JPH07122455A - セラミック積層電子部品の製造方法 - Google Patents

セラミック積層電子部品の製造方法

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JPH07122455A
JPH07122455A JP5262393A JP26239393A JPH07122455A JP H07122455 A JPH07122455 A JP H07122455A JP 5262393 A JP5262393 A JP 5262393A JP 26239393 A JP26239393 A JP 26239393A JP H07122455 A JPH07122455 A JP H07122455A
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重雄 蒔田
Giichi Takagi
義一 高木
Masashi Morimoto
正士 森本
Yasunobu Yoneda
康信 米田
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 素子部分におけるデラミネーションの発生が
生じ難く、耐熱衝撃性及び耐機械的衝撃性に優れ、高温
・高湿環境の下におかれた場合でも電気的特性の劣化が
生じ難く、かつ電気的特性のばらつきの少ないセラミッ
ク積層電子部品の製造方法を得る。 【構成】 セラミック層を介して複数の内部電極12
A,12Bが積層されており、該内部電極12A,12
Bが両側面17c,17dに露出されている素子部分構
成用焼結体17を用意し、該焼成体17の少なくとも4
側面を覆うようにセラミックスラリー層20を形成し、
該セラミックスラリー層20を焼成して素子部分を構成
する焼結体17の周囲にダミー層及びサイドマージン部
を形成し、焼結体17の両端面17a,17bを覆うよ
うに一対の外部電極を形成する、積層コンデンサの製造
方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば積層コンデンサ
のようなセラミック積層電子部品の製造方法に関し、特
に、複数の内部電極がセラミック層を介して重なり合っ
ている素子部分の周囲に構成される部分の構造が改良さ
れたセラミック積層電子部品の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のセラミック積層電子部品の製造方
法の一例を、積層コンデンサを例にとり説明する。
【0003】まず、図1に示すように、マザーのセラミ
ックグリーンシート1を用意する。マザーのセラミック
グリーンシート1の上面に、複数の内部電極パターン2
を導電ペーストを印刷することにより形成する。
【0004】次に、内部電極パターン2が印刷されたマ
ザーのセラミックグリーンシート1を複数枚積層し、上
下に内部電極パターンの印刷されていないマザーのセラ
ミックグリーンシート1を適宜の枚数積層し、厚み方向
に加圧し、図2に示すマザーの積層体3を得る。なお、
上記内部電極パターン2が印刷されたセラミックグリー
ンシート1の積層にあたっては、上下の内部電極パター
ン2が積層コンデンサの素子部分を構成するように、複
数枚のセラミックグリーンシート1が積層される。得ら
れた積層体3のA−A線及びB−B線に沿う断面図を図
3(a)及び(b)に示す。
【0005】次に、図3(a)及び(b)の一点鎖線C
及び一点鎖線Dに沿うように積層体3を切断し、個々の
積層コンデンサ単位の積層体生チップを得る。図4に略
図的に示すように、得られた積層体生チップ4では、内
部電極パターン2が切断されて構成されている複数の内
部電極5,6が、それぞれ、端面4a,4bに露出する
ように配置されている。また、複数の内部電極5,6
は、セラミックグリーンシート層を隔てて重なり合うよ
うに配置されている。さらに、上記内部電極5,6がセ
ラミックグリーンシート層を介して積層されている素子
部分の上方及び下方には、ダミー層4e,4f(図5
(a),(b)参照)が形成されている。また、上記素
子部分の側方、すなわち複数の内部電極5,6が積層さ
れている部分と側面4c,4dとの間には、サイドマー
ジン部4g,4hが構成されている。
【0006】次に、上記積層体生チップ4を焼成し、焼
結体を得、得られた焼結体の両端面に外部電極を付与
し、積層コンデンサを得る。上記製造方法において、ダ
ミー層4e,4f及びサイドマージン部4g,4hを形
成しておくのは、最終的に得られた積層コンデンサにお
いて、内部電極5,6を外部電極と電気的に接続される
部分を除いて焼結体内に完全に埋設し、側面における短
絡や耐湿性の低下を防止するためである。
【0007】上記ダミー層4e,4f及びサイドマージ
ン部4g,4hを構成するための他の方法を、図6を参
照して説明する。この方法では、複数の内部電極8がセ
ラミックグリーンシートを介して重なり合うように配置
された積層体生チップ7を用意する。この場合、積層体
生チップ7の全幅に至るように複数の内部電極8が形成
されている。すなわち、複数の内部電極8は、その両側
面が、積層体生チップ7の両側面7a,7bに露出され
ている。しかる後、積層体生チップ7を得た後に、その
外周側面を覆うようにセラミックスラリー9を付着さ
せ、しかる後焼成する。得られた焼結体では、上記積層
体生チップが焼成されて構成された素子部分の上下及び
左右に上記セラミックスラリー9が焼結して構成された
ダミー層及びサイドマージン部が構成されることにな
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】積層体生チップ4で
は、素子部分において内部電極5,6が一定の間隔で積
層されているのに対し、図5のダミー層4e,4fやサ
イドマージン部4g,4hが設けられている部分ではそ
のような金属材料が間に介在されていない。従って、積
層体生チップ4を焼成するに際し、素子部分と、他の部
分とで焼結反応の速度や温度が異なるため、得られた焼
結体において、歪みが生じがちであった。すなわち、素
子部分と、ダミー層4e,4fやサイドマージン部4
g,4hが焼成された部分との間で歪みが生じることが
あった。
【0009】その結果、デラミネーションや剥がれと称
されている層間剥離現象が発生することがあった。ま
た、上記歪みの発生により、得られた積層コンデンサの
耐熱衝撃性や耐機械的衝撃性が劣化するという問題もあ
った。加えて、上記層間剥離が生じた場合などにおいて
は、高温もしくは高湿環境の下におかれた場合、絶縁抵
抗等の特性が早期に低下することもあった。
【0010】さらに、焼結体内の焼結状態が均一でない
ため、同一の焼結体内の層間において、並びに異なる焼
結体間において静電容量などの電気的特性にばらつきが
生じがちであった。
【0011】図1〜図5を参照して説明した従来法で
は、積層体3は、焼成に先立ち厚み方向に加圧される
が、金型等により積層体3を厚み方向に加圧した場合
に、内部電極5,6が積層されている素子部分とサイド
マージン部とでは、加えられる圧力が異なることにな
る。従って、電極が重なり合っている素子部分と、サイ
ドマージン部とで、圧力の加わり方が異なるため、焼成
前に層間剥離が生じることもあった。
【0012】他方、図6に示した積層体生チップ7を用
いる方法では、積層体生チップ7の全幅に至る内部電極
8を用いているため、積層体生チップ7の段階では、圧
着方法の如何に係わらず、圧力が均一に加わるため、層
間剥離現象は生じ難い。しかしながら、この方法におい
ても、セラミックスラリー9を周囲に付着させた後に焼
成した場合、積層体生チップ7と、周囲のセラミックス
ラリー9により構成されている部分とにおいて、焼結反
応温度や速度が異なるため、上記第1の方法と同様に、
デラミネーションや剥がれと称されている層間剥離現象
が生じがちであった。従って、積層コンデンサの耐熱衝
撃性や耐機械的衝撃性が劣化したり、高温・高湿環境の
下におかれた場合に絶縁抵抗などの電気的特性が劣化し
たりするという欠点があった。
【0013】さらに、素子部分の周囲にダミー層やサイ
ドマージン部が存在していたため、焼結に際して必要な
ガスの拡散が十分に進行せず、素子部分における焼結む
らが生じ易かった。その結果、素子部分とその他の部分
との間で焼結反応温度や速度が異なるため、収縮ばらつ
きが生じたり、グレインの成長ばらつきが生じ、容量が
不安定となりがちであった。
【0014】よって、本発明の目的は、複数の内部電極
がセラミック層を介して重なりあっている素子部分と、
それ以外の部分との間の歪みに起因する種々の欠点を解
消することができ、層間剥離現象の発生を防止すること
ができ、耐熱衝撃性及び耐機械的衝撃性に優れ、電気的
特性のばらつきが少なく、信頼性に優れたセラミック積
層電子部品を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、複数の内部電極がセラミック層を介して重なり合っ
ている素子部分と、素子部分の上下に配置されたダミー
層と、素子部分の側方に配置されたサイドマージン部と
を有するセラミック積層電子部品の製造方法であって、
複数のセラミックグリーンシートを複数の内部電極を間
に介して積層してなり、かつ対向している一対の側面に
前記内部電極が露出されており、前記素子部分及びダミ
ー層のうち少なくとも前記素子部分を構成するための積
層体生チップを用意する工程と、前記積層体生チップを
焼成して、複数の前記内部電極の両側面が外側面に露出
されている焼結体を得る工程と、前記焼結体の前記外側
面を含む4つの側面の周囲にセラミックスラリーまたは
合成樹脂の一方を付着させる工程と、前記セラミックス
ラリーまたは合成樹脂の一方を硬化させて電子部品素子
チップを得る工程と、電子部品素子チップに内部電極と
電気的に接続される外部電極を形成する工程とを備え
る、セラミック積層電子部品の製造方法である。
【0016】また、請求項2に記載のように、好ましく
は、上記セラミックスラリーまたは合成樹脂を付着させ
る工程が、焼結体を型内に入れ、型内にセラミックスラ
リーまたは溶融状態にある合成樹脂を充填することによ
り行われる。
【0017】
【作用】本発明では、内部電極が積層体の全幅に至るよ
うに、内部電極の両側面が対向側面に露出されている積
層体生チップを予め焼成して、複数の内部電極が対向し
ている一対の側面に露出されている素子部分構成用焼結
体を得る。
【0018】そして、上記焼結体を得た後に、外周側面
に、セラミックスラリーまたは合成樹脂を付着させ、硬
化させることにより、電子部品素子チップを得る。従っ
て、電極がセラミック層を介して重なり合っている素子
部分では、焼結の速度及び温度が均一な状態で焼成が進
行し、しかも焼成に際してのガスの拡散性も高められる
歪みの少ない焼結体を得ることができる。すなわち、本
発明は、素子部分のみを先に焼成して、素子部分におけ
る歪みの発生を防止し、内部電極の露出を防止するため
のサイドマージン部については、後工程においてセラミ
ックスラリーや合成樹脂を硬化させることにより構成
し、それによって素子部分における層間剥離現象を防止
したことに特徴を有する。
【0019】なお、セラミックスラリーの硬化は、該セ
ラミックスラリーが付着された焼結体を再度焼成するこ
とにより、合成樹脂の硬化は、焼結体側面に合成樹脂を
付着させた後加熱処理することにより行われる。
【0020】なお、請求項1に記載の発明では、上記の
ように予め焼成される部分は、素子分及びダミー層のう
ち少なくとも素子部分である。すなわち、ダミー層につ
いては、最初に上記焼結体を得るに際し素子部分と一緒
に焼成してもよく、あるいはサイドマージン部を構成す
る際に、上記セラミックスラリーまたは合成樹脂により
構成してもよい。
【0021】また、請求項2に記載の発明では、上記セ
ラミックスラリーまたは合成樹脂を付着させる工程が、
型内に焼結体を入れ、該型内にセラミックスラリーまた
は合成樹脂を充填することにより行われる。従って、焼
結体の周囲に容易にかつ確実にセラミックスラリーまた
は合成樹脂を付着させることができる。
【0022】
【実施例の説明】〔第1の実施例〕図7〜図16を参照
して、本発明の一実施例に係るセラミック積層電子部品
の製造方法を説明する。なお、本実施例は、積層コンデ
ンサの製造方法に適用したものであるが、本発明は、積
層コンデンサ以外の他の積層セラミック電子部品の製造
方法にも適用することができる。
【0023】まず、図7に示すように、矩形形状に打ち
抜かれたマザーのセラミックグリーンシート11を用意
する。次に、マザーのセラミックグリーンシート11上
に複数の内部電極パターン12,12aを形成する。内
部電極パターン12,12aは、導電ペーストをスクリ
ーン印刷することにより、あるいはグラビア転写もしく
は蒸着、メッキもしくはスパッタリングなどの薄膜形成
法により形成することができる。
【0024】内部電極パターン12は、それぞれ、セラ
ミックグリーンシート11の両側縁11a,11bに至
るように形成されている。また、内部電極パターン12
aは、両側縁11a,11bに至るように形成されてい
るが、その幅は、内部電極パターン12に比べて細くさ
れている。また、内部電極パターン12,12aは、図
示のように所定の幅のギャップ領域gを隔てて形成され
ている。
【0025】次に、内部電極パターン12,12aが印
刷されたセラミックグリーンシート11を、内部電極パ
ターン12aが交互に逆の側に位置するように積層し、
厚み方向に加圧することにより、図8及び図9に示す積
層体13を得る。
【0026】次に、図9(b)に示す一点鎖線Eに沿っ
て積層体13を切断し、図10に示す積層体14を得
る。この積層体14を、長さ方向に沿って所定の寸法ご
とに切断刃15を用いて切断する。
【0027】上記切断により、積層体生チップを得、該
積層体生チップを焼成して焼結体17(図11)を得
る。焼結体17では、上記内部電極パターン12,12
aが切断されて構成された複数の内部電極12A,12
Bがセラミック層を介して隔てられて積層されている。
また、複数の内部電極12Aは、焼結体17の端面17
aに、複数の内部電極12Bは、端面17bに引き出さ
れている。さらに、複数の内部電極12A,12Bは、
その両側面が、焼結体17の対向し合っている側面17
c,17dに露出されている。すなわち、上記製造工程
を経て得られるため、焼結体17では、内部電極12
A,12Bが、焼結体17の全幅に至るように配置され
ている。
【0028】この場合、焼結体17は、積層コンデンサ
の素子部分を構成するものであるが、積層体13の段階
で厚み方向に均一に加圧されており、しかも複数の内部
電極12A,12Bを介して積層されているセラミック
グリーンシート層が均一な状態で構成されているため、
焼結体17内のセラミック層において歪みは生じ難い。
よって、焼結体17において、デラミネーションと称さ
れているような層間剥離現象は生じ難い。
【0029】次に、図12に示す型18を用意する。型
18は、マトリックス上に配置された複数の凹部19を
有する。各凹部19は、上記焼結体17を収納し得る大
きさに構成されている。
【0030】図13に略図的に示すように、上記凹部1
9内に焼結体17を入れ、しかる後セラミックスラリー
を充填する。使用するセラミックスラリーとしては、比
較的低温で収縮変化の少ないものを使用することが望ま
しい。
【0031】次に、周囲にセラミックスラリーが付着さ
れたセラミック焼結体17を型18から取り出す。取り
出された構造体を、図14(a)及び(b)に断面図で
示す。
【0032】図14から明らかなように、セラミック焼
結体17の周囲に、セラミックスラリー層20が形成さ
れている。次に、焼結体17の両端面17a,17bを
覆っているセラミックスラリーを研磨などの方法により
除去し、図15に示すように、複数の内部電極12A,
12Bを両端面17a,17bに露出させる。
【0033】しかる後、焼結体17の外周側面にセラミ
ックスラリー層20が形成された図15に示すチップを
焼成し、セラミックスラリー層20を焼結する。このよ
うにして、図16に示す電子部品素子チップ21を得る
ことができる。なお、図16において、20Aはダミー
のセラミック層を示し、上記セラミックスラリー層20
が焼成されて形成されている。電子部品素子チップ21
の両端面21a,21bを覆うように一対の外部電極2
2,23を形成し、積層コンデンサ24を得る。
【0034】なお、上記外部電極22,23の形成は、
従来の積層コンデンサの製造方法に従って行うことがで
き、電子部品素子チップ21の両端面21a,21b上
に銀などの金属を含む導電ペーストを塗布し、焼き付け
ることにより、あるいはメッキもしくは蒸着等により行
って形成することができる。なお、外部電極22,23
は、導電ペーストの塗布及び焼き付けにより行う場合に
は、該外部電極の焼き付け温度がセラミックスラリー層
20の焼成温度と近似している場合には、セラミックス
ラリー層20の焼成と外部電極22,23の焼成とを同
一工程により行ってもよい。
【0035】必要に応じて、上記外部電極22,23の
外表面に、さらにNi及びSn層をメッキしてもよい。
本実施例の積層コンデンサの製造方法では、上記のよう
に素子部分を構成する焼結体17を予め焼成するため、
最終的に得られた積層コンデンサ24において素子部分
に歪みが生じ難く、従ってデラミネーション等が生じ難
い。しかも、焼成に際してのガスの拡散性も高められる
ので、よって、積層コンデンサの耐熱衝撃性や耐機械的
衝撃性が高められ、かつ高温・高湿環境の下におかれた
場合であっても、絶縁抵抗などの電気的特性の低下が起
こり難い。また、焼成に際してのガスの拡散性も高めら
れるので、素子部分の焼結状態が均一となり、静電容量
のばらつきも生じ難く、かつ多数の積層コンデンサを製
造した場合には、異なる積層コンデンサ間の静電容量の
ばらつきも低減することができる。
【0036】上記実施例では、型18内に焼結体17を
投入し、セラミックスラリーを充填することにより、焼
結体17の全外周面にスラリー層20を形成し、しかる
後端面17a,17b上のセラミックスラリー層を研磨
などにより削除したが、予め端面17a,17b上にセ
ラミックスラリーが付着しないように型18の寸法を定
めておいたり、端面17a,17b上にマスク等を付与
しておき、端面17a,17b上にセラミックスラリー
が付着しないようにしておいてもよい。そのようにすれ
ば、上記セラミックスラリーの研磨作業を省略すること
ができる。
【0037】次に、上記実施例の効果を確認するために
行った実験及びその結果につき説明する。実験例1 上記実施例の方法に従って、積層コンデンサを作製し
た。原料として、チタン酸バリウムを主成分とするセラ
ミックスラリーを用い、厚み30μmのセラミックグリ
ーンシートを作製した。このセラミックグリーンシート
を矩形形状に打ち抜き、図7に示したマザーのセラミッ
クグリーンシート11を用意した。マザーのセラミック
グリーンシート上に上記実施例に従って内部電極パター
ン12,12aを形成し、電極積層数が30枚となるよ
うに、内部電極パターンの印刷されたセラミックグリー
ンシートを積層し、積層体を得た。なお、上記積層体を
焼成して得られた焼結体の外周側面に付着されるスラリ
ーとしては、チタン酸バリウム系セラミック粉末を主体
とするものを用いた。また、セラミックスラリー層20
の厚みは、300μmとした。
【0038】比較のために、上記実施例で用意したマザ
ーのセラミックグリーンシートを用い、従来法に従って
内部電極パターンを印刷し、かつ内部電極積層数が30
枚とされている積層体を得、さらに上下に厚み300μ
mとなるダミー層を構成するために複数枚のセラミック
グリーンシートを積層し、厚み方向に加圧することによ
りマザーの積層体を得た。このマザーの積層体を用い、
従来法に従って、実施例に相当の積層コンデンサを作製
した。なお、この比較例の積層コンデンサにおいても、
サイドマージン部の幅は、実施例と同様に300μmと
した。
【0039】上記のようにして得た実施例及び比較例の
積層コンデンサ各500個につき、デラミネーション発
生割合を調べた。また、各積層コンデンサ50個に30
0℃の温度変化を与えて、耐熱衝撃性試験を行い、絶縁
抵抗(IR)の劣化を調べた。絶縁抵抗の劣化が10Ω
以上の場合について不良品とした。さらに、実施例及び
比較例の積層コンデンサにつき下記の要領で高温負荷試
験及び耐湿負荷試験を行った。
【0040】高温負荷試験… 85℃の温度に250個
の積層コンデンサを2000時間放置した後の絶縁抵抗
の低下を測定した。絶縁抵抗低下値が10Ω以上の場合
を不良品とした。
【0041】耐湿負荷試験… 相対湿度95%、85℃
の環境の下に積層コンデンサ250個を2000時間放
置し、放置前後における絶縁抵抗の変化を測定した。絶
縁抵抗の低下が10Ω以上の場合不良品とした。
【0042】さらに、実施例及び比較例の積層コンデン
サ72個につき、静電容量を測定し、そのばらつきCV
値(%)を測定した。
【0043】
【表1】
【0044】表1から明らかなように、デラミネーショ
ン発生割合、耐熱衝撃試験後の絶縁抵抗の劣化、高温負
荷及び耐湿負荷試験後の絶縁抵抗の劣化、並びに静電容
量のばらつきの何れにおいても、従来法により得られた
積層コンデンサに対し、実施例で得られた積層コンデン
サが優れていることが明らかである。
【0045】〔第2の実施例〕第1の実施例では、焼結
体17を得た後に、型18内においてセラミックスラリ
ーを投入し、それによって焼結体17の外表面にセラミ
ックスラリー層20を形成していたが、セラミックスラ
リー層の成形に代えて、合成樹脂層を形成してもよい。
すなわち、型18の凹部19内に、合成樹脂を注入し、
硬化させることにより、図17(a),(b)に示すよ
うに、焼結体17の外表面に合成樹脂層25を形成して
もよい。この場合には、合成樹脂層25のうち、焼結体
17の端面17a,17b上の部分を研磨などにより除
去し、しかる後第1の実施例と同様に外部電極を付与す
ることにより、積層コンデンサを構成することができ
る。この第2の実施例から明らかなように、焼結体17
を得た後に、合成樹脂層を焼結体17の外周側面を覆う
ように形成し、それによってサイドマージン部及びダミ
ー層を形成し、素子部分の耐湿性を高めるように構成し
てもよい。
【0046】第2の実施例においても、焼結体17を得
る工程までは、第1の実施例と同様に行われるため、第
1の実施例と同様に素子部分におけるデラミネーション
の発生を防止することができる。また、素子部分におい
て焼結歪みが生じ難いため、耐熱衝撃性及び耐機械的衝
撃性も高められる。
【0047】次に、上記のように素子部分を構成する焼
結体17の周囲に合成樹脂層21を形成する第2の実施
例についての具体的な実験例につき説明する。実験例2 酸化チタンを主成分とするセラミックスラリーを用い、
最終的なセラミック層の厚みが30μmとなるように厚
みが制御されたマザーのセラミックグリーンシートを用
意した。内部電極パターン積層枚数が10枚となるよう
に、内部電極パターンの印刷されたマザーのセラミック
グリーンシート11を積層して積層体を得、厚み方向に
加圧した後、個々の積層コンデンサ単位に切断して積層
体生チップを得た。得られた積層体生チップを第1の実
施例と同様にして焼成し、焼結体を得た。得られた焼結
体を、実験例1の場合と同様に型内に配置し、但し、セ
ラミックスラリーに代えて、嫌気状態で硬化するエポキ
シ樹脂を充填し、硬化させ、図17に示した構造を得
た。しかる後、焼結体17の両端面17a,17b上の
合成樹脂層を研磨により削除し、該端面17a,17b
を覆うように外部電極を形成して実施例2の積層コンデ
ンサを得た。なお、サイドマージン部の合成樹脂層の厚
みは約200μmとした。なお、上記実施例2を得る工
程において、マザーの積層体を切断して個々の積層体生
チップを得るに際し、積層体生チップの幅すなわち内部
電極幅を異ならせることにより、種々の積層コンデンサ
を作製した。
【0048】比較のために、比較例として、従来法に従
って上記実施例2の積層コンデンサに相当の積層コンデ
ンサを作製し、比較例2とした。上記のようにして得た
実施例2及び比較例2の積層コンデンサ各72個につ
き、静電容量を測定した。容量ばらつき(CV値)を、
静電容量の平均値とともに、下記の表2に示す。
【0049】なお、比較例2においては、積層する内部
電極枚数を変更することより、実施例2の各積層コンデ
ンサと同一の静電容量を実現し得るようにして、種々の
静電容量のサンプルを作製した。結果を下記の表2に示
す。
【0050】
【表2】
【0051】表2から明らかなように、第2の実施例の
方法によれば、積層体生チップを切断する際の幅を操作
することにより種々の容量の積層コンデンサを容易に得
ることができ、しかも容量ばらつきを従来例に比べて大
幅に低減し得ることがわかる。
【0052】実験例3 セラミックスラリー層20を焼結体17の外周の形成し
たことに代えて、嫌気状態で硬化するエポキシ樹脂を型
内に充填することによりサイドマージン部の幅が300
μmの合成樹脂層25を形成したことを除いては、実験
例1と同様にして、実施例の積層コンデンサを作製し、
実験例1と同様にして評価した。結果を下記の表3に示
す。なお、表3においては、実験例1で用意した比較例
の積層コンデンサの結果についても併せて示す。
【0053】
【表3】
【0054】表3から明らかなように、合成樹脂層によ
りサイドマージン部を構成した場合であっても、実験例
1と同様に、デラミネーション発生割合、耐熱衝撃試
験、高温負荷試験、耐湿負荷試験の何れにおいても比較
例に比べて優れた結果を示し、かつ容量ばらつきも小さ
いことがわかる。
【0055】
【発明の効果】本発明によれば、内部電極が全幅に至る
積層体生チップを焼成することにより、素子部分を構成
するための焼結体が予め用意され、該焼結体の周囲にセ
ラミックスラリーや合成樹脂を付着させて硬化させるこ
とにより、少なくともサイドマージン部が構成される。
【0056】従って、素子部分を構成している焼結体
は、均一な状態で焼成されるため、焼結歪みが生じ難
く、デラミネーションと称されているような層間剥離現
象を防止することができる。また、焼結体内に大きな歪
みが残留していないため、耐熱衝撃性及び耐機械的衝撃
性が高められる。特に、周囲を合成樹脂層で被覆した場
合には、該合成樹脂による緩和作用により、耐機械的衝
撃性が一層高められる。
【0057】さらに、素子部分を構成している焼結体内
部に大きな歪みが残留していないため、並びに周囲をセ
ラミックスラリーを焼成することにより構成されたセラ
ミック層や合成樹脂層で覆われているため、メッキ処理
などの化学処理に伴う素子部分の劣化が生じ難く、かつ
耐湿性も高められる。従って、積層セラミック電子部品
の信頼性を高め得る。
【0058】加えて、素子部分を構成しているセラミッ
ク内に大きな歪みが残留していないため、並びに焼成に
際してのガス拡散性が改善されるため、均一な焼結体
(素子部分)を得ることができ、それによって静電容量
等の電気的特性のばらつきを著しく小さくすることがで
きる。
【0059】また、従来は、セラミック焼成に際しての
ばらつきや各種加工ばらつきにより、外形寸法がばらつ
く場合があったが、請求項2に記載のように、セラミッ
クスラリーや合成樹脂により焼結体の周囲に少なくとも
サイドマージン部を構成する場合には、使用する型の寸
法により最終的に得られるセラミック積層電子部品の外
形を決定することができるので、外形寸法のばらつきを
低減することも可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来法で用いられるマザーのセラミックグリー
ンシートを示す平面図。
【図2】従来法で用意される積層体を示す斜視図。
【図3】(a)及び(b)は、図2のA−A線及びB−
B線に沿う断面図。
【図4】従来法で用意される積層体生チップを説明する
ための略図的斜視図。
【図5】(a)及び(b)は、図4の積層体生チップの
横断面図及び縦断面図。
【図6】従来の積層コンデンサの他の例を説明するため
の斜視図。
【図7】実施例で用意されるマザーのセラミックグリー
ンシート及びその上に形成される内部電極パターンを示
す平面図。
【図8】実施例で用意されるマザーの積層体を示す斜視
図。
【図9】(a)及び(b)は、図8のA−A線及びB−
B線に沿う各断面図。
【図10】実施例においてマザーの積層体を切断する工
程を示す斜視図。
【図11】実施例で用意された焼結体を示す斜視図。
【図12】焼結体が入れられる凹部を有する型を示す斜
視図。
【図13】型内の凹部に焼結体を充填した状態を示す模
式的斜視図。
【図14】(a)及び(b)は、焼結体の周囲にセラミ
ックスラリーを形成した状態を示す各断面図。
【図15】焼結体の両端面に設けられたセラミックスラ
リーを研磨により除去した状態を示す断面図。
【図16】実施例で得られた積層コンデンサを示す断面
図。
【図17】(a)及び(b)は、第2の実施例において
焼結体の周囲に合成樹脂層を形成した状態を示す縦断面
図及び横断面図。
【符号の説明】
11…マザーのセラミックグリーンシート 12,12a…内部電極パターン 13…マザーの積層体 14…積層体 12A,12B…内部電極 17…焼結体 17a,17b…焼結体の端面 17c,17d…焼結体の側面 18…型 19…凹部 20…セラミックスラリー層 21…電子部品素子チップ 22,23…外部電極 24…積層コンデンサ 25…合成樹脂層
フロントページの続き (72)発明者 米田 康信 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の内部電極がセラミック層を介して
    重なり合っている素子部分と、素子部分の上下に配置さ
    れたダミー層と、素子部分の側方に配置されたサイドマ
    ージン部とを有するセラミック積層電子部品の製造方法
    であって、 複数のセラミックグリーンシートを複数の内部電極を間
    に介して積層してなり、かつ対向している一対の側面に
    前記内部電極が露出されており、前記素子部分及びダミ
    ー層のうち少なくとも前記素子部分を構成するための積
    層体生チップを用意する工程と、 前記積層体生チップを焼成して、複数の前記内部電極の
    両側面が外側面に露出されている焼結体を得る工程と、 前記焼結体の前記外側面を含む4つの側面の周囲にセラ
    ミックスラリーまたは合成樹脂の一方を付着させる工程
    と、 前記セラミックスラリーまたは合成樹脂の一方を硬化さ
    せて電子部品素子チップを得る工程と、 電子部品素子チップに内部電極と電気的に接続される外
    部電極を形成する工程とを備える、セラミック積層電子
    部品の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記セラミックスラリーまたは合成樹脂
    の一方を付着させる工程が、前記焼結体を型内に入れ、
    型内においてセラミックスラリーまたは溶融状態にある
    合成樹脂を充填することにより行われる、請求項1に記
    載のセラミック積層電子部品の製造方法。
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