JPH07173108A - 3,4−ジヒドロキシ安息香酸エステル誘導体及びそれを使用した記録材料 - Google Patents
3,4−ジヒドロキシ安息香酸エステル誘導体及びそれを使用した記録材料Info
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- JPH07173108A JPH07173108A JP6141478A JP14147894A JPH07173108A JP H07173108 A JPH07173108 A JP H07173108A JP 6141478 A JP6141478 A JP 6141478A JP 14147894 A JP14147894 A JP 14147894A JP H07173108 A JPH07173108 A JP H07173108A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 記録材料用電子受容性化合物として有用な
3,4−ジヒドロキシ安息香酸エステル誘導体及びそれ
を使用した耐性の優れた記録材料を提供する。 【構成】 下記一般式(I)で表される3,4−ジヒド
ロキシ安息香酸エステル誘導体及びそれを使用した記録
材料。 一般式(I) 【化1】 式中Xは、炭素数1〜20のアルキレン基または炭素数
8〜20のアラルキレン基を表す。
3,4−ジヒドロキシ安息香酸エステル誘導体及びそれ
を使用した耐性の優れた記録材料を提供する。 【構成】 下記一般式(I)で表される3,4−ジヒド
ロキシ安息香酸エステル誘導体及びそれを使用した記録
材料。 一般式(I) 【化1】 式中Xは、炭素数1〜20のアルキレン基または炭素数
8〜20のアラルキレン基を表す。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、記録材料用電子受容性
化合物として有用な3,4−ジヒドロキシ安息香酸エス
テル誘導体及びそれを用いた記録材料に関し、発色性に
優れ、更に画像部の保存安定性に優れた記録材料に関す
る。
化合物として有用な3,4−ジヒドロキシ安息香酸エス
テル誘導体及びそれを用いた記録材料に関し、発色性に
優れ、更に画像部の保存安定性に優れた記録材料に関す
る。
【0002】
【従来の技術】電子供与性無色染料と電子受容性化合物
を使用した記録材料は、感圧紙、感熱紙、感光感圧紙、
通電感熱記録紙、感熱転写紙としてすでに良く知られて
いる。例えば英国特許2140449号、米国特許44
80052号、同4436920号、特公昭60−23
992号、特開昭57−179836号、同60−12
3556号、同60−123557号等に詳しい。
を使用した記録材料は、感圧紙、感熱紙、感光感圧紙、
通電感熱記録紙、感熱転写紙としてすでに良く知られて
いる。例えば英国特許2140449号、米国特許44
80052号、同4436920号、特公昭60−23
992号、特開昭57−179836号、同60−12
3556号、同60−123557号等に詳しい。
【0003】記録材料として、近年(1)発色濃度及び
発色感度(2)非画像部及び画像部の保存安定性などの
特性改良に対する研究が鋭意行なわれている。従来電子
供与性無色染料に対する電子受容性化合物としては、ビ
スフェノールA、p−ヒドロキシ安息香酸エステル類、
ビス−(4−ヒドロキシフェニル)スルホン類等、各種
知られているが、いずれも発色濃度、発色感度、非画像
部及び画像部の保存安定性(耐光性、耐熱性、耐薬品
性、耐可塑剤性)等において幾つかの欠点を有してい
た。例えば、ビスフェノールAを感熱記録材料に用いた
場合には、暗熱下において画像部の変色や消色が生じる
等の問題を有していた。
発色感度(2)非画像部及び画像部の保存安定性などの
特性改良に対する研究が鋭意行なわれている。従来電子
供与性無色染料に対する電子受容性化合物としては、ビ
スフェノールA、p−ヒドロキシ安息香酸エステル類、
ビス−(4−ヒドロキシフェニル)スルホン類等、各種
知られているが、いずれも発色濃度、発色感度、非画像
部及び画像部の保存安定性(耐光性、耐熱性、耐薬品
性、耐可塑剤性)等において幾つかの欠点を有してい
た。例えば、ビスフェノールAを感熱記録材料に用いた
場合には、暗熱下において画像部の変色や消色が生じる
等の問題を有していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、発色性に優
れ、しかも画像部の保存安定性に優れた記録材料用電子
受容性化合物及びそれを使用した記録材料を提供するも
のである。
れ、しかも画像部の保存安定性に優れた記録材料用電子
受容性化合物及びそれを使用した記録材料を提供するも
のである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は、電子供
与性無色染料と電子受容性化合物の反応を使用した記録
材料において、該電子受容性化合物として下記一般式
(I)で表される3,4−ジヒドロキシ安息香酸エステ
ル誘導体を使用することを特徴とする記録材料により解
決された。 一般式(I)
与性無色染料と電子受容性化合物の反応を使用した記録
材料において、該電子受容性化合物として下記一般式
(I)で表される3,4−ジヒドロキシ安息香酸エステ
ル誘導体を使用することを特徴とする記録材料により解
決された。 一般式(I)
【0006】
【化3】
【0007】式中Xは、炭素数1〜20のアルキレン基
または炭素数8〜20のアラルキレン基を表す。Xの好
ましい例としては、炭素原子数2〜12のアルキレン
基、炭素数8〜12のアラルキレン基等があげられる。
Xのさらに好ましい例としては、炭素原子数4〜8のア
ルキレン基、炭素数8のアラルキレン基等があげられ
る。
または炭素数8〜20のアラルキレン基を表す。Xの好
ましい例としては、炭素原子数2〜12のアルキレン
基、炭素数8〜12のアラルキレン基等があげられる。
Xのさらに好ましい例としては、炭素原子数4〜8のア
ルキレン基、炭素数8のアラルキレン基等があげられ
る。
【0008】一般式(I)で表される化合物の具体例を
示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0009】ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカル
ボキシ)メタン、 1,2−ビス(3,4−ジヒドロキ
シフェニルカルボキシ)エタン、1,3−ビス(3,4
−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)プロパン、1,4
−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)ブ
タン、1,5−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカ
ルボキシ)ペンタン、1,6−ビス(3,4−ジヒドロ
キシフェニルカルボキシ)ヘキサン、1,7−ビス
(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)ヘプタ
ン、1,8−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカル
ボキシ)オクタン、1,9−ビス(3,4−ジヒドロキ
シフェニルカルボキシ)ノナン、1,10−ビス(3,
4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)デカン、1,1
1−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)
ウンデカン、1,12−ビス(3,4−ジヒドロキシフ
ェニルカルボキシ)ドデカン、1,15−ビス(3,4
−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)ペンタデカン、
1,2−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキ
シ)プロパン、1,3−ビス(3,4−ジヒドロキシフ
ェニルカルボキシ)−2,2−ジメチルプロパン、1,
4−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)
ペンタン、1,4−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニ
ルカルボキシ)シクロヘキサン、1,3−ビス(3,4
−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)シクロヘキサン、
1,2−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキ
シ)シクロヘキサン、1,4−ビス〔(3,4−ジヒド
ロキシフェニルカルボキシ)メチル〕ベンゼン、1,3
−ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)
メチル〕ベンゼン、1,2−ビス〔(3,4−ジヒドロ
キシフェニルカルボキシ)メチル〕ベンゼン、1,4−
ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)メ
チル〕シクロヘキサン、1,3−ビス〔(3,4−ジヒ
ドロキシフェニルカルボキシ)メチル〕シクロヘキサ
ン、1,2−ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカ
ルボキシ)メチル〕シクロヘキサン
ボキシ)メタン、 1,2−ビス(3,4−ジヒドロキ
シフェニルカルボキシ)エタン、1,3−ビス(3,4
−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)プロパン、1,4
−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)ブ
タン、1,5−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカ
ルボキシ)ペンタン、1,6−ビス(3,4−ジヒドロ
キシフェニルカルボキシ)ヘキサン、1,7−ビス
(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)ヘプタ
ン、1,8−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカル
ボキシ)オクタン、1,9−ビス(3,4−ジヒドロキ
シフェニルカルボキシ)ノナン、1,10−ビス(3,
4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)デカン、1,1
1−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)
ウンデカン、1,12−ビス(3,4−ジヒドロキシフ
ェニルカルボキシ)ドデカン、1,15−ビス(3,4
−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)ペンタデカン、
1,2−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキ
シ)プロパン、1,3−ビス(3,4−ジヒドロキシフ
ェニルカルボキシ)−2,2−ジメチルプロパン、1,
4−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)
ペンタン、1,4−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニ
ルカルボキシ)シクロヘキサン、1,3−ビス(3,4
−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)シクロヘキサン、
1,2−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキ
シ)シクロヘキサン、1,4−ビス〔(3,4−ジヒド
ロキシフェニルカルボキシ)メチル〕ベンゼン、1,3
−ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)
メチル〕ベンゼン、1,2−ビス〔(3,4−ジヒドロ
キシフェニルカルボキシ)メチル〕ベンゼン、1,4−
ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)メ
チル〕シクロヘキサン、1,3−ビス〔(3,4−ジヒ
ドロキシフェニルカルボキシ)メチル〕シクロヘキサ
ン、1,2−ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカ
ルボキシ)メチル〕シクロヘキサン
【0010】一般式(I)で表される化合物の好ましい
具体例を以下に示す。
具体例を以下に示す。
【0011】1,2−ビス(3,4−ジヒドロキシフェ
ニルカルボキシ)エタン、1,3−ビス(3,4−ジヒ
ドロキシフェニルカルボキシ)プロパン、1,4−ビス
(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)ブタン、
1,5−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキ
シ)ペンタン、1,6−ビス(3,4−ジヒドロキシフ
ェニルカルボキシ)ヘキサン、1,4−ビス〔(3,4
−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)メチル〕ベンゼ
ン、1,3−ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカ
ルボキシ)メチル〕ベンゼン、1,2−ビス〔(3,4
−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)メチル〕ベンゼ
ン、1,4−ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカ
ルボキシ)メチル〕シクロヘキサン
ニルカルボキシ)エタン、1,3−ビス(3,4−ジヒ
ドロキシフェニルカルボキシ)プロパン、1,4−ビス
(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)ブタン、
1,5−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキ
シ)ペンタン、1,6−ビス(3,4−ジヒドロキシフ
ェニルカルボキシ)ヘキサン、1,4−ビス〔(3,4
−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)メチル〕ベンゼ
ン、1,3−ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカ
ルボキシ)メチル〕ベンゼン、1,2−ビス〔(3,4
−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)メチル〕ベンゼ
ン、1,4−ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカ
ルボキシ)メチル〕シクロヘキサン
【0012】一般式(I)で表される化合物のさらに好
ましい具体例を以下に示す。
ましい具体例を以下に示す。
【0013】1,4−ビス(3,4−ジヒドロキシフェ
ニルカルボキシ)ブタン、1,5−ビス(3,4−ジヒ
ドロキシフェニルカルボキシ)ペンタン、1,6−ビス
(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)ヘキサ
ン、1,4−ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカ
ルボキシ)メチル〕ベンゼン、1,4−ビス〔(3,4
−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)メチル〕シクロヘ
キサン
ニルカルボキシ)ブタン、1,5−ビス(3,4−ジヒ
ドロキシフェニルカルボキシ)ペンタン、1,6−ビス
(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)ヘキサ
ン、1,4−ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカ
ルボキシ)メチル〕ベンゼン、1,4−ビス〔(3,4
−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)メチル〕シクロヘ
キサン
【0014】本発明に係わる一般式(I)で表される
3,4−ジヒドロキシ安息香酸エステル誘導体は、3,
4−ジヒドロキシ安息香酸とジハライド化合物又はジス
ルホネート化合物を脱酸剤存在下に反応させること、又
は3,4−ジヒドロキシ安息香酸又はその低級エステル
とジオール化合物とを触媒存在下に反応させることによ
り容易に得られる。
3,4−ジヒドロキシ安息香酸エステル誘導体は、3,
4−ジヒドロキシ安息香酸とジハライド化合物又はジス
ルホネート化合物を脱酸剤存在下に反応させること、又
は3,4−ジヒドロキシ安息香酸又はその低級エステル
とジオール化合物とを触媒存在下に反応させることによ
り容易に得られる。
【0015】本発明に使用する電子供与性無色染料とし
ては従来より公知のトリフェニルメタンフタリド系化合
物、フルオラン系化合物、フェノチアジン系化合物、イ
ンドリルフタリド系化合物、ロイコオーラミン系化合
物、ローダミンラクタム系化合物、トリフェニルメタン
系化合物、トリアゼン系化合物、スピロピラン系化合
物、フルオレン系化合物など各種の化合物が知られてい
る。フタリド類の具体例は米国再発行特許明細書第23
024号、米国特許明細書第3491111号、同第3
491112号、同第3491116号及び同第350
9174号、フルオラン類の具体例は米国特許明細書第
3624107号、同第3627787号、同第364
1011号、同第3462828号、同第368139
0号、同第3920510号、同第3959571号、
スピロジピラン類の具体例は米国特許明細書第3971
808号、ピリジン系及びピラジン系化合物類は米国特
許明細書第3775424号、同第3853869号、
同第4264318号、フルオレン系化合物の具体例は
特開昭59−199757号、特開昭63−41183
号等に記載されている。
ては従来より公知のトリフェニルメタンフタリド系化合
物、フルオラン系化合物、フェノチアジン系化合物、イ
ンドリルフタリド系化合物、ロイコオーラミン系化合
物、ローダミンラクタム系化合物、トリフェニルメタン
系化合物、トリアゼン系化合物、スピロピラン系化合
物、フルオレン系化合物など各種の化合物が知られてい
る。フタリド類の具体例は米国再発行特許明細書第23
024号、米国特許明細書第3491111号、同第3
491112号、同第3491116号及び同第350
9174号、フルオラン類の具体例は米国特許明細書第
3624107号、同第3627787号、同第364
1011号、同第3462828号、同第368139
0号、同第3920510号、同第3959571号、
スピロジピラン類の具体例は米国特許明細書第3971
808号、ピリジン系及びピラジン系化合物類は米国特
許明細書第3775424号、同第3853869号、
同第4264318号、フルオレン系化合物の具体例は
特開昭59−199757号、特開昭63−41183
号等に記載されている。
【0016】本発明に係わる3,4−ジヒドロキシ安息
香酸エステル誘導体は、従来より公知のフェノール誘導
体、サリチル酸誘導体、芳香族カルボン酸の金属塩、酸
性白土、ベントナイト、ノボラック樹脂、金属処理ノボ
ラック樹脂、金属錯体等の化合物と併用できる。これら
の例は特公昭40−9309号、同45−14039
号、特開昭562−140483号、同48−5151
0号、同57−210886号、同58−87089
号、同59−11286号、同60−76795号、同
61−95988号等に記載されている。他の電子受容
性化合物を併用する場合は、本発明に係わる3,4−ジ
ヒドロキシ安息香酸エステル誘導体を50重量%以上使
用することが好ましい。
香酸エステル誘導体は、従来より公知のフェノール誘導
体、サリチル酸誘導体、芳香族カルボン酸の金属塩、酸
性白土、ベントナイト、ノボラック樹脂、金属処理ノボ
ラック樹脂、金属錯体等の化合物と併用できる。これら
の例は特公昭40−9309号、同45−14039
号、特開昭562−140483号、同48−5151
0号、同57−210886号、同58−87089
号、同59−11286号、同60−76795号、同
61−95988号等に記載されている。他の電子受容
性化合物を併用する場合は、本発明に係わる3,4−ジ
ヒドロキシ安息香酸エステル誘導体を50重量%以上使
用することが好ましい。
【0017】本発明の記録材料を感熱紙に用いる場合に
は、特公昭59−53193号、特開昭59−1974
63号、特開昭62−114989号明細書に記載され
ている様な形態を取る。具体的には、電子供与性無色染
料および電子受容性化合物は分散媒中で10μ以下、こ
のましくは3μ以下の粒径まで粉砕分散して用いる。分
散媒としては、一般に0.5ないし10%程度の濃度の
水溶高分子水溶液が用いらる。その例としては、ポリビ
ニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロ
キシプロピルセルロース、エピクロルヒドリン変成ポリ
アミド、エチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン
−無水マレイン酸共重合体、イソブチレン−無水マレイ
ンサリチル酸共重合体、ポリアクリル酸、ポリアクリル
酸アミド、メチロール変成ポリアクリルアミド、デンプ
ン誘導体、カゼイン、ゼラチン等が挙げられる。またこ
れらのバインダーに耐水性を付与する目的で、耐水化剤
を加えたり、疎水性ポリマーのエマルジョン、具体的に
は、スチレン−ブタジエンゴムラテックス、アクリル樹
脂エマルジョンを加えることも出来る。
は、特公昭59−53193号、特開昭59−1974
63号、特開昭62−114989号明細書に記載され
ている様な形態を取る。具体的には、電子供与性無色染
料および電子受容性化合物は分散媒中で10μ以下、こ
のましくは3μ以下の粒径まで粉砕分散して用いる。分
散媒としては、一般に0.5ないし10%程度の濃度の
水溶高分子水溶液が用いらる。その例としては、ポリビ
ニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロ
キシプロピルセルロース、エピクロルヒドリン変成ポリ
アミド、エチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン
−無水マレイン酸共重合体、イソブチレン−無水マレイ
ンサリチル酸共重合体、ポリアクリル酸、ポリアクリル
酸アミド、メチロール変成ポリアクリルアミド、デンプ
ン誘導体、カゼイン、ゼラチン等が挙げられる。またこ
れらのバインダーに耐水性を付与する目的で、耐水化剤
を加えたり、疎水性ポリマーのエマルジョン、具体的に
は、スチレン−ブタジエンゴムラテックス、アクリル樹
脂エマルジョンを加えることも出来る。
【0018】本発明に係わる3,4−ジヒドロキシ安息
香酸エステル誘導体は、支持体上に、ジアゾ化合物、カ
ップリング成分及び有機塩基を含有する記録層と、電子
供与性無色染料および電子受容性化合物を含有する記録
層を設けた感光感熱記録材料において、該電子受容性化
合物として用いることができる。これらの感光感熱記録
材料は特開平4−135787号、同4−144784
号、同4−144785号、同4−194842号、同
4−247447号、同4−247448号、同4−3
40540号、同4−340541号、同5−3486
0号等に記載されている。
香酸エステル誘導体は、支持体上に、ジアゾ化合物、カ
ップリング成分及び有機塩基を含有する記録層と、電子
供与性無色染料および電子受容性化合物を含有する記録
層を設けた感光感熱記録材料において、該電子受容性化
合物として用いることができる。これらの感光感熱記録
材料は特開平4−135787号、同4−144784
号、同4−144785号、同4−194842号、同
4−247447号、同4−247448号、同4−3
40540号、同4−340541号、同5−3486
0号等に記載されている。
【0019】分散はボールミル、サンドミル、横型サン
ドミル、アトライタ、コロイダルミル等を用いて行われ
る。
ドミル、アトライタ、コロイダルミル等を用いて行われ
る。
【0020】使用される電子供与性無色染料と3,4−
ジヒドロキシ安息香酸誘導体の比は、重量比で1:10
から1:1のあいだが好ましく、更には1:5から2:
3のあいだが特に好ましい。
ジヒドロキシ安息香酸誘導体の比は、重量比で1:10
から1:1のあいだが好ましく、更には1:5から2:
3のあいだが特に好ましい。
【0021】熱応答性を改良するために熱可融性物質を
感熱発色層に含有させることが出来る。熱可融性物質と
しては、芳香族エーテル、チオエーテル、エステル及び
又は脂肪族アミド又はウレイドなどが其の代表である。
これらの例は特開昭58−57989号、同58−87
094号、同61−58789号、同62−10968
1号、同62−132674号、同63−151478
号、同63−235961号などに記載されている。
感熱発色層に含有させることが出来る。熱可融性物質と
しては、芳香族エーテル、チオエーテル、エステル及び
又は脂肪族アミド又はウレイドなどが其の代表である。
これらの例は特開昭58−57989号、同58−87
094号、同61−58789号、同62−10968
1号、同62−132674号、同63−151478
号、同63−235961号などに記載されている。
【0022】これらは単独で分散するか、あるいは電子
供与性無色染料又は3,4−ジヒドロキシ安息香酸誘導
体と同時に微分散して用いられる。これらの使用量は、
3,4−ジヒドロキシ安息香酸エステル誘導体に対して
20%以上300%以下の重量比で添加され、特に40
%以上150%以下が好ましい。
供与性無色染料又は3,4−ジヒドロキシ安息香酸誘導
体と同時に微分散して用いられる。これらの使用量は、
3,4−ジヒドロキシ安息香酸エステル誘導体に対して
20%以上300%以下の重量比で添加され、特に40
%以上150%以下が好ましい。
【0023】この様にして得られた塗液には、更に種々
の要求を満たすために、必要に応じて添加剤が加えられ
る。添加剤の例としては記録時の記録ヘッドのよごれを
防止するために、無機顔料、ポリウレアフィラー等の吸
油性物質、ヘッドに対する離型性を高めるために脂肪
酸、金属石鹸などが添加される。従って一般には電子供
与性無色染料、電子供与性化合物のほかに、熱可融性物
質、顔料、ワックス、帯電防止剤、紫外線吸収剤、消泡
剤、導電剤、蛍光染料、界面活性剤などの添加剤混合さ
れて感熱塗液が形成される。得られた感熱塗液は、上質
紙、下塗り層を有する上質紙、合成紙、プラスチックフ
ィルム等に塗布される。この際JIS−8119で規定
される平滑度が500秒以上特に800秒以上の支持体
を用いるのがドット再現性の点から特に好ましい。
の要求を満たすために、必要に応じて添加剤が加えられ
る。添加剤の例としては記録時の記録ヘッドのよごれを
防止するために、無機顔料、ポリウレアフィラー等の吸
油性物質、ヘッドに対する離型性を高めるために脂肪
酸、金属石鹸などが添加される。従って一般には電子供
与性無色染料、電子供与性化合物のほかに、熱可融性物
質、顔料、ワックス、帯電防止剤、紫外線吸収剤、消泡
剤、導電剤、蛍光染料、界面活性剤などの添加剤混合さ
れて感熱塗液が形成される。得られた感熱塗液は、上質
紙、下塗り層を有する上質紙、合成紙、プラスチックフ
ィルム等に塗布される。この際JIS−8119で規定
される平滑度が500秒以上特に800秒以上の支持体
を用いるのがドット再現性の点から特に好ましい。
【0024】更に必要に応じて感熱記録の表面に保護層
を設けてもよい。保護層は必要に応じて二層以上積層し
てもよい。また支持体のカールバランスを補正するため
或いは、裏面からの耐薬品性を向上させる目的で、裏面
に保護層と類似した塗液を塗布してもよい。裏面に接着
剤を塗布し、更に剥離紙を組み合わせてラベルの形態に
してもよい。
を設けてもよい。保護層は必要に応じて二層以上積層し
てもよい。また支持体のカールバランスを補正するため
或いは、裏面からの耐薬品性を向上させる目的で、裏面
に保護層と類似した塗液を塗布してもよい。裏面に接着
剤を塗布し、更に剥離紙を組み合わせてラベルの形態に
してもよい。
【0025】本発明に係わる電子供与性無色染料の塗布
量は、任意だが、支持体上に0.1〜2.0g/m2 、
特には0.2〜1.5g/m2 が好ましい。
量は、任意だが、支持体上に0.1〜2.0g/m2 、
特には0.2〜1.5g/m2 が好ましい。
【0026】支持体上に下塗り層を設ける場合には、顔
料を主成分とする下塗層が好ましい。顔料としては、一
般の有機或いは無機の顔料がすべて使用できるが、とく
に、JIS−K5101で規定する吸油度が40cc/
100g以上であるものが好ましく、具体的には炭酸カ
ルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、タルク、ロウ
石、カオリン、焼成カオリン、水酸化アルミニウム、非
晶質シリカ、尿素ホルマリン樹脂粉末、ポリエチレン樹
脂粉末等が挙げられる。これらの顔料を支持体に塗布す
る場合、顔料量として2g/m2 以上、好ましくは、4
g/m2 以上である。
料を主成分とする下塗層が好ましい。顔料としては、一
般の有機或いは無機の顔料がすべて使用できるが、とく
に、JIS−K5101で規定する吸油度が40cc/
100g以上であるものが好ましく、具体的には炭酸カ
ルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、タルク、ロウ
石、カオリン、焼成カオリン、水酸化アルミニウム、非
晶質シリカ、尿素ホルマリン樹脂粉末、ポリエチレン樹
脂粉末等が挙げられる。これらの顔料を支持体に塗布す
る場合、顔料量として2g/m2 以上、好ましくは、4
g/m2 以上である。
【0027】下塗り層に使用するバインダーとしては、
水溶性高分子及び水溶性バインダーがあげられ、バイン
ダーは一種若しくは二種以上混合して使用してもよい。
水溶性高分子及び水溶性バインダーがあげられ、バイン
ダーは一種若しくは二種以上混合して使用してもよい。
【0028】水溶性高分子としては、メチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシチルセル
ロース、デンプン類、ゼラチン、アラビアゴム、カゼイ
ン、スチレン−無水マレイン酸共重合体加水分解物、エ
チレン−無水マレイン酸共重合体加水分解物、ポリビニ
ルアルコール、ポリアクリルアミド等が挙げられる。
ス、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシチルセル
ロース、デンプン類、ゼラチン、アラビアゴム、カゼイ
ン、スチレン−無水マレイン酸共重合体加水分解物、エ
チレン−無水マレイン酸共重合体加水分解物、ポリビニ
ルアルコール、ポリアクリルアミド等が挙げられる。
【0029】水溶性バインダーとしては、合成ゴムラテ
ックスあるいは合成樹脂エマルジョンが一般的であり、
スチレン−ブタジエンゴムラテックス、アクリロニトリ
ル−ブタジエンゴムラテックス、アクリル酸メチル−ブ
タジエンゴムラテックス、酢酸ビニルエマルジョンなど
が挙げられる。
ックスあるいは合成樹脂エマルジョンが一般的であり、
スチレン−ブタジエンゴムラテックス、アクリロニトリ
ル−ブタジエンゴムラテックス、アクリル酸メチル−ブ
タジエンゴムラテックス、酢酸ビニルエマルジョンなど
が挙げられる。
【0030】バインダーの使用量は顔料にたいし、3〜
100重量%好ましくは5〜50重量%である。下塗り
層にはワックス、消色防止剤、界面活性剤等を添加して
もよい。
100重量%好ましくは5〜50重量%である。下塗り
層にはワックス、消色防止剤、界面活性剤等を添加して
もよい。
【0031】感熱記録層中に添加する添加剤として用い
られる顔料は、カオリン、焼成カオリン、タルク、ロウ
石、ケイソウ土、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウ
ム、水酸化マグネシウム、酸化亜鉛、リトポン、非晶質
シリカ、コロイダルシリカ、焼成石コウ、シリカ、炭酸
マグネシウム、酸化チタン、アルミナ、炭酸バリウム、
硫酸バリウム、マイカ、マイクロバルーン、尿素−ホル
マリンフィラー、ポリエステルパーティクル、セルロー
スフィラー等があげられる。
られる顔料は、カオリン、焼成カオリン、タルク、ロウ
石、ケイソウ土、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウ
ム、水酸化マグネシウム、酸化亜鉛、リトポン、非晶質
シリカ、コロイダルシリカ、焼成石コウ、シリカ、炭酸
マグネシウム、酸化チタン、アルミナ、炭酸バリウム、
硫酸バリウム、マイカ、マイクロバルーン、尿素−ホル
マリンフィラー、ポリエステルパーティクル、セルロー
スフィラー等があげられる。
【0032】金属石鹸としては、高級脂肪酸多価金属
塩、例えば、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニ
ウム、ステアリン酸カルシウム、オレイン酸亜鉛等が挙
げられる。
塩、例えば、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニ
ウム、ステアリン酸カルシウム、オレイン酸亜鉛等が挙
げられる。
【0033】また本発明においては、ファクシミリに対
するヘッドマッチング性の点から融点40〜120℃の
ワックスを併用しても差し支えない。ワックスとして
は、融点40〜120℃のもので、パラフィンワック
ス、ポリエチレンワックス、カルナバワックス、マイク
ロクリスタリンワックス、キャンデリアワックス、モン
タンワックス、脂肪酸アミド系ワックスが好ましく、と
くに、融点が50〜100℃のパラフィンワックス、モ
ンタンワックス、メチロールステアロアミドが好まし
い。ワックスの使用量は、電子供与性無色染料の5〜2
00重量%、好ましくは、20〜150重量%である。
するヘッドマッチング性の点から融点40〜120℃の
ワックスを併用しても差し支えない。ワックスとして
は、融点40〜120℃のもので、パラフィンワック
ス、ポリエチレンワックス、カルナバワックス、マイク
ロクリスタリンワックス、キャンデリアワックス、モン
タンワックス、脂肪酸アミド系ワックスが好ましく、と
くに、融点が50〜100℃のパラフィンワックス、モ
ンタンワックス、メチロールステアロアミドが好まし
い。ワックスの使用量は、電子供与性無色染料の5〜2
00重量%、好ましくは、20〜150重量%である。
【0034】光に対する安定性を改良するため紫外線吸
収剤を添加してもよい。紫外線吸収剤としては、桂皮酸
誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾリルフ
ェノール誘導体など具体的にはα−シアノ−β−フェニ
ル桂皮酸ブチル、o−ベンゾトリアゾールフェノール、
o−ベンゾトリアゾール−p−クロロフェノール、o−
ベンゾトリアゾール−2,4−ジ−t−ブチルフェノー
ル、o−ベンゾトリアゾリル−2,4−ジ−t−オクチ
ルフェノール等がある。ヒンダートフェノール化合物と
しては、少なくとも2位または6位のうち1ケ以上が分
岐アルキル基で置換されたフェノール誘導体が好まし
い。
収剤を添加してもよい。紫外線吸収剤としては、桂皮酸
誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾリルフ
ェノール誘導体など具体的にはα−シアノ−β−フェニ
ル桂皮酸ブチル、o−ベンゾトリアゾールフェノール、
o−ベンゾトリアゾール−p−クロロフェノール、o−
ベンゾトリアゾール−2,4−ジ−t−ブチルフェノー
ル、o−ベンゾトリアゾリル−2,4−ジ−t−オクチ
ルフェノール等がある。ヒンダートフェノール化合物と
しては、少なくとも2位または6位のうち1ケ以上が分
岐アルキル基で置換されたフェノール誘導体が好まし
い。
【0035】耐水化剤としては、N−メチロール尿素、
N−メチロールメラミン、尿素−ホルマリン等の水溶性
初期縮合物、グリオキザール、グルタルアルデヒド等の
ジアルデヒド化合物類、硼酸、硼砂等の無機系架橋剤、
ポリアクリル酸、メチルビニルエーテル−マレイン酸共
重合体、イソブチレン−無水マレイン酸共重合体等のブ
レンド熱処理等が挙げられる。
N−メチロールメラミン、尿素−ホルマリン等の水溶性
初期縮合物、グリオキザール、グルタルアルデヒド等の
ジアルデヒド化合物類、硼酸、硼砂等の無機系架橋剤、
ポリアクリル酸、メチルビニルエーテル−マレイン酸共
重合体、イソブチレン−無水マレイン酸共重合体等のブ
レンド熱処理等が挙げられる。
【0036】保護層に用いる材料としては、ポリビニル
アルコール、カルボキシ変性ポリビニルアルコール、酢
酸ビニル−アクリルアミド共重合体、珪素変性ポリビニ
ルアルコール、澱粉、変性澱粉、メチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロー
ス、ゼラチン類、アラビアゴム、カゼイン、スチレン−
マレイン酸共重合体加水分解物、スチレン−マレイン酸
共重合物ハーフエステル加水分解物、イソブチレン−無
水マレイン酸共重合体加水分解物、ポリアクリルアミド
誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリスチレンスルホン
酸ソーダ、アルギン酸ソーダなどの水溶性高分子および
スチレン−ブタジエンゴムラテックス、アクリロニトリ
ル−ブタジエンゴムラテックス、アクリル酸メチル−ブ
タジエンゴムラテックス、酢酸ビニルエマルジョン等の
水不溶性ポリマーが用いられる。
アルコール、カルボキシ変性ポリビニルアルコール、酢
酸ビニル−アクリルアミド共重合体、珪素変性ポリビニ
ルアルコール、澱粉、変性澱粉、メチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロー
ス、ゼラチン類、アラビアゴム、カゼイン、スチレン−
マレイン酸共重合体加水分解物、スチレン−マレイン酸
共重合物ハーフエステル加水分解物、イソブチレン−無
水マレイン酸共重合体加水分解物、ポリアクリルアミド
誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリスチレンスルホン
酸ソーダ、アルギン酸ソーダなどの水溶性高分子および
スチレン−ブタジエンゴムラテックス、アクリロニトリ
ル−ブタジエンゴムラテックス、アクリル酸メチル−ブ
タジエンゴムラテックス、酢酸ビニルエマルジョン等の
水不溶性ポリマーが用いられる。
【0037】また保護層中に感熱ヘッドとのマッチング
性を向上させる目的で、顔料、金属石鹸、ワックス、耐
水化剤等を添加してもよい。保護層を感熱発色層上に塗
布する際に、均一な保護層を得るために界面活性剤を添
加してもよい。界面活性剤としてはスルホコハク酸系の
アルカリ金属塩、フッ素含有界面活性剤が用いられる。
具体的にはジ−(n−ヘキシル)スルホコハク酸、ジ−
(2−エチルヘキシル)スルホコハク酸等のナトリウム
塩、またはアンモニウム塩等が好ましいが、アニオン系
の界面活性剤なら効果が認められる。また保護層中に、
光に対する安定性を改良するため紫外線吸収剤を添加し
てもよい。
性を向上させる目的で、顔料、金属石鹸、ワックス、耐
水化剤等を添加してもよい。保護層を感熱発色層上に塗
布する際に、均一な保護層を得るために界面活性剤を添
加してもよい。界面活性剤としてはスルホコハク酸系の
アルカリ金属塩、フッ素含有界面活性剤が用いられる。
具体的にはジ−(n−ヘキシル)スルホコハク酸、ジ−
(2−エチルヘキシル)スルホコハク酸等のナトリウム
塩、またはアンモニウム塩等が好ましいが、アニオン系
の界面活性剤なら効果が認められる。また保護層中に、
光に対する安定性を改良するため紫外線吸収剤を添加し
てもよい。
【0038】
【0039】〔合成例1〕ナトリウムメトキサイド3.
25g(60ミリモル)のジメチルアセトアミド100
ml溶液に、3,4−ジヒドロキシ安息香酸10.0g
(65ミリモル)、1,4−ジブロモブタン5.83g
(27ミリモル)を加え、60℃で3時間攪拌した。反
応混合物を氷水にあけ塩酸酸性とした後、酢酸エチルで
抽出した。有機相を炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食
塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去した後、残留物をカラムクロマトグラフィーによ
り精製し、1,4−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニ
ルカルボキシ)ブタン2.84g(収率29%)を得
た。(融点240〜5℃)
25g(60ミリモル)のジメチルアセトアミド100
ml溶液に、3,4−ジヒドロキシ安息香酸10.0g
(65ミリモル)、1,4−ジブロモブタン5.83g
(27ミリモル)を加え、60℃で3時間攪拌した。反
応混合物を氷水にあけ塩酸酸性とした後、酢酸エチルで
抽出した。有機相を炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食
塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去した後、残留物をカラムクロマトグラフィーによ
り精製し、1,4−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニ
ルカルボキシ)ブタン2.84g(収率29%)を得
た。(融点240〜5℃)
【0040】〔合成例2〕触媒量のp−トルエンスルホ
ン酸のトルエン溶液に3,4−ジヒドロキシ安息香酸メ
チルエステル10.92(65ミリモル)、1,4−ジ
ヒドロキシブタン2.43g(27ミリモル)を加え、
還流下6時間攪拌した。反応混合物を氷水にあけ酢酸エ
チルで抽出した。有機相を炭酸水素ナトリウム水溶液、
飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を留去した後、残留物をカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、1,4−ビス(3,4−ジヒドロキ
シフェニルカルボキシ)ブタン2.93g(収率30
%)を得た。
ン酸のトルエン溶液に3,4−ジヒドロキシ安息香酸メ
チルエステル10.92(65ミリモル)、1,4−ジ
ヒドロキシブタン2.43g(27ミリモル)を加え、
還流下6時間攪拌した。反応混合物を氷水にあけ酢酸エ
チルで抽出した。有機相を炭酸水素ナトリウム水溶液、
飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を留去した後、残留物をカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、1,4−ビス(3,4−ジヒドロキ
シフェニルカルボキシ)ブタン2.93g(収率30
%)を得た。
【0041】実施例2 1,5−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキ
シ)ペンタンの合成実施例1の合成例2において1,4
−ジヒドロキシブタンの代わりに、1,5−ジヒドロキ
シペンタンを使用した以外は、同様にして目的物を得
た。(融点145〜55℃)
シ)ペンタンの合成実施例1の合成例2において1,4
−ジヒドロキシブタンの代わりに、1,5−ジヒドロキ
シペンタンを使用した以外は、同様にして目的物を得
た。(融点145〜55℃)
【0042】実施例3 1,4−ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボ
キシ)メチル〕ベンゼンの合成 実施例1の合成例1において1,4−ジブロモブタンの
代わりに、p−キシリレンジブロマイドを使用した以外
は、同様にして目的物を得た。(融点220〜3℃)
キシ)メチル〕ベンゼンの合成 実施例1の合成例1において1,4−ジブロモブタンの
代わりに、p−キシリレンジブロマイドを使用した以外
は、同様にして目的物を得た。(融点220〜3℃)
【0043】実施例4 1,4−ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボ
キシ)メチル〕シクロヘキサンの合成 実施例1の合成例2において1,4−ジヒドロキシブタ
ンの代わりに、1,4−シクロヘキサンジメタノールを
使用した以外は、同様にして目的物を得た。(融点16
5〜170℃)
キシ)メチル〕シクロヘキサンの合成 実施例1の合成例2において1,4−ジヒドロキシブタ
ンの代わりに、1,4−シクロヘキサンジメタノールを
使用した以外は、同様にして目的物を得た。(融点16
5〜170℃)
【0044】実施例5 記録材料の作成 〔電子供与性染料前駆体カプセル液の調製〕3−(2−
メチル−4−ジメチルアミノフェニル)−3−(1−エ
チル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフ
タリド(電子供与性染料前駆体)3.0部を酢酸エチル
20部に溶解し、さらに高沸点溶剤であるアルキルナフ
タレン20部を添加して均一に混合した。得られた混合
液に、カプセル壁材として、キシリレンジイソシアネー
ト/トリメチロールプロパンの3/1付加物(75重量
%酢酸エチル溶液)(タケネートD−110N(武田薬
品工業株式会社製))20部を添加し、均一に攪拌し
た。別途、ポリビニルアルコール(重合度1700、鹸
化度88%)の6%水溶液54部を用意し、前記の電子
供与性染料前駆体を添加した後、ホモジナイザーにて乳
化分散した。得られた乳化液に水68部を加えて均一化
した後、攪拌しながら50℃に昇温し、3時間カプセル
化反応を行なわせて目的のカプセル液を得た。カプセル
の平均粒子径は1.6μmであった。
メチル−4−ジメチルアミノフェニル)−3−(1−エ
チル−2−メチルインドール−3−イル)−4−アザフ
タリド(電子供与性染料前駆体)3.0部を酢酸エチル
20部に溶解し、さらに高沸点溶剤であるアルキルナフ
タレン20部を添加して均一に混合した。得られた混合
液に、カプセル壁材として、キシリレンジイソシアネー
ト/トリメチロールプロパンの3/1付加物(75重量
%酢酸エチル溶液)(タケネートD−110N(武田薬
品工業株式会社製))20部を添加し、均一に攪拌し
た。別途、ポリビニルアルコール(重合度1700、鹸
化度88%)の6%水溶液54部を用意し、前記の電子
供与性染料前駆体を添加した後、ホモジナイザーにて乳
化分散した。得られた乳化液に水68部を加えて均一化
した後、攪拌しながら50℃に昇温し、3時間カプセル
化反応を行なわせて目的のカプセル液を得た。カプセル
の平均粒子径は1.6μmであった。
【0045】〔電子受容性化合物分散液の調製〕実施例
1の1,4−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカル
ボキシ)ブタン(電子受容性化合物)30部をポリビニ
ルアルコール4%水溶液150部中に加えた後、ボール
ミルにて24時間分散して分散液を作製した。得られた
分散液中の電子受容性化合物の平均粒径は1.2μmで
あった。 〔塗布液の調製〕上記電子供与性染料前駆体カプセル
液、電子受容性化合物分散液を電子供与性染料前駆体/
電子受容性化合物のモル比が1/15となるように混合
して、目的の塗布液を調製した。 〔塗布〕厚み75μmのポリエチレンテレフタレート支
持体上に、メイヤーバーで、感熱記録層液を塗布・乾燥
して目的の感熱記録材料を得た。電子供与性染料前駆体
の塗布量は0.3g/m2 であった。
1の1,4−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカル
ボキシ)ブタン(電子受容性化合物)30部をポリビニ
ルアルコール4%水溶液150部中に加えた後、ボール
ミルにて24時間分散して分散液を作製した。得られた
分散液中の電子受容性化合物の平均粒径は1.2μmで
あった。 〔塗布液の調製〕上記電子供与性染料前駆体カプセル
液、電子受容性化合物分散液を電子供与性染料前駆体/
電子受容性化合物のモル比が1/15となるように混合
して、目的の塗布液を調製した。 〔塗布〕厚み75μmのポリエチレンテレフタレート支
持体上に、メイヤーバーで、感熱記録層液を塗布・乾燥
して目的の感熱記録材料を得た。電子供与性染料前駆体
の塗布量は0.3g/m2 であった。
【0046】〔熱記録〕京セラ株式会社製サーマルヘッ
ド(KST型)を用いて、単位面積当たりの記録エネル
ギーが35mJ/mm2 となるように、サーマルヘッド
に対する印加電力及びパルス幅を決め、該感熱記録材料
を印字した。 〔発色部の耐熱性評価〕印字した記録材料をマクベスR
D−918により発色濃度を測定した後、80℃オーブ
ンに3日間保管し、保管後の印字部をマクベスRD−9
18を用いて再び測定した。測定後、下式に示す発色濃
度残存率を測定したところ、値は82%であった。 発色濃度残存率(%)=(80℃オーブンに3日間保管
後の濃度)/(保管前の濃度)×100 (値が大きい程、耐熱性が良好であることを示す。)
ド(KST型)を用いて、単位面積当たりの記録エネル
ギーが35mJ/mm2 となるように、サーマルヘッド
に対する印加電力及びパルス幅を決め、該感熱記録材料
を印字した。 〔発色部の耐熱性評価〕印字した記録材料をマクベスR
D−918により発色濃度を測定した後、80℃オーブ
ンに3日間保管し、保管後の印字部をマクベスRD−9
18を用いて再び測定した。測定後、下式に示す発色濃
度残存率を測定したところ、値は82%であった。 発色濃度残存率(%)=(80℃オーブンに3日間保管
後の濃度)/(保管前の濃度)×100 (値が大きい程、耐熱性が良好であることを示す。)
【0047】実施例6 実施例5の電子受容性化合物である1,4−ビス(3,
4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)ブタンを、1,
4−ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキ
シ)メチル〕ベンゼンに代えた他は、実施例5と同様に
して発色部の耐熱性評価を行ったところ、発色濃度残存
率は92%であった。
4−ジヒドロキシフェニルカルボキシ)ブタンを、1,
4−ビス〔(3,4−ジヒドロキシフェニルカルボキ
シ)メチル〕ベンゼンに代えた他は、実施例5と同様に
して発色部の耐熱性評価を行ったところ、発色濃度残存
率は92%であった。
【0048】〔比較例1〕実施例5の電子受容性化合物
である1,4−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカ
ルボキシ)ブタンをビスフェノールAに代えた他は、実
施例5と同様にして発色部の耐熱性評価を行なったとこ
ろ、発色濃度残存率は61%であった。
である1,4−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカ
ルボキシ)ブタンをビスフェノールAに代えた他は、実
施例5と同様にして発色部の耐熱性評価を行なったとこ
ろ、発色濃度残存率は61%であった。
【0049】〔比較例2〕実施例5の電子受容性化合物
である1,4−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカ
ルボキシ)ブタンを4−ヒドロキシフェニル−4’−イ
ソロポキシフェニルスルホンに代えた他は、実施例5と
同様にして発色部の耐熱性評価を行なったところ、発色
濃度残存率は54%であった。
である1,4−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニルカ
ルボキシ)ブタンを4−ヒドロキシフェニル−4’−イ
ソロポキシフェニルスルホンに代えた他は、実施例5と
同様にして発色部の耐熱性評価を行なったところ、発色
濃度残存率は54%であった。
【0050】
【発明の効果】本発明により、電子受容性化合物として
有用な3,4−ジヒドロキシ安息香酸エステル誘導体及
びこれを用いた耐熱性の良好な記録材料が提供される。
有用な3,4−ジヒドロキシ安息香酸エステル誘導体及
びこれを用いた耐熱性の良好な記録材料が提供される。
Claims (2)
- 【請求項1】 下記一般式(I)で表される3,4−ジ
ヒドロキシ安息香酸エステル誘導体。 一般式(I) 【化1】 式中Xは、炭素数1〜20のアルキレン基または炭素数
8〜20のアラルキレン基を表す。 - 【請求項2】 電子供与性無色染料と電子受容性化合物
を使用した記録材料において、該電子受容性化合物とし
て下記一般式(I)で表される3,4−ジヒドロキシ安
息香酸エステル誘導体を使用することを特徴とする記録
材料。 一般式(I) 【化2】 式中Xは、炭素数1〜20のアルキレン基または炭素数
8〜20のアラルキレン基を表す。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6141478A JPH07173108A (ja) | 1993-10-25 | 1994-06-23 | 3,4−ジヒドロキシ安息香酸エステル誘導体及びそれを使用した記録材料 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5-266492 | 1993-10-25 | ||
JP26649293 | 1993-10-25 | ||
JP6141478A JPH07173108A (ja) | 1993-10-25 | 1994-06-23 | 3,4−ジヒドロキシ安息香酸エステル誘導体及びそれを使用した記録材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07173108A true JPH07173108A (ja) | 1995-07-11 |
Family
ID=26473705
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6141478A Pending JPH07173108A (ja) | 1993-10-25 | 1994-06-23 | 3,4−ジヒドロキシ安息香酸エステル誘導体及びそれを使用した記録材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07173108A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004099116A3 (en) * | 2003-05-09 | 2005-03-31 | Ciba Sc Holding Ag | Heat sensitive recording material |
-
1994
- 1994-06-23 JP JP6141478A patent/JPH07173108A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004099116A3 (en) * | 2003-05-09 | 2005-03-31 | Ciba Sc Holding Ag | Heat sensitive recording material |
US7517397B2 (en) | 2003-05-09 | 2009-04-14 | Ciba Specialty Chemicals Corp. | Heat sensitive recording material |
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