JPH0711020A - 二軸配向ポリエステルフィルム - Google Patents
二軸配向ポリエステルフィルムInfo
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- JPH0711020A JPH0711020A JP15969093A JP15969093A JPH0711020A JP H0711020 A JPH0711020 A JP H0711020A JP 15969093 A JP15969093 A JP 15969093A JP 15969093 A JP15969093 A JP 15969093A JP H0711020 A JPH0711020 A JP H0711020A
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- JP
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- film
- particles
- average particle
- ratio
- spherical
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- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 平坦易滑性、耐摩耗性および強度に優れた二
軸配向ポリエステルフィルムを提供する。 【構成】 平均粒径が０．０５〜０．６μｍ、球形比が
１．０〜１．２であるシリカ粒子を０．０１〜１重量
％、および平均粒径が０．１〜２μｍ、球形比が１．０
〜１．２、かつ二軸延伸による変形度が１．０〜１．５
の範囲である架橋高分子粒子を０．００５〜１重量％含
有することを特徴とする二軸配向ポリエステルフィル
ム。
軸配向ポリエステルフィルムを提供する。 【構成】 平均粒径が０．０５〜０．６μｍ、球形比が
１．０〜１．２であるシリカ粒子を０．０１〜１重量
％、および平均粒径が０．１〜２μｍ、球形比が１．０
〜１．２、かつ二軸延伸による変形度が１．０〜１．５
の範囲である架橋高分子粒子を０．００５〜１重量％含
有することを特徴とする二軸配向ポリエステルフィル
ム。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は平坦易滑性、耐摩耗性お
よび強度に優れた二軸配向ポリエステルフィルムに関す
る。
よび強度に優れた二軸配向ポリエステルフィルムに関す
る。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】ポリ
エステルフィルム、とりわけポリエチレンテレフタレー
トに代表される二軸配向フィルムは、優れた物理的およ
び化学的特性を有し、磁気記録媒体のベースフィルムや
コンデンサー誘導体として賞用されているが、近年、ビ
デオテ−プの高密度記録化、長時間化かつ小型化および
コンデンサー容量増加、小型化に伴ない、ベースフィル
ムに対しては平坦易滑化、薄膜化および強度アップの要
求が著しい。しかしながら、従来の二軸配向ポリエステ
ルフィルムでは、こうした要求を満足することが困難で
ある。その主たる原因は、二軸配向ポリエステルフィル
ムの平坦易滑化のために効果的な添加粒子が、概してフ
ィルム製造時に強度アップのため縦、横両方向に高倍率
で延伸された際にフィルム表面から脱落してしまい、反
対にフィルム表面から脱落しにくい添加粒子は、概して
易滑化の効果が小さい。
エステルフィルム、とりわけポリエチレンテレフタレー
トに代表される二軸配向フィルムは、優れた物理的およ
び化学的特性を有し、磁気記録媒体のベースフィルムや
コンデンサー誘導体として賞用されているが、近年、ビ
デオテ−プの高密度記録化、長時間化かつ小型化および
コンデンサー容量増加、小型化に伴ない、ベースフィル
ムに対しては平坦易滑化、薄膜化および強度アップの要
求が著しい。しかしながら、従来の二軸配向ポリエステ
ルフィルムでは、こうした要求を満足することが困難で
ある。その主たる原因は、二軸配向ポリエステルフィル
ムの平坦易滑化のために効果的な添加粒子が、概してフ
ィルム製造時に強度アップのため縦、横両方向に高倍率
で延伸された際にフィルム表面から脱落してしまい、反
対にフィルム表面から脱落しにくい添加粒子は、概して
易滑化の効果が小さい。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる実
情に鑑み、平坦易滑性と高強度であることを満足し得る
優れたフィルムを提供すべく鋭意検討を重ねた結果、あ
る特定の添加粒子の組み合わせにより、かかる目標を達
成し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。す
なわち、本発明の要旨は、平均粒径が０．０５〜０．６
μｍ、球形比が１．０〜１．２であるシリカ粒子を０．
０１〜１重量％、および平均粒径が０．１〜２μｍ、球
形比が１．０〜１．２、かつ二軸延伸による変形度が
１．０〜１．５の範囲である架橋高分子粒子を０．００
５〜１重量％含有することを特徴とする二軸配向ポリエ
ステルフィルム存する。
情に鑑み、平坦易滑性と高強度であることを満足し得る
優れたフィルムを提供すべく鋭意検討を重ねた結果、あ
る特定の添加粒子の組み合わせにより、かかる目標を達
成し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。す
なわち、本発明の要旨は、平均粒径が０．０５〜０．６
μｍ、球形比が１．０〜１．２であるシリカ粒子を０．
０１〜１重量％、および平均粒径が０．１〜２μｍ、球
形比が１．０〜１．２、かつ二軸延伸による変形度が
１．０〜１．５の範囲である架橋高分子粒子を０．００
５〜１重量％含有することを特徴とする二軸配向ポリエ
ステルフィルム存する。
【０００４】以下、本発明を詳細に説明する。本発明で
いうポリエステルとは、繰り返し構造単位の８０％以上
がエチレンテレフタレート単位またはエチレン−２，６
−ナフタレート単位を有するポリエステルを指す。ま
た、本発明のポリエステルフィルムとは、かかるポリエ
ステルを出発原料とする二軸に配向されたポリエステル
フィルムを指すが、その製造方法としては公知の方法を
取り得る。例えば、通常２７０〜３３０℃でシート状に
溶融押出しした後、４０〜８０℃で冷却固化し、無定形
シートとし、次いで、８０〜１７０℃で縦、横方向に面
積倍率で４〜２０倍となるよう逐次あるいは同時に二軸
延伸し、その後１７０〜２７０℃で熱処理する方法を利
用することができる。縦および横方向に延伸するに際し
ては、各々一段で延伸してもよいし、また必要に応じ、
多段で延伸したり多段延伸の間に配向緩和のための熱処
理区間を設けたりすることもできる。
いうポリエステルとは、繰り返し構造単位の８０％以上
がエチレンテレフタレート単位またはエチレン−２，６
−ナフタレート単位を有するポリエステルを指す。ま
た、本発明のポリエステルフィルムとは、かかるポリエ
ステルを出発原料とする二軸に配向されたポリエステル
フィルムを指すが、その製造方法としては公知の方法を
取り得る。例えば、通常２７０〜３３０℃でシート状に
溶融押出しした後、４０〜８０℃で冷却固化し、無定形
シートとし、次いで、８０〜１７０℃で縦、横方向に面
積倍率で４〜２０倍となるよう逐次あるいは同時に二軸
延伸し、その後１７０〜２７０℃で熱処理する方法を利
用することができる。縦および横方向に延伸するに際し
ては、各々一段で延伸してもよいし、また必要に応じ、
多段で延伸したり多段延伸の間に配向緩和のための熱処
理区間を設けたりすることもできる。
【０００５】本発明の最大の特徴は、フィルムに配合す
る粒子として、次の二種類の粒子を同時に含有させる点
にある。第一の粒子は、平均粒径が０．０５〜０．６μ
ｍ、好ましくは０．１〜０．３μｍ、さらに好ましくは
０．１〜０．２μｍであり、球形比が１．０〜１．２で
あるシリカ粒子である。本発明でいう球形比とは、フィ
ルム中に含有させる前の粒子の最大径と最小径との比と
定義する。球形比１．０のときが真球状である。球形比
が１．２を超えると、フィルムの易滑性が不十分とな
る。シリカ粒子の平均粒径が０．０５μｍ未満では、フ
ィルムの易滑性が不十分であり、０．６μｍを超える
と、フィルムの表面平坦性や耐摩耗性が不十分となる。
耐摩耗性が不十分となる理由は、粒径が大きいシリカ粒
子がフィルム表面から脱落しやすくなるためである。
る粒子として、次の二種類の粒子を同時に含有させる点
にある。第一の粒子は、平均粒径が０．０５〜０．６μ
ｍ、好ましくは０．１〜０．３μｍ、さらに好ましくは
０．１〜０．２μｍであり、球形比が１．０〜１．２で
あるシリカ粒子である。本発明でいう球形比とは、フィ
ルム中に含有させる前の粒子の最大径と最小径との比と
定義する。球形比１．０のときが真球状である。球形比
が１．２を超えると、フィルムの易滑性が不十分とな
る。シリカ粒子の平均粒径が０．０５μｍ未満では、フ
ィルムの易滑性が不十分であり、０．６μｍを超える
と、フィルムの表面平坦性や耐摩耗性が不十分となる。
耐摩耗性が不十分となる理由は、粒径が大きいシリカ粒
子がフィルム表面から脱落しやすくなるためである。
【０００６】シリカ粒子のフィルム中の含有量は０．０
１〜１重量％である必要がある。含有量が０．０１重量
％未満では、フィルムの易滑性が不十分となる。また、
１重量％を超えると、フィルムの表面平坦性や耐摩耗性
が不十分となる。耐摩耗性が不十分となる理由は、シリ
カ粒子のフィルム表面からの脱落量が増えるためであ
る。シリカ粒子の含有量は０．０１〜０．３重量％が好
ましい。シリカ粒子は、主に以下に述べる２種類の製法
により得ることができるが、これらに限定されるわけで
はない。第一の製法は、アルコキシシランを出発原料と
して、これを加水分解および縮合反応する方法である。
アルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、テトラブトキシシラン等の化合物
が好適に用いられる。第二の製法は、ケイ酸ソ−ダを加
水分解する方法である。
１〜１重量％である必要がある。含有量が０．０１重量
％未満では、フィルムの易滑性が不十分となる。また、
１重量％を超えると、フィルムの表面平坦性や耐摩耗性
が不十分となる。耐摩耗性が不十分となる理由は、シリ
カ粒子のフィルム表面からの脱落量が増えるためであ
る。シリカ粒子の含有量は０．０１〜０．３重量％が好
ましい。シリカ粒子は、主に以下に述べる２種類の製法
により得ることができるが、これらに限定されるわけで
はない。第一の製法は、アルコキシシランを出発原料と
して、これを加水分解および縮合反応する方法である。
アルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、テトラブトキシシラン等の化合物
が好適に用いられる。第二の製法は、ケイ酸ソ−ダを加
水分解する方法である。
【０００７】本発明のポリエステルフィルムに含有され
る第二の粒子は、平均粒径が０．１〜２μｍ、好ましく
は０．２〜１．２μｍ、さらに好ましくは０．２〜０．
６μｍ、球形比が１．０〜１．２であり、かつ二軸延伸
による変形度が１．０〜１．５の範囲である架橋高分子
粒子である。架橋高分子粒子の平均粒径が０．１μｍ未
満では、フィルムの易滑性および耐摩耗性が不十分とな
る。また、２μｍを超えると、フィルムの表面平坦性が
不十分となる。球形比が１．２を超えると、フィルムの
易滑性や耐摩耗性が不十分となる。また、本発明でいう
変形度とは、フィルム延伸後のフィルム中に存在する架
橋高分子粒子の最大径と最小径との比で定義する。変形
度は１．０〜１．２の範囲がさらに好ましい。変形度が
１．５を超えると、フィルムの易滑性や耐摩耗性が不十
分となる。
る第二の粒子は、平均粒径が０．１〜２μｍ、好ましく
は０．２〜１．２μｍ、さらに好ましくは０．２〜０．
６μｍ、球形比が１．０〜１．２であり、かつ二軸延伸
による変形度が１．０〜１．５の範囲である架橋高分子
粒子である。架橋高分子粒子の平均粒径が０．１μｍ未
満では、フィルムの易滑性および耐摩耗性が不十分とな
る。また、２μｍを超えると、フィルムの表面平坦性が
不十分となる。球形比が１．２を超えると、フィルムの
易滑性や耐摩耗性が不十分となる。また、本発明でいう
変形度とは、フィルム延伸後のフィルム中に存在する架
橋高分子粒子の最大径と最小径との比で定義する。変形
度は１．０〜１．２の範囲がさらに好ましい。変形度が
１．５を超えると、フィルムの易滑性や耐摩耗性が不十
分となる。
【０００８】架橋高分子粒子のフィルム中の含有量は
０．００５〜１重量％である必要がある。含有量が０．
００５重量％未満では、フィルムの易滑性および耐摩耗
性が不十分となる。また、１重量％を超えると、フィル
ムの表面平坦性が不十分となる。架橋高分子粒子の含有
量は０．０１〜０．３重量％が好ましい。架橋高分子粒
子の製造方法は特に限定されるものではないが、典型的
な例としては、分子中に唯１個の脂肪族の不飽和結合を
有するモノビニル化合物（Ａ）の一種以上と、架橋剤と
して分子中に２個以上の脂肪族の不飽和結合を有する化
合物（Ｂ）の一種以上、さらに分子中にエチレングリコ
ール単位を有する化合物（Ｃ）の一種以上を用いて、い
わゆる乳化重合法を適用するのが良い。なお、化合物
（Ｂ）と（Ｃ）は同一の化合物で兼ねることも可能であ
る。ここでいう乳化重合法とは、ソープフリー乳化重合
やシード乳化重合等の概念も包括した広義の乳化重合を
指す。
０．００５〜１重量％である必要がある。含有量が０．
００５重量％未満では、フィルムの易滑性および耐摩耗
性が不十分となる。また、１重量％を超えると、フィル
ムの表面平坦性が不十分となる。架橋高分子粒子の含有
量は０．０１〜０．３重量％が好ましい。架橋高分子粒
子の製造方法は特に限定されるものではないが、典型的
な例としては、分子中に唯１個の脂肪族の不飽和結合を
有するモノビニル化合物（Ａ）の一種以上と、架橋剤と
して分子中に２個以上の脂肪族の不飽和結合を有する化
合物（Ｂ）の一種以上、さらに分子中にエチレングリコ
ール単位を有する化合物（Ｃ）の一種以上を用いて、い
わゆる乳化重合法を適用するのが良い。なお、化合物
（Ｂ）と（Ｃ）は同一の化合物で兼ねることも可能であ
る。ここでいう乳化重合法とは、ソープフリー乳化重合
やシード乳化重合等の概念も包括した広義の乳化重合を
指す。
【０００９】化合物（Ａ）としてはアクリル酸、メタク
リル酸およびこれらのアルキルまたはグリシジルエステ
ル、無水マレイン酸およびそのアルキル誘導体、ビニル
グリシジルエーテル、酢酸ビニル、スチレン、アルキル
置換スチレン等を挙げることができる。化合物（Ｂ）と
してはジビニルベンゼン、ジビニルスルホン等を挙げる
ことができる。また、化合物（Ｃ）としてはエチレング
リコールモノアクリレート、エチレングリコールメタク
リレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート等を挙げることができ
る。架橋高分子粒子は、架橋度が大き過ぎると粒子とポ
リエステルとの親和性が劣り、逆に架橋度が小さ過ぎる
と粒子の耐熱性やフィルム中での変形度が大きくなり過
ぎて好ましくない。したがって、両者を満足させるた
め、架橋剤としての化合物（Ｂ）の粒子中の重量比は通
常１０〜７０％、好ましくは２０〜５５％、さらに好ま
しくは３０〜４５％とする。
リル酸およびこれらのアルキルまたはグリシジルエステ
ル、無水マレイン酸およびそのアルキル誘導体、ビニル
グリシジルエーテル、酢酸ビニル、スチレン、アルキル
置換スチレン等を挙げることができる。化合物（Ｂ）と
してはジビニルベンゼン、ジビニルスルホン等を挙げる
ことができる。また、化合物（Ｃ）としてはエチレング
リコールモノアクリレート、エチレングリコールメタク
リレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート等を挙げることができ
る。架橋高分子粒子は、架橋度が大き過ぎると粒子とポ
リエステルとの親和性が劣り、逆に架橋度が小さ過ぎる
と粒子の耐熱性やフィルム中での変形度が大きくなり過
ぎて好ましくない。したがって、両者を満足させるた
め、架橋剤としての化合物（Ｂ）の粒子中の重量比は通
常１０〜７０％、好ましくは２０〜５５％、さらに好ま
しくは３０〜４５％とする。
【００１０】架橋高分子粒子中のエチレングリコール単
位の含有率は通常３重量％以上であり、好ましくは５重
量％以上、さらに好ましくは１０重量％以上である。エ
チレングリコール単位の含有率が３重量％未満では、粒
子とポリエステルとの親和性が不十分となり、ポリエス
テル中分散性も不十分となる傾向がある。本発明におけ
る架橋高分子粒子製造の一態様を示すと次のとおりであ
る。すなわち水媒体中に水溶性の重合開始剤である過酸
化水素、過硫酸カリウム等の開始剤を所定量溶解した
後、所定量の化合物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の混合溶液
を添加する。しかる後、重合開始剤の分解開始温度以
上、好ましくは３０〜９０℃で攪拌下３〜１０時間程度
の反応を行う。その際、モノマー組成によっては、一部
凝集粒子が生成する場合もあるので、この場合は粒子の
分散安定性を保持するため、乳化剤等の分散安定剤を添
加するとよい。いずれにしても粒子は均一に分散した水
スラリーとして得られる。
位の含有率は通常３重量％以上であり、好ましくは５重
量％以上、さらに好ましくは１０重量％以上である。エ
チレングリコール単位の含有率が３重量％未満では、粒
子とポリエステルとの親和性が不十分となり、ポリエス
テル中分散性も不十分となる傾向がある。本発明におけ
る架橋高分子粒子製造の一態様を示すと次のとおりであ
る。すなわち水媒体中に水溶性の重合開始剤である過酸
化水素、過硫酸カリウム等の開始剤を所定量溶解した
後、所定量の化合物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の混合溶液
を添加する。しかる後、重合開始剤の分解開始温度以
上、好ましくは３０〜９０℃で攪拌下３〜１０時間程度
の反応を行う。その際、モノマー組成によっては、一部
凝集粒子が生成する場合もあるので、この場合は粒子の
分散安定性を保持するため、乳化剤等の分散安定剤を添
加するとよい。いずれにしても粒子は均一に分散した水
スラリーとして得られる。
【００１１】本発明では、シリカ粒子の平均粒径と架橋
高分子粒子の平均粒径の比（シリカ粒子の平均粒径／架
橋高分子粒子の平均粒径）が０．９以下であることが好
ましく、さらには０．７以下であることが好ましい。か
かる比が０．９を超えるとフィルムの耐摩耗性が不十分
となる。なお、本発明で用いるシリカ粒子および架橋高
分子粒子を製膜原料のポリエステルに配合する方法は特
に限定されるものではなく、公知の方法を採用しうる。
例えば、該粒子をエチレングリコールスラリー分散体と
して得た場合は、ポリエステル製造工程のいずれかの段
階、好ましくはエステル化もしくはエステル交換反応終
了後、重縮合反応開始前の段階で添加し重縮合反応を進
めるとよい。また、必要に応じ、本発明の趣旨を損なわ
ない範囲で他の粒子、例えばカオリン、タルク、炭酸カ
ルシウム、酸化アルミニウム等の粒子を併用することが
できる。特に微細な酸化アルミニウム粒子を併用する
と、フィルムの耐擦傷性が改良される。
高分子粒子の平均粒径の比（シリカ粒子の平均粒径／架
橋高分子粒子の平均粒径）が０．９以下であることが好
ましく、さらには０．７以下であることが好ましい。か
かる比が０．９を超えるとフィルムの耐摩耗性が不十分
となる。なお、本発明で用いるシリカ粒子および架橋高
分子粒子を製膜原料のポリエステルに配合する方法は特
に限定されるものではなく、公知の方法を採用しうる。
例えば、該粒子をエチレングリコールスラリー分散体と
して得た場合は、ポリエステル製造工程のいずれかの段
階、好ましくはエステル化もしくはエステル交換反応終
了後、重縮合反応開始前の段階で添加し重縮合反応を進
めるとよい。また、必要に応じ、本発明の趣旨を損なわ
ない範囲で他の粒子、例えばカオリン、タルク、炭酸カ
ルシウム、酸化アルミニウム等の粒子を併用することが
できる。特に微細な酸化アルミニウム粒子を併用する
と、フィルムの耐擦傷性が改良される。
【００１２】本発明のポリエステルフィルムは、さらに
その縦方向と横方向のＦ5 値が下記（１）式を満足する
ことが好ましい。 Ｆ5 MD ＋Ｆ5 TD ≧２６ …（１） （上記式中、Ｆ5 MD は縦方向のＦ5 値（ｋｇ／ｍｍ
2 ）、Ｆ5 TD は横方向のＦ5値（ｋｇ／ｍｍ2 を示す） さらに好ましいのは、上記（１）式、下記（３）および
（４）式を同時に満足すること、または上記（１）式、
下記（５）および（６）式を同時に満足することであ
る。 ｜Ｆ5 MD −Ｆ5 TD ｜≦３ …（３） １３≦Ｆ5 MD ≦１７ …（４） ｜Ｆ5 MD −Ｆ5 TD ｜≧５ …（５） Ｆ5 MD ≧１８ …（６） これらの条件を満足すると、特に薄膜化した際のフィル
ム特性が良好となる。すなわち、強度が不足すると、例
えば長時間磁気テープ用のベースフィルムの場合、磁気
テープを多数回繰り返し走行させるとテープの走行性お
よび電気特性が劣化し、テープの耐久性が劣る。
その縦方向と横方向のＦ5 値が下記（１）式を満足する
ことが好ましい。 Ｆ5 MD ＋Ｆ5 TD ≧２６ …（１） （上記式中、Ｆ5 MD は縦方向のＦ5 値（ｋｇ／ｍｍ
2 ）、Ｆ5 TD は横方向のＦ5値（ｋｇ／ｍｍ2 を示す） さらに好ましいのは、上記（１）式、下記（３）および
（４）式を同時に満足すること、または上記（１）式、
下記（５）および（６）式を同時に満足することであ
る。 ｜Ｆ5 MD −Ｆ5 TD ｜≦３ …（３） １３≦Ｆ5 MD ≦１７ …（４） ｜Ｆ5 MD −Ｆ5 TD ｜≧５ …（５） Ｆ5 MD ≧１８ …（６） これらの条件を満足すると、特に薄膜化した際のフィル
ム特性が良好となる。すなわち、強度が不足すると、例
えば長時間磁気テープ用のベースフィルムの場合、磁気
テープを多数回繰り返し走行させるとテープの走行性お
よび電気特性が劣化し、テープの耐久性が劣る。
【００１３】縦方向あるいは縦、横の両方向に高強度な
フィルムを得るためには、二軸延伸後、次工程の熱処理
工程に供する前に再度延伸するという処方が採られる。
この再延伸は縦横いずれの方向に行うこともできるし、
また両方向に行ってもよい。例えば、二軸延伸後さらに
１１０〜２００℃の温度で縦方向あるいは縦横の両方向
に１．０５〜４．０倍の再延伸を行った後熱処理する方
法が採られる。この際、再延伸前熱固定、再延伸後弛
緩、再延伸前または後微小倍率延伸等の手法を適宜採用
することができる。本発明のポリエステルフィルムは、
さらにその表面中心線平均粗さＲａ値が０．００３〜
０．０１５μｍの範囲にあることが好ましく、さらに好
ましくは０．００５〜０．０１０μｍの範囲である。Ｒ
ａが０．００３μｍ未満ではフィルムの易滑性、耐摩耗
性が不十分となることがあり、０．０１５μｍを超える
と表面粗度が大きくなり過ぎる傾向がある。本発明のポ
リエステルフィルムは、易滑性、耐摩耗性に優れ、かつ
機械的強度にも優れるため、例えば長時間磁気テープ用
のベースフィルムなどにより適したものとなる。また、
コンデンサー用、感熱転写用等、種々の分野のベースフ
ィルムとして極めて有用である。
フィルムを得るためには、二軸延伸後、次工程の熱処理
工程に供する前に再度延伸するという処方が採られる。
この再延伸は縦横いずれの方向に行うこともできるし、
また両方向に行ってもよい。例えば、二軸延伸後さらに
１１０〜２００℃の温度で縦方向あるいは縦横の両方向
に１．０５〜４．０倍の再延伸を行った後熱処理する方
法が採られる。この際、再延伸前熱固定、再延伸後弛
緩、再延伸前または後微小倍率延伸等の手法を適宜採用
することができる。本発明のポリエステルフィルムは、
さらにその表面中心線平均粗さＲａ値が０．００３〜
０．０１５μｍの範囲にあることが好ましく、さらに好
ましくは０．００５〜０．０１０μｍの範囲である。Ｒ
ａが０．００３μｍ未満ではフィルムの易滑性、耐摩耗
性が不十分となることがあり、０．０１５μｍを超える
と表面粗度が大きくなり過ぎる傾向がある。本発明のポ
リエステルフィルムは、易滑性、耐摩耗性に優れ、かつ
機械的強度にも優れるため、例えば長時間磁気テープ用
のベースフィルムなどにより適したものとなる。また、
コンデンサー用、感熱転写用等、種々の分野のベースフ
ィルムとして極めて有用である。
【００１４】
【実施例】以下、本発明を実施例を挙げてさらに詳細に
説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下
の実施例によって限定されるものではない。なお、実施
例における種々の物性および特性の測定方法、定義は下
記のとおりである。また、実施例および比較例中「部」
とあるは「重量部」を示す。 （１）平均粒径 粒子の走査電子顕微鏡観察より粒子毎の最大径および最
小径を測定して、その相加平均を粒子一個の粒径（直
径）とした。少なくとも粒子１００個について粒径を測
定し、それらの相加平均を平均粒径とした。 （２）球形比 粒子の走査電子顕微鏡観察より粒子毎の最大径および最
小径を測定して、最大径／最小径の比を算出し、少なく
とも粒子１００個についてその比を求め、それらの値の
相加平均を球形比と定義した。 （３）変形比 粒子を含有する延伸フィルムの小片をエポキシ樹脂にて
固定成形した後、ミクロト−ムで切断し、フィルムの長
手方向（縦方向）の断面を透過型電子顕微鏡により観察
した。フィルム表面から５μｍ以内に存在する粒子につ
き、粒子毎に最大径および最小径を測定して最大径／最
小径の比を算出し、少なくとも粒子１００個についてそ
の比を求め、それらの値の相加平均を変形比と定義し
た。
説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下
の実施例によって限定されるものではない。なお、実施
例における種々の物性および特性の測定方法、定義は下
記のとおりである。また、実施例および比較例中「部」
とあるは「重量部」を示す。 （１）平均粒径 粒子の走査電子顕微鏡観察より粒子毎の最大径および最
小径を測定して、その相加平均を粒子一個の粒径（直
径）とした。少なくとも粒子１００個について粒径を測
定し、それらの相加平均を平均粒径とした。 （２）球形比 粒子の走査電子顕微鏡観察より粒子毎の最大径および最
小径を測定して、最大径／最小径の比を算出し、少なく
とも粒子１００個についてその比を求め、それらの値の
相加平均を球形比と定義した。 （３）変形比 粒子を含有する延伸フィルムの小片をエポキシ樹脂にて
固定成形した後、ミクロト−ムで切断し、フィルムの長
手方向（縦方向）の断面を透過型電子顕微鏡により観察
した。フィルム表面から５μｍ以内に存在する粒子につ
き、粒子毎に最大径および最小径を測定して最大径／最
小径の比を算出し、少なくとも粒子１００個についてそ
の比を求め、それらの値の相加平均を変形比と定義し
た。
【００１５】（４）フィルム表面の平均粗さ 日本工業規格ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載されている方法
に従い、（株）小坂研究所製 表面粗さ測定機（ＳＥ−
３Ｆ）を用いて、中心線平均粗さ（Ｒａ）を求めた。 （５）フィルムのＦ5 値 （株）インテスコ製 引張試験機インテスコモデル２０
０１型を用いて、長さ５０ｍｍ、幅１５ｍｍのサンプル
片を、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で引張り、得ら
れたＳ−Ｓ曲線から５％伸長時の荷重を読み取り、次式
に従ってＦ5 値を算出した。 Ｆ5 ＝５％伸長時の荷重［ｋｇ］／試験片の断面積［ｍ
ｍ2 ］ （６）走行性 フィルムの滑り性により評価した。滑り性は、固定した
硬質クロムメッキ金属ロール（直径６ｍｍ）にフィルム
を巻き付け角（θ）１３５°で接触させ、５３ｇの荷重
を一端にかけて、１ｍ／ｍｉｎの速度でこれを走行さ
せ、他端の抵抗力（Ｔ1 ，ｇ）を測定し、次式により走
行中の摩擦係数（μｄ）を求めた。 μｄ＝０．４２４・ｌｎ（Ｔ1 ／５３）
に従い、（株）小坂研究所製 表面粗さ測定機（ＳＥ−
３Ｆ）を用いて、中心線平均粗さ（Ｒａ）を求めた。 （５）フィルムのＦ5 値 （株）インテスコ製 引張試験機インテスコモデル２０
０１型を用いて、長さ５０ｍｍ、幅１５ｍｍのサンプル
片を、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で引張り、得ら
れたＳ−Ｓ曲線から５％伸長時の荷重を読み取り、次式
に従ってＦ5 値を算出した。 Ｆ5 ＝５％伸長時の荷重［ｋｇ］／試験片の断面積［ｍ
ｍ2 ］ （６）走行性 フィルムの滑り性により評価した。滑り性は、固定した
硬質クロムメッキ金属ロール（直径６ｍｍ）にフィルム
を巻き付け角（θ）１３５°で接触させ、５３ｇの荷重
を一端にかけて、１ｍ／ｍｉｎの速度でこれを走行さ
せ、他端の抵抗力（Ｔ1 ，ｇ）を測定し、次式により走
行中の摩擦係数（μｄ）を求めた。 μｄ＝０．４２４・ｌｎ（Ｔ1 ／５３）
【００１６】（７）耐摩耗特性 下記に示す白粉発生量より耐摩耗特性を評価した。 ＜白粉発生量＞固定した直径６ｍｍの硬質クロム製固定
ピンにフィルムを巻きつけ角１３５°で接触させ、速度
は１０ｍ／ｍｉｎ、張力２００ｇでフィルムを１０００
ｍにわたって走行させ、ピンに付着した摩耗白粉量を目
視評価し、下に示すランク別に評価を行った。 ランクＡ：白粉が全く付着しない ランクＢ：白粉が微量付着する ランクＣ：少量（ランクＢよりは多い）白粉が付着する ランクＤ：極めて多く白粉が付着する
ピンにフィルムを巻きつけ角１３５°で接触させ、速度
は１０ｍ／ｍｉｎ、張力２００ｇでフィルムを１０００
ｍにわたって走行させ、ピンに付着した摩耗白粉量を目
視評価し、下に示すランク別に評価を行った。 ランクＡ：白粉が全く付着しない ランクＢ：白粉が微量付着する ランクＣ：少量（ランクＢよりは多い）白粉が付着する ランクＤ：極めて多く白粉が付着する
【００１７】（８）磁気テ−プ特性 磁性微粉末２００部、ポリウレタン樹脂３０部、ニトロ
セルロース１０部、塩化ビニル−酢酸セルロース共重合
体１０部、レシチン５部、シクロヘキサノン１００部、
メチルイソブチルケトン１００部、およびメチルエチル
ケトン３００部をボールミルにて４８時間混合分散後、
ポリイソシアネート化合物５部を加えて磁性塗料とし、
これをポリエステルフィルムに塗布した後、塗料が十分
乾燥固化する前に磁気配向させ、その後、乾燥し、２μ
ｍの膜厚の磁性層を形成した。 ＜カレンダ−汚れ＞次いで、得られた磁性層塗布フィル
ムにカレンダーにて表面処理を施す際に、ベ−スフィル
ムが接触するロール面の汚れ度を評価した。すなわち、
鏡面仕上げの金属ロールとポリエステル系複合樹脂ロー
ルとから構成されている５段のス−パ−カレンダ−を用
い、ロール温度８５℃、線圧２５０ｋｇ／ｃｍ、走行速
度８０ｍ／ｍｉｎの条件下、磁気テープ５０００ｍを７
回繰り返し走行させ、樹脂ロールに付着する白粉量を目
視評価し、下に示すランク別に評価を行った。 〇…樹脂ロールに白粉の付着はほとんど見られない △…極く僅かな白粉の付着が見られる ×…明らかに白粉の付着が見られる
セルロース１０部、塩化ビニル−酢酸セルロース共重合
体１０部、レシチン５部、シクロヘキサノン１００部、
メチルイソブチルケトン１００部、およびメチルエチル
ケトン３００部をボールミルにて４８時間混合分散後、
ポリイソシアネート化合物５部を加えて磁性塗料とし、
これをポリエステルフィルムに塗布した後、塗料が十分
乾燥固化する前に磁気配向させ、その後、乾燥し、２μ
ｍの膜厚の磁性層を形成した。 ＜カレンダ−汚れ＞次いで、得られた磁性層塗布フィル
ムにカレンダーにて表面処理を施す際に、ベ−スフィル
ムが接触するロール面の汚れ度を評価した。すなわち、
鏡面仕上げの金属ロールとポリエステル系複合樹脂ロー
ルとから構成されている５段のス−パ−カレンダ−を用
い、ロール温度８５℃、線圧２５０ｋｇ／ｃｍ、走行速
度８０ｍ／ｍｉｎの条件下、磁気テープ５０００ｍを７
回繰り返し走行させ、樹脂ロールに付着する白粉量を目
視評価し、下に示すランク別に評価を行った。 〇…樹脂ロールに白粉の付着はほとんど見られない △…極く僅かな白粉の付着が見られる ×…明らかに白粉の付着が見られる
【００１８】＜ドロップアウト数（ＤＯ）＞４．４メガ
ヘルツの信号を記録したビデオテープを再生し大倉イン
ダストリー（株）ドロップアウトカウンターでドロップ
アウト数を約２０分間測定し、１分間当りのドロップア
ウト数に換算した。 ＜テ−プの耐久性＞上述の方法により製造した磁気テ−
プを実際にビデオデッキにかけて４００回の繰り返し走
行試験を行い、そのときのテ−プの走行状態、テ−プの
変形状態を評価した。 〇…良好 △…やや不良 ×…不良 （９）耐擦傷性 幅１／２インチにスリットした磁気テ−プを直径６ｍｍ
の硬質クロムメッキ金属ピン（仕上げ３Ｓ）にフィルム
を巻きつけ角１３５°、走行速度４ｍ／ｍｉｎ、張力５
０ｇで磁気テ−プのベ−スフィルム面を１回擦過させ
た。次に、擦過面にアルミニウムを約１０００Å厚とな
るよう真空蒸着し、傷の量を目視により観察し、下記判
定を行った。 ランク１：傷の量が極めて多い ランク２：傷の量が多い ランク３：傷の量が２、４の中間 ランク４：傷の量が少ない ランク５：傷が付かない
ヘルツの信号を記録したビデオテープを再生し大倉イン
ダストリー（株）ドロップアウトカウンターでドロップ
アウト数を約２０分間測定し、１分間当りのドロップア
ウト数に換算した。 ＜テ−プの耐久性＞上述の方法により製造した磁気テ−
プを実際にビデオデッキにかけて４００回の繰り返し走
行試験を行い、そのときのテ−プの走行状態、テ−プの
変形状態を評価した。 〇…良好 △…やや不良 ×…不良 （９）耐擦傷性 幅１／２インチにスリットした磁気テ−プを直径６ｍｍ
の硬質クロムメッキ金属ピン（仕上げ３Ｓ）にフィルム
を巻きつけ角１３５°、走行速度４ｍ／ｍｉｎ、張力５
０ｇで磁気テ−プのベ−スフィルム面を１回擦過させ
た。次に、擦過面にアルミニウムを約１０００Å厚とな
るよう真空蒸着し、傷の量を目視により観察し、下記判
定を行った。 ランク１：傷の量が極めて多い ランク２：傷の量が多い ランク３：傷の量が２、４の中間 ランク４：傷の量が少ない ランク５：傷が付かない
【００１９】実施例１ ［シリカ粒子の製造］テトラメチルシラン３０．４ｇを
４００ｇのメタノールに溶解し２０℃に保持した。（Ａ
液） 一方、メタノール９００ｇに水１１０ｇを加え、２８％
アンモニア水溶液２４３ｇを加え混合し、２０℃に保持
した。（Ｂ液） 次いで、Ｂ液を攪拌しつつこれにＡ液を添加し、２時間
攪拌保持した後、エチレングリコール１０３ｇを加え、
減圧下、加熱して過剰の水、メタノール、アンモニアを
留去し、１０％濃度の球状シリカ微粒子を含有するエチ
レングリコールスラリーを得た。スラリー中の球状シリ
カ微粒子の平均粒子径は０．２０μｍであり、球形比は
１．０５であった。 ［架橋高分子粒子の製造］脱塩水１５００部に水溶性重
合開始剤の過硫酸カリウム３．２部と分散安定剤として
ラウリル硫酸ナトリウム０．００４部を添加し均一に溶
解させた後、メチルメタクリレート５部、エチレングリ
コールジメタクリレート６５部およびジビニルベンゼン
３０部の混合溶液を加えた。次いで窒素ガス雰囲気下で
攪拌しながら７０℃で８時間重合を行った。反応率は９
８％で、得られた粒子の平均粒径は０．３０μｍ、球形
比１．０５であった。得られた該粒子の水スラリーにエ
チレングリコール２０００部を加え加熱、減圧下で水を
留去し、エチレングリコールスラリーとした。
４００ｇのメタノールに溶解し２０℃に保持した。（Ａ
液） 一方、メタノール９００ｇに水１１０ｇを加え、２８％
アンモニア水溶液２４３ｇを加え混合し、２０℃に保持
した。（Ｂ液） 次いで、Ｂ液を攪拌しつつこれにＡ液を添加し、２時間
攪拌保持した後、エチレングリコール１０３ｇを加え、
減圧下、加熱して過剰の水、メタノール、アンモニアを
留去し、１０％濃度の球状シリカ微粒子を含有するエチ
レングリコールスラリーを得た。スラリー中の球状シリ
カ微粒子の平均粒子径は０．２０μｍであり、球形比は
１．０５であった。 ［架橋高分子粒子の製造］脱塩水１５００部に水溶性重
合開始剤の過硫酸カリウム３．２部と分散安定剤として
ラウリル硫酸ナトリウム０．００４部を添加し均一に溶
解させた後、メチルメタクリレート５部、エチレングリ
コールジメタクリレート６５部およびジビニルベンゼン
３０部の混合溶液を加えた。次いで窒素ガス雰囲気下で
攪拌しながら７０℃で８時間重合を行った。反応率は９
８％で、得られた粒子の平均粒径は０．３０μｍ、球形
比１．０５であった。得られた該粒子の水スラリーにエ
チレングリコール２０００部を加え加熱、減圧下で水を
留去し、エチレングリコールスラリーとした。
【００２０】［ポリエステルフィルムの製造］ジメチル
テレフタレート１００部、エチレングリコール６０部お
よび酢酸マグネシウム４水塩０．０９部を反応器にと
り、加熱昇温するとともにメタノールを留去してエステ
ル交換反応を行い、反応開始から４時間を要して２３０
℃まで昇温し、実質的にエステル交換反応を終了させ
た。次いで、架橋高分子粒子０．１部および球状シリカ
粒子０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加
し、さらにリン酸０．０３部、三酸化アンチモン０．０
１部を加えて重縮合反応を行い、極限粘度０．６１のポ
リエチレンテレフタレートを得た。得られたポリマーを
２８５℃で押出機よりシート状に押し出し、静電印加冷
却法を用いて無定形シートを得た。次いで、８５℃で縦
方向に２．３倍、さらに同一方向に１１０℃で１．３倍
延伸した後、テンタ−で横方向に１４０℃で３．５倍延
伸し、１５０℃で熱固定し、ついで再度、１３０℃で縦
方向に１．３倍、１４０℃で横方向に１．２倍延伸し、
最終的に２００℃で熱固定し、厚み８μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを得、その特性を評価した。
さらに、得られたフィルムに磁性層を塗布して磁気テー
プを得、特性を測定した。
テレフタレート１００部、エチレングリコール６０部お
よび酢酸マグネシウム４水塩０．０９部を反応器にと
り、加熱昇温するとともにメタノールを留去してエステ
ル交換反応を行い、反応開始から４時間を要して２３０
℃まで昇温し、実質的にエステル交換反応を終了させ
た。次いで、架橋高分子粒子０．１部および球状シリカ
粒子０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加
し、さらにリン酸０．０３部、三酸化アンチモン０．０
１部を加えて重縮合反応を行い、極限粘度０．６１のポ
リエチレンテレフタレートを得た。得られたポリマーを
２８５℃で押出機よりシート状に押し出し、静電印加冷
却法を用いて無定形シートを得た。次いで、８５℃で縦
方向に２．３倍、さらに同一方向に１１０℃で１．３倍
延伸した後、テンタ−で横方向に１４０℃で３．５倍延
伸し、１５０℃で熱固定し、ついで再度、１３０℃で縦
方向に１．３倍、１４０℃で横方向に１．２倍延伸し、
最終的に２００℃で熱固定し、厚み８μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを得、その特性を評価した。
さらに、得られたフィルムに磁性層を塗布して磁気テー
プを得、特性を測定した。
【００２１】実施例２ 実施例１と同様にして架橋高分子粒子および球状シリカ
粒子を含有するポリマーを得、２８５℃で押出機よりシ
ート状に押し出し、静電印加冷却法を用いて無定形シー
トを得た。次いで、９０℃で縦方向に４．０倍で延伸し
た後、テンタ−で横方向に１００℃で３．５倍延伸し、
ついで再度、１３０℃で縦方向に１．２倍延伸し、最終
的に２００℃で熱固定し、厚み８μｍのポリエチレンテ
レフタレートフィルムを得、その特性を評価した。さら
に、得られたフィルムに磁性層を塗布して磁気テープを
得、特性を測定した。
粒子を含有するポリマーを得、２８５℃で押出機よりシ
ート状に押し出し、静電印加冷却法を用いて無定形シー
トを得た。次いで、９０℃で縦方向に４．０倍で延伸し
た後、テンタ−で横方向に１００℃で３．５倍延伸し、
ついで再度、１３０℃で縦方向に１．２倍延伸し、最終
的に２００℃で熱固定し、厚み８μｍのポリエチレンテ
レフタレートフィルムを得、その特性を評価した。さら
に、得られたフィルムに磁性層を塗布して磁気テープを
得、特性を測定した。
【００２２】実施例３ 水溶性重合開始剤の過硫酸カリウム量を１．５部とし、
合成重合時間を９時間とすること以外は実施例１と同様
にして、平均粒径０．６０μｍ、球形比１．０５の架橋
高分子粒子を得た。架橋高分子粒子０．０２部、平均粒
径０．１５μｍ、球形比１．０５の球状シリカ粒子０．
１部をエチレングリコールスラリーとして添加すること
以外は実施例１と同様にして、これらの粒子を含有する
ポリマー得た。次いで、得られたポリマーを用いて、実
施例２と同様にして厚み８μｍのポリエチレンテレフタ
レートフィルムを得、さらに磁気テープを得た。
合成重合時間を９時間とすること以外は実施例１と同様
にして、平均粒径０．６０μｍ、球形比１．０５の架橋
高分子粒子を得た。架橋高分子粒子０．０２部、平均粒
径０．１５μｍ、球形比１．０５の球状シリカ粒子０．
１部をエチレングリコールスラリーとして添加すること
以外は実施例１と同様にして、これらの粒子を含有する
ポリマー得た。次いで、得られたポリマーを用いて、実
施例２と同様にして厚み８μｍのポリエチレンテレフタ
レートフィルムを得、さらに磁気テープを得た。
【００２３】実施例４ 実施例１で用いた平均粒径０．３０μｍ、球形比１．０
５の架橋高分子粒子０．１部、平均粒径０．２０μｍ、
球形比１．０５の球状シリカ粒子０．１部および平均粒
径０．０８μｍの微細アルミナ粒子０．３部をエチレン
グリコールスラリーとして添加すること以外は実施例１
と同様にして、これらの粒子を含有するポリマー得た。
ついで該ポリマーを用いて、実施例１と同様にして厚み
８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを得、さ
らに磁気テープを得た。
５の架橋高分子粒子０．１部、平均粒径０．２０μｍ、
球形比１．０５の球状シリカ粒子０．１部および平均粒
径０．０８μｍの微細アルミナ粒子０．３部をエチレン
グリコールスラリーとして添加すること以外は実施例１
と同様にして、これらの粒子を含有するポリマー得た。
ついで該ポリマーを用いて、実施例１と同様にして厚み
８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを得、さ
らに磁気テープを得た。
【００２４】実施例５ 水溶性重合開始剤の過硫酸カリウム量を２．５部とし、
合成重合時間を８．５時間とすること以外は実施例１と
同様にして、平均粒径０．４０μｍ、球形比１．０５の
架橋高分子粒子を得た。ジメチルテレフタレートの代わ
りにナフタレン−２，６−ジカルボン酸ジメチル１００
部を用い、また、上記の架橋高分子粒子を０．０１部、
平均粒径０．２０μｍ、球形比１．０５の球状シリカ粒
子０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加す
ること以外は実施例１と同様にして、これらの粒子を含
有するポリエチレン−２，６−ナフタレートを得た。該
ポリマーを２９５℃で押出機よりシート状に押し出し、
静電印加冷却法を用いて無定形シートを得た。次いで、
１３５℃で縦方向に２．５倍延伸した後、テンタ−で横
方向に１３８℃で４．２倍延伸し、ついで再度、１６０
℃で縦方向に１．８倍再延伸し、その後２２０℃で横方
向に１．１倍幅出ししながら熱処理を行い、厚み６μｍ
のポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルムを得、
さらに得られたフィルムに磁性層を塗布し磁気テープを
得、その特性を測定した。
合成重合時間を８．５時間とすること以外は実施例１と
同様にして、平均粒径０．４０μｍ、球形比１．０５の
架橋高分子粒子を得た。ジメチルテレフタレートの代わ
りにナフタレン−２，６−ジカルボン酸ジメチル１００
部を用い、また、上記の架橋高分子粒子を０．０１部、
平均粒径０．２０μｍ、球形比１．０５の球状シリカ粒
子０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加す
ること以外は実施例１と同様にして、これらの粒子を含
有するポリエチレン−２，６−ナフタレートを得た。該
ポリマーを２９５℃で押出機よりシート状に押し出し、
静電印加冷却法を用いて無定形シートを得た。次いで、
１３５℃で縦方向に２．５倍延伸した後、テンタ−で横
方向に１３８℃で４．２倍延伸し、ついで再度、１６０
℃で縦方向に１．８倍再延伸し、その後２２０℃で横方
向に１．１倍幅出ししながら熱処理を行い、厚み６μｍ
のポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルムを得、
さらに得られたフィルムに磁性層を塗布し磁気テープを
得、その特性を測定した。
【００２５】比較例１ 実施例１で用いた平均粒径０．３０μｍ、球形比１．０
５の架橋高分子粒子０．２部のみをエチレングリコール
スラリーとして添加すること以外は実施例１と同様にし
て、架橋高分子粒子のみを含有するポリマー得た。次い
で、得られたポリマーを用いて、実施例１と同様にして
厚み８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを
得、さらに磁気テープを得た。 比較例２ 平均粒径０．２０μｍ、球形比１．０５の球状シリカ粒
子０．２部のみをエチレングリコールスラリーとして添
加すること以外は実施例１と同様にして、球状シリカ粒
子のみを含有するポリマー得た。次いで、得られたポリ
マーを用いて、実施例１と同様にして厚み８μｍのポリ
エチレンテレフタレートフィルムを得、さらに磁気テー
プを得た。
５の架橋高分子粒子０．２部のみをエチレングリコール
スラリーとして添加すること以外は実施例１と同様にし
て、架橋高分子粒子のみを含有するポリマー得た。次い
で、得られたポリマーを用いて、実施例１と同様にして
厚み８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを
得、さらに磁気テープを得た。 比較例２ 平均粒径０．２０μｍ、球形比１．０５の球状シリカ粒
子０．２部のみをエチレングリコールスラリーとして添
加すること以外は実施例１と同様にして、球状シリカ粒
子のみを含有するポリマー得た。次いで、得られたポリ
マーを用いて、実施例１と同様にして厚み８μｍのポリ
エチレンテレフタレートフィルムを得、さらに磁気テー
プを得た。
【００２６】比較例３ メチルメタクリレート３０部、エチレングリコールジメ
タクリレート６５部およびジビニルベンゼン５部の混合
溶液を用いる以外は実施例１と同様にして、平均粒径
０．３０μｍ、球形比１．０４の架橋高分子粒子を製造
した。得られた架橋高分子粒子０．１部および平均粒径
０．２０μｍ、球形比１．０５の球状シリカ粒子０．１
部を含有するポリマーを得、ついで実施例１と同様にし
て厚み８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを
得、さらに磁気テープを得た。 比較例４ 実施例１で用いた平均粒径０．３０μｍ、球形比１．０
５の架橋高分子粒子０．１部と平均粒径０．７０μｍ、
球形比１．０５の球状シリカ粒子０．０１部を含有させ
る以外は実施例１と同様にして厚み８μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを得、さらに磁気テープを得
た。
タクリレート６５部およびジビニルベンゼン５部の混合
溶液を用いる以外は実施例１と同様にして、平均粒径
０．３０μｍ、球形比１．０４の架橋高分子粒子を製造
した。得られた架橋高分子粒子０．１部および平均粒径
０．２０μｍ、球形比１．０５の球状シリカ粒子０．１
部を含有するポリマーを得、ついで実施例１と同様にし
て厚み８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを
得、さらに磁気テープを得た。 比較例４ 実施例１で用いた平均粒径０．３０μｍ、球形比１．０
５の架橋高分子粒子０．１部と平均粒径０．７０μｍ、
球形比１．０５の球状シリカ粒子０．０１部を含有させ
る以外は実施例１と同様にして厚み８μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを得、さらに磁気テープを得
た。
【００２７】比較例５ 実施例１と同様にして架橋高分子粒子および球状シリカ
粒子を含有するポリマーを得た。得られたポリマーを２
８５℃で押出機よりシート状に押し出し、静電印加冷却
法を用いて無定形シートを得た。次いで、９０℃で縦方
向に３．８倍で延伸した後、テンタ−で横方向に１００
℃で３．８倍延伸し、最終的に２００℃で熱固定し、厚
み８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを得、
さらに磁気テープを得た。以上、得られた結果を下記表
１〜４に示す。
粒子を含有するポリマーを得た。得られたポリマーを２
８５℃で押出機よりシート状に押し出し、静電印加冷却
法を用いて無定形シートを得た。次いで、９０℃で縦方
向に３．８倍で延伸した後、テンタ−で横方向に１００
℃で３．８倍延伸し、最終的に２００℃で熱固定し、厚
み８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを得、
さらに磁気テープを得た。以上、得られた結果を下記表
１〜４に示す。
【００２８】
【表１】 ──────────────────────────────────── 実施例１ 実施例２ 実施例３ 実施例４ 実施例５ ──────────────────────────────────── ＜配合粒子＞ Ａ：架橋高分子粒子 平均粒径（μｍ） ０．３０ ０．３０ ０．６０ ０．３０ ０．４０ 粒子含有量（重量％） ０．１ ０．１ ０．０２ ０．１ ０．０１ 球形比 １．０５ １．０５ １．０５ １．０５ １．０５ 変形比 １．１０ １．１０ １．１５ １．１０ １．１０ Ｂ：球状シリカ 平均粒径（μｍ） ０．２０ ０．２０ ０．１５ ０．２０ ０．２０ 粒子含有量（重量％） ０．１ ０．１ ０．１ ０．１ ０．１ 球形比 １．０５ １．０５ １．０５ １．０５ １．０５ Ｃ：微細アルミナ 平均粒径（μｍ） − − − ０．０８ − 粒子含有量（重量％） − − − ０．３ − ＜フィルム特性＞ Ｒａ（μｍ） 0.009 0.008 0.005 0.009 0.006 Ｆ5 値 縦 １４．５ １９．０ １９．１ １４．４ １６．２ （ｋｇ／ｍｍ2 ）横 １４．２ １１．２ １１．０ １４．２ １６．０ 滑り性 ０．３２ ０．３４ ０．４２ ０．３３ ０．３２ 耐摩耗性 Ａ Ａ Ａ Ａ Ａ ＜磁気テ−プ特性＞ カレンダ−汚れ 〇 〇 〇 〇 〇 ＤＯ（個／分） ４ ５ ２ ４ ２ 耐久性 〇 〇 〇 〇 〇 耐擦傷性 ３ ３ ３ ５ ３ ────────────────────────────────────
【００２９】
【表２】 ──────────────────────────────────── 比較例１ 比較例２ 比較例３ 比較例４ 比較例５ ──────────────────────────────────── ＜配合粒子＞ Ａ：架橋高分子粒子 平均粒径（μｍ） ０．３０ − ０．３０ ０．３０ ０．３０ 粒子含有量（重量％） ０．２ − ０．１ ０．１ ０．１ 球形比 １．０５ − １．０４ １．０５ １．０５ 変形比 １．１０ − １．９５ １．１０ １．１０ Ｂ：球状シリカ 平均粒径（μｍ） − ０．２０ ０．２０ ０．７０ ０．２０ 粒子含有量（重量％） − ０．２ ０．１ ０．０１ ０．１ 球形比 − １．０５ １．０５ １．０５ １．０５ ＜フィルム特性＞ Ｒａ（μｍ） 0.009 0.009 0.009 0.008 0.009 Ｆ5 値 縦 １４．５ １４．４ １４．５ １４．５ １１．２ （ｋｇ／ｍｍ2 ）横 １４．２ １４．２ １４．１ １４．３ １１．１ 滑り性 ０．４５ ０．３１ ０．４０ ０．３９ ０．３３ 耐摩耗性 Ｂ Ｃ Ｂ Ｄ Ａ ＜磁気テ−プ特性＞ カレンダ−汚れ △ × △ × 〇 ＤＯ（個／分） １８ ２７ １５ ３０ １０ 耐久性 × 〇 △ △ × 耐擦傷性 ３ ３ ３ ３ ３ ────────────────────────────────────
【００３０】
【発明の効果】本発明のフィルムは均一微細な表面構造
を有しており、特に耐摩耗性およびフィルム強度に優
れ、磁気記録媒体用ベ−スフィルムをはじめとする産業
用資材として有用であり、その工業的価値は高い。
を有しており、特に耐摩耗性およびフィルム強度に優
れ、磁気記録媒体用ベ−スフィルムをはじめとする産業
用資材として有用であり、その工業的価値は高い。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ２９Ｋ 67:00 Ｂ２９Ｌ 7:00
Claims (1)
- 【請求項１】 平均粒径が０．０５〜０．６μｍ、球形
比が１．０〜１．２であるシリカ粒子を０．０１〜１重
量％、および平均粒径が０．１〜２μｍ、球形比が１．
０〜１．２、かつ二軸延伸による変形度が１．０〜１．
５の範囲である架橋高分子粒子を０．００５〜１重量％
含有することを特徴とする二軸配向ポリエステルフィル
ム。
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|---|---|---|---|
| JP15969093A JP3313828B2 (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | 二軸配向ポリエステルフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15969093A JP3313828B2 (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | 二軸配向ポリエステルフィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0711020A true JPH0711020A (ja) | 1995-01-13 |
| JP3313828B2 JP3313828B2 (ja) | 2002-08-12 |
Family
ID=15699195
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15969093A Expired - Fee Related JP3313828B2 (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | 二軸配向ポリエステルフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3313828B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0811653A2 (en) * | 1996-05-17 | 1997-12-10 | Teijin Limited | Biaxially oriented polyester film |
| WO1999021911A1 (fr) * | 1997-10-29 | 1999-05-06 | Teijin Limited | Feuil de polyester a orientation biaxiale et support d'enregistrement contenant ce feuil en tant que base |
| US6231955B1 (en) * | 1998-06-22 | 2001-05-15 | Mitsubishi Polyester Film Corporation | Biaxially oriented polyester film |
-
1993
- 1993-06-29 JP JP15969093A patent/JP3313828B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| EP0811653A2 (en) * | 1996-05-17 | 1997-12-10 | Teijin Limited | Biaxially oriented polyester film |
| EP0811653A3 (en) * | 1996-05-17 | 1998-05-06 | Teijin Limited | Biaxially oriented polyester film |
| WO1999021911A1 (fr) * | 1997-10-29 | 1999-05-06 | Teijin Limited | Feuil de polyester a orientation biaxiale et support d'enregistrement contenant ce feuil en tant que base |
| US6231955B1 (en) * | 1998-06-22 | 2001-05-15 | Mitsubishi Polyester Film Corporation | Biaxially oriented polyester film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3313828B2 (ja) | 2002-08-12 |
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