JPH116624A - 電子レンジ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 調理物を効率的に加熱すること。 【解決手段】 調理室１４の側板にはヒータケース２４
が回動可能に装着されており、ヒータケース２４内には
赤外線ヒータ２６が収納されている。そして、ヒータケ
ース２４の両面にはマイクロ波の進入を遮断する複数の
投射孔２４ｂ，２４ｃが形成されており、ヒータケース
２４が水平に回動すると、赤外線ヒータ２６が調理物に
接近し、複数の投射孔２４ｂ，２４ｃを通して赤外線が
投射される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ヒータ調理機能を
有する電子レンジに関する。

【０００２】

【発明が解決しようとする課題】電子レンジには、図７
に示すように、調理室１内の上部に赤外線ヒータからな
る固定ヒータ２を配設すると共に、調理室１の下方に面
状ヒータからなる固定ヒータ３を配設し、棚板４，４上
の調理物５，５を固定ヒータ２からの輻射熱および固定
ヒータ３からの対流熱により加熱する構成のものがあ
る。

【０００３】しかしながら、この構成の場合、固定ヒー
タ２および３から調理物５までの距離が遠く、調理物５
の昇温に時間がかかるため、調理物５の表面に焦げ目が
付き難く、加熱効率の点で改善の余地が残されていた。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目
的は、調理物を効率的に加熱できる加熱調理器を提供す
ることである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の電子レン
ジは、調理室内に収納された調理物を加熱するための固
定ヒータと、前記調理室の側部に回動可能に設けられた
ヒータケースと、このヒータケース内に収納された赤外
線ヒータとを備え、前記ヒータケース内へのマイクロ波
の進入を遮断し且つ前記赤外線ヒータからの赤外線を前
記調理室内へ投射する複数の投射孔が前記ヒータケース
に設けられているところに特徴を有している。

【０００５】上記手段によれば、ヒータケースの回動に
伴いヒータケース内の赤外線ヒータを調理物に接近させ
ることができるので、調理物が効率良く加熱される上、
調理物の表面に焦げ目が付き易くなる。しかも、調理物
を赤外線ヒータ，固定ヒータの双方により加熱できるの
で、調理物を固定ヒータのみで加熱する場合に比べ、調
理物の加熱状態が均一化される。さらに、マイクロ波が
複数の投射孔を通してヒータケース内に進入することが
防止されるので、マイクロ波が赤外線ヒータを通して外
部に漏れることが防止される。

【０００６】請求項２記載の電子レンジは、棚板が載置
される棚板支えが調理室の側壁に上下２段に設けられ、
ヒータケースが上段の棚板支えと下段の棚板支えとの間
に配置されているところに特徴を有している。上記手段
によれば、ヒータケースが一方の棚板に接近するように
回動すると、他方の棚板にも接近するので、調理室内に
棚板を上下２段にセットする場合でも、両棚板上の調理
物が効率的に加熱される。

【０００７】請求項３記載の電子レンジは、ヒータケー
スが略水平になったときに上下方向へ指向する両面に複
数の投射孔が各々設けられ、上方へ指向する一面に設け
られた投射孔の開孔面積と下方へ指向する一面に設けら
れた投射孔の開孔面積とが相違しているところに特徴を
有している。上記手段によれば、ヒータケースが略水平
に回動した状態において、ヒータケースの上面に位置す
る複数の投射孔の開孔面積と下面に位置する複数の投射
孔の開孔面積とが相違しているので、ヒータケースから
調理室内の上下部へ異なる量の赤外線を投射できる。

【０００８】請求項４記載の電子レンジは、ヒータケー
スが略水平になったときに上下方向へ指向する両面に複
数の投射孔が各々設けられ、上方へ指向する一面に設け
られた投射孔の開孔面積が下方へ指向する一面に設けら
れた投射孔の開孔面積より大きいところに特徴を有して
いる。上記手段によれば、棚板が上下２段にセットされ
ている場合には、ヒータケースの上面から上段の棚板に
多量の赤外線が照射され、ヒータケースの下面から下段
の棚板の上面に少量の赤外線が照射される。このため、
下段の棚板上の調理物については、焦げのみの進行が和
らげられ、内部まで十分に加熱される。また、上段の棚
板上の調理物については、棚板を通過する際の熱損失が
補填され、十分に加熱されるので、両棚板上の調理物の
加熱状態が同時に向上する。

【０００９】請求項５記載の電子レンジは、ヒータケー
スが略水平になったときに上下方向へ指向する両面に複
数の投射孔が各々設けられ、下方へ指向する一面に設け
られた投射孔の開孔面積が上方へ指向する一面に設けら
れた投射孔の開孔面積より大きいところに特徴を有して
いる。上記手段によれば、ヒータケースの上面から少量
の赤外線が照射され、下面から多量の赤外線が照射され
る。このため、ヒータケースの下方にパンをセットして
トースタ調理を行うにあたって、パンの表面に素早く焦
げ目が付くようになるので、水分が飛ぶことなく、ふっ
くらとした焼き上がりになる。

【００１０】請求項６記載の電子レンジは、ヒータケー
スの内面のうち開孔面積の小さい複数の投射孔側が開孔
面積の大きい複数の投射孔側より光沢状にされていると
ころに特徴を有している。上記手段によれば、赤外線ヒ
ータからの赤外線の一部がヒータケースの内面で反射さ
れ、開孔面積が大きな複数の投射孔側へ向うので、開孔
面積が大きな複数の投射孔から投射される赤外線量が増
大する。

【００１１】請求項７記載の電子レンジは、棚板が載置
される棚板支えが調理室の側壁に設けられ、ヒータケー
スが調理室の側壁に略沿った状態になったときに棚板支
えの先端部と略面一あるいは棚板支えの先端部より側壁
方向へ引込むところに特徴を有している。上記手段によ
れば、ヒータケースが調理室の側壁に略沿った状態にな
ると、棚板支えの先端部と略面一あるいは棚板支えの先
端部より側壁方向へ引込む。このため、特にレンジ調理
を行うにあたって、ヒータケースに邪魔されることな
く、調理室内を有効に利用することができる。

【００１２】請求項８記載の電子レンジは、ヒータケー
スが調理室の側壁に略沿った状態になったときに調理室
の側壁方向および調理室方向へ指向する両面に複数の投
射孔が各々設けられ、調理室方向へ指向する一面に設け
られた投射孔の開孔面積が調理室の側壁方向へ指向する
一面に設けられた投射孔の開孔面積より小さいところに
特徴を有している。

【００１３】上記手段によれば、ヒータケースが調理室
の側壁に略沿った状態になると、開孔面積が小さな複数
の投射孔が調理室に面し、開孔面積が大きな複数の投射
孔が調理室の側壁に面する。このため、開孔面積が大き
な複数の投射孔を通してヒータケース内に汚れ等が進入
することが防止される上、開孔面積が大きな複数の投射
孔を通してヒータケース内にマイクロ波が進入すること
が確実に防止される。

【００１４】請求項９記載の電子レンジは、ヒータケー
スが調理室の側壁に略沿った状態における上端部を中心
に回動可能にされているところに特徴を有している。上
記手段によれば、例えばヒータケースをモータ等で駆動
するにあたって、モータが故障した場合でも、ヒータケ
ースが自重で回動し、調理室の側壁に沿って垂下するの
で、ヒータケースが調理室内に突出しままの状態になる
ことが防止される。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の第１実施例を図１
ないし図５に基づいて説明する。まず、図４において、
電子レンジ本体１１は、外箱１２の内部に内箱１３を配
設してなるものであり、内箱１３の内部は調理室１４と
して機能する。また、外箱１２には扉１５が回動可能に
装着されており、調理室１４の前面開口部は、扉１５の
回動に伴い開閉される。

【００１６】電子レンジ本体１１の底部には、図１に示
すように、ＲＴモータ１６が配設されており、ＲＴモー
タ１６の回転軸１６ａは、調理室１４内の底部に突出し
ている。そして、回転軸１６ａには、レンジ調理時に調
理物を載置するための回転皿１７が連結されており、こ
の回転皿１７は、ＲＴモータ１６の作動に伴い回転す
る。

【００１７】外箱１２と内箱１３との間には、右側部に
位置して機械室１８が形成されており、この機械室１８
内には、マグネトロン１９および導波管２０が配設され
ている。そして、調理室１４の右側板には励振口（図示
せず）が設けられており、マグネトロン１９が作動する
と、導波管２０から励振口を通して調理室１４内にマイ
クロ波が照射される。

【００１８】調理室１４の左右側板には、図４に示すよ
うに、突状の上部棚板支え１３ａ，１３ａおよび下部棚
板支え１３ｂ，１３ｂが上下２段に一体形成されてい
る。これら両上部棚板支え１３ａおよび両下部棚板支え
１３ｂは、図１に示すように、ヒータ調理時に棚板２１
および２１を載置するためのものであり、各棚板２１上
には調理物が載置される。

【００１９】調理室１４内の天井部には、固定ヒータに
相当する上ヒータ２２が配設されている。この上ヒータ
２２は、矩形枠状の赤外線ヒータ（石英管ヒータ）から
なるものであり、上ヒータ２２が発熱すると、調理室１
４内に輻射熱が投射される。また、調理室１４の下方に
は、固定ヒータに相当する下ヒータ２３が配設されてい
る。この下ヒータ２３は、面状ヒータからなるものであ
り、下ヒータ２３が発熱すると、調理室１４内に対流熱
が供給される。

【００２０】調理室１４の左右側板には、図４に示すよ
うに、上部棚板支え１３ａと下部棚板支え１３ｂとの間
に位置して凹部１３ｃが形成されている。これら各凹部
１３ｃの前後面には孔１３ｄが形成されており（後面の
孔１３ｄのみ図示する）、各孔１３ｄ内には、図２に示
すように、ステンレスからなるヒータケース２４の回転
筒２４ａが回動可能に挿入されている。

【００２１】電子レンジ本体１１内には、各ヒータケー
ス２４の後方に位置してヒータモータ２５が配設されて
おり、これら各ヒータモータ２５の回転軸にはヒータケ
ース２４の後方の回転筒２４ａが連結されている。そし
て、初期状態では、図１に実線で示すように、各ヒータ
ケース２４が凹部１３ｃ内に収納された垂直状態にな
り、右側に位置するヒータケース２４の左側面が上部棚
支え１３ａおよび下部棚支え１３ｂの先端部と面一にな
り、左側に位置するヒータケース２４の右側面が上部棚
支え１３ａおよび下部棚支え１３ｂの先端部と面一にな
っている。この状態で各ヒータモータ２５が作動する
と、各ヒータケース２４が両回転筒２４ａを中心に矢印
Ａ方向へ回動し、図１に二点鎖線で示すように、水平状
態になる。

【００２２】各ヒータケース２４の対向する両面には、
図３に示すように、パンチング孔からなる複数の投射孔
２４ｂおよび２４ｃが形成されている。これら各投射孔
２４ｂの直径寸法および各投射孔２４ｃの直径寸法は、
マイクロ波の通過を防止する６ｍｍおよび３ｍｍに設定
されており、図１に示すように、各ヒータケース２４が
垂直になった初期状態では、径大な複数の投射孔２４ｂ
が調理室１４に面し、径小な複数の投射孔２４ｃが調理
室１４の側板に面する。また、各ヒータケース２４が水
平になった状態では、径大な複数の投射孔２４ｂが上段
の棚板２１の下面に近接状態で面し、径小な複数の投射
孔２４ｃが下段の棚板２１の上面に面する。

【００２３】各ヒータケース２４内には、図３に示すよ
うに、直状の赤外線ヒータ２６が配設されている。これ
ら各赤外線ヒータ２６は石英管ヒータからなるものであ
り、各赤外線ヒータ２６が発熱すると、複数の投射孔２
４ｂおよび２４ｃを通して調理室１４内に赤外線が投射
される。

【００２４】各ヒータケース２４の複数の投射孔２４ｂ
の個数と複数の投射孔２４ｃの個数とは略同一に設定さ
れ、複数の投射孔２４ｂの開孔面積は複数の投射孔２４
ｃの開孔面積より大きく設定されている。従って、各ヒ
ータケース２４の複数の投射孔２４ｂからは多量の赤外
線が投射され、各ヒータケース２４の複数の投射孔２４
ｃからは少量の赤外線が投射される。

【００２５】各ヒータケース２４の内面のうち開孔面積
が小さな複数の投射孔２４ｃを有する一面は、反対面よ
り光沢状をなす鏡面状にされている。しかも、複数の投
射孔２４ｃを有する一面は湾曲しており、各赤外線ヒー
タ２６から出射された赤外線の一部は、ヒータケース２
４の内面のうち複数の投射孔２４ｃを有する一面で反射
され、反対面へ向う。従って、各ヒータケース２４の複
数の投射孔２４ｂからは一層多量の赤外線が投射され、
各ヒータケース２４の複数の投射孔２４ｃからは一層少
量の赤外線が投射される。

【００２６】左側の上部棚支え１３ａの下面および下部
棚支え１３ｂの下面には、図１に示すように、上棚板検
出スイッチ２７および下棚板検出スイッチ２８が装着さ
れている。これら上棚板検出スイッチ２７のプランジャ
および下棚板検出スイッチ２８のプランジャは、上部棚
支え１３ａおよび下部棚支え１３ｂの上方に突出してお
り、両上部棚支え１３ａおよび両下部棚支え１３ｂに棚
板２１および２１をセットすると、上棚板検出スイッチ
２７のプランジャおよび下棚板検出スイッチ２８のプラ
ンジャが上段の棚板２１および下段の棚板２１により押
圧され、上棚板検出スイッチ２７および下棚板検出スイ
ッチ２８がオンされる。

【００２７】電子レンジ本体１１には、図４に示すよう
に、機械室１８の前方に位置して操作パネル２９が配設
されており、この操作パネル２９には、調理モードキー
２９ａ，スタートキー２９ｂ，表示器２９ｃが装着され
ている。また、機械室１８内には、図５に示すように、
制御装置３０が配設されている。この制御装置３０は、
マイクロコンピュータを主体に構成されたものであり、
上棚板検出スイッチ２７，下棚板検出スイッチ２８，調
理モードキー２９ａ，スタートキー２９ｂからの出力信
号に基づいてＲＴモータ１６，マグネトロン１９，上ヒ
ータ２２，下ヒータ２３，両ヒータモータ２５，両赤外
線ヒータ２６，表示器２９ｃを駆動制御する。 尚、各
赤外線ヒータ２６の両電源コード２６ａは、図３に示す
ように、両回転筒２４ａの内周部を通してヒータケース
２４の外部に導出された後、機械室１８内に引込まれ、
制御装置３０に接続されている。

【００２８】次に上記構成の作用について説明する。調
理モードキー２９ａを操作して「レンジ調理」を選択し
た後、スタートキー２９ｂを操作すると、制御装置３０
は、ＲＴモータ１６およびマグネトロン１９に電源を供
給し、回転皿１７を回転させながら調理室１４内にマイ
クロ波を照射する。この状態で設定時間に達すると、Ｒ
Ｔモータ１６およびマグネトロン１９を断電し、「レン
ジ調理」を終了する。

【００２９】調理モード選択キー２９ａを操作して「ヒ
ータ調理」を選択した後、スタートキー２９ｂを操作す
ると、制御装置３０は、上棚板検出スイッチ２７および
下棚板検出スイッチ２８からの出力信号に基づいて棚板
２１のセット状態を検出する。そして、下記のように、
棚板２１のセット状態に基づいて上ヒータ２２，下ヒー
タ２３，両ヒータモータ２５，両赤外線ヒータ２６を駆
動制御する。

【００３０】＜上下２段に棚板２１をセットしてヒータ
調理を行う場合＞制御装置３０は、上棚板検出スイッチ
２７および下棚板検出スイッチ２８からオン信号が出力
されていることに基づいて棚板２１が上下２段にセット
されていることを検出し、両ヒータモータ２５に電源を
供給する。そして、両ヒータケース２４を垂直な初期状
態から水平状態に回動させた後、上ヒータ２２，下ヒー
タ２３，両赤外線ヒータ２６に電源を供給し、上ヒータ
２２，下ヒータ２３，両赤外線ヒータ２６を発熱させ
る。

【００３１】すると、上段の棚板２１上の調理物には、
上ヒータ２２から赤外線が直接投射される。これと共
に、両ヒータケース２４の複数の投射孔２４ｂから上段
の棚板２１の下面に赤外線が投射され、上段の棚板２１
を通して上段の棚板２１上の調理物が加熱される。ま
た、下段の棚板２１上の調理物には、両ヒータケース２
４の複数の投射孔２４ｃから赤外線が直接投射される。
これと共に、下ヒータ２３から下段の棚板２１の下面に
対流熱が与えられ、下段の棚板２１を通して下段の棚板
２１上の調理物が加熱される。

【００３２】この状態で設定時間に達すると、制御装置
３０は、上ヒータ２２，下ヒータ２３，両赤外線ヒータ
２６を断電し、ヒータ調理を終了する。これと共に、両
ヒータモータ２５に電源を供給し、両ヒータケース２４
を反矢印Ａ方向へ回動させることに伴い、凹部１３ｃ内
に収納された垂直な初期状態に復帰させる。

【００３３】＜上段のみに棚板２１をセットしてヒータ
調理（グリル調理）を行う場合＞制御装置３０は、上棚
板検出スイッチ２７のみからオン信号が出力されている
ことに基づいて棚板２１が上段のみにセットされている
ことを検出し、両ヒータモータ２５に電源を供給する。
そして、両ヒータケース２４を垂直な初期状態から水平
状態に回動させた後、上ヒータ２２，両赤外線ヒータ２
６に電源を供給する。

【００３４】すると、棚板２１上の調理物に上ヒータ２
２から赤外線が直接投射される。これと共に、両ヒータ
ケース２４の複数の投射孔２４ｂから上段の棚板２１の
下面に赤外線が投射され、上段の棚板２１を通して上段
の棚板２１上の調理物が加熱される。この状態で設定時
間に達すると、制御装置３０は、上ヒータ２２，両赤外
線ヒータ２６を断電し、ヒータ調理を終了する。これと
共に、両ヒータモータ２５に電源を供給し、両ヒータケ
ース２４を凹部１３ｃ内に収納する。

【００３５】＜下段のみに棚板２１をセットしてヒータ
調理（オーブン調理）を行う場合＞制御装置３０は、下
棚板検出スイッチ２８のみからオン信号が出力されてい
ることに基づいて棚板２１が下段のみにセットされてい
ることを検出し、両ヒータケース２４を初期状態に保持
したまま、上ヒータ２２，下ヒータ２３，両赤外線ヒー
タ２６に電源を与える。

【００３６】すると、上ヒータ２２および両赤外線ヒー
タ２６の複数の投射孔２４ｂから調理室１４内に赤外線
が投射され、下ヒータ２３から棚板２１に対流熱が供給
される。この状態で設定時間に達すると、制御装置３０
は、上ヒータ２２，下ヒータ２３，両赤外線ヒータ２６
を断電し、ヒータ調理を終了する。

【００３７】上記実施例によれば、調理室１４の側部に
ヒータケース２４を回動可能に設けると共に、ヒータケ
ース２４内に赤外線ヒータ２６を収納した。このため、
ヒータケース２４を水平状態に回動させると、赤外線ヒ
ータ２６が調理物に接近するので、調理物を効率良く加
熱できる。しかも、調理物を赤外線ヒータ２６，上ヒー
タ２２，下ヒータ２３により加熱できるので、調理物を
上ヒータ２２，下ヒータ２３のみで加熱する場合に比
べ、調理物の加熱状態が均一化される。

【００３８】ところで、本出願人から出願された「実願
平４−２７３２号（実開平５−６４６１５号）」には、
調理室１４の側壁にシーズヒータを回動可能に装着する
ことが記載されている。この構成の場合、シーズヒータ
の回動に伴い、シーズヒータを調理物に接近させること
ができるので、調理物を効率的に加熱できる。しかしな
がら、シーズヒータの立上がりが遅く、シーズヒータが
赤熱するまでに時間を要するため、調理室内の温度を素
早く立上げるには不向きだった。

【００３９】これに対して上記実施例では、赤外線ヒー
タ２６を用いた。このため、調理室１４内の温度の立上
がりが早くなるので、特に調理物に焦げ目を付ける場合
に有利になる。しかも、赤外線ヒータ２６をヒータケー
ス２４内に収納したので、赤外線ヒータ２６に外力が作
用して赤外線ヒータ２６が破損することが防止される。
これと共に、マイクロ波が複数の投射孔２４ｂおよび２
４ｃを通してヒータケース２４内に進入することが防止
されるので、マイクロ波が赤外線ヒータ２６および回転
筒２４ａを通して外部に漏れることが防止される。

【００４０】また、図７に示す従来構成の場合、調理室
１内に上下２段に棚板４をセットすると、上ヒータ２か
らの輻射熱が上段の棚板４に邪魔され、下段の棚板４に
照射され難くなる。同様に、下ヒータ３からの対流熱が
下段の棚板４に邪魔され、上段の棚板４に供給され難く
なる。このため、上下２段に棚板４をセットすると、加
熱効率が低下する事情があった。

【００４１】これに対して上記実施例では、ヒータケー
ス２４を上部棚板支え１３ａと下部棚板支え１３ｂとの
間に配置した。このため、ヒータケース２４が水平状態
に回動すると、上段の棚板２１および下段の棚板２１間
にヒータケース２４が介在され、両棚板２１上の調理物
に接近するので、上下２段に棚板２１をセットする場合
でも、両棚板２１上の調理物が効率良く加熱される。

【００４２】また、ヒータケース２４が水平になったと
きに上下方向へ指向する両面に複数の投射孔２４ｂおよ
び２４ｃを形成し、複数の投射孔２４ｂおよび２４ｃの
開孔面積を相違させた。このため、ヒータケース２４の
上下面から調理室１４内の上下部に異なる量の赤外線を
投射できる。

【００４３】また、ヒータケース２４が水平になったと
きに上方へ指向する複数の投射孔２４ｂの開孔面積を下
方へ指向する複数の投射孔２４ｃの開孔面積より大きく
設定したので、ヒータケース２４の上面から上段の棚板
２１の下面に多量の赤外線が照射され、ヒータケース２
４の下面から下段の棚板２１の上面に少量の赤外線が照
射される。このため、下段の棚板２１上の調理物につい
ては、焦げのみの進行が和らげられ、内部まで十分に加
熱される。上段の棚板２１上の調理物については、棚板
２１を通過する際の損失分が補填され、十分に加熱され
るので、両棚板２１上の調理物の加熱状態が同時に向上
する。

【００４４】また、ヒータケース２４が垂直になったと
きに調理室１４方向へ指向する複数の投射孔２４ｂの開
孔面積を調理室１４の側板方向へ指向する複数の投射孔
２４ｃの開孔面積より大きく設定した。このため、ヒー
タケース２４を垂直状態に保持したまま赤外線ヒータ２
６を駆動してヒータ調理を行う際に、開孔面積が大きな
複数の投射孔２４ｂから調理室１４内に多量の赤外線が
投射されるので、加熱効率が向上する。

【００４５】また、ヒータケース２４の内面のうち、開
孔面積が小さい複数の投射孔２４ｃ側を開孔面積が大き
な複数の投射孔２４ｂ側より光沢状にしたので、赤外線
ヒータ２８からの赤外線の一部がヒータケース２４の内
面で反射され、複数の投射孔２４ｂ側へ向う。このた
め、複数の投射孔２４ｂから上段の棚板２１の下面に照
射される赤外線量が増大し、下段の棚板２１の上面に照
射される赤外線量が減少するので、両棚板２１上の調理
物の加熱状態が一層向上する。

【００４６】また、ヒータケース２４の両面のうち、開
孔面積が小さい複数の投射孔２４ｃ側を湾曲させたの
で、赤外線ヒータ２８からの赤外線の一部がヒータケー
ス２４の湾曲面で反射され、複数の投射孔２４ｂ側へ向
う。このため、複数の投射孔２４ｂからの赤外線投射量
が一層増大し、複数の投射孔２４ｃからの赤外線投射量
が一層減少するので、両棚板２１上の調理物の加熱状態
がより一層向上する。

【００４７】また、ヒータケース２４が調理室１４の側
板に沿って垂直になったときに、ヒータケース２４を上
部棚支え１３ａおよび下部棚支え１３ｂの先端部と面一
にした。このため、特にレンジ調理を行うにあたって、
ヒータケース２４に邪魔されることなく、調理室１４内
を有効に利用することができる。

【００４８】また、ヒータケース２４の回動支点を上端
部の回動筒２４ａに設定した。このため、ヒータモータ
２５が故障しても、ヒータケース２４が自重で回動し、
調理室１４の側板に沿って垂下するので、ヒータケース
２４が水平状態に保持されることが防止される。

【００４９】次に本発明の第２実施例を図６に基づいて
説明する。尚、上記第１実施例と同一の部材については
同一の符号を付して説明を省略し、以下、異なる部材に
ついてのみ説明を行う。各ヒータケース２４の対向する
両面には、複数の投射孔２４ｂおよび２４ｃが略同一個
数だけ形成されており、各ヒータケース２４が水平に回
動した状態では、開孔面積が大きな複数の投射孔２４ｂ
が下方へ指向し、開孔面積が小さな複数の投射孔２４ｃ
が上方へ指向する。また、各ヒータケース２４が凹部１
３ｃ内に収納された初期状態では、開孔面積が大きな複
数の投射孔２４ｂが調理室１４の側板に対向し、開孔面
積が小さな複数の投射孔２４ｃが調理室１４に対向す
る。

【００５０】各ヒータケース２４の内面は、開孔面積が
小さな複数の投射孔２４ｃ側が反対側より光沢状にされ
ている。しかも、複数の投射孔２４ｃを有する一面は湾
曲しており、各赤外線ヒータ２６から出射された赤外線
の一部は、ヒータケース２４の内面のうち複数の投射孔
２４ｃを有する側で反射され、反対側へ向う。

【００５１】ＲＴモータ１６の回転軸１６ａには、パン
等を載置するための回転網３１が連結されており、調理
モード選択キー２９ａを操作してトースタ調理を選択し
た後、スタートキー２９ｂを操作すると、制御装置３０
は、両ヒータケース２４を水平状態に回動させた後、Ｒ
Ｔモータ１６，下ヒータ２３，両赤外線ヒータ２６に電
源を供給する。すると、回転網３１の回転状態で、下ヒ
ータ２３からパンに対流熱が供給され、開孔面積が大き
な複数の投射孔２４ｂからパンに短時間に多量の赤外線
が照射される。

【００５２】上記実施例によれば、ヒータケース２４が
水平になったときに下方へ指向する複数の投射孔２４ｂ
の開孔面積を上方へ指向する複数の投射孔２４ｃの開孔
面積より大きく設定した。このため、トースタ調理を行
うにあたって、回転網３１上のパンに多量の赤外線が照
射され、パンの表面に素早く焦げ目が付くようになるの
で、水分が飛ぶことなく、ふっくらとした焼き上がりに
なる。

【００５３】しかも、ヒータケース２４の内面のうち開
孔面積が小さい複数の投射孔２４ｃ側を開孔面積が大き
な複数の投射孔２４ｂ側より光沢状にした。このため、
複数の投射孔２４ｂからパンに照射される赤外線量が増
大し、パンの表面に一層素早く焦げ目が付くようになる
ので、一層ふっくらとした焼き上がりになる。さらに、
ヒータケース２４の両面のうち開孔面積が小さい複数の
投射孔２４ｃ側を湾曲させたので、複数の投射孔２４ｂ
からの赤外線投射量が一層増大し、より一層ふっくらと
した焼き上がりになる。

【００５４】また、ヒータケース２４が調理室１４の側
板に沿った初期状態になったときに、開孔面積が小さな
複数の投射孔２４ｃを調理室１４に対向させ、開孔面積
が大きな複数の投射孔２４ｂを調理室１４の側板に対向
させた。このため、開孔面積が大きな複数の投射孔２４
ｂを通してヒータケース２４内に汚れ等が進入し難くな
る上、複数の投射孔２４ｂを通してヒータケース２４内
にマイクロ波が進入することが確実に防止される。

【００５５】尚、上記第１および第２実施例において
は、＜上段のみに棚板２１をセットしてヒータ調理（グ
リル調理）を行う場合＞に上ヒータ２２，両赤外線ヒー
タ２６を作動させたが、これに限定されるものではな
く、例えば上ヒータ２２，下ヒータ２３，両赤外線ヒー
タ２６を作動させても良い。あるいは、両ヒータケース
２４を垂直な初期状態に保持し、上ヒータ２２のみを作
動させても良い（「ゆっくりグリル調理」）。

【００５６】また、上記第１および第２実施例において
は、＜下段のみに棚板２１をセットしてヒータ調理（オ
ーブン調理）を行う場合＞に両ヒータケース２４を初期
状態に保持したまま、上ヒータ２２，下ヒータ２３，両
赤外線ヒータ２６を作動させたが、これに限定されるも
のではなく、例えば、上ヒータ２２，下ヒータ２３のみ
を作動させても良い（「ゆっくりオーブン調理」）。

【００５７】また、上記第１および第２実施例において
は、両ヒータケース２４をヒータモータ２５により回動
させたが、これに限定されるものではなく、例えば手動
で回動操作しても良い。また、上記第１および第２実施
例においては、各ヒータケース２４内に赤外線ヒータ２
６を１本収納したが、これに限定されるものではなく、
例えば２本以上収納しても良い。

【００５８】また、上記第１および第２実施例において
は、上ヒータ２２を管状の赤外線ヒータから構成し、下
ヒータ２３を面状ヒータから構成したが、これに限定さ
れるものではなく、例えば、上ヒータ２２を面状ヒータ
から構成し、下ヒータ２３を管状の赤外線ヒータから構
成しても良い。また、上記第１および第２実施例におい
ては、ヒータケース２４をステンレスから形成したが、
これに限定されるものではなく、例えばセラミックによ
り形成しても良い。

【００５９】また、上記第１実施例および第２実施例に
おいては、各ヒータケース２４の一面に径大な複数の投
射孔２４ｂを形成し、対向面に径小な複数の投射孔２４
ｃを形成し、複数の投射孔２４ｂの個数と複数の投射孔
２４ｃの個数とを略同一に設定したが、これに限定され
るものではなく、例えば、各ヒータケース２４の一面お
よび対向面に径寸法が等しい複数の投射孔を各々形成
し、両面の投射孔の個数を相違させても良い。

【００６０】また、上記第１および第２実施例において
は、上部棚板支え１３ａと下部棚板支え１３ｂとの間に
ヒータケース２４を配置したが、これに限定されるもの
ではなく、例えば上部棚板支え１３ａの上方にヒータケ
ース２４を配置し、ヒータケース２４の下面（水平状態
での下面）に複数の投射孔を形成しても良い。この構成
の場合、上ヒータ２２，ヒータケース２４から上段の棚
板２１に赤外線を集中照射できるので、グリル調理を快
速で行う場合等に有効である。

【００６１】また、上記第１および第２実施例において
は、ヒータケース２４が凹部１３ｃ内に収納された状態
で、ヒータケース２４を上部棚支え１３ａおよび下部棚
支え１３ｂの先端部と面一にしたが、これに限定される
ものではなく、例えばヒータケース２４を上部棚支え１
３ａおよび下部棚支え１３ｂの先端部と略面一にした
り、あるいは、ヒータケース２４を上部棚支え１３ａお
よび下部棚支え１３ｂより調理室１４の側板方向へ引込
ませても良い。

【００６２】また、上記第１および第２実施例において
は、ヒータケース２４の前後面に回転筒２４ａを取付
け、両回転筒２４ａを調理室１４の側板に装着したが、
これに限定されるものではなく、例えば、ヒータケース
２４の後面に回転筒２４ａを取付けて調理室１４の後板
に装着しても良く、要は、調理室１４の側部にヒータケ
ース２４が回動可能に配置されていれば良い。また、上
記第１および第２実施例においては、ヒータケース２４
を上端部（初期状態における上端部）を中心に回動させ
たが、これに限定されるものではなく、例えば、下端部
（初期状態における下端部）を中心に回動させても良
い。

【００６３】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の電子レンジは次の効果を奏する。請求項１記載の手段
によれば、調理室の側部にヒータケースを回動可能に設
けると共に、ヒータケース内に赤外線ヒータを収納し
た。このため、赤外線ヒータを調理物に接近させること
ができるので、調理物が効率良く加熱される上、調理物
に焦げ目が付き易くなる。しかも、調理物を赤外線ヒー
タ，固定ヒータにより加熱できるので、調理物を固定ヒ
ータのみで加熱する場合に比べ、調理物の加熱状態が均
一化される。さらに、赤外線ヒータがヒータケースによ
り保護されるので、赤外線ヒータの破損が防止される。
これと共に、マイクロ波が複数の投射孔を通してヒータ
ケース内に進入することが防止されるので、マイクロ波
が赤外線ヒータを通して外部に漏れることも防止され
る。

【００６４】請求項２記載の手段によれば、ヒータケー
スを上段の棚板支えと下段の棚板支えとの間に配置し
た。このため、ヒータケースを上段の棚板および下段の
棚板に接近させることができるので、上下２段に棚板を
セットする場合でも、両棚板上の調理物が効率良く加熱
される。請求項３記載の手段によれば、ヒータケースが
略水平になったときに上下方向へ指向する両面に複数の
投射孔を形成し、両面の投射孔の開孔面積を相違させ
た。このため、ヒータケースの上下面から調理室内の上
下部に異なる量の赤外線を投射できる。

【００６５】請求項４記載の手段によれば、ヒータケー
スが略水平になったときに上方へ指向する複数の投射孔
の開孔面積を下方へ指向する複数の投射孔の開孔面積よ
り大きく設定した。このため、上下２段に棚板をセット
する場合には、両棚板上の調理物を適切な形態で加熱す
ることができるので、両棚板上の調理物の加熱状態が同
時に向上する。請求項５記載の手段によれば、ヒータケ
ースが略水平になったときに下方へ指向する複数の投射
孔の開孔面積を上方へ指向する複数の投射孔の開孔面積
より大きく設定した。このため、トースタ調理を行う場
合には、パンの表面に素早く焦げ目を付けることができ
るので、ふっくらとした焼き上がりになる。

【００６６】請求項６記載の手段によれば、ヒータケー
スの内面のうち開孔面積が小さい複数の投射孔側を開孔
面積が大きな複数の投射孔側より光沢状にしたので、開
孔面積が大きな複数の投射孔から一層多量の赤外線が投
射される。このため、上下２段に棚板をセットする場合
には、両棚板上の調理物の加熱状態が一層向上し、トー
スタ調理を行う場合には、パンが一層ふっくらとした焼
き上がりになる。請求項７記載の手段によれば、ヒータ
ケースが調理室の側壁に略沿った状態になったときに、
棚板支えの先端部から突出しないようにした。このた
め、レンジ調理を行うにあたって、ヒータケースに邪魔
されることなく、調理室内を有効に利用することができ
る。

【００６７】請求項８記載の手段によれば、ヒータケー
スが調理室の側壁に略沿った状態になったときに、開孔
面積が小さな複数の投射孔を調理室に対向させ、開孔面
積が大きな複数の投射孔を調理室の側壁に対向させた。
このため、開孔面積が大きな複数の投射孔を通してヒー
タケース内に汚れが進入し難くなる上、開孔面積が大き
な複数の投射孔を通してヒータケース内にマイクロ波が
進入することが確実に防止される。請求項９記載の手段
によれば、ヒータケースの回動中心を上端部に設定し
た。このため、ヒータケースが自重で回動し、調理室の
側壁に沿って垂下するようになるので、ヒータケースが
調理室内に突出したままの状態で停止することが防止さ
れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例を示す図（全体構成を示す
縦断正面図）

【図２】全体構成を示す縦断側面図

【図３】ヒータケースを示す斜視図

【図４】全体構成を示す斜視図

【図５】電気的構成の概略を示すブロック図

【図６】本発明の第２実施例を示す図１相当図

【図７】従来例を示す図

【符号の説明】

１３ａは上部棚板支え（棚板支え）、１３ｂは下部棚板
支え（棚板支え）、１４は調理室、２１は棚板、２２は
上ヒータ（固定ヒータ）、２３は下ヒータ（固定ヒー
タ）、２４はヒータケース、２４ｂおよび２４ｃは投射
孔、２６は赤外線ヒータを示す。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 調理室内に収納された調理物を加熱する
   ための固定ヒータと、 前記調理室の側部に回動可能に設けられたヒータケース
   と、 このヒータケース内に収納された赤外線ヒータとを備
   え、 前記ヒータケースには、前記ヒータケース内へのマイク
   ロ波の進入を遮断し且つ前記赤外線ヒータからの赤外線
   を前記調理室内へ投射する複数の投射孔が設けられてい
   ることを特徴とする電子レンジ。
2. 【請求項２】 調理室の側壁には、棚板が載置される棚
   板支えが上下２段に設けられ、 ヒータケースは、上段の棚板支えと下段の棚板支えとの
   間に配置されていることを特徴とする請求項１記載の電
   子レンジ。
3. 【請求項３】 複数の投射孔は、ヒータケースが略水平
   になったときに上下方向へ指向する両面に各々設けら
   れ、 上方へ指向する一面に設けられた投射孔の開孔面積と、
   下方へ指向する一面に設けられた投射孔の開孔面積とは
   相違していることを特徴とする請求項１または２記載の
   電子レンジ。
4. 【請求項４】 複数の投射孔は、ヒータケースが略水平
   になったときに上下方向へ指向する両面に各々設けら
   れ、 上方へ指向する一面に設けられた投射孔の開孔面積は、
   下方へ指向する一面に設けられた投射孔の開孔面積より
   大きいことを特徴とする請求項１または２記載の電子レ
   ンジ。
5. 【請求項５】 複数の投射孔は、ヒータケースが略水平
   になったときに上下方向へ指向する両面に各々設けら
   れ、 下方へ指向する一面に設けられた投射孔の開孔面積は、
   上方へ指向する一面に設けられた投射孔の開孔面積より
   大きいことを特徴とする請求項１または２記載の電子レ
   ンジ。
6. 【請求項６】 ヒータケースの内面は、開孔面積が小さ
   い複数の投射孔側が開孔面積が大きい複数の投射孔側よ
   り光沢状にされていることを特徴とする請求項３ないし
   ５のいずれかに記載の電子レンジ。
7. 【請求項７】 調理室の側壁には、棚板が載置される棚
   板支えが設けられ、 ヒータケースは、調理室の側壁に略沿った状態になった
   ときに棚板支えの先端部と略面一あるいは棚板支えの先
   端部より側壁方向へ引込むことを特徴とする請求項１記
   載の電子レンジ。
8. 【請求項８】 複数の投射孔は、ヒータケースが調理室
   の側壁に略沿った状態になったときに調理室の側壁方向
   および調理室方向へ指向する両面に各々設けられ、 調理室方向へ指向する一面に設けられた投射孔の開孔面
   積は、調理室の側壁方向へ指向する一面に設けられた投
   射孔の開孔面積より小さいことを特徴とする請求項１記
   載の電子レンジ。
9. 【請求項９】 ヒータケースは、調理室の側壁に略沿っ
   た状態において、上端部を中心に回動可能にされている
   ことを特徴とする請求項１記載の電子レンジ。