ、ほぼ中央部には被加熱調理物がなくすなわ
ち端部側に被加熱調理物があると判定でき、また、温度
センサ11の検出温度が変化すれば、少なくともほぼ中
央部には被加熱調理物があると判定できる。
【0026】この後、上部の口部6を閉じ、下部の口部
7を上記設定時間t2開放するように開口調節手段1
8,19を制御する(ステップS10、ステップS1
1、ステップS12)。この場合、下部の口部7からの
みのマイクロ波供給であるから、加熱調理室3内の温度
分布は、図13に示すようになる。次に、下部の口部7
を閉じ、上部の口部6を上記設定時間解放するように開
口調節手段18,19を制御する(ステップS13、ス
テップS14、ステップS15)。この場合、上部の口
部6からのみのマイクロ波供給であるから、加熱調理室
3内の温度分布は、図12に示すようになる。この交互
の口部開放制御は、設定された調理時間T1が経過する
まで(ステップS16にて判断)実行する。
【0027】この調理時間T2が経過すると、マグネト
ロン17および冷却ファンモータ31の駆動を停止して
加熱を終了し(ステップS17)、そしてブザー32b
を鳴らす(ステップS18)。これにて「あたため」を
終了する。この後は、メインプログラムに戻る。
【0028】このような本実施例によれば、マイクロ波
を加熱調理室3内に供給するために加熱調理室3側壁の
上下部にそれぞれ口部6,7を設けているから、各口部
6,7のマイクロ波供給量を変化させることにより、被
加熱調理物載置領域の中央部と端部側との加熱強度を変
化させることが可能であり、そして、温度センサ11と
制御装置27とで構成されるところの位置検出手段33
により回転皿8における被加熱調理物の位置を検出し、
被加熱調理物の位置に応じて開口調節手段18,19を
制御するから、加熱強度分布パターンを被加熱調理物の
位置に合わせて変更することができる。この結果、被加
熱調理物に対する加熱効率を高めることができる。
【0029】特に、上述したように、位置検出手段33
を、加熱調理室3内における回転皿8のほぼ中央部の温
度を検出する温度センサ11と、この温度センサ11に
よる検出温度の変化がほとんどないときには被加熱調理
物が回転皿8の端部側にあると判定し、前記変化がある
ときには被加熱調理物が回転皿8の少なくともほぼ中央
部にあると判定する判定手段とから構成したから、温度
センサ11を利用して被加熱調理物の位置を検出するこ
とができる。また、被加熱調理物が回転皿8の端部側に
あると判定されたときには下部の口部7からのマイクロ
波供給量が上部の口部6からのマイクロ波供給量より多
くなるように開口調節手段18,19を制御し、被加熱
調理物が回転皿8の少なくともほぼ中央部にあると判定
されたときには上部の口部6および下部の口部7の双方
からマイクロ波を供給するように開口調節手段18,1
9を制御するように構成したから、被加熱調理物を一層
無駄なく集中的に加熱することができる。
【0030】図14は本発明の第2の実施例を示してお
り、この実施例においては、次の点が第1の実施例と異
なる。すなわち、第1の実施例では、各口部6,7から
のマイクロ波供給量の制御を、各口部6,7の開口時間
の制御に行なうようにしたが、この第2の実施例では、
ステップP7、ステップP8、ステップP9から理解で
きるように、温度センサ11の検出温度の上昇がほとん
どなければ、被加熱調理物が回転皿8の端部側にあると
判定して、下部の口部7の有効開口面積が上部の口部6
の有効開口面積より大となるように開口調節手段18,
19を制御する。また、上記検出温度に変化があれば、
被加熱調理物が回転皿8の少なくともほぼ中央部にある
と判定して、上部の口部6の有効開口面積および下部の
口部7の有効開口面積を同じとなるように開口調節手段
18,19を制御する。なお、有効開口面積の調節は開
閉板18a,19aの回動角度調節により行なう。この
第2の実施例においても第1の実施例と同様の効果を得
ることができる。
【0031】図15ないし図17は本発明の第3の実施
例を示しており、この実施例では、次の点が第1の実施
例と異なる。この第3の実施例においては、温度センサ
として、回転皿8の端部側(被加熱調理物載置領域の端
部側)上方に位置する温度センサ41を設けており、回
転皿8の端部側の温度を検出する。この温度センサ41
も赤外線温度センサから構成されている。また、制御装
置42はマイクロ波供給制御手段、判定手段として機能
するもので、この判定手段と上記温度センサ41とで、
位置検出手段43が構成されている。しかして、制御装
置42は、図17に示すように制御する。
【0032】すなわち、ステップG1およびステップG
6では、温度センサ41により回転皿8の端部側の温度
を検出し、ステップG7では、これらの検出温度に基づ
いて温度上昇があるか否かの判断をする。温度上昇がほ
とんどなければ(ステップG7の「N」)、ステップG
8に示すように、被加熱調理物が回転皿8のほぼ中央部
にあると判定し、上方の口部6の開口時間t1を下部の
口部7の開口時間t2より長くなるように設定する。こ
の場合、上記t1は20秒、t2は10秒に設定してい
る。
【0033】また、上記温度上昇があれば(ステップG
7の「Y」)、被加熱調理物が少なくとも回転皿8の端
部側に位置すると判定し、上部の口部6の開口時間t1
を15秒、下部の口部7の開口時間t2も15秒にそれ
ぞれ設定する。この後は、ステップG10ないしステッ
プG18の制御行なうものであり、これらは、第1の実
施例のステップS10ないしステップS18と同じ制御
を行なう。
【0034】この第3の実施例においては、回転皿8の
端部側の温度を検出する温度センサ41を利用して被加
熱調理物の位置を検出することができる。また、被加熱
調理物が回転皿8のほぼ中央部にあると判定されたとき
には上部の口部6からのマイクロ波供給量が下部の口部
7からのマイクロ波供給量より多くなるように開口調節
手段18,19を制御し、被加熱調理物が回転皿8の少
なくとも端部側にあると判定されたときには上部の口部
6および下部の口部7の双方からマイクロ波を供給する
ように開口調節手段18,19を制御するように構成し
たから、被加熱調理物を一層無駄なく集中的に加熱する
ことができる。
【0035】図18は本発明の第4の実施例を示してお
り、この第4の実施例においては、マイクロ波供給量の
制御を、各口部6,7の有効開口面積の調節により制御
するところが第3の実施例と異なる。すなわち、温度上
昇がほとんどなければ(ステップR7の「N」)、ステ
ップG8に示すように、被加熱調理物が回転皿8のほぼ
中央部にあると判定し、上方の口部6の有効開口面積を
下部の口部7の有効開口面積より大となるように開口調
節手段18,19を制御する。
【0036】また、上記温度上昇があれば(ステップR
7の「Y」)、被加熱調理物が少なくとも回転皿8の端
部側に位置すると判定し、上部の口部6の有効開口面積
と、下部の口部7の有効開口面積とをほぼ同じとなるよ
うに、開口調節手段18,19を制御する。この第4の
実施例においても、第3の実施例と同様の効果を奏す
る。
【0037】なお、上記実施例としては、被加熱調理物
載置のためのものとして回転皿8を例示したが、被加熱
調理物載置のためのものとしては非回転のものでも良
い。その他、本発明は上記実施例に限定されるものでは
なく、要旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施でき
る。
【0038】
【発明の効果】本発明は以上の説明から明らかなよう
に、次の効果を得ることができる。請求項1の発明によ
れば、被加熱調理物の位置に応じてマイクロ波供給パタ
ーンを変更できて、被加熱調理物に対する加熱効率の向
上を図り得る。
【0039】請求項2の発明によれば、温度センサを利
用して被加熱調理物の位置を検出することができ、ま
た、その位置検出に基づいて被加熱調理物を無駄なく集
中的に加熱することができる。
【0040】請求項3の発明においても、温度センサを
利用して被加熱調理物の位置を検出することができ、ま
た、その位置検出に基づいて被加熱調理物を無駄なく集
中的に加熱することができる。
【0041】請求項4の発明によれば、被加熱調理物の
温度を非接触にて検出することができる。
【0042】請求項5の発明によれば、上部の口部ある
いは下部の口部の開口時間の調節によりマイクロ波供給
量の制御を行なうことができる。
【0043】請求項6の発明によれば、上部の口部ある
いは下部の口部の開度の調節によりマイクロ波供給量の
制御を行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示す制御内容のフロー
チャート
【図2】電気的構成のブロック図
【図3】全体の斜視図
【図4】加熱調理室部分の概略的構成を示す縦断正面図
【図5】重量センサ部分の縦断正面図
【図6】重量センサの出力周波数特性を示す図
【図7】口部およびマグネトロン部分の縦断正面図
【図8】開閉板開閉構造を示す斜視図
【図9】ポテンショメータの内部構成を示す縦断正面図
【図10】ポテンショメータの回路構成を示す図
【図11】ポテンショメータの出力特性を示す図
【図12】回転皿における加熱強度分布の一例を示す図
【図13】回転皿における加熱強度分布の別の例を示す
【図14】本発明の第2の実施例を示す制御内容のフロ
ーチャート
【図15】本発明の第3の実施例を示す電気的構成のブ
ロック図
【図16】図4相当図
【図17】制御内容のフローチャート
【図18】本発明の第4の実施例を示す制御内容のフロ
ーチャート
【符号の説明】
3は加熱調理室、8は回転皿、9は重量センサ、10は
ターンテーブル駆動用モータ、11は温度センサ、16
は導波管、17はマグネトロン、18,19は開口調節
手段、18a,19aは開閉板、20は上開閉板駆動用
モータ、22はポテンショメータ、24は下開閉板駆動
用モータ、26はポテンショメータ、27は制御装置
(マイクロ波供給制御手段、判定手段)、33は位置検
出手段、41は温度センサ、42は制御装置(マイクロ
波供給制御手段、判定手段)、43は位置検出手段を示
す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05B 6/70 F 9032−3K

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マグネトロンにより生成したマイクロ波
    を加熱調理室内に供給して被加熱調理物を加熱調理する
    ようにしたものにおいて、 マイクロ波を前記加熱調理室内に供給するための口部を
    前記加熱調理室側壁の上下部に設け、 前記上部の口部および下部の口部の開口度を調節する開
    口調節手段を設け、 前記加熱調理室内に配置される被加熱調理物の位置を検
    出する位置検出手段を設け、 この位置検出手段からの検出結果に基づいて前記開口調
    節手段を制御するマイクロ波供給制御手段を設けたこと
    を特徴とする電子レンジ。
  2. 【請求項2】 位置検出手段は、加熱調理室内における
    被加熱調理物載置領域のほぼ中央部の温度を検出する温
    度センサと、この温度センサによる検出温度の変化がほ
    とんどないときには被加熱調理物が被加熱調理物載置領
    域の端部側にあると判定し、前記変化があるときには被
    加熱調理物が被加熱調理物載置領域の少なくともほぼ中
    央部にあると判定する判定手段とから構成され、 マイクロ波供給制御手段は、被加熱調理物が被加熱調理
    物載置領域の端部側にあると判定されたときには下部の
    口部からのマイクロ波供給量が上部の口部からのマイク
    ロ波供給量より多くなるように開口調節手段を制御し、
    被加熱調理物が被加熱調理物載置領域の少なくともほぼ
    中央部にあると判定されたときには上部の口部および下
    部の口部の双方からマイクロ波を供給するように開口調
    節手段を制御するようになっていることを特徴とする請
    求項1記載の電子レンジ。
  3. 【請求項3】 位置検出手段は、加熱調理室内における
    被加熱調理物載置領域の端部側の温度を検出する温度セ
    ンサと、この温度センサによる検出温度の変化がほとん
    どないときには被加熱調理物が被加熱調理物載置領域の
    中央部にあると判定し、前記変化があるときには被加熱
    調理物が被加熱調理物載置領域の少なくとも端部側にあ
    ると判定するする判定手段とから構成され、 マイクロ波供給制御手段は、被加熱調理物が被加熱調理
    物載置領域のほぼ中央部にあると判定されたときには上
    部の口部からのマイクロ波供給量が下部の口部からのマ
    イクロ波供給量より多くなるように開口調節手段を制御
    し、被加熱調理物が被加熱調理物載置領域の少なくとも
    端部側にあると判定されたときには上部の口部および下
    部の口部の双方からマイクロ波を供給するように開口調
    節手段を制御するようになっていることを特徴とする請
    求項1記載の電子レンジ。
  4. 【請求項4】 温度センサは、赤外線温度センサから構
    成されていることを特徴とする請求項2または3に記載
    の電子レンジ。
  5. 【請求項5】 マイクロ波供給制御手段は、マイクロ波
    供給量の制御を、上部の口部あるいは下部の口部の開口
    時間の調節により行なうようにしたことを特徴とする請
    求項2または3に記載の電子レンジ。
  6. 【請求項6】 マイクロ波供給制御手段は、マイクロ波
    供給量の制御を、上部の口部あるいは下部の口部の有効
    開口面積の調節により行なうようにしたことを特徴とす
    る請求項2または3に記載の電子レンジ。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009238402A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Panasonic Corp マイクロ波処理装置

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