JPH07318075A - 加熱調理器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、ヒータの反射輻射熱の照射効率の
向上および加熱調理器の小形化を図り、マイクロ波のリ
ークや電界集中の発生も防止する。 【構成】 反射板２３を加熱調理室４の天井４ｂに固定
し、上ヒータ２５をこの反射板２３の下方に上下動可能
に設けている。これら上ヒータ２５および反射板２３を
加熱調理室４内から覆うように金属製の多孔板３２が固
定されている。さらに前記上ヒータ２５の上下位置を調
節するための上下位置調節手段３０を設けている。上記
反射板２３の反射面２３ａは凹状をなす。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、加熱調理室の天井部分
にヒータを備えた加熱調理器に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、加熱調理器たるオーブングリ
ルトースター付電子レンジにおいては、次の（ａ）〜
（ｃ）なる構成のものが知られている。

【０００３】（ａ）加熱調理器本体の加熱調理室天井に
上ヒータを固定すると共に、このヒータ上方に反射板を
固定し、また加熱調理室の底板部外面に下ヒータを固定
し、さらに加熱調理室の側板部外面（機械室内部）に
は、該加熱調理室内にマイクロ波を供給するマグネトロ
ンを固定した構成としている。

【０００４】上ヒータは、グリル調理およびオーブン調
理に使用されるものであるが、この上ヒータからの輻射
熱は加熱調理室内の被加熱調理物に直接照射されると共
に、該上ヒータ上方の反射板によって反射されて加熱調
理室内に照射されるようになっている。この場合、上ヒ
ータと反射板とは、あらゆる調理において被加熱調理物
に焼きむらが発生しないように、高さが最も高い被加熱
調理物に合わせて広い反射範囲が得られるような位置関
係に設定されている。

【０００５】しかしながら、これでは、ヒータ輻射熱の
反射範囲が画一的で反射範囲の調節ができないという不
具合がある。特には、低い被加熱調理物を加熱調理する
場合、反射板により反射された輻射熱の範囲が該被加熱
調理物に対して広すぎることになり、結局上ヒータの反
射輻射熱の照射効率が悪く、調理時間が長くなり、また
消費電力に無駄がある等の不都合がある。

【０００６】（ｂ）また、上述とは別の構成のもので
は、反射板を回動させる構成として、輻射熱の反射方向
を常に変化させて、その輻射熱が被加熱調理物にまんべ
んなく当たるようにしている。しかしながら、このもの
では、焼きむら防止のために反射板を常に回動させなけ
ればならず、使用電力の増加を来し、またマグネトロン
を動作させて電子レンジ調理を行なう場合に、マイクロ
波が反射板と加熱調理室天井との隙間からリークしたり
あるいは電界集中が発生したりするといった問題があっ
た。

【０００７】（ｃ）特公昭５９−１８６０９号公報に示
される構成のものは、図１６に示すように、加熱調理室
１の天井を反射板２により構成し、この反射板２と上ヒ
ータ３，３とを一体化し、この一体物４を同図に実線お
よび一点鎖線で示すように上下動させるようにしてい
る。しかしながらこのものでは、一体物４の上下ストロ
ークの割に反射範囲がさほど変化せず、従って、この上
下ストロークを長くとる必要があり、加熱調理室１の大
きさをある程度確保しようとすると加熱調理器全体が大
形化する不具合がある。また、反射板２と加熱調理室１
内面との接触部分からマイクロ波のリークや電界集中が
発生する虞もある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、
（ａ）なるものでは、ヒータ輻射熱の反射範囲が画一的
でその調節ができず、（ｂ）なるものでは、反射板を常
に回動させなければ被加熱調理物にまんべんなく反射輻
射熱が照射されないとともに、マイクロ波のリークや電
界集中が発生し、また（ｃ）なるものでは、加熱調理器
が大形化し、またマイクロ波のリークや電界集中が発生
する問題もある。

【０００９】本発明は上述の事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、被加熱調理物に対するヒータの反
射輻射熱の反射範囲を調節できて照射効率の向上に寄与
でき、マイクロ波のリークや電界集中の発生を防止で
き、さらに、加熱調理器の小形化を図ることができる加
熱調理器を提供するにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】第１の手段は、被加熱調
理物が収容される加熱調理室を有する本体と、前記加熱
調理室内にマイクロ波を供給するマグネトロンと、前記
加熱調理室の天井に固定された凹状の反射面を有する反
射部材と、この反射部材の下方に上下動可能に設けられ
たヒータと、このヒータの上下位置を調節するための上
下位置調節手段と、前記加熱調理室の天井に前記ヒータ
および反射部材を該加熱調理室内から覆うように設けら
れた金属製の多孔板とを含んで構成されている（請求項
１の発明）。

【００１１】第２の手段は、第１の手段において、加熱
調理室の側部に設けられ被加熱調理物の高さを検出する
高さ検出手段と、この高さ検出手段による検出結果に応
じてヒータの上下位置を調節すべく上下位置調節手段を
制御する位置制御手段とを設けたところに特徴を有する
（請求項２の発明）。

【００１２】第３の手段は、第１の手段において、加熱
調理室の側部に設けられ被加熱調理物の高さを検出する
高さ検出手段と、この高さ検出手段により検出された高
さが「高い」ほどヒータの入力を低くするように制御す
るヒータ入力制御手段とを設けたところに特徴を有する
（請求項３の発明）。

【００１３】第４の手段は、第１の手段において、被加
熱調理物の高さが高いほどヒータの輻射熱の反射範囲が
広くなるように上下位置調節手段を制御する位置制御手
段を設けたところに特徴を有する（請求項４の発明）。

【００１４】第５の手段は、第１の手段において、加熱
調理の途中においてヒータの上下位置を調節すべく上下
位置調節手段が制御されるようになっているところに特
徴を有する（請求項５の発明）。

【００１５】第６の手段は、第２の手段において、位置
制御手段が、加熱調理の途中において高さ検出手段によ
る検出結果に応じてヒータの上下位置を調節すべく上下
位置調節手段を制御するようになっているところに特徴
を有するものである（請求項６の発明）。

【００１６】第７の手段は、第１の手段において、反射
部材の反射面が放物面の凹状をなし、ヒータがこの反射
面の焦点の内側で上下動するようになっているところに
特徴を有するものである（請求項７の発明）。

【００１７】

【作用】第１の手段においては、反射部材を加熱調理室
の天井に固定し、ヒータをこの反射部材の下方に上下動
可能に設け、このヒータの上下位置を調節するための上
下位置調節手段を設けているから、ヒータの上下位置調
節により、反射部材の反射面に対するヒータ輻射熱の入
射角が変化し、反射範囲を良好に調節できる。しかも、
固定された反射部材に対してヒータの上下位置が変化さ
れることにより、ヒータの上下変位が僅かであっても反
射部材の反射面に対するヒータの輻射熱の入射角の変化
を大きくでき、よって反射範囲を大きく変化させること
ができる。従って、ヒータの上下ストロークが短いなが
らもヒータの輻射熱の反射範囲を大きくでき、もって加
熱調理器の大形化を来さずに、輻射熱の反射範囲を調節
することができる。しかも、前記加熱調理室の天井に前
記ヒータおよび反射部材を該加熱調理室内から覆うよう
に金属製の多孔板を設けているから、マグネトロンを駆
動するレンジ調理時において、ヒータおよび反射部材部
分からのマイクロ波のリークおよび電界集中発生を防止
できる。

【００１８】第２の手段においては、高さ検出手段によ
り被加熱調理物の高さを検出し、位置制御手段により、
ヒータの上下位置を調節すべく上下位置調節手段を制御
するようにしたから、被加熱調理物の高さに応じて自動
的にヒータの位置を制御できて、自動的にヒータ輻射熱
の反射範囲を調節できる。なお、被加熱調理物の高さと
は、被加熱調理物上端部の加熱調理室における高さをい
うものとする。

【００１９】第３の手段においては、高さ検出手段によ
り被加熱調理物の高さを検出し、ヒータ入力制御手段に
より、この高さ検出手段により検出された高さが「高
い」ほどヒータの入力を低くするように制御するから、
ヒータと被加熱調理物との離間距離が近いほどヒータの
加熱力を弱くすることができて、被加熱調理物に対する
加熱強度をほぼ一定化できる。

【００２０】第４の手段においては、被加熱調理物の高
さが高いほどヒータの輻射熱の反射範囲が広くなるよう
に上下位置調節手段を制御する位置制御手段を設けてい
るから、被加熱調理物の高さが高いほど反射範囲が広
く、また被加熱調理物の高さが低いほど反射範囲が狭く
なり、もって、反射範囲を被加熱調理物に対して過不足
無く調節することができて、反射輻射熱の照射効率を高
めることができる。

【００２１】第５の手段においては、加熱調理の途中に
おいてヒータの上下位置を調節すべく上下位置調節手段
が制御されるようになっているから、加熱調理の途中で
もヒータ輻射熱の反射範囲を調整できて良好な加熱制御
が図れる。

【００２２】第６の手段は、位置制御手段が、加熱調理
の途中において高さ検出手段による検出結果に応じてヒ
ータの上下位置を調節すべく上下位置調節手段を制御す
るようになっているから、加熱調理の途中でも自動的に
被加熱調理物の高さに応じてヒータ輻射熱の反射範囲を
調整できて良好な加熱制御が図れる。

【００２３】第７の手段においては、反射部材の反射面
が放物面の凹状をなし、ヒータがこの反射面の焦点の内
側で上下動するようになっているから、反射輻射熱の指
向性が良いと共に拡散密度も比較的均一であり、またヒ
ータの上下ストロークに対する反射範囲を広がり度合い
がさらに高くなり、ヒータの上下ストロークを小さくで
きて全体の小形化に一層寄与できる。

【００２４】

【実施例】以下、本発明の第１の実施例につき図１ない
し図１０を参照しながら説明する。まず図２ないし図４
において、本体１は、外箱２の内部に内箱３を配設して
構成されており、内箱３の内部は加熱調理室４とされて
いる。本体１の前面には、加熱調理室４を開閉する扉５
が設けられていると共に、その側方に操作パネル６が設
けられている。この操作パネル６にはオーブン調理選択
スイッチ、グリル調理選択スイッチ、トースター調理選
択スイッチ、レンジ調理選択スイッチ等のメニュー選択
スイッチや、時間設定スイッチといった各種スイッチ７
が設けられていると共に、スタートスイッチ８が設けら
れ、さらには、調理内容や調理時間等を表示する表示器
９が設けられている。

【００２５】また、加熱調理室４の底板部４ａには回転
皿１０が配設されており、この回転皿１０は、図４に示
すようにターンテーブルモータ１１により回転駆動され
るようになっている。さらに、加熱調理室４の両側板部
には天板受１２，１２が配設されていると共に、高さ検
出手段としての透過形の光センサ１３，１４，１５が設
けられている。この光センサ１３，１４，１５は、それ
ぞれ発光素子１３ａ，１４ａ，１５ａとこれらに対向す
る受光素子１３ｂ，１４ｂ，１５ｂとを有して構成され
ている。また、加熱調理室４の底板部４ａの外面には下
ヒータ１６が配設されている。

【００２６】一方、図３に示すように、操作パネル６の
裏側には外箱２と内箱３とで機械室１７が形成されてお
り、この機械室１７には、前記加熱調理室４内にマイク
ロ波を供給するマグネトロン１８が設けられていると共
に、マグネトロン１８を駆動するための高圧トランス１
９、マグネトロン１８等を冷却するための冷却ファン装
置２０が設けられている。冷却ファン装置２０は、冷却
ファンモータ２１およびファン２２を有して構成されて
いる。

【００２７】さて、前記加熱調理室４の天井４ｂには、
反射部材たる反射板２３が固定されている。すなわち、
天井４ｂにおいて、そのやや前部には左右方向の延びる
細長な開口部２４が形成されており、天井４ｂの外面
（上面）側からこの開口部２４を塞ぐようにして上記反
射板２３を固定している。この反射板２３は、その反射
面２３ａが凹状この場合多角形の凹状をなしている。

【００２８】この反射板２３の下方には、管状ヒータか
らなるヒータたる上ヒータ２５が上下動可能に設けられ
ている。すなわち、図５に示すように、上ヒータ２５の
両端部（一方のみ図示）は、反射板２３の両端板２３ｂ
（一方のみ図示）に形成された縦長な長孔２６に挿通さ
れて反射板２３外部に突出しており、この上ヒータ２５
の端部には、レバー２７が回転自在に設けられている。
このレバー２７の一端部は回転体２８の偏心部位にピン
２８ａを介して回転可能に連結されており、この回転体
２８は、本体１に図示しない取付具により取り付けられ
たステッピングモータ２９の出力軸に取着されている。
これらレバー２７、回転体２８およびステッピングモー
タ２９により上下位置調節手段３０が構成されている。
なお、前記長孔２６の縁部には上ヒータ２５端部保護の
ための保護部材３１が取着されている。

【００２９】さらに、前記天井４ｂの前記開口部２４に
は、これを塞ぐように金属製の多孔板３２が装着されて
おり、もって、前記上ヒータ２５および反射部材２３は
多孔板３２により加熱調理室４内から覆われている。こ
の多孔板３２の孔部３２ａの径の大きさは、マグネトロ
ン１８のマイクロ波の波長をλとしたときλ／４以下と
なるように設定されている。

【００３０】次に図７には、電気的構成を示しており、
同図において、制御回路３３は、マイクロコンピュータ
および各種Ａ／Ｄ変換器等を含んで構成されており、こ
れには、前記光センサ１３，１４，１５からの検出信
号、各種スイッチ７およびスタートスイッチ８からのス
イッチ信号が与えられるようになっている。そして、こ
の制御回路３３は、マイクロコンピュータに記憶された
プログラムに従い、前記各入力に応じて、マグネトロン
１８、ターンテーブルモータ１１、下ヒータ１６、冷却
ファンモータ２１、上ヒータ２５、ステッピングモータ
２９を駆動回路３４を介して制御すると共に、表示器９
を制御するようになっている。

【００３１】さらにこの制御回路３３は、位置制御手段
およびヒータ入力制御手段としても機能するようになっ
ており、その機能内容を上記構成の作用と共に説明す
る。図８には、制御回路３３の制御内容を示している。
同図のフローチャートは、いずれも図示しない電源プラ
グを電源コンセントに接続したときにスタートするよう
になっている。

【００３２】まず、ステップＳ１においては各種スイッ
チ７からスイッチ信号が与えられた否かを判断し、スイ
ッチ信号が与えられれば、ステップＳ２においてそのス
イッチ信号の内容に応じた設定を行なう。その後、ステ
ップＳ３においてスタートスイッチ８からスイッチ信号
が与えられたか否かを判断し、スタートスイッチ８から
スイッチ信号が与えられると、ステップＳ４に移行して
オーブン調理もしくはグリル調理あるいはトースター調
理が選択されたか否かを判断し、これらが選択されてい
ない場合（レンジ調理が選択された場合）には、ステッ
プＳ５に移行して、設定内容に応じてレンジ調理を実行
する。

【００３３】一方、オーブン調理もしくはグリル調理あ
るいはトースター調理が選択された場合には、ステップ
Ｓ６に移行し光センサ１３，１４，１５からの検出信号
（出力）を読み込んで、ステップＳ７において被加熱調
理物の高さを判断する。すなわち、図９に示すように、
回転皿１０に焼き網３５を介して食パンＡが載せられて
いるような場合には、光センサ１３のみから被加熱調理
物検出信号が与えられるから、これをもって被加熱調理
物の高さが低いと判断する。また、図１０に示すよう
に、天板受１２，１２に天板３６が配置され且つこの天
板３６にスポンジケーキ等の被加熱調理物Ｂが載せられ
ているような場合には、光センサ１４から被加熱調理物
検出信号が与えられるから、これをもって被加熱調理物
の高さが高いと判断する。

【００３４】しかして、被加熱調理物の高さが高いと判
断されると（ステップＳ７の「Ｙ」）、ステップＳ８に
移行し、図１０に示すように上ヒータ２５の位置がやや
上位置となるように上下位置調節手段３０のステッピン
グモータ２９を制御し、そして、ステップＳ９に移行
し、上ヒータ２５の入力が小となるように通電パターン
（例えば位相制御パターン）を設定する。また、被加熱
調理物の高さが低いと判断されると（ステップＳ７の
「Ｎ」）、ステップＳ１０に移行し、図９に示すように
上ヒータ２５の位置が下方位置となるように上下位置調
節手段３０のステッピングモータ２９を制御し、そし
て、ステップＳ１１に移行し、上ヒータ２５の入力が大
となるように通電パターンを設定する。

【００３５】上記ステップＳ９およびステップＳ１１の
後、ステップＳ１２に移行して上ヒータ２５を通電する
と共に調理内容によっては下ヒータ１６を通電する。す
なわち、オーブン調理やトースト調理では上ヒータ２５
に加え下ヒータ１６も通電し、グリル調理では上ヒータ
２５のみに通電する。しかして、上ヒータ２５の通電に
より、その輻射熱が多孔板３２の孔部３２ａを通過して
加熱調理室４内に照射されると共に、輻射熱の一部は反
射板２３の反射面２３ａにより反射され、多孔板３２の
孔部３２ａを通過して加熱調理室４内に照射される。こ
の反射輻射熱は、上ヒータ２５の反射板２３に対する位
置関係によりその反射範囲が異なる。上ヒータ２５の位
置が反射面２３ａに対して比較的低いと（図９に示すよ
うな場合）、反射範囲は比較的狭く、上ヒータ２５の位
置が上述の場合より高いと（図１０に示すような場
合）、反射範囲は広くなる。この結果、反射輻射熱は、
被加熱調理物に対して広くなり過ぎることもなければ狭
すぎることもない適正な範囲で照射される。

【００３６】上記ステップＳ１２の後、ステップＳ１３
に移行してこの加熱調理が終了か否かを判断する。この
判断は、例えば加熱調理が時間設定されている場合には
その設定時間が経過したか否かをもって判断するように
なっている。加熱調理が終了していない場合には、ステ
ップＳ１４に移行し、光センサ１３，１４，１５からの
検出信号を読み込んで、ステップＳ１５において被加熱
調理物の高さが高くなったか否かを判断する。すなわ
ち、ステップＳ６において例えば光センサ１３から被加
熱調理物検出信号が出力されていた場合に、このステッ
プＳ１４においてこの光センサ１３に加え一段高い位置
の光センサ１４からも被加熱調理物検出信号が出力され
たとき、あるいはステップＳ６において例えば光センサ
１４から被加熱調理物検出信号が出力されていた場合
に、このステップＳ１４においてこの光センサ１４に加
え一段高い位置の光センサ１５からも被加熱調理物検出
信号が出力されたときには、被加熱調理物の高さが高く
なっていると判断する。ちなみに、被加熱調理物がスポ
ンジケーキ等である場合には、加熱調理がすすむにつれ
てその容積が膨脹し、その上部が上ヒータ２５に近付く
ようになって焼き過ぎる虞があるが、本実施例ではその
ような不具合は発生しない。

【００３７】しかして、被加熱調理物の高さが高くなっ
ていると判断されると、ステップＳ１６に移行し、上ヒ
ータ２５の反射輻射熱の反射範囲が広がるように、すな
わち上ヒータ２５を現位置より若干上方位置へ移動する
ようにステッピングモータ２９を制御する。上記ステッ
プＳ１３において加熱調理が終了条件を満たすと判断さ
れると上ヒータ２５を断電し（下ヒータ１６が通電され
ていた場合はこれも断電し）、加熱調理を終了する。

【００３８】このような本実施例によれば、反射板２３
を加熱調理室４の天井４ｂに固定し、上ヒータ２５をこ
の反射板２３の下方に上下動可能に設け、この上ヒータ
２５の上下位置を調節するための上下位置調節手段３０
を設けているから、上ヒータ２５の上下位置調節により
反射板２３の反射面２３ａに対する上ヒータ２５の輻射
熱の入射角が変化し、反射範囲を良好に調節できる。し
かも、固定された反射板２３に対して上ヒータ２５の上
下位置が変化されることにより、上ヒータ２５の上下変
位が僅かであっても反射板２３の反射面２３ａに対する
上ヒータ２５の輻射熱の入射角の変化を大きくでき、反
射範囲を大きく変化させることができる。従って、上ヒ
ータ２５の上下ストロークが短いながらも上ヒータ２５
の輻射熱の反射範囲を大きくでき、もって加熱調理器を
大形化することなく、輻射熱の反射範囲を調節すること
ができる。

【００３９】しかも本実施例によれば、前記加熱調理室
４の天井４ｂに上ヒータ２５および反射板２３を該加熱
調理室４内から覆うようにマイクロ波の通過を防止する
孔部３２ａを備えた金属製の多孔板３２を設けているか
ら、マグネトロン１８を駆動するレンジ調理時におい
て、上ヒータ２５が上下移動するがために必要な間隙
（上ヒータ２５と保護部材３１との間の空間）や反射板
２３部分からのマイクロ波のリークおよび電界集中発生
を防止できる。

【００４０】また本実施例によれば、高さ検出手段であ
る光センサ１３，１４，１５により被加熱調理物の高さ
を検出し、位置制御手段である制御回路３３により、上
ヒータ２５の上下位置を調節すべく上下位置調節手段３
０のステッピングモータ２９を制御するようにしたか
ら、被加熱調理物の高さに応じて自動的に上ヒータ２５
の位置を制御できて、自動的に輻射熱の反射範囲を調節
できる。

【００４１】さらに本実施例によれば、光センサ１３，
１４，１５により被加熱調理物の高さを検出し、ヒータ
入力制御手段である制御回路３３により、この光センサ
１３，１４，１５により検出された高さが「高い」ほど
上ヒータ２５の入力を低くするように制御するから、上
ヒータ２５と被加熱調理物との離間距離が近いほどヒー
タの加熱力を弱くすることができて、被加熱調理物に対
する加熱強度をほぼ一定化でき、調理仕上りを一定化で
きる。

【００４２】さらにまた本実施例によれば、被加熱調理
物の高さが高いほど上ヒータ２５の輻射熱の反射範囲が
広くなるように上下位置調節手段３０を制御するから、
被加熱調理物の高さが高いほど反射範囲が広く、また被
加熱調理物の高さが低いほど反射範囲が狭くなり、もっ
て、反射範囲を被加熱調理物に対して過不足無く調節す
ることができて、反射輻射熱の照射効率を高めることが
できる。

【００４３】しかも、本実施例によれば、加熱調理の途
中において上ヒータ２５の上下位置を調節すべく上下位
置調節手段３０が制御されるようになっているから、加
熱調理の途中でも上ヒータ２５の輻射熱の反射範囲を調
整できて良好な加熱制御を図ることができ、特に、加熱
調理の途中において光センサ１３，１４，１５による被
加熱調理物の高さ検出結果に応じて上ヒータ２５の上下
位置の調節を行なうから、加熱調理の途中での上ヒータ
２５の輻射熱の反射範囲の調整を自動的にでき、被加熱
調理物が加熱途中で膨らむものである場合に、その焼き
過ぎを自動的に防止することができる。

【００４４】次に、図１１ないし図１４には、本発明の
第２の実施例を示している。この第２の実施例において
は、高さ検出手段は備えておらず、各種スイッチ４１の
メニュー選択スイッチには、スポンジケーキ選択スイッ
チ、オーブン調理選択スイッチ、クッキー選択スイッ
チ、グリル調理選択スイッチ、トースター調理選択スイ
ッチ、レンジ調理選択スイッチ等が含まれている。

【００４５】制御回路４２は、上記各スイッチが操作さ
れると、そのスイッチに応じて上ヒータ２５の高さを調
節すべくステッピングモータ２９を制御するようになっ
ている。すなわち、メニューによって被加熱調理物の高
さはある程度判っており、従って、高さ情報を各スイッ
チのメニュー内容から予め得ることが可能である。図１
２には、制御回路４２の制御内容を示している。

【００４６】ステップＷ１からステップＷ３までは、第
１の実施例における図８のステップＳ１からステップＳ
３までと同じである。ステップＷ４においては、各種ス
イッチ４１のうち、クッキー選択スイッチまたはトース
ター調理選択スイッチが操作されたか否かを判断し、操
作されていれば（すなわち被加熱調理物の高さが低いと
きには）、ステップＷ５に移行し上ヒータ２５の位置が
を図１３に示すように下方位置となるように上下位置調
節手段３０のステッピングモータ２９を制御し、その
後、ステップＷ６に移行しスイッチによって選択された
調理内容に応じて上ヒータ２５のみあるいは上ヒータ２
５および下ヒータ１５を通電制御する。

【００４７】また、操作されたスイッチがスポンジケー
キ選択スイッチまたはグリル調理選択スイッチであると
きには（すなわち被加熱調理物の高さが高いときに
は）、ステップＷ７においてこれが判断され
（「Ｙ」）、ステップＷ８に移行し、上ヒータ２５の位
置が図１４に示すごとくやや上位置となるように上下位
置調節手段３０のステッピングモータ２９を制御する。
この後、ステップＷ９に移行しスイッチによって選択さ
れた調理内容に応じて上ヒータ２５のみあるいは上ヒー
タ２５および下ヒータ１５を制御する。

【００４８】なお、操作されたスイッチがレンジ調理選
択スイッチであるときには（ステップＷ７の「Ｎ」）、
ステップＷ１０に移行して設定内容に応じて加熱調理
（レンジ調理）を実行する。また、上記ステップＷ６，
Ｗ９，Ｗ１０の後は、ステップＷ１１，Ｗ１２に示すよ
うに、当該調理が終了条件を満たしたときに、ヒータを
断電して調理を終了する。

【００４９】この第２の実施例によれば、メニューによ
って被加熱調理物の高さが予め予測されることに着目し
て、メニュー選択スイッチによる選択内容に応じて上ヒ
ータ２５の位置を調節するから、被加熱調理物の高さに
応じた上ヒータ２５の反射範囲を得ることができる。

【００５０】図１５は本発明の第３の実施例を示してお
り、この実施例においては、反射部材たる反射板５１の
反射面５１ａが放物面の凹状に形成されている。そし
て、ヒータたる上ヒータ５２は、この反射面５１ａの焦
点Ｐの内側（符号ｒで示す領域）において上下動する構
成としている。この実施例においては、上ヒータ２５が
焦点Ｐにある時には反射輻射熱は平行線となり、またこ
の焦点Ｐから上側へ変位すると反射輻射熱は拡散する
が、その拡散密度は比較的均一となる。なお、上ヒータ
２５を焦点Ｐの外側（符号ｒ´で示す領域）にて移動さ
せると、輻射熱の反射範囲がさほど変化せず、上述した
ように反射面５１ａの焦点Ｐの内側において上下動する
構成とすることで、輻射熱の反射範囲が良好に変化す
る。

【００５１】このように第３の実施例によれば、反射板
５１の反射面５１ａが放物面の凹状をなし、上ヒータ２
５がこの反射面５１ａの焦点Ｐの内側で上下動するよう
になっているから、反射輻射熱の指向性が良いと共に拡
散密度も比較的均一であり、また上ヒータ２５の上下ス
トロークに対する反射範囲を広がり度合いがさらに高く
なり、上ヒータ２５の上下ストロークを小さくできて全
体の小形化に一層寄与できる。

【００５２】なお、高さ検出手段としては光センサでな
くとも超音波センサ等でも良い。また、上下位置調節手
段の駆動源としてはステッピングモータでなくモータで
も良い。さらに、上下位置調節手段は、駆動源は備えず
に手動により動作できる構成でも所期の目的は達成でき
るものである。また、本発明に関わるヒータである上ヒ
ータの個数は２本でも良く、この場合それら上ヒータは
前後に離して設け、各上ヒータに対して夫々反射部材お
よび上下位置調節手段を設ける構成とすれば良い。又、
反射板の形状は楕円でも良いし、ヒータの上下動に応じ
て反射範囲が変化する形状のものならば適宜設計的に変
更しても良い。

【００５３】

【発明の効果】本発明は以上の説明から明らかなよう
に、次の効果を得ることができる。請求項１の発明によ
れば、反射部材を加熱調理室の天井に固定し、ヒータを
この反射部材の下方に上下動可能に設け、このヒータの
上下位置を調節するための上下位置調節手段を設けてい
るから、反射範囲を良好に調節できる。しかも、固定さ
れた反射部材に対してヒータの上下位置が変化されるこ
とにより、ヒータの上下変位が僅かであっても反射部材
の反射面に対するヒータの輻射熱の入射角の変化を大き
くでき、よって、反射範囲を大きく変化させることがで
きる。従って、ヒータの上下ストロークが短いながらも
ヒータの輻射熱の反射範囲を大きくでき、もって加熱調
理器の大形化を来さずに、輻射熱の反射範囲を調節する
ことができる。しかも、加熱調理室の天井に前記ヒータ
および反射部材を該加熱調理室内から覆うように金属製
の多孔板を設けているから、マグネトロンを駆動するレ
ンジ調理時において、ヒータが上下動するために必要な
間隙や反射部材部分からのマイクロ波のリークおよび電
界集中発生を防止できる。

【００５４】請求項２の発明によれば、高さ検出手段に
より被加熱調理物の高さを検出し、位置制御手段によ
り、ヒータの上下位置を調節すべく上下位置調節手段を
制御するようにしたから、被加熱調理物の高さに応じて
自動的にヒータの位置を制御できて、自動的にヒータ輻
射熱の反射範囲を調節できる。

【００５５】請求項３の発明によれば、高さ検出手段に
より被加熱調理物の高さを検出し、ヒータ入力制御手段
により、この高さ検出手段により検出された高さが「高
い」ほどヒータの入力を低くするように制御するから、
ヒータと被加熱調理物との離間距離が近いほどヒータの
加熱力を弱くすることができて、被加熱調理物に対する
加熱強度をほぼ一定化できる。

【００５６】請求項４の発明によれば、被加熱調理物の
高さが高いほどヒータの輻射熱の反射範囲が広くなるよ
うに上下位置調節手段を制御する位置制御手段を設けて
いるから、被加熱調理物の高さが高いほど反射範囲が広
く、また被加熱調理物の高さが低いほど反射範囲が狭く
なり、もって、反射範囲を被加熱調理物に対して過不足
無く調節することができて、反射輻射熱の照射効率を高
めることができる。

【００５７】請求項５の発明によれば、加熱調理の途中
においてヒータの上下位置を調節すべく上下位置調節手
段が制御されるようになっているから、加熱調理の途中
でもヒータ輻射熱の反射範囲を調整できて良好な加熱制
御を図ることができる。特に、加熱調理がすすむにつれ
て膨らむような被加熱調理物の場合に加熱調理途中でヒ
ータの輻射熱の反射範囲を変更できて該被加熱調理物を
良好に加熱できるようになる。

【００５８】請求項６の発明によれば、位置制御手段
が、加熱調理の途中において高さ検出手段による検出結
果に応じてヒータの上下位置を調節すべく上下位置調節
手段を制御するようになっているから、加熱調理の途中
でも自動的に被加熱調理物の高さに応じてヒータ輻射熱
の反射範囲を調整できて良好な加熱制御を図ることがで
き、特に、加熱調理がすすむにつれて膨らむような被加
熱調理物の場合に加熱調理途中でヒータの輻射熱の反射
範囲を自動的に変更できて、該被加熱調理物を良好に自
動調理できるようになる。

【００５９】請求項７の発明によれば、反射部材の反射
面が放物面の凹状をなし、ヒータがこの反射面の焦点の
内側で上下動するようになっているから、反射輻射熱の
指向性が良いと共に拡散密度も比較的均一であり、また
ヒータの上下ストロークに対する反射範囲を広がり度合
いがさらに高くなり、ヒータの上下ストロークを小さく
できて全体の小形化に一層寄与できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例を示す要部の縦断側面図

【図２】全体の斜視図

【図３】機械室部分の破断側面図

【図４】加熱調理室部分の縦断側面図

【図５】上下位置調節手段部分の縦断正面図

【図６】図５の矢視Ｙ方向から見た図

【図７】電気的構成のブロック図

【図８】制御内容のフローチャート

【図９】調理形態の一例を示す概略的正面図

【図１０】調理形態の別の例を示す概略的正面図

【図１１】本発明の第２の実施例を示す電気的構成のブ
ロック図

【図１２】制御内容のフローチャート

【図１３】調理形態の一例を示す概略的正面図

【図１４】調理形態の別の例を示す概略的正面図

【図１５】本発明の第３の実施例を示す反射板部分の側
面図

【図１６】従来例を示す縦断側面図

【符号の説明】

１は本体、４は加熱調理室、４ａは天井、１０は回転
皿、１３，１４，１５は光センサ（高さ検出手段）、１
６は下ヒータ、１７は機械室、１８はマグネトロン、２
３は反射板（反射板）、２３ａは反射面、２５は上ヒー
タ（ヒータ）、２７はレバー、２８は回転体、２９はス
テップモータ、３０は上下位置調節手段、３２は多孔
板、３３は制御回路（位置制御手段、ヒータ入力制御手
段）、３５は焼き網、３６は天板、４２は制御回路、５
１は反射板（反射部材）、５１ａは反射面、５２は上ヒ
ータを示す。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被加熱調理物が収容される加熱調理室を
   有する本体と、前記加熱調理室内にマイクロ波を供給す
   るマグネトロンと、前記加熱調理室の天井に固定された
   凹状の反射面を有する反射部材と、この反射部材の下方
   に上下動可能に設けられたヒータと、このヒータの上下
   位置を調節するための上下位置調節手段と、前記加熱調
   理室の天井に前記ヒータおよび反射部材を該加熱調理室
   内から覆うように設けられた金属製の多孔板とを備えて
   なる加熱調理器。
2. 【請求項２】 加熱調理室の側部に設けられ被加熱調理
   物の高さを検出する高さ検出手段と、この高さ検出手段
   による検出結果に応じてヒータの上下位置を調節すべく
   上下位置調節手段を制御する位置制御手段とを設けたこ
   とを特徴とする請求項１記載の加熱調理器。
3. 【請求項３】 加熱調理室の側部に設けられ被加熱調理
   物の高さを検出する高さ検出手段と、この高さ検出手段
   により検出された高さが「高い」ほどヒータの入力を低
   くするように制御するヒータ入力制御手段とを設けたこ
   とを特徴とする請求項１記載の加熱調理器。
4. 【請求項４】 被加熱調理物の高さが高いほどヒータの
   輻射熱の反射範囲が広くなるように上下位置調節手段を
   制御する位置制御手段を設けたことを特徴とする請求項
   １記載の加熱調理器。
5. 【請求項５】 加熱調理の途中においてヒータの上下位
   置を調節すべく上下位置調節手段が制御されるようにな
   っていることを特徴とする請求項１記載の加熱調理器。
6. 【請求項６】 位置制御手段は、加熱調理の途中におい
   て高さ検出手段による検出結果に応じてヒータの上下位
   置を調節すべく上下位置調節手段を制御するようになっ
   ていることを特徴とする請求項２記載の加熱調理器。
7. 【請求項７】 反射部材の反射面は放物面の凹状をな
   し、ヒータはこの反射面の焦点の内側で上下動するよう
   になっていることを特徴とする請求項１記載の加熱調理
   器。