JPH07141611A

JPH07141611A - 磁気ヘッド及びその製造方法

Info

Publication number: JPH07141611A
Application number: JP30716793A
Authority: JP
Inventors: Hidekazu Kachi; 英一加地; Jiro Osada; 二郎長田
Original assignee: Akai Electric Co Ltd
Current assignee: Akai Electric Co Ltd
Priority date: 1993-11-12
Filing date: 1993-11-12
Publication date: 1995-06-02

Abstract

(57)【要約】【構成】非磁性基板１上に成膜されたセンダスト膜３
を有する２個のコア半体を備え、ギャップ材を介してセ
ンダスト膜３が突き合わされるように、前記２個のコア
半体を互いに接合した磁気ヘッドであって、センダスト
膜３上に配設された非磁性体（非磁性基板１１）を有
し、センダスト膜３が基板１と前記非磁性体とによって
挟まれるようにしたものにおいて、前記非磁性体と基板
１とは、熱膨張係数が実質的に等しい材料よりなる。【効果】この磁気ヘッドの製造に際して、非磁性基板
に設けたＶ字形の溝にセンダスト膜を成膜し、この上に
前記溝を埋める非磁性体を配設するようにしても、前記
非磁性基板には大きなそりを生ずることがない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、磁気ヘッド及びその
製造方法に関するものであり、特にビデオヘッド、デジ
タル用ヘッドのように高密度磁気記録された信号を再生
する磁気ヘッドとして好適なものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、高密度に信号を磁気記録した
り、この高密度磁気記録された信号を再生する磁気ヘッ
ドにおいては、そのコア材料として高飽和磁束密度かつ
高透磁率のものが要求される。このため、フェライトヘ
ッドのギャップ対向面に、Ｃｏ−Ｎｂ−Ｚｒ合金薄膜や
センダスト合金薄膜を成形した、いわゆるＭＩＧ(Metal
In Gap)ヘッドが用いられている。しかし、高密度化が
進むにつれて信号は短波長化し、記録媒体の面記録密度
はより大きくなる一方、磁気ヘッドとしては狭ギャップ
化、狭トラック化が進んでいる。ちなみに、家庭向ハイ
ビジョン放送用ＶＴＲでは、２０ＭＨｚの映像信号を記
録再生するために、最短記録波長は0.5μm程度になると
推定されている。

【０００３】記録された信号が前記のような高周波領域
になると、前記した従来のＭＩＧヘッドでは、摺動ノイ
ズによりＳＮ比が低下する、という問題が発生し、使用
できない。そこで、摺動ノイズの発生の心配がない非磁
性基板を用い、この基板上に軟磁性薄膜を成形して該金
属薄膜単体で磁路を形成した磁気ヘッドも知られてい
る。このような磁気ヘッドでは、非磁性基板上に、Ｃｏ
−Ｎｂ−Ｚｒ薄膜やセンダスト合金薄膜等の軟磁性薄膜
を成膜した後に、ガラスモールドを施し、しかる後に巻
線窓加工や対向面ラップを行なうのが普通である。仮
に、前記ガラスモールドを施さない状態で前記の巻線窓
加工や対向面ラップを行なうと、これらの加工による膜
剥がれが起きる恐れがある。

【０００４】図１０は上記したように非磁性基板を用
い、この基板上に軟磁性薄膜を成形して該金属薄膜単体
で磁路を形成した従来の磁気ヘッドを示すものであり、
図１２及び図１３にこの磁気ヘッドの製造過程が示され
ている。この従来の磁気ヘッドの製造方法について、そ
の具体例を、前記図１２及び図１３を参照しながら説明
する。平板状の非導電性でかつ非磁性の基板、例えばＣ
ａＴｉＯ₃セラミックス基板１に、図１２（ａ）に示す
ようなＶ字形の溝２を複数箇所に亘って設ける。この溝
２のある面に下地膜（Ｃｒ等）を成膜する（図示せ
ず）。この下地膜の上に（ｂ）にのようにセンダスト膜
３を所定の厚さに成膜する。この上に保護膜として、Ｓ
ｉＯ₂膜（図示せず）を成膜する。そして、モールドガ
ラスを乗せ、６００℃で加熱する。（ｃ）はこの加熱後
の様子を示すものであり、４はガラスである。その後、
（ｄ）、（ｅ）のように対向面を削り出し、（ｅ）のよ
うに巻線窓となる溝５を設ける。尚、（ｅ）は（ｄ）の
側面を示すものである。

【０００５】その後、対向面仕上げラップし、ギャップ
材（図示せず）をスパッタする。この（ｄ），（ｅ）に
示すブロック６と、これと同一形状のブロック７（ギャ
ップ材がスパッタされていなくてもよい）を、図１３の
ように対にして突合せ、加熱圧着をする。次に、摺動面
のＲ加工を行い、所定アジマス角度にて破線で示すよう
にスライスする。このようにして完成したチップに巻
線、先端加工等の工程を施し、最終的に図１０に示すよ
うな磁気ヘッドにする。図１０において、図１２、図１
３と同一符号は同一のものを示す。また、８は磁気ギャ
ップ、９は巻線、１０は巻線外溝である。図１０に示す
磁気ヘッドの磁気ギャップ８の近傍の詳細は、図１１に
拡大して示してある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
ように非磁性の基板１上に形成されたＶ字形の溝２は、
その上に形成されるセンダスト膜３等の軟磁性薄膜が巻
線窓となる溝５によって削られても残りの軟磁性薄膜が
磁路として作用するのに十分な体積と良好な膜質を持た
ねばならないため、広くかつ深くなっている。従って、
この溝２に充填されるモールドガラスの体積は必然的に
大きくなるために、図１４のようにガラスモールド後の
基板１のそりが大きくなり、突合わせ後のトラックずれ
が発生しやすい。図１４において、図１２と同一符号は
同一部分を示す。また、ガラスの熱膨張係数は一般に軟
磁性薄膜の熱膨張係数よりも小さいため、この軟磁性薄
膜が熱応力を受け、逆磁歪効果によって膜特性が劣化し
やすい。また、前記した一対のコアブロック６，７を溶
着して一体化する際に、巻線窓にモールドガラスが流れ
込んで、孔詰まりを起こしやすい。この発明は、上記の
欠点を除去した磁気ヘッド及びその製造方法を提供する
ものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めの、この発明の磁気ヘッドは、非磁性基板と、該基板
上に成膜された軟磁性薄膜とを有する２個のコア半体を
備え、ギャップ材を介して前記軟磁性薄膜が突き合わさ
れるように、前記２個のコア半体を互いに接合した磁気
ヘッドであって、前記軟磁性薄膜上に配設された非磁性
体を有し、前記軟磁性薄膜が前記基板と前記非磁性体と
によって挟まれるように構成されたものにおいて、前記
非磁性体と前記基板とは、熱膨張係数が実質的に等しい
材料よりなることを特徴とするものである。即ち、軟磁
性膜を成膜後、従来のようにガラスモールドをする代わ
りに、Ｖ字形の溝が埋まるような形状の非磁性体を接合
し、不要部分を研磨削除することによってギャップ面を
形成し、突合せ溶着をするようにしたものである。前記
非磁性体と前記基板とは同一の材料からなるものでもよ
い。

【０００８】また、この発明の磁気ヘッドの製造方法
は、前記磁気ヘッドの製造方法であって、熱膨張係数が
実質的に等しい非磁性の第１及び第２の基板を用意し、
これらの基板の一面には断面形状が鋸歯状の複数の第１
の溝をそれぞれ設け、前記第１の基板における前記第１
の溝が設けられた面には軟磁性薄膜を成膜し、しかる後
に前記第１の基板と第２の基板との前記第１の溝が互い
に嵌合されるように組み合わせて溶着し、前記第１の基
板の前記した第１の溝の総てに前記第２の基板を残した
状態で、前記第１の基板からこの第１の基板の一部及び
第２の基板の一部を除去し、前記第１の基板の前記第１
の溝を施した面には、これらの第１の溝と直交する方向
の、巻線窓となる第２の溝を設け、このようにして構成
されたコアブロックを２個用意し、前記第１の溝を施し
た面に露出した複数の対をなす軟磁性薄膜のうち、一方
が互いに突き合わされるように、ギャップ材を介して前
記２個のコアブロックを互いに組み合せてこれらのコア
ブロックを接合し、しかる後に、前記の接合されたコア
ブロックをスライスして複数のコアチップを得、これら
のコアチップにおける、前記第２の溝により形成された
巻線窓に巻線を施すことを特徴とするものである。ま
た、前記２個のコアブロックのうち、何れか一方のみに
前記第２の溝を設けるてもよい。

【０００９】

【作用】上記のように構成された磁気ヘッドでは、その
製造に際して、前記第１の溝の内部は、従来のようにモ
ールドガラスではなく、熱膨張係数が実質的に前記基板
と等しい非磁性体が嵌合されるので、前記したような基
板のそりが減少してトラックずれが小さくなる。また、
軟磁性薄膜との熱膨張係数の差が大きいモールドガラス
を用いた場合に比較して軟磁性薄膜が受ける熱応力が減
少し、逆磁歪効果による磁気特性の劣化を防ぐことがで
きる。更に、従来のものに比較して、モールドガラスを
用いたとしてもこの体積が十分に小さくなるため、突合
せ溶着時に巻線窓にガラスが流れ込んで孔詰まを生ずる
こともなくなる。

【００１０】

【実施例】以下に、この発明の一実施例を図１乃至図４
について説明する。平板状の非導電性でかつ非磁性の基
板、例えばＣａＴｉＯ₃セラミックス基板１に、図３
（ａ）に示すようなＶ字形の溝２を複数箇所に亘って設
ける。この溝２のある面に下地膜（Ｃｒ等）を成膜する
（図示せず）。この下地膜の上に（ｂ）のようにセンダ
スト膜３を所定の厚さに成膜する。この上に保護膜とし
て、ＳｉＯ₂膜（図示せず）を成膜する。そして、その
上にスパッタガラス膜（図示せず）を成膜する。一方、
もう一つの同一材料の非磁性基板１１に前記Ｖ字形の溝
２が埋まるような凸部１２を設ける。この基板１１は前
記基板１と同じものでもよい。これら一対の基板１，１
１を、（ｃ）に示すように、Ｖ字形の溝２と前記凸部１
２とがかみ合うように突合せ、スパッタガラスの融点以
上に加熱して接合する。

【００１１】この接合により形成されたコアブロックを
ギャップ形成面に近いところで切断（切断後の状態を
（ｄ）に示す）し、（ｅ）に示す巻線窓となる溝１３
と、図４（ａ）に示すガラス補強溝１４とを設ける。こ
のように形成されたコアブロックをギャップ形成面１５
まで研磨し（この研磨後の状態を図４（ａ）に示す）、
ギャップ材を成膜後、このコアブロックを２個一組にし
て図４（ｂ）に示すように突合せ、テープ摺動面となる
側２５を図４（ｃ）に示すように下にして、棒ガラス１
６を乗せ、かつ巻線窓内にも棒ガラス１７入れて溶着す
る。尚、ギャップ材は前記２個のコアブロックのうち、
何れか一方に成膜すればよい。

【００１２】次に、摺動面のＲ加工を行い、図４（ｂ）
に破線で示すように、所定アジマス角度でスライスす
る。このようにして完成したチップに巻線、先端加工等
の工程を施し、最終的に図１に示すような磁気ヘッドに
する。図１において、図３、図４と同一符号は同一のも
のを示す。また、８は磁気ギャップ、９は巻線、１０は
巻線外溝である。図１に示す磁気ヘッドの磁気ギャップ
８の近傍の詳細は、図２に拡大して示してある。尚、図
３（ｅ）は（ｄ）の側面を示し、また図４（ｃ）も
（ｂ）を側面から見たものである。

【００１３】上記実施例では、２個のコアブロックを互
いに接合するためのガラス補強溝１４を設けたが、この
ような溝１４を設けることなく２個のコアブロックを接
合することもできる。この溝１４を設けないで製造した
磁気ヘッド及びその製造方法を図５乃至図９について説
明する。板状の非導電性でかつ非磁性の基板、例えばＣ
ａＴｉＯ₃セラミックス基板１に、図７（ａ）に示すよ
うなＶ字形の溝２を複数箇所に亘って設ける。この溝２
のある面に下地膜（Ｃｒ等）を成膜する（図示せず）。
この下地膜の上に（ｂ）のようにセンダスト膜３を所定
の厚さに成膜する。この上に保護膜として、ＳｉＯ₂膜
（図示せず）を成膜する。次に、この基板１の両端に、
図８（ａ）に示すように、段付け面が頂点の高さよりｈ
1だけ低い位置になるような段付け加工１８を行なう。
一方、もう一つの同一材料の非磁性基板１９には、
（ｂ）に示すように、前記Ｖ字形の溝２が埋まるような
凸部２０を設ける。ここで、基板１９の上面から測った
溝の深さｈ2を前記ｈ1よりも0.05〜0.2mm程度大きく設
定する。

【００１４】次に、これら一対の基板１，１９を、図８
（ｃ）に示すようにＶ字形の溝２同士がかみ合うように
突き合わせる。この時、溝２の部分に0.05〜0.2mm（ｈ2
-ｈ1）のすき間２１ができる。この状態で溝の長手方向
が垂直になるように立て、この上にガラス棒（図示せ
ず）を乗せ、加熱溶着する。このようにすると、ガラス
が溝２のすき間２１に入り込み、基板１と１９とが接合
される。該接合された基板１，１９をギャップ形成面２
２に近いところで切断し、図８（ｅ）に示すように巻線
窓となる溝２３を設ける。このコアブロックをギャップ
形成面２２まで研磨し（この状態を図８（ｄ）に示
す）、ギャップ材を成膜後、２個の前記コアブロックを
一組にして、図９（ａ）に示すように突合せ、加熱溶着
する。尚、前記ギャップ材は２個のコアブロックのうち
何れか一方に成膜すればよい。また、図８（ｅ）は
（ｄ）を側面から見たものである。

【００１５】次に、摺動面のＲ加工を行い、図９（ａ）
に破線で示すように所定アジマス角度でスライスする。
図９（ｂ）はスライス後のチップ摺動面の拡大図であ
る。尚、図ではスライス後のチップ摺動面の端部に非磁
性基板１９が残っているが、ガラスの入る前記すき間２
１を広くして、基板１９が残らないようにしてもよい。
図において、２４は前記すき間２１に充填されたガラス
を示す。このようにして完成したチップに巻線、先端加
工等の工程を施し、最終的に図５に示すような磁気ヘッ
ドにする。図５において、図７乃至図９と同一符号は同
一のものを示す。また、８は磁気ギャップ、９は巻線、
１０は巻線外溝である。図５に示す磁気ヘッドの磁気ギ
ャップ８の近傍の詳細は、図６に拡大して示してある。
この実施例では、前記したガラス補強溝１４を設ける代
わりに、すき間２１を設け、このすき間２１に充填され
たガラス２４によって、２個の前記したコアブロック同
士を接合している。

【００１６】

【発明の効果】この発明は上記したように、非磁性基板
と、該基板上に成膜された軟磁性薄膜とを有する２個の
コア半体を備え、ギャップ材を介して前記軟磁性薄膜が
突き合わされるように、前記２個のコア半体を互いに接
合した磁気ヘッドであって、前記軟磁性薄膜上に配設さ
れた非磁性体を有し、前記軟磁性薄膜が前記基板と前記
非磁性体とによって挟まれるように構成されたものにお
いて、前記非磁性体と前記基板とは、熱膨張係数が実質
的に等しい材料よりなることを特徴とするものである。
従って、上記のように構成された磁気ヘッドでは、その
製造に際して、前記非磁性基板に設けたＶ字形の溝に前
記軟磁性薄膜を成膜し、この上に前記溝と嵌合する非磁
性体を設けても、前記非磁性基板には大きなそりが生ず
る恐れがなく、このためトラックずれも小さくなる。そ
して、非磁性体として、軟磁性薄膜との熱膨張係数の差
が大きいモールドガラスを用いた場合に比較して軟磁性
薄膜が受ける熱応力が減少し、逆磁歪効果による磁気特
性の劣化を防ぐことができる。更に、従来のものに比較
して、モールドガラスを用いたとしてもこの体積が十分
に小さくなるため、突合せ溶着時に巻線窓にガラスが流
れ込んで孔詰まを生ずることもなくなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施例を示す磁気ヘッドの斜視図
である。

【図２】この発明の一実施例を示す磁気ヘッドの要部の
拡大平面図である。

【図３】この発明の一製造方法による製造工程を説明す
るための図である。

【図４】この発明の一製造方法による製造工程を説明す
るための図であり、図３の工程に続くものである。

【図５】この発明の他の実施例を示す磁気ヘッドの斜視
図である。

【図６】この発明の他の実施例を示す磁気ヘッドの要部
の拡大平面図である。

【図７】この発明の他の製造方法による製造工程を説明
するための図である。

【図８】この発明の他の製造方法による製造工程を説明
するための図であり、図７の工程に続くものである。

【図９】この発明の他の製造方法による製造工程を説明
するための図であり、図８の工程に続くものである。

【図１０】従来の磁気ヘッドの斜視図である。

【図１１】従来の磁気ヘッドの要部を示す拡大平面図で
ある。

【図１２】従来の磁気ヘッドの製造工程を説明するため
の図である。

【図１３】従来の磁気ヘッドの製造工程を説明するため
の図であり、図１２の工程に続くものである。

【図１４】従来の磁気ヘッドの製造工程を説明するため
の図である。

【符号の説明】

１非磁性の基板２溝３センダスト膜８磁気ギャップ９巻線１０巻線外溝１１非磁性基板１２凸部１３溝１４ガラス補強溝１５ギャップ形成面１６棒ガラス１７棒ガラス１８段付け加工１９非磁性基板２０凸部２１すき間２２ギャップ形成面２３溝２４ガラス

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性基板と、該基板上に成膜された軟
磁性薄膜とを有する２個のコア半体を備え、ギャップ材
を介して前記軟磁性薄膜が突き合わされるように、前記
２個のコア半体を互いに接合した磁気ヘッドであって、前記軟磁性薄膜上に配設された非磁性体を有し、前記軟
磁性薄膜が前記基板と前記非磁性体とによって挟まれる
ように構成されたものにおいて、前記非磁性体と前記基板とは、熱膨張係数が実質的に等
しい材料よりなることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】前記非磁性体と前記基板とは同一の材料
からなることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項３】請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法で
あって、熱膨張係数が実質的に等しい非磁性の第１及び第２の基
板を用意し、これらの基板の一面には断面形状が鋸歯状
の複数の第１の溝をそれぞれ設け、前記第１の基板にお
ける前記第１の溝が設けられた面には軟磁性薄膜を成膜
し、しかる後に前記第１の基板と第２の基板との前記第
１の溝が互いに嵌合されるように組み合わせて溶着し、
前記第１の基板の前記した第１の溝の総てに前記第２の
基板を残した状態で、前記第１の基板からこの第１の基
板の一部及び第２の基板の一部を除去し、前記第１の基
板の前記第１の溝を施した面には、これらの第１の溝と
直交する方向の、巻線窓となる前記第１の溝よりも浅い
第２の溝を設け、このようにして構成されたコアブロックを２個用意し、前記第１の溝を施した面に露出した複数の対をなす軟磁
性薄膜のうち、一方が互いに突き合わされるように、ギ
ャップ材を介して前記２個のコアブロックを互いに組み
合せてこれらのコアブロックを接合し、しかる後に、前記の接合されたコアブロックをスライス
して複数のコアチップを得、これらのコアチップにおける、前記第２の溝により形成
された巻線窓に巻線を施すことを特徴とする磁気ヘッド
の製造方法。
【請求項４】前記２個のコアブロックのうち、何れか
一方のみに前記第２の溝を設けることを特徴とする請求
項３記載の磁気ヘッドの製造方法。