JPH07193369A - 厚膜多層配線基板の製造方法 - Google Patents
厚膜多層配線基板の製造方法Info
- Publication number
- JPH07193369A JPH07193369A JP5330368A JP33036893A JPH07193369A JP H07193369 A JPH07193369 A JP H07193369A JP 5330368 A JP5330368 A JP 5330368A JP 33036893 A JP33036893 A JP 33036893A JP H07193369 A JPH07193369 A JP H07193369A
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- Japan
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- thick film
- ferrite substrate
- multilayer wiring
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 各種電子機器に使用されている厚膜多層配線
基板の製造方法に関するものであり、インダクタンス部
品の内蔵あるいはノイズ吸収性に優れフェライト基板を
用いた高積層配線層を形成するとき、複数層一括焼成で
きる厚膜多層配線基板の製造方法を提供することを目的
とする。 【構成】 フェライト基板1上に下地絶縁体層2と、下
部絶縁体層3、内部電極層A4、中間絶縁体層5、内部
電極層B6及び上部絶縁体層7からなる配線層100と
で構成された厚膜多層配線基板であって、下地絶縁体層
3をあらかじめフェライト基板1上に形成することによ
り、フェライト基板1と配線層100間のめくれがな
く、フェライト基板及び配線層を一括焼成できる。
基板の製造方法に関するものであり、インダクタンス部
品の内蔵あるいはノイズ吸収性に優れフェライト基板を
用いた高積層配線層を形成するとき、複数層一括焼成で
きる厚膜多層配線基板の製造方法を提供することを目的
とする。 【構成】 フェライト基板1上に下地絶縁体層2と、下
部絶縁体層3、内部電極層A4、中間絶縁体層5、内部
電極層B6及び上部絶縁体層7からなる配線層100と
で構成された厚膜多層配線基板であって、下地絶縁体層
3をあらかじめフェライト基板1上に形成することによ
り、フェライト基板1と配線層100間のめくれがな
く、フェライト基板及び配線層を一括焼成できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は各種電子機器に用いられ
高密度の配線パターンを有する回路基板等に適用される
厚膜多層配線基板の製造方法に関するものである。
高密度の配線パターンを有する回路基板等に適用される
厚膜多層配線基板の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、セラミック多層回路基板は、その
熱伝導性、耐熱性や化学的耐久性が有機材料基板より優
れた特性を有するため、有機材料基板の代替として、あ
るいは電子機器の小型化や多様化に伴い、高密度実装基
板として使用されるようになった。
熱伝導性、耐熱性や化学的耐久性が有機材料基板より優
れた特性を有するため、有機材料基板の代替として、あ
るいは電子機器の小型化や多様化に伴い、高密度実装基
板として使用されるようになった。
【0003】従来の厚膜多層配線基板は、セラミック基
板上に、導電性ペーストを用いた導体層と絶縁体ペース
トを用いた絶縁層とを順次に積層して形成され、厚膜部
品や回路部品を実装して使用する。
板上に、導電性ペーストを用いた導体層と絶縁体ペース
トを用いた絶縁層とを順次に積層して形成され、厚膜部
品や回路部品を実装して使用する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の方法では、インダクタンス部品の内蔵をしたり、優れ
たノイズ吸収性を得るためにセラミック基板としてフェ
ライト基板を用いた場合、各層を個別焼成しなければな
らないためコスト高になる。一方、一括焼成を行うと、
フェライト基板と配線層間に層間の収縮率の違いによる
めくれが発生し所望の配線パターンが得られないという
問題点を有していた。
の方法では、インダクタンス部品の内蔵をしたり、優れ
たノイズ吸収性を得るためにセラミック基板としてフェ
ライト基板を用いた場合、各層を個別焼成しなければな
らないためコスト高になる。一方、一括焼成を行うと、
フェライト基板と配線層間に層間の収縮率の違いによる
めくれが発生し所望の配線パターンが得られないという
問題点を有していた。
【0005】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、低コストで、フェライト基板と配線層間にめくれの
ない厚膜多層配線基板の製造方法を提供することを目的
とする。
で、低コストで、フェライト基板と配線層間にめくれの
ない厚膜多層配線基板の製造方法を提供することを目的
とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の厚膜多層配線基板の製造方法は、フェライト
基板上に絶縁体層を形成した後、内部導体層を含む配線
層を形成するものである。
に本発明の厚膜多層配線基板の製造方法は、フェライト
基板上に絶縁体層を形成した後、内部導体層を含む配線
層を形成するものである。
【0007】
【作用】この構成によって、あらかじめフェライト基板
上に絶縁体層を形成することにより、内部導体層を含む
配線層を一括焼成できるので、コストを下げることがで
きる。また、フェライト基板と配線層間のめくれの発生
がなく、所望の配線パターンを実現できる厚膜多層配線
基板を供給することができる。
上に絶縁体層を形成することにより、内部導体層を含む
配線層を一括焼成できるので、コストを下げることがで
きる。また、フェライト基板と配線層間のめくれの発生
がなく、所望の配線パターンを実現できる厚膜多層配線
基板を供給することができる。
【0008】
【実施例】以下本発明の実施例について、図面を参照し
ながら説明する。
ながら説明する。
【0009】(実施例1)図1は本発明の第1の実施例
における厚膜多層配線基板の部分断面図を示すものであ
る。
における厚膜多層配線基板の部分断面図を示すものであ
る。
【0010】図1に示すように、フェライト基板1上
に、絶縁体ペーストを印刷し大気中850℃で焼成して
フェライト基板1よりも厚みの小さい下地絶縁体層2を
形成する。その上に、前記絶縁体ペーストを印刷し下部
絶縁体層3を形成する。さらに、銀電極ペーストを用い
て印刷し内部導体層として内部電極層A4を形成する。
さらに、内部電極層A4上に前記絶縁体ペーストを印刷
し中間絶縁体層5を形成する。
に、絶縁体ペーストを印刷し大気中850℃で焼成して
フェライト基板1よりも厚みの小さい下地絶縁体層2を
形成する。その上に、前記絶縁体ペーストを印刷し下部
絶縁体層3を形成する。さらに、銀電極ペーストを用い
て印刷し内部導体層として内部電極層A4を形成する。
さらに、内部電極層A4上に前記絶縁体ペーストを印刷
し中間絶縁体層5を形成する。
【0011】その上に、前記銀電極ペーストを印刷し内
部導体層として内部電極層B6を形成する。最後に、前
記絶縁体ペーストを用いて印刷し上部絶縁体層7を形成
する。
部導体層として内部電極層B6を形成する。最後に、前
記絶縁体ペーストを用いて印刷し上部絶縁体層7を形成
する。
【0012】このように、上部絶縁体層7を形成した配
線層100を大気中、850℃で一括焼成して、厚膜多
層配線基板を形成する。なお裏面への形成についても同
様に行うことができる。
線層100を大気中、850℃で一括焼成して、厚膜多
層配線基板を形成する。なお裏面への形成についても同
様に行うことができる。
【0013】本実施例によれば、フェライト基板1と下
地絶縁体層2との接着強度に関しては、既に焼成済みの
フェライト基板1の厚みが厚く、フェライト基板1が全
く収縮しない為に、下地絶縁体層2の焼成時の面方向の
収縮が殆ど無いような焼成が可能となる為、収縮による
ズレが発生せず、強固なものとなる。また、下地絶縁体
層2と多層配線層100との接着強度に関しては、多層
配線層100の中の下部絶縁体層3が下地絶縁体層2と
同じ成分で構成されているので、なじみが良く強固なも
のとなる。即ち、多層配線層100の一括焼成の前に下
地絶縁体層の焼成を一工程入れることにより、全体の接
着強度が強固になる。
地絶縁体層2との接着強度に関しては、既に焼成済みの
フェライト基板1の厚みが厚く、フェライト基板1が全
く収縮しない為に、下地絶縁体層2の焼成時の面方向の
収縮が殆ど無いような焼成が可能となる為、収縮による
ズレが発生せず、強固なものとなる。また、下地絶縁体
層2と多層配線層100との接着強度に関しては、多層
配線層100の中の下部絶縁体層3が下地絶縁体層2と
同じ成分で構成されているので、なじみが良く強固なも
のとなる。即ち、多層配線層100の一括焼成の前に下
地絶縁体層の焼成を一工程入れることにより、全体の接
着強度が強固になる。
【0014】以上のように構成された厚膜多層配線基板
は、フェライト基板1上に下地絶縁体層2、下地絶縁体
層3、内部電極層A4、中間絶縁体層5、内部電極層B
6、上部絶縁体層7を順次構成した回路基板であって、
下地絶縁体層2をあらかじめ形成することにより、その
上部に印刷形成した電極層及び絶縁体層全5層を一括焼
成しても、フェライト基板1と配線層100間のめくれ
の発生がなく作製できる。
は、フェライト基板1上に下地絶縁体層2、下地絶縁体
層3、内部電極層A4、中間絶縁体層5、内部電極層B
6、上部絶縁体層7を順次構成した回路基板であって、
下地絶縁体層2をあらかじめ形成することにより、その
上部に印刷形成した電極層及び絶縁体層全5層を一括焼
成しても、フェライト基板1と配線層100間のめくれ
の発生がなく作製できる。
【0015】(実施例2)次に本発明の第2の実施例に
ついて、図面を参照しながら説明する。
ついて、図面を参照しながら説明する。
【0016】図2(a),(b)はそれぞれ本発明の第
2の実施例により得たコイル部品の断面図及び上面図を
示すものである。図2に示すように、フェライト基板1
上に絶縁体ペーストの全面ベタパターンを印刷し、大気
中、850℃で焼成して、フェライト基板1よりも厚み
の小さい下地絶縁体層2を形成する。その上に、前記絶
縁体ペーストを用いE型コア(図示せず)挿入孔13入
りパターンを印刷し、下部絶縁体層8を形成する。さら
に、下部絶縁体層8上に銀電極ペーストを印刷し内部導
体層としてコイルA9を形成する。
2の実施例により得たコイル部品の断面図及び上面図を
示すものである。図2に示すように、フェライト基板1
上に絶縁体ペーストの全面ベタパターンを印刷し、大気
中、850℃で焼成して、フェライト基板1よりも厚み
の小さい下地絶縁体層2を形成する。その上に、前記絶
縁体ペーストを用いE型コア(図示せず)挿入孔13入
りパターンを印刷し、下部絶縁体層8を形成する。さら
に、下部絶縁体層8上に銀電極ペーストを印刷し内部導
体層としてコイルA9を形成する。
【0017】さらに、前記絶縁体ペーストを用い前記E
型コア挿入孔13入りパターンを印刷し、中間絶縁体層
10を形成する。その上に、前記銀電極ペーストを印刷
し、内部導体層としてコイルB11を形成する。
型コア挿入孔13入りパターンを印刷し、中間絶縁体層
10を形成する。その上に、前記銀電極ペーストを印刷
し、内部導体層としてコイルB11を形成する。
【0018】最後に、前記絶縁体ペーストを用い前記E
型コア挿入孔入りパターンを印刷し、上部絶縁体層12
を形成する。これら下部絶縁体層8以上の絶縁体層およ
び電極層全5層を大気中、850℃で一括焼成して、配
線層200を形成する。
型コア挿入孔入りパターンを印刷し、上部絶縁体層12
を形成する。これら下部絶縁体層8以上の絶縁体層およ
び電極層全5層を大気中、850℃で一括焼成して、配
線層200を形成する。
【0019】本実施例において、フェライト基板1上に
全面ベタパターンの下地絶縁体層を形成することによ
り、実施例1と同様に、フェライト基板1と配線層20
0間のめくれを防ぐことができ、全5層一括焼成が可能
である。さらにその上へ別の配線層を積層することを容
易にし、信頼性の向上も図れる。
全面ベタパターンの下地絶縁体層を形成することによ
り、実施例1と同様に、フェライト基板1と配線層20
0間のめくれを防ぐことができ、全5層一括焼成が可能
である。さらにその上へ別の配線層を積層することを容
易にし、信頼性の向上も図れる。
【0020】(実施例3)次に本発明の第3の実施例に
ついて図3を用いて説明する。図3(a),(b)は本
発明の第3の実施例によるコイル部品の断面図及び上面
図を示すものである。
ついて図3を用いて説明する。図3(a),(b)は本
発明の第3の実施例によるコイル部品の断面図及び上面
図を示すものである。
【0021】まず、実施例2と同様の方法により、フェ
ライト基板1上に、絶縁体ペーストを用いE型コア(図
示せず)挿入孔13より50μm小さい貫通孔パターン
14を形成しながら印刷し、大気中、850℃で焼成し
て、下地絶縁体層2を形成する。
ライト基板1上に、絶縁体ペーストを用いE型コア(図
示せず)挿入孔13より50μm小さい貫通孔パターン
14を形成しながら印刷し、大気中、850℃で焼成し
て、下地絶縁体層2を形成する。
【0022】その上に、前記絶縁体ペーストを用いE型
コア挿入孔13入りパターンを印刷し、下部絶縁体層8
を形成する。さらに、下部絶縁体層8上に銀電極ペース
トを用いて印刷し、内部導体層としてコイルA9を形成
する。さらに、前記絶縁体ペーストを用い前記E型コア
挿入孔13入りパターンを印刷し、中間絶縁体層10を
形成する。その上に、前記銀電極ペーストを印刷し、内
部導体層としてコイルB11を形成する。最後に、前記
絶縁体ペーストを用い前記E型コア挿入孔13入りパタ
ーンを印刷し、上部絶縁体層12を形成する。これら下
部絶縁体層8以上の絶縁体層及びコイルA9やコイルB
11からなる電極層全5層を大気中、850℃で一括焼
成して、配線層300を形成する。
コア挿入孔13入りパターンを印刷し、下部絶縁体層8
を形成する。さらに、下部絶縁体層8上に銀電極ペース
トを用いて印刷し、内部導体層としてコイルA9を形成
する。さらに、前記絶縁体ペーストを用い前記E型コア
挿入孔13入りパターンを印刷し、中間絶縁体層10を
形成する。その上に、前記銀電極ペーストを印刷し、内
部導体層としてコイルB11を形成する。最後に、前記
絶縁体ペーストを用い前記E型コア挿入孔13入りパタ
ーンを印刷し、上部絶縁体層12を形成する。これら下
部絶縁体層8以上の絶縁体層及びコイルA9やコイルB
11からなる電極層全5層を大気中、850℃で一括焼
成して、配線層300を形成する。
【0023】ここで、実施施例2では下部絶縁体層8形
成に全面ベタパターンを用いたが、本実施例では、配線
層300形成に用いるE型コア挿入孔13より小さいパ
ターンの孔を有する下地を形成することにより、フェラ
イト基板1と配線層300間のめくれがなく、配線層3
00の一括焼成が可能である。即ち、貫通孔の大きさを
下地層と多層膜層とで変えることによりE型コア挿入孔
部端部でのめくれを防ぐことができるものである。さら
にその上へ別の配線層を積層することを容易にし、信頼
性の向上も図れる。
成に全面ベタパターンを用いたが、本実施例では、配線
層300形成に用いるE型コア挿入孔13より小さいパ
ターンの孔を有する下地を形成することにより、フェラ
イト基板1と配線層300間のめくれがなく、配線層3
00の一括焼成が可能である。即ち、貫通孔の大きさを
下地層と多層膜層とで変えることによりE型コア挿入孔
部端部でのめくれを防ぐことができるものである。さら
にその上へ別の配線層を積層することを容易にし、信頼
性の向上も図れる。
【0024】また、本実施例では、下地絶縁体層2をE
型コア挿入孔13と相似形状のパターンに形成したた
め、完成したコイル部品に挿入するE型コアとフェライ
ト基板1とのギャップをなくすことができるので、コイ
ル部品としての磁気特性が上がる。
型コア挿入孔13と相似形状のパターンに形成したた
め、完成したコイル部品に挿入するE型コアとフェライ
ト基板1とのギャップをなくすことができるので、コイ
ル部品としての磁気特性が上がる。
【0025】なお、本各実施例において、各層は印刷法
により形成したが、その他デッピング法やスピンコート
法などの種々の方法でも形成可能である。
により形成したが、その他デッピング法やスピンコート
法などの種々の方法でも形成可能である。
【0026】
【発明の効果】以上のように本発明は、厚膜多層配線基
板の製造方法において、あらかじめ絶縁体層を形成する
ことにより、フェライト基板と内部電極を含む配線層間
の接着強度が増すのでフェライト基板と配線層間のめく
れがなく、フェライト基板と複数層からなる配線層とを
一括焼成することが可能であり、かつ低コストが図れ
る。
板の製造方法において、あらかじめ絶縁体層を形成する
ことにより、フェライト基板と内部電極を含む配線層間
の接着強度が増すのでフェライト基板と配線層間のめく
れがなく、フェライト基板と複数層からなる配線層とを
一括焼成することが可能であり、かつ低コストが図れ
る。
【図1】本発明の第1の実施例による厚膜多層配線基板
の部分断面図
の部分断面図
【図2】(a)本発明の第2の実施例によるコイル部品
の断面図 (b)同コイル部品の上面図
の断面図 (b)同コイル部品の上面図
【図3】(a)本発明の第3の実施例によるコイル部品
の断面図 (b)同コイル部品の上面図
の断面図 (b)同コイル部品の上面図
1 フェライト基板 2 下地絶縁体層 3,8 下部絶縁体層 4 内部電極層A 5,10 中間絶縁体層 6 内部電極層B 7,12 上部絶縁体層 9 コイルA 11 コイルB 100,200,300 配線層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木村 涼 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】 フェライト基板上に前記フェライト基板
の厚みより薄い絶縁体層を焼成により形成した後、前記
絶縁体層と同材料の絶縁体層と内部導体層とを含む多層
配線層を一括焼成により形成する厚膜多層配線基板の製
造方法。 - 【請求項2】 厚膜多層配線層は第1の貫通孔を形成
し、絶縁体層に前記貫通孔に相応した前記貫通孔より小
さい第2の貫通孔を形成した請求項1記載の厚膜多層配
線基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5330368A JPH07193369A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 厚膜多層配線基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5330368A JPH07193369A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 厚膜多層配線基板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07193369A true JPH07193369A (ja) | 1995-07-28 |
Family
ID=18231828
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5330368A Pending JPH07193369A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 厚膜多層配線基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07193369A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0846386A (ja) * | 1994-07-29 | 1996-02-16 | Tokin Corp | プリント配線基板 |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP5330368A patent/JPH07193369A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0846386A (ja) * | 1994-07-29 | 1996-02-16 | Tokin Corp | プリント配線基板 |
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