JPH07133004A - 基板保管装置 - Google Patents
基板保管装置Info
- Publication number
- JPH07133004A JPH07133004A JP16650293A JP16650293A JPH07133004A JP H07133004 A JPH07133004 A JP H07133004A JP 16650293 A JP16650293 A JP 16650293A JP 16650293 A JP16650293 A JP 16650293A JP H07133004 A JPH07133004 A JP H07133004A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 停電時においても基板を所望の清浄雰囲気中
に保持することができるような、基板の保管装置を提供
することを目的とする。 【構成】 本発明の基板保管装置は、基板を保管するた
めの保管棚１と、少なくとも前記保管棚１を収納するチ
ャンバー１Ａと、前記チャンバー１Ａ内の雰囲気を清浄
に保つためのクリーンユニット８とを備えた基板保管装
置において、前記クリーンユニット８の停止時に、ガス
を前記チャンバー内に供給し、前記チャンバー内の圧力
を前記チャンバー外部の圧力に対して高い状態に維持す
るガス供給手段５を有することを特徴とする。
に保持することができるような、基板の保管装置を提供
することを目的とする。 【構成】 本発明の基板保管装置は、基板を保管するた
めの保管棚１と、少なくとも前記保管棚１を収納するチ
ャンバー１Ａと、前記チャンバー１Ａ内の雰囲気を清浄
に保つためのクリーンユニット８とを備えた基板保管装
置において、前記クリーンユニット８の停止時に、ガス
を前記チャンバー内に供給し、前記チャンバー内の圧力
を前記チャンバー外部の圧力に対して高い状態に維持す
るガス供給手段５を有することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は基板の保管装置に関し、
さらに詳細にはＬＳＩ等の製造に用いる各種ガラス基板
を清浄雰囲気中に保持するための保管装置に関する。
さらに詳細にはＬＳＩ等の製造に用いる各種ガラス基板
を清浄雰囲気中に保持するための保管装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レチクルやマスク等のガラス基板の保管
に適した従来の基板の保管装置として、たとえば特開平
３−１０９７５０号公報に開示の装置がある。この種の
従来の装置は、通常の電力供給を受けて作動する送風機
と、送風機の作用により装置内に導入される空気を清浄
にするための、たとえばＨＥＰＡフィルタのようなフィ
ルタ手段とからなるクリーンユニットを備えている。さ
らに、このように構成されたクリーンユニットの風下
に、基板を整列保管するための保管棚を配置することに
よって、基板を清浄雰囲気中に保持・保管していた。
に適した従来の基板の保管装置として、たとえば特開平
３−１０９７５０号公報に開示の装置がある。この種の
従来の装置は、通常の電力供給を受けて作動する送風機
と、送風機の作用により装置内に導入される空気を清浄
にするための、たとえばＨＥＰＡフィルタのようなフィ
ルタ手段とからなるクリーンユニットを備えている。さ
らに、このように構成されたクリーンユニットの風下
に、基板を整列保管するための保管棚を配置することに
よって、基板を清浄雰囲気中に保持・保管していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の基板の保管装置では、停電時にクリーンユニットが
停止してしまう。したがって、外部からの塵埃の侵入を
防止することができず、保管している基板に塵埃等の異
物が付着してしまうという不都合があった。本発明は、
前述の課題に鑑みてなされたものであり、停電時におい
ても基板を所望の清浄雰囲気中に保持することができる
ような、基板の保管装置を提供することを目的とする。
来の基板の保管装置では、停電時にクリーンユニットが
停止してしまう。したがって、外部からの塵埃の侵入を
防止することができず、保管している基板に塵埃等の異
物が付着してしまうという不都合があった。本発明は、
前述の課題に鑑みてなされたものであり、停電時におい
ても基板を所望の清浄雰囲気中に保持することができる
ような、基板の保管装置を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、基板を保管するための保管棚
と、少なくとも前記保管棚を収納するチャンバーと、前
記チャンバー内の雰囲気を清浄に保つためのクリーンユ
ニットとを備えた基板保管装置において、前記クリーン
ユニットの停止時に、ガスを前記チャンバー内に供給
し、前記チャンバー内の圧力を前記チャンバー外部の圧
力に対して高い状態に維持するガス供給手段を有するこ
とを特徴とする基板保管装置を提供する。また、本発明
の好ましい態様によれば、前記ガス供給手段は、不活性
ガスを収容した圧縮気体ボンベと、前記クリーンユニッ
トの停止時に前記不活性ガスを前記チャンバー内に供給
する制御手段とを有する。さらに好ましくは、前記クリ
ーンユニットは導入した空気を排気する排気口を有し、
前記制御手段は該排気口を遮蔽するための手段を備えて
いる。
に、本発明においては、基板を保管するための保管棚
と、少なくとも前記保管棚を収納するチャンバーと、前
記チャンバー内の雰囲気を清浄に保つためのクリーンユ
ニットとを備えた基板保管装置において、前記クリーン
ユニットの停止時に、ガスを前記チャンバー内に供給
し、前記チャンバー内の圧力を前記チャンバー外部の圧
力に対して高い状態に維持するガス供給手段を有するこ
とを特徴とする基板保管装置を提供する。また、本発明
の好ましい態様によれば、前記ガス供給手段は、不活性
ガスを収容した圧縮気体ボンベと、前記クリーンユニッ
トの停止時に前記不活性ガスを前記チャンバー内に供給
する制御手段とを有する。さらに好ましくは、前記クリ
ーンユニットは導入した空気を排気する排気口を有し、
前記制御手段は該排気口を遮蔽するための手段を備えて
いる。
【０００５】
【作用】本発明の基板の保管装置では、停電時に清浄な
ガスを装置内に供給するための手段として、たとえば窒
素のような不活性ガスを収容した圧縮気体ボンベを備え
ている。ボンベから供給された不活性ガスは、たとえば
ＨＥＰＡフィルタのようなフィルタ手段によって清浄化
され、装置内に供給される。こうして、装置内には清浄
不活性ガス雰囲気が形成され、装置内の気圧が外部の気
圧より常に高く保持されるので、停電時にも基板を清浄
な雰囲気中に保持・保管して塵埃等の異物の付着を防止
することができる。また、装置内に清浄な不活性ガスを
供給するとともに装置の排気口を遮蔽することによっ
て、装置内の気圧を外部の気圧より迅速且つ確実に高く
保持して、外部から装置内への空気の流れを完全に遮断
することができる。
ガスを装置内に供給するための手段として、たとえば窒
素のような不活性ガスを収容した圧縮気体ボンベを備え
ている。ボンベから供給された不活性ガスは、たとえば
ＨＥＰＡフィルタのようなフィルタ手段によって清浄化
され、装置内に供給される。こうして、装置内には清浄
不活性ガス雰囲気が形成され、装置内の気圧が外部の気
圧より常に高く保持されるので、停電時にも基板を清浄
な雰囲気中に保持・保管して塵埃等の異物の付着を防止
することができる。また、装置内に清浄な不活性ガスを
供給するとともに装置の排気口を遮蔽することによっ
て、装置内の気圧を外部の気圧より迅速且つ確実に高く
保持して、外部から装置内への空気の流れを完全に遮断
することができる。
【０００６】
【実施例】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説明
する。図１は、本発明の実施例にかかる基板の保管装置
の構成を模式的に説明する側断面図である。図示の基板
保管装置は、排気ブロア９とＨＥＰＡフィルタＨＦとか
らなるクリーンユニット８を備えている。排気ブロア９
は、複数のファン（送風機）９ａと駆動部９ｂとを備え
ている。モータ等の駆動部９ｂはファン９ａを回転さ
せ、ファン９ａの作用により、図中矢印で示すように外
部の空気が装置内に導入される。装置内に導入された空
気はＨＥＰＡフィルタＨＦの作用によって清浄化され、
さらに装置の内部に侵入する。
する。図１は、本発明の実施例にかかる基板の保管装置
の構成を模式的に説明する側断面図である。図示の基板
保管装置は、排気ブロア９とＨＥＰＡフィルタＨＦとか
らなるクリーンユニット８を備えている。排気ブロア９
は、複数のファン（送風機）９ａと駆動部９ｂとを備え
ている。モータ等の駆動部９ｂはファン９ａを回転さ
せ、ファン９ａの作用により、図中矢印で示すように外
部の空気が装置内に導入される。装置内に導入された空
気はＨＥＰＡフィルタＨＦの作用によって清浄化され、
さらに装置の内部に侵入する。
【０００７】クリーンユニット８の後ろ風下側にはレチ
クル等のガラス基板を整列保管するための保管棚１が配
設されている。保管棚１の各々の棚部には、ガラス基板
がケースに保管されることなく直接載置されている。保
管棚１のさらに風下側には、搬送機構３が設けられてい
る。搬送機構３はアーム１０を備え、このアーム１０で
ガラス基板（不図示）を支持し、他の処理ユニットから
装置内に搬入したり、装置から他の処理ユニットに搬出
したりする。装置の下部領域には、排気ブロア２が設け
られている。排気ブロア２は、ファン２ａとモータ等の
駆動部２ｂとを備えている。基板保管装置は、クリーン
ユニット８と保管棚１とアーム１０と排気ブロア２とを
収納するチャンバー１Ａを有している。そして排気ブロ
ア２の作用により、保管棚１の風下領域には矢印で示す
ように、一旦下方に向かい最終的には装置外部（チャン
バー１Ａの外部）に向かう空気流れが形成される。
クル等のガラス基板を整列保管するための保管棚１が配
設されている。保管棚１の各々の棚部には、ガラス基板
がケースに保管されることなく直接載置されている。保
管棚１のさらに風下側には、搬送機構３が設けられてい
る。搬送機構３はアーム１０を備え、このアーム１０で
ガラス基板（不図示）を支持し、他の処理ユニットから
装置内に搬入したり、装置から他の処理ユニットに搬出
したりする。装置の下部領域には、排気ブロア２が設け
られている。排気ブロア２は、ファン２ａとモータ等の
駆動部２ｂとを備えている。基板保管装置は、クリーン
ユニット８と保管棚１とアーム１０と排気ブロア２とを
収納するチャンバー１Ａを有している。そして排気ブロ
ア２の作用により、保管棚１の風下領域には矢印で示す
ように、一旦下方に向かい最終的には装置外部（チャン
バー１Ａの外部）に向かう空気流れが形成される。
【０００８】このように、通常は電力供給を受けてクリ
ーンユニット８が正常運転している場合、保管棚１およ
び搬送機構３を収容しているチャンバー１Ａ中では、常
に下方に向かいやがて外部に排出される方向に清浄な空
気流れが形成されている。したがって、装置内の空気の
乱流や塵埃の巻き上げ等を未然に防いで、発塵性の高い
搬送機構３や他のガラス基板から発生した塵埃が基板に
付着するのを確実に防止することができる。しかしなが
ら、停電等によりクリーンユニット８や排気ブロア２が
停止してしまうと、排気ブロア２やチャンバー１Ａの気
密性不良部分から塵埃がチャンバー１Ａ内に侵入してし
まう。
ーンユニット８が正常運転している場合、保管棚１およ
び搬送機構３を収容しているチャンバー１Ａ中では、常
に下方に向かいやがて外部に排出される方向に清浄な空
気流れが形成されている。したがって、装置内の空気の
乱流や塵埃の巻き上げ等を未然に防いで、発塵性の高い
搬送機構３や他のガラス基板から発生した塵埃が基板に
付着するのを確実に防止することができる。しかしなが
ら、停電等によりクリーンユニット８や排気ブロア２が
停止してしまうと、排気ブロア２やチャンバー１Ａの気
密性不良部分から塵埃がチャンバー１Ａ内に侵入してし
まう。
【０００９】そこで、図の装置はさらに、停電時に作動
する圧縮気体ボンベ５を備えている。ボンベ５には、た
とえば窒素のような不活性ガスが充填されている。ボン
ベ５から送給される窒素ガスは、エアバルブ６およびエ
アフィルタ７を介してチャンバー１Ａ内に導入される。
エアバルブ６は、通電中は閉状態になってボンベ５から
送給される窒素ガスの流れを遮断する。一方、停電時に
は開状態になってボンベ５から送給される窒素ガスの流
れを妨げない。エアフィルタ７は、停電時に装置内に供
給される窒素ガスに含まれる塵埃を除去する。図の装置
はさらに、停電時に作動するエアバルブ４を備えてい
る。エアバルブ４は、通電中はたとえば電磁石を利用し
て開状態になっており装置内の空気が外部に流出するの
を妨げない。すなわち、通電中は排気ブロア２とエアバ
ルブ４とで排気口を形成している。一方、エアバルブ４
は停電時には閉状態になって、装置内の空気の外部への
流出を遮断する。
する圧縮気体ボンベ５を備えている。ボンベ５には、た
とえば窒素のような不活性ガスが充填されている。ボン
ベ５から送給される窒素ガスは、エアバルブ６およびエ
アフィルタ７を介してチャンバー１Ａ内に導入される。
エアバルブ６は、通電中は閉状態になってボンベ５から
送給される窒素ガスの流れを遮断する。一方、停電時に
は開状態になってボンベ５から送給される窒素ガスの流
れを妨げない。エアフィルタ７は、停電時に装置内に供
給される窒素ガスに含まれる塵埃を除去する。図の装置
はさらに、停電時に作動するエアバルブ４を備えてい
る。エアバルブ４は、通電中はたとえば電磁石を利用し
て開状態になっており装置内の空気が外部に流出するの
を妨げない。すなわち、通電中は排気ブロア２とエアバ
ルブ４とで排気口を形成している。一方、エアバルブ４
は停電時には閉状態になって、装置内の空気の外部への
流出を遮断する。
【００１０】次に本実施例の動作について説明する。停
電によりファン９ａが停止するのとほぼ同時に、エアバ
ルブ６が開状態となり、またエアバルブ４が閉状態にな
るとともに、排気ブロア２のファン２ａが停止する。エ
アバルブ６が開状態になることにより、圧縮気体ボンベ
５から不活性ガスがエアフィルタ７を介してチャンバー
１Ａ内に供給される。不活性ガスが圧縮気体ボンベ５か
らチャンバー１Ａ内に供給され続けることにより、チャ
ンバー１Ａ内の圧力は外部の圧力より高くなる（陽圧と
なる）。ここで、チャンバー１ＡとＨＥＰＡフィルタＨ
Ｅとで囲まれた空間１１においては気密性が完全ではな
いため（すなわち空間１１はＨＥＰＡフィルタＨＥを介
して外部と通気性を有するともに、空間１１内のチャン
バー１Ａの気密性が完全でないため）、チャンバー１Ａ
内の圧力（正確には空間１１内の圧力）は外部の圧力よ
りも所定量だけ高くなった状態（陽圧状態）で安定す
る。どの程度の陽圧状態で安定するかは、空間１１の体
積と空間１１の気密性により決まる。
電によりファン９ａが停止するのとほぼ同時に、エアバ
ルブ６が開状態となり、またエアバルブ４が閉状態にな
るとともに、排気ブロア２のファン２ａが停止する。エ
アバルブ６が開状態になることにより、圧縮気体ボンベ
５から不活性ガスがエアフィルタ７を介してチャンバー
１Ａ内に供給される。不活性ガスが圧縮気体ボンベ５か
らチャンバー１Ａ内に供給され続けることにより、チャ
ンバー１Ａ内の圧力は外部の圧力より高くなる（陽圧と
なる）。ここで、チャンバー１ＡとＨＥＰＡフィルタＨ
Ｅとで囲まれた空間１１においては気密性が完全ではな
いため（すなわち空間１１はＨＥＰＡフィルタＨＥを介
して外部と通気性を有するともに、空間１１内のチャン
バー１Ａの気密性が完全でないため）、チャンバー１Ａ
内の圧力（正確には空間１１内の圧力）は外部の圧力よ
りも所定量だけ高くなった状態（陽圧状態）で安定す
る。どの程度の陽圧状態で安定するかは、空間１１の体
積と空間１１の気密性により決まる。
【００１１】このように、本発明の基板の保管装置で
は、停電時に圧縮気体ボンベ５から供給された不活性ガ
スがエアフィルタ７を介してチャンバー１Ａ内に供給さ
れるので、チャンバー１Ａ内には清浄な不活性ガス雰囲
気が形成される。一方、装置の排気口がエアバルブ４に
よって遮断されるので、装置には他の気密性の悪い部分
も存在していて完全な気密状態にはならないが、不活性
ガスの流入により装置内の気圧が外部の気圧より常に高
く保持され易くなる。こうして、外部から装置内への空
気の流れが完全に遮断され、停電時にも装置内のガラス
基板を清浄雰囲気中に保持することができる。なお、チ
ャンバー１Ａ内の空間１１の気密性がほぼ完全であり、
エアバルブ４により排気口を遮断し、外部からの空気は
すべてＨＥＰＡフィルタＨＥを介する構成であれば、圧
縮気体ボンベ５は不要である。
は、停電時に圧縮気体ボンベ５から供給された不活性ガ
スがエアフィルタ７を介してチャンバー１Ａ内に供給さ
れるので、チャンバー１Ａ内には清浄な不活性ガス雰囲
気が形成される。一方、装置の排気口がエアバルブ４に
よって遮断されるので、装置には他の気密性の悪い部分
も存在していて完全な気密状態にはならないが、不活性
ガスの流入により装置内の気圧が外部の気圧より常に高
く保持され易くなる。こうして、外部から装置内への空
気の流れが完全に遮断され、停電時にも装置内のガラス
基板を清浄雰囲気中に保持することができる。なお、チ
ャンバー１Ａ内の空間１１の気密性がほぼ完全であり、
エアバルブ４により排気口を遮断し、外部からの空気は
すべてＨＥＰＡフィルタＨＥを介する構成であれば、圧
縮気体ボンベ５は不要である。
【００１２】なお、本実施例では、停電時に清浄なガス
を装置内に供給するための手段を装置外部に備えている
例を示したが、前記手段を装置内部に備えてもよい。さ
らに、停電時に清浄なガスを装置内に供給するための手
段として圧縮気体ボンベを例示したが、化学的反応等に
より清浄なガスを発生するいかなる適当な手段を装置内
部または外部に備えてもよい。また、本実施例では、停
電時に清浄なガスを装置内に供給するとともに排気口を
遮蔽する例を示したが、清浄に充分なガスの供給が得ら
れれば、排気口を遮蔽しなくても本発明の作用効果を奏
することは明らかである。
を装置内に供給するための手段を装置外部に備えている
例を示したが、前記手段を装置内部に備えてもよい。さ
らに、停電時に清浄なガスを装置内に供給するための手
段として圧縮気体ボンベを例示したが、化学的反応等に
より清浄なガスを発生するいかなる適当な手段を装置内
部または外部に備えてもよい。また、本実施例では、停
電時に清浄なガスを装置内に供給するとともに排気口を
遮蔽する例を示したが、清浄に充分なガスの供給が得ら
れれば、排気口を遮蔽しなくても本発明の作用効果を奏
することは明らかである。
【００１３】
【効果】以上説明したごとく、本発明の基板の保管装置
では、停電時にガスを装置内に供給するための手段を備
えているので、停電時にも装置内には不活性ガス雰囲気
が形成され、装置内の気圧が外部の気圧より常に高く保
持される。したがって、停電時にも基板を清浄な雰囲気
中に保持・保管して塵埃等の異物の付着を防止すること
が可能になる。
では、停電時にガスを装置内に供給するための手段を備
えているので、停電時にも装置内には不活性ガス雰囲気
が形成され、装置内の気圧が外部の気圧より常に高く保
持される。したがって、停電時にも基板を清浄な雰囲気
中に保持・保管して塵埃等の異物の付着を防止すること
が可能になる。
【図１】本発明の実施例にかかる基板の保管装置の構成
を模式的に説明する断面図である。
を模式的に説明する断面図である。
１ 保管棚 ２ 排気ブロア ３ 搬送機構 ４ エアバルブ ５ 圧縮気体ボンベ ６ エアバルブ ７ エアフィルタ ８ クリーンユニット ９ 排気ブロア １０ アーム ＨＰ ＨＥＰＡフィルタ
Claims (3)
- 【請求項１】 基板を保管するための保管棚と、少なく
とも前記保管棚を収納するチャンバーと、前記チャンバ
ー内の雰囲気を清浄に保つためのクリーンユニットとを
備えた基板保管装置において、 前記クリーンユニットの停止時に、ガスを前記チャンバ
ー内に供給し、前記チャンバー内の圧力を前記チャンバ
ー外部の圧力に対して高い状態に維持するガス供給手段
を有することを特徴とする基板保管装置。 - 【請求項２】 前記ガス供給手段は、不活性ガスを収容
した圧縮気体ボンベと、前記クリーンユニットの停止時
に前記不活性ガスを前記チャンバー内に供給する制御手
段とを有することを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】 前記クリーンユニットは導入した空気を
排気する排気口を有し、前記制御手段は該排気口を遮蔽
するための手段を備えていることを特徴とする請求項１
または２に記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16650293A JPH07133004A (ja) | 1993-06-11 | 1993-06-11 | 基板保管装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16650293A JPH07133004A (ja) | 1993-06-11 | 1993-06-11 | 基板保管装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07133004A true JPH07133004A (ja) | 1995-05-23 |
Family
ID=15832553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16650293A Pending JPH07133004A (ja) | 1993-06-11 | 1993-06-11 | 基板保管装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07133004A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1179318A (ja) * | 1997-09-05 | 1999-03-23 | Toyota Autom Loom Works Ltd | 自動倉庫 |
| JP2005311260A (ja) * | 2004-04-26 | 2005-11-04 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 液晶基板の保管倉庫室 |
| JP2008218687A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Asyst Technologies Japan Inc | 半導体基板用ストッカ |
| CN104253076A (zh) * | 2013-06-26 | 2014-12-31 | 株式会社大福 | 保管设备 |
-
1993
- 1993-06-11 JP JP16650293A patent/JPH07133004A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1179318A (ja) * | 1997-09-05 | 1999-03-23 | Toyota Autom Loom Works Ltd | 自動倉庫 |
| JP2005311260A (ja) * | 2004-04-26 | 2005-11-04 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 液晶基板の保管倉庫室 |
| JP2008218687A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Asyst Technologies Japan Inc | 半導体基板用ストッカ |
| CN104253076A (zh) * | 2013-06-26 | 2014-12-31 | 株式会社大福 | 保管设备 |
| JP2015009912A (ja) * | 2013-06-26 | 2015-01-19 | 株式会社ダイフク | 保管設備 |
| CN104253076B (zh) * | 2013-06-26 | 2019-03-26 | 株式会社大福 | 保管设备 |
| US10274214B2 (en) | 2013-06-26 | 2019-04-30 | Daifuku Co., Ltd. | Storage facility |
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