JPH07133115A - 水酸化コバルトを被覆した水酸化ニッケル粉末の製造方法 - Google Patents

水酸化コバルトを被覆した水酸化ニッケル粉末の製造方法

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JPH07133115A
JPH07133115A JP5183533A JP18353393A JPH07133115A JP H07133115 A JPH07133115 A JP H07133115A JP 5183533 A JP5183533 A JP 5183533A JP 18353393 A JP18353393 A JP 18353393A JP H07133115 A JPH07133115 A JP H07133115A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 非焼結式アルカリ電池の正極用材料として使
用される水酸化ニッケル粉末であって、この表面に水酸
化コバルトが均一に被覆されたものの製造方法を提案す
る。 【構成】 水酸化ニッケル粉末を含有し苛性アルカリで
PH11〜13に調整された水溶液に含コバルト液とア
ンモニウムイオン供給体とを同時に連続的に定量供給し
て水酸化ニッケル粉末表面に水酸化コバルトを被覆す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は非焼結式アルカリ電池の
正極用材料として使用される水酸化コバルトを被覆した
水酸化ニッケル粉末の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、ポータブルエレクトロニクス機器
の小型軽量化に伴い、その電源である電池にも高エネル
ギー密度化が望まれている。また、2次電池において
は、その充電時間を短縮することが求められている。第
一の高エネルギー密度化の問題であるが、従来のアルカ
リ電池の電極は、焼結式電極と言われるもので、その正
極のエネルギー密度は約400Ah/mlが限界であっ
た。ここで、最近更なる高容量化を目的としたペースト
式電極の開発がなされてきている。この方法は、ニッケ
ル多孔体などを電極基板とし、高嵩密度な水酸化ニッケ
ル粉末と利用率向上のための添加剤である金属コバルト
粉末の混合物をペースト状にし、その基板に直接充填し
正極とするものである。この方式の開発によりエネルギ
ー密度は、500〜600Ah/mlにまで高められ
た。第二の充電時間の短縮については、従来水酸化ニッ
ケル粉末にコバルトを固溶体添加して、高率充電時のガ
ス発生、電極の膨潤等の弊害を押える方策が取られてい
た。どちらの特性要求を満たす為にも、正極中にコバル
トを添加することが有用であると認められている。
【0003】ペースト式電極は、特開昭60−1317
65や特開昭60−131766の記述に見られるよう
に、従来の正極板製造に比べて、活物質である水酸化ニ
ッケルが高密度に充填されることが特徴であり、ペース
ト式電極の利点である。この利点を活かすためには、使
用する水酸化ニッケル粒子も高密度であり、具体的物性
としてタッピング密度が高い必要がある。また、特開昭
63−152866に記載されているように、密度だけ
でなくその比表面積、結晶度が電池の充放電特性に重要
である。この様な、必要基礎物性を満たしながら、現状
以上の高密度、高率充電を目指すためには、少なくと
も、10%以上のコバルトを水酸化ニッケル粉末への固
溶体添加が必要となる。しかしながら、水酸化ニッケル
へ10%以上のコバルトを固溶体化するとペースト式電
極用水酸化ニッケルの上記必要基礎物性を満たすのが困
難となる。これは、水酸化ニッケルの高密度化の条件と
水酸化コバルトの高密度化の条件域が異なるためと思わ
れる。そのため、10%以上のコバルトを水酸化ニッケ
ルに添加するためには、水酸化コバルト、オキシ水酸化
コバルト等の粒子を単独で生成し、電極成形時に水酸化
ニッケルと混合添加する方法が一般的であった。しか
し、水酸化ニッケルに混合する方法では、水酸化コバル
ト等を均一に分散することが困難であり、かつ、混合す
る水酸化コバルト等が嵩密度が低いため、電極への活物
質の充填量が著しく低下する。そのため、水酸化ニッケ
ル表面に水酸化コバルト等を被覆する方法が考えられて
いる。
【0004】水酸化ニッケルにコバルトを被覆する方法
としては、特開平1−267957、特開昭62−23
7667等に記載されている方法がある。特開昭62−
237667記載の方法は、水酸化ニッケル懸濁液中に
硫酸コバルトなどのコバルト塩類水溶液を添加し、苛性
アルカリで中和する方法である。この方法では、生成す
る水酸化コバルトは、ゲル状になり水酸化ニッケル表面
に被覆されているという状態ではなく、本方法で生成し
た水酸化コバルト含有水酸化ニッケルは、表面層に非常
に密度の低い水酸化コバルト粒子が生成し、粒子の密度
が著しく低下し、タッピング密度も著しく低下する。特
開平1−267957に記載されている方法では、電池
電解液中にコバルト塩を添加し、電池反応中で水酸化ニ
ッケル表面に水酸化コバルト等を析出させるものであ
り、電池組み込み前の水酸化ニッケル表面を被覆する方
法ではない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、その表面に
水酸化コバルトが均一に被覆された水酸化ニッケル粉末
であって、ペースト法で電池の正極を製造するに適した
水酸化コバルトを被覆した水酸化ニッケル粉末の製造方
法を提案することを課題とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による水酸化コバ
ルトを被覆した水酸化ニッケル粉末の製造方法は、水酸
化ニッケル粉末を含有し苛性アルカリでPH11〜13
に調整された水溶液に、コバルトを含む水溶液とアンモ
ニウムイオン供給体とを同時に連続的に定量供給する点
に特徴がある。
【0007】又、上記の製造方法で、アンモニウムイオ
ン供給体を反応液中のアンモニウムイオン濃度が10〜
25g/lとなるように供給する点に特徴がある。
【0008】
【作用】各種コバルト塩を苛性アルカリで中和するに
は、理論的には、PH8以上であれば良いが、PHが8
〜11では、使用したコバルト塩の陰イオンが完全に取
れず塩基性塩が生成し、これを含有する不純な水酸化コ
バルトが生成する。これを押えるためには、PHを11
以上にする必要がある。しかしながら、単にPHを11
以上とすると、生成する水酸化コバルトがゲル状とな
り、水酸化ニッケルにしっかり被覆出来ないばかりか生
成粒子のタッピング密度を著しく低下させる。これは、
高PHでは、コバルトイオンの溶解度が極度に低下し、
中和時に水酸化コバルトの結晶核発生が瞬時に起こり、
結晶成長が起こらないためと思われる。
【0009】本発明では、高PH域でアンモニウムイオ
ンを反応液中に導入するので、コバルトはアンミン錯塩
となってコバルトの溶解度を高め、従って高PHでもコ
バルトイオン濃度が高い状態に保てるので結晶核発生を
押え、結果的に結晶成長を促すことが可能となる。
【0010】また、各原料溶液を個別にかつ同時に添加
するので、PH、アンモニアイオン濃度が極力一定に保
たれ、従って反応槽内のコバルト濃度が一定に保たれて
水酸化コバルトの結晶核発生速度、発生量、結晶核成長
速度を一定に保つことが可能となる。従ってPH、アン
モニアイオン濃度が一定でない場合の様に、水酸化ニッ
ケルの結晶核発生速度等が不規則となり生成する水酸化
コバルトの1次粒子径が不均一となり、水酸化ニッケル
上への水酸化コバルトの被覆が不均一なものとなるばか
りか生成粒子のタッピング密度も低下するといった状態
にはならない。
【0011】PHを13以上とするアンモニアの気散が
激しくなり、アンモニアイオンが存在してもコバルト濃
度が最適な値に出来なくなり、均一な被覆ができなくな
る。
【0012】槽内アンモニア濃度が10g/l以下で
は、上記適性PH範囲内で適正なコバルト濃度に保てな
く、30g/l以上では、添加するアンモニアの気散が
激しくなり、アンモニウムイオン供給体を多量に消費す
るため実際的でない。
【0013】コバルト塩水溶液の添加速度すなわち、コ
バルトを含む水溶液を反応液中に添加する時間は、1時
間以下にすると、反応槽内でのコバルトイオンの濃度の
場所による不均一が発生し、被覆が不均一となる。
【0014】被覆するコバルト量が50%以上では、活
物質である水酸化ニッケル量が減少しすぎて電池容量を
極度に低下させ、ペースト式電極の従来法に比べて高容
量な電池が製造出来るという利点がなくなる。被覆する
コバルト量が1%以下では、被覆する利点がなくなり、
固溶体化によりコバルトを含有させる方法で達成でき
る。
【0015】反応温度は、80℃以上になると溶液中か
らのアンモニアの気散が激しくなり、槽内アンモニア濃
度を一定に保つことが困難となる。好ましい温度範囲は
20〜80℃である。
【0016】
【実施例】
各使用溶液調整 まず、使用するコバルト塩溶液、苛性アルカリ溶液、ア
ンモニアイオン供給体水溶液を下記のように調整した。
コバルト塩水溶液は、和光純薬製試薬1級硫酸コバルト
を純水に溶解しコバルト濃度1.6mol/lの溶液を
作成した。また、同様に和光純薬製試薬1級塩化コバル
トも同様の濃度に調整した。苛性アルカリ溶液は、和光
純薬製試薬1級苛性ソーダを純水に溶解し、3.2mo
l/lの溶液を調整した。アンモニアイオン供給体とし
ては、和光純薬製試薬1級アンモニア水を希釈せずにそ
のまま使用した。また、和光純薬製試薬1級硫酸アンモ
ニウムを純水に溶解し、アンモニア濃度で100g/l
の溶液を調整した。
【0017】実施例1 常法たとえば同出願人が平成5年5月28日に出願した
(整理番号KSMK0259−P)の様に含ニッケル液
と苛性アルカリとを同時にかつ連続的に供給して水酸化
ニッケルを製造する方法で製造した高タッピング密度水
酸化ニッケル(タッピング密度1.98g/ml)10
0gを500ml純水中に懸濁、攪拌しつつ上記方法で
調整した硫酸コバルト溶液とアンモニア水を同時添加し
つつ苛性ソーダ溶液でPHを11.5にコントロールし
た。硫酸コバルト水溶液の添加速度は、3ml/mi
n、アンモニア水の添加速度は、0.45ml/min
とした。本添加を、添加した水酸化ニッケル中のコバル
ト含有率が計算上15%となる時間(62.3min)
行ない、反応終了後生成した殿物を直ちにブフナーロー
トで吸引濾過し、1リットル純水で2回レパルプ水洗
後、濾過乾燥した。なお、反応液をサンプリングして分
析した結果、液中のアンモニウムイオン濃度は20g/
lであった。この、乾燥物を硝酸に溶解し原子吸光分析
したところコバルトが14.6%含有しており、タッピ
ング密度が1.76g/mlであった。また平均粒径は
10μmであった。また、このものをエポキシ樹脂に埋
包し、埋包した樹脂表面を研磨後日立製作所製X−65
0型EPMA装置で生成粒子断面のニッケルとコバルト
の面定性分析を行なった結果、水酸化ニッケル粒子表面
に水酸化コバルトが均一にコートされていることがわか
った。
【0018】実施例2 実施例1と同様の水酸化ニッケル100gを500ml
純水中に懸濁、攪拌しつつ前述の方法で調整した塩化コ
バルト溶液とアンモニア水を同時に添加しつつ苛性ソー
ダでPHを11.8にコントロールした。塩化コバルト
溶液の添加速度は、1.5ml/min、アンモニア水
の添加速度は、0.23ml/minとした。本添加を
添加した水酸化ニッケル中のコバルト含有率が計算上2
5%となる時間(208min)行ない、反応終了後生
成した殿物を直ちにブフナーロートで吸引濾過し、1リ
ットル純水で2回レパルプ水洗後、濾過乾燥した。な
お、液中のアンモニウムイオン濃度は15g/lであっ
た。この、乾燥物を硝酸に溶解し原子吸光分析したとこ
ろコバルトが24.3%含有しており、タッピング密度
が1.65g/mlであった。また平均粒径は12μm
であった。また、このものをエポキシ樹脂に埋包し、埋
包した樹脂表面を研磨後日立製作所製X−650型EP
MA装置で生成粒子断面のニッケルとコバルトの面定性
分析を行なった結果、水酸化ニッケル粒子表面に水酸化
コバルトが均一にコートされていることがわかった。
【0019】実施例3 実施例1と同様の水酸化ニッケル100gを500ml
純水中に懸濁、攪拌しつつ前述の方法で調整した硫酸コ
バルトと硫酸アンモニウム溶液を同時に添加しつつ苛性
ソーダでPHを11.8にコントロールした。硫酸コバ
ルト溶液の添加速度は、1.5ml/min、アンモニ
ア水の添加速度は、2.2ml/minとした。本添加
を添加した水酸化ニッケル中のコバルト含有率が計算上
50%となる時間(416min)行ない、反応終了後
生成した殿物を直ちにブフナーロートで吸引濾過し、1
リットル純水で2回レパルプ水洗後、濾過乾燥した。な
お、液中のアンモニウムイオン濃度は11g/lであっ
た。この、乾燥物を硝酸に溶解し原子吸光分析したとこ
ろコバルトが48.4%含有しており、タッピング密度
が1.45g/mlであった。また、平均粒径は8μm
であった。また、このものをエポキシ樹脂に埋包し、埋
包した樹脂表面を研磨後日立製作所製X−650型EP
MA装置で生成粒子断面のニッケルとコバルトの面定性
分析を行なった。その結果は、実施例1,2と同様に水
酸化ニッケル粒子表面に水酸化コバルトが被覆されてい
た。しかし、若干の離脱水酸化コバルトも観察された。
【0020】比較例 実施例1と同様の水酸化ニッケル100gを500ml
純水中に懸濁、攪拌しつつ前述の方法で調整した硫酸コ
バルト溶液を添加しつつ苛性ソーダでPHを11.8に
コントロールした。硫酸コバルト溶液の添加速度は、
1.5ml/minとした。本添加を添加した水酸化ニ
ッケル中のコバルト含有率が計算上50%となる時間
(416min)行ない、反応終了後生成した殿物を直
ちにブフナーロートで吸引濾過し、1リットル純水で2
回レパルプ水洗後、濾過乾燥した。この、乾燥物を硝酸
に溶解し原子吸光分析したところコバルトが49.8%
含有しており、タッピング密度が0.60g/mlであ
った。また、このものをエポキシ樹脂に埋包し、埋包し
た樹脂表面を研磨後日立製作所製X−650型EPMA
装置で生成粒子断面のニッケルとコバルトの面定性分析
を行なった。その結果は、若干水酸化ニッケル上に被覆
している水酸化コバルトが観察されたが、大部分の水酸
化コバルトは、単独粒子として存在していた。
【0021】
【発明の効果】本発明により、ペースト法電極の製造に
適した水酸化コバルトを被覆した水酸化ニッケル粉末を
得ることができる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水酸化ニッケル粉末を含有し苛性アルカ
    リでPH11〜13に調整された水溶液に、コバルトを
    含む水溶液とアンモニウムイオン供給体とを同時に連続
    的に定量供給することを特徴とする水酸化コバルトを被
    覆した水酸化ニッケル粉末の製造方法。
  2. 【請求項2】 アンモニウムイオン供給体を反応液中の
    アンモニウムイオン濃度が10〜25g/lとなるよう
    に供給する請求項1に記載の水酸化コバルトを被覆した
    水酸化ニッケル粉末の製造方法。
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