JPH07104497A - 電子写真感光体用導電性基体および基体表面形状評価方法 - Google Patents
電子写真感光体用導電性基体および基体表面形状評価方法Info
- Publication number
- JPH07104497A JPH07104497A JP24583193A JP24583193A JPH07104497A JP H07104497 A JPH07104497 A JP H07104497A JP 24583193 A JP24583193 A JP 24583193A JP 24583193 A JP24583193 A JP 24583193A JP H07104497 A JPH07104497 A JP H07104497A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- peaks
- surface shape
- surface contour
- image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】基体の新規な表面形状評価方法を提供し、その
方法により評価して感光層の密着性が良く、均質で高解
像度化，高階調化に対応でき、しかも基体表面加工痕跡
が画像に現れない感光体を得ることが可能な基体を提供
する 【構成】表面形状を表面粗さ測定装置で測定して得られ
る断面曲線１上で、平均線２を中心とした仕切り幅Ｘを
規定し、この仕切り幅を超える相隣る山と谷の一対から
なるピーク４の単位長Ｌあたりの数により表面形状を評
価する。このような方法で仕切り幅Ｘを２０μｍとし単
位長Ｌを１ｃｍとしたときのピーク４の数を１００以下
とした基体を用いて有機感光体を作製する。
方法により評価して感光層の密着性が良く、均質で高解
像度化，高階調化に対応でき、しかも基体表面加工痕跡
が画像に現れない感光体を得ることが可能な基体を提供
する 【構成】表面形状を表面粗さ測定装置で測定して得られ
る断面曲線１上で、平均線２を中心とした仕切り幅Ｘを
規定し、この仕切り幅を超える相隣る山と谷の一対から
なるピーク４の単位長Ｌあたりの数により表面形状を評
価する。このような方法で仕切り幅Ｘを２０μｍとし単
位長Ｌを１ｃｍとしたときのピーク４の数を１００以下
とした基体を用いて有機感光体を作製する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、基体の表面形状評価
方法およびその方法で評価した高解像度，高階調の電子
写真応用装置に好適に用いられる電子写真感光体の導電
性基体に関する。
方法およびその方法で評価した高解像度，高階調の電子
写真応用装置に好適に用いられる電子写真感光体の導電
性基体に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子写真感光体は、電子写真感光体用導
電性基体（以下、単に基体と称する）とその上に形成さ
れた光導電性材料を含む感光層から構成されている。そ
うして、電子写真画像形成プロセスにおいては、感光体
表面が暗所で帯電され、続いて画像露光されて静電潜像
が形成され、形成された静電潜像がトナーにより現像さ
れ、現像されたトナー像が紙などの支持体に転写され定
着されて画像が形成される。トナー像転写後の感光体表
面は除電，残留トナーの除去が行われる。
電性基体（以下、単に基体と称する）とその上に形成さ
れた光導電性材料を含む感光層から構成されている。そ
うして、電子写真画像形成プロセスにおいては、感光体
表面が暗所で帯電され、続いて画像露光されて静電潜像
が形成され、形成された静電潜像がトナーにより現像さ
れ、現像されたトナー像が紙などの支持体に転写され定
着されて画像が形成される。トナー像転写後の感光体表
面は除電，残留トナーの除去が行われる。
【０００３】このようなプロセスで良好な画像を得るた
めには、感光層は膜厚均一で均質であることが要求され
る。そのためには基体の表面はできるだけ滑らかである
ことが望ましい。一方、感光体はこのようなプロセスで
繰り返し使用されるので、感光体の寿命の点では感光層
が剥離しないように基体に密着していることが重要であ
り、そのためには、基体表面はあれている方が望まし
い。従来、このような矛盾する要求をできるだけ満足さ
せるには、有機光導電性材料を含む有機材料の塗膜から
なる感光層を備えた有機感光体では、その基体の表面形
状は表面粗さが最大高さＲmax で０．５μｍ〜１．２μ
ｍの範囲内が好適とされ、一般に用いられるアルミニウ
ム合金からなる基体においては、このような表面粗さを
得ようとして、基体表面に精密な機械加工を施すことが
行われてきた。また、近年、レーザビームプリンタやデ
ィジタル複写機など露光光に単一波長光を用いる装置が
普及してきているが、この場合には、感光体に入射し基
体表面に達して反射される露光光の干渉に起因して生じ
る画像欠陥を防止する目的がさらに加わって基体表面が
あらされる。基体の表面粗さが大きい程干渉は起きにく
くなる。
めには、感光層は膜厚均一で均質であることが要求され
る。そのためには基体の表面はできるだけ滑らかである
ことが望ましい。一方、感光体はこのようなプロセスで
繰り返し使用されるので、感光体の寿命の点では感光層
が剥離しないように基体に密着していることが重要であ
り、そのためには、基体表面はあれている方が望まし
い。従来、このような矛盾する要求をできるだけ満足さ
せるには、有機光導電性材料を含む有機材料の塗膜から
なる感光層を備えた有機感光体では、その基体の表面形
状は表面粗さが最大高さＲmax で０．５μｍ〜１．２μ
ｍの範囲内が好適とされ、一般に用いられるアルミニウ
ム合金からなる基体においては、このような表面粗さを
得ようとして、基体表面に精密な機械加工を施すことが
行われてきた。また、近年、レーザビームプリンタやデ
ィジタル複写機など露光光に単一波長光を用いる装置が
普及してきているが、この場合には、感光体に入射し基
体表面に達して反射される露光光の干渉に起因して生じ
る画像欠陥を防止する目的がさらに加わって基体表面が
あらされる。基体の表面粗さが大きい程干渉は起きにく
くなる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】近年、電子写真装置の
高解像度化の進捗が著しい。この傾向は電子写真方式の
プリンタの低速機，中速機において顕著である。高解像
度化は装置の光源光束を細くすることによって達成さ
れ、同時に画素の構成を適切に選ぶことにより高階調化
も達成することが可能となる。しかし、感光体に対して
は、高解像度化，高階調化に対応し得る，より高い均質
性が要求されることになる。低中速のプリンタでは一般
に有機感光体が用いられるが、装置の高解像度化，高階
調化が進められるにつれて、基体表面の加工痕跡が画像
上に再現されて、画像品質が損なわれることがあるとい
う問題が生じてきた。基体表面のＲmax を小さくすると
この問題は解決されるが、感光層の剥離，基体表面で反
射される露光光の干渉に起因する画像欠陥などの問題が
生じてくる。
高解像度化の進捗が著しい。この傾向は電子写真方式の
プリンタの低速機，中速機において顕著である。高解像
度化は装置の光源光束を細くすることによって達成さ
れ、同時に画素の構成を適切に選ぶことにより高階調化
も達成することが可能となる。しかし、感光体に対して
は、高解像度化，高階調化に対応し得る，より高い均質
性が要求されることになる。低中速のプリンタでは一般
に有機感光体が用いられるが、装置の高解像度化，高階
調化が進められるにつれて、基体表面の加工痕跡が画像
上に再現されて、画像品質が損なわれることがあるとい
う問題が生じてきた。基体表面のＲmax を小さくすると
この問題は解決されるが、感光層の剥離，基体表面で反
射される露光光の干渉に起因する画像欠陥などの問題が
生じてくる。
【０００５】この発明は、上述の点に鑑みてなされたも
のであって、新規な基体表面形状評価方法を提供するこ
とを第一の課題とし、その方法により基体表面形状を評
価して、感光層の密着性がよくて寿命が長く、しかも基
体表面加工の痕跡が画像に現れることがなく、干渉縞模
様が現れることもなく、高解像度化，高階調化に対応す
ることができる優れた感光体を得ることができる基体を
提供することを第二の課題とする。
のであって、新規な基体表面形状評価方法を提供するこ
とを第一の課題とし、その方法により基体表面形状を評
価して、感光層の密着性がよくて寿命が長く、しかも基
体表面加工の痕跡が画像に現れることがなく、干渉縞模
様が現れることもなく、高解像度化，高階調化に対応す
ることができる優れた感光体を得ることができる基体を
提供することを第二の課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の第一の課題は、こ
の発明によれば、表面形状を表面粗さ測定装置により測
定したときに得られる断面曲線上で、平均線を中心とし
た仕切り幅を規定し、この仕切り幅を超える相隣る山と
谷の一対からなるピークの単位長あたりの数により基体
表面形状を評価することによって解決される。
の発明によれば、表面形状を表面粗さ測定装置により測
定したときに得られる断面曲線上で、平均線を中心とし
た仕切り幅を規定し、この仕切り幅を超える相隣る山と
谷の一対からなるピークの単位長あたりの数により基体
表面形状を評価することによって解決される。
【０００７】また、第二の課題は、上記の評価方法によ
り仕切り幅２０μｍとして評価したときのピーク数が１
ｃｍあたり１００以下の表面形状である基体とすること
によって解決される。
り仕切り幅２０μｍとして評価したときのピーク数が１
ｃｍあたり１００以下の表面形状である基体とすること
によって解決される。
【０００８】
【作用】図１は、基体の表面形状を、Ｒmax で評価した
ときと、この発明の方法で評価したときとの基体の表面
形状の差を示す説明図である。図１において、１は表面
形状を表面粗さ測定装置を用いて測定して得られる断面
曲線を示し、２は断面曲線１の山頂と谷底のほぼ中央に
引かれた平均線であり、３は平均線２を中心に仕切り幅
Ｘで中心線２の上下に平行に引かれた仕切り線であり、
４は断面曲線上で仕切り線を超える，すなわち仕切り幅
を超える相隣る山と谷の一対からなるピークである。そ
うして、この発明の表面形状測定方法は、このように定
義されたピークの仕切り幅Ｘと単位長Ｌあたりの数で基
体の表面形状を評価する方法である。図１（ａ），図１
（ｂ）はＲmax は同じであるがピーク数が異なる基体の
表面形状の説明図で、図１（ａ）は単位長Ｌあたりのピ
ーク数が３と少ない場合を示し、図１（ｂ）は単位長Ｌ
あたりのピーク数が６と多い場合を示す。 図１（ａ）
の基体の表面形状は平滑な凹凸や細かい凹凸であるが、
図１（ｂ）の基体の表面形状は急峻な凹凸であることが
判り、この発明の評価方法によれば山や谷を結ぶ表面形
状そのものをある程度把握することができる。
ときと、この発明の方法で評価したときとの基体の表面
形状の差を示す説明図である。図１において、１は表面
形状を表面粗さ測定装置を用いて測定して得られる断面
曲線を示し、２は断面曲線１の山頂と谷底のほぼ中央に
引かれた平均線であり、３は平均線２を中心に仕切り幅
Ｘで中心線２の上下に平行に引かれた仕切り線であり、
４は断面曲線上で仕切り線を超える，すなわち仕切り幅
を超える相隣る山と谷の一対からなるピークである。そ
うして、この発明の表面形状測定方法は、このように定
義されたピークの仕切り幅Ｘと単位長Ｌあたりの数で基
体の表面形状を評価する方法である。図１（ａ），図１
（ｂ）はＲmax は同じであるがピーク数が異なる基体の
表面形状の説明図で、図１（ａ）は単位長Ｌあたりのピ
ーク数が３と少ない場合を示し、図１（ｂ）は単位長Ｌ
あたりのピーク数が６と多い場合を示す。 図１（ａ）
の基体の表面形状は平滑な凹凸や細かい凹凸であるが、
図１（ｂ）の基体の表面形状は急峻な凹凸であることが
判り、この発明の評価方法によれば山や谷を結ぶ表面形
状そのものをある程度把握することができる。
【０００９】基体の表面形状は、通常、ＪＩＳに規定さ
れた表面粗さの中心線平均粗さＲa，十点平均粗さ
Ｒz ，最大高さＲmax などを測定して評価する。これら
はみな、基体の表面形状の断面曲線の測定長内の山の高
さや谷の深さを測定し、これらの測定値，いうなれば表
面形状の断面曲線上の「点」の測定値を測定長内の表面
形状が均一であるとの仮定のもとに平均化処理を行って
いる。ところが、前述の「画像上に再現される基体加工
の痕跡」は、「点」の測定値では把握できない、山から
谷，あるいは谷から山をつなぐ形状そのものの欠陥によ
るものと考えられるため、Ｒa ，Ｒz ，Ｒmax などで基
体加工の痕跡が画像上に再現されるかどうかを判断する
のは適切でない。理想的には、基体表面の広範囲にわた
って３次元形状測定を行うことが考えられるが、実際的
でない。これに対して、この発明の表面形状評価方法
は、仕切り幅を適切に選ぶことにより、山から谷，ある
いは谷から山をつなぐ形状を図１に見られるようにある
程度把握できる。しかも、この測定自体は通常の表面粗
さ測定装置で行えるので、３次元形状測定に比してはる
かに容易である。
れた表面粗さの中心線平均粗さＲa，十点平均粗さ
Ｒz ，最大高さＲmax などを測定して評価する。これら
はみな、基体の表面形状の断面曲線の測定長内の山の高
さや谷の深さを測定し、これらの測定値，いうなれば表
面形状の断面曲線上の「点」の測定値を測定長内の表面
形状が均一であるとの仮定のもとに平均化処理を行って
いる。ところが、前述の「画像上に再現される基体加工
の痕跡」は、「点」の測定値では把握できない、山から
谷，あるいは谷から山をつなぐ形状そのものの欠陥によ
るものと考えられるため、Ｒa ，Ｒz ，Ｒmax などで基
体加工の痕跡が画像上に再現されるかどうかを判断する
のは適切でない。理想的には、基体表面の広範囲にわた
って３次元形状測定を行うことが考えられるが、実際的
でない。これに対して、この発明の表面形状評価方法
は、仕切り幅を適切に選ぶことにより、山から谷，ある
いは谷から山をつなぐ形状を図１に見られるようにある
程度把握できる。しかも、この測定自体は通常の表面粗
さ測定装置で行えるので、３次元形状測定に比してはる
かに容易である。
【００１０】本発明者らは、上述のような知見に基づ
き、高解像度化，高階調化に対応できる有機感光体を得
るための基体について鋭意検討をを進めた結果、この発
明の基体表面形状評価方法で、仕切り幅を２０μｍとし
たときのピーク数が１ｃｍあたり１００以下である表面
形状の基体を用いると、感光層の密着性が良く、しかも
画像上に基体加工痕跡が再現されることがなく、干渉縞
模様が現れることもなく、高解像度化，高階調化に対応
できる優れた感光体が得られることを見出した。その理
由は以下のように推察される。すなわち、仕切り幅２０
μｍでのピーク数が１ｃｍあたり１００を上回ること
は、断面曲線において振幅が２０μｍを超えるレベルの
凹凸が多く存在することを意味し、基体表面には鋭利な
突起が多数存在することが考えられる。一方、仕切り幅
２０μｍでのピーク数が１ｃｍあたり１００を下回るこ
とは、断面曲線において振幅が２０μｍを超えるレベル
の凹凸が少ないことを意味し、基体表面にはなだらかな
突起が支配的に存在することが考えられる。鋭利な突起
が多数存在する基体を用いて感光体を作製すると、突起
部に感光層が均一に塗布形成されないことがあり、画像
欠陥が発生することになる。一方、なだらかな突起が支
配的に存在する基体を用いて感光体を作製すると、感光
層を均一に塗布形成することができ、画像欠陥のない良
好な画像が得られることになる。
き、高解像度化，高階調化に対応できる有機感光体を得
るための基体について鋭意検討をを進めた結果、この発
明の基体表面形状評価方法で、仕切り幅を２０μｍとし
たときのピーク数が１ｃｍあたり１００以下である表面
形状の基体を用いると、感光層の密着性が良く、しかも
画像上に基体加工痕跡が再現されることがなく、干渉縞
模様が現れることもなく、高解像度化，高階調化に対応
できる優れた感光体が得られることを見出した。その理
由は以下のように推察される。すなわち、仕切り幅２０
μｍでのピーク数が１ｃｍあたり１００を上回ること
は、断面曲線において振幅が２０μｍを超えるレベルの
凹凸が多く存在することを意味し、基体表面には鋭利な
突起が多数存在することが考えられる。一方、仕切り幅
２０μｍでのピーク数が１ｃｍあたり１００を下回るこ
とは、断面曲線において振幅が２０μｍを超えるレベル
の凹凸が少ないことを意味し、基体表面にはなだらかな
突起が支配的に存在することが考えられる。鋭利な突起
が多数存在する基体を用いて感光体を作製すると、突起
部に感光層が均一に塗布形成されないことがあり、画像
欠陥が発生することになる。一方、なだらかな突起が支
配的に存在する基体を用いて感光体を作製すると、感光
層を均一に塗布形成することができ、画像欠陥のない良
好な画像が得られることになる。
【００１１】
【実施例】表１に示すように、種々の基体製造方法で作
製された、この発明の基体表面形状評価方法で仕切り幅
を２０μｍとしたときの１ｃｍあたりのピーク数が種々
異なる基体を用いて、その表面に有機材料からなる感光
層を塗布形成して感光体を作製し、市販の高解像度のレ
ーザビームプリンタで画像評価を行った。その結果を表
１に示す。
製された、この発明の基体表面形状評価方法で仕切り幅
を２０μｍとしたときの１ｃｍあたりのピーク数が種々
異なる基体を用いて、その表面に有機材料からなる感光
層を塗布形成して感光体を作製し、市販の高解像度のレ
ーザビームプリンタで画像評価を行った。その結果を表
１に示す。
【００１２】
【表１】
【００１３】表１に見られるように、精密旋盤での表面
切削加工を施した基体，表面にセンタレス研削加工を施
した基体，冷間引き抜き加工で製造した基体，インパク
ト加工で製造した基体のいずれにおいても、１ｃｍあた
りのピーク数が１００以下の基体を用いた感光体では基
体加工に起因する画像欠陥のない良好な画像が得られた
が、１ｃｍあたりのピーク数が１００を超える基体を用
いた感光体では画像に基体加工痕跡が再現されて良好な
画像が得られなかった。
切削加工を施した基体，表面にセンタレス研削加工を施
した基体，冷間引き抜き加工で製造した基体，インパク
ト加工で製造した基体のいずれにおいても、１ｃｍあた
りのピーク数が１００以下の基体を用いた感光体では基
体加工に起因する画像欠陥のない良好な画像が得られた
が、１ｃｍあたりのピーク数が１００を超える基体を用
いた感光体では画像に基体加工痕跡が再現されて良好な
画像が得られなかった。
【００１４】
【発明の効果】この発明によれば、基体の表面形状を、
表面形状を表面粗さ測定装置により測定したときに得ら
れる断面曲線上で、平均線を中心とした仕切り幅を規定
し、この仕切り幅を超える相隣る山と谷の一対からなる
ピークの単位長あたりの数で評価する。この評価方法に
より仕切り幅２０μｍとして評価したときのピーク数が
１ｃｍあたり１００以下の表面形状の基体を用いること
により、感光層の密着性が良くて寿命が長く、しかも基
体表面加工の痕跡が画像に現れることがなく、干渉縞模
様が現れることもなく、高解像度化，高階調化に対応す
ることができる画質の優れた感光体を得ることが可能と
なる。
表面形状を表面粗さ測定装置により測定したときに得ら
れる断面曲線上で、平均線を中心とした仕切り幅を規定
し、この仕切り幅を超える相隣る山と谷の一対からなる
ピークの単位長あたりの数で評価する。この評価方法に
より仕切り幅２０μｍとして評価したときのピーク数が
１ｃｍあたり１００以下の表面形状の基体を用いること
により、感光層の密着性が良くて寿命が長く、しかも基
体表面加工の痕跡が画像に現れることがなく、干渉縞模
様が現れることもなく、高解像度化，高階調化に対応す
ることができる画質の優れた感光体を得ることが可能と
なる。
【図１】基体の表面形状をＲmax で評価したときとこの
発明の方法で評価したときとの基体の表面形状の差の説
明図で、図１（ａ）と図１（ｂ）とはＲmax は同じであ
るが、ピーク数が異なる場合で、図１（ａ）はピーク数
が少ないときのものであり、図１（ｂ）はピーク数が多
いときのものである。
発明の方法で評価したときとの基体の表面形状の差の説
明図で、図１（ａ）と図１（ｂ）とはＲmax は同じであ
るが、ピーク数が異なる場合で、図１（ａ）はピーク数
が少ないときのものであり、図１（ｂ）はピーク数が多
いときのものである。
１ 断面曲線 ２ 平均線 ３ 仕切り線 ４ ピーク
Claims (2)
- 【請求項１】表面形状を表面粗さ測定装置により測定し
たときに得られる断面曲線上で、平均線を中心とした仕
切り幅を規定し、この仕切り幅を超える相隣る山と谷の
一対からなるピークの単位長あたりの数により表面形状
を評価することを特徴とする基体表面形状評価方法。 - 【請求項２】請求項１記載の基体表面形状評価方法によ
り仕切り幅２０μｍとして評価したときのピーク数が１
ｃｍあたり１００以下の表面形状であることを特徴とす
る電子写真感光体用導電性基体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24583193A JPH07104497A (ja) | 1993-10-01 | 1993-10-01 | 電子写真感光体用導電性基体および基体表面形状評価方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24583193A JPH07104497A (ja) | 1993-10-01 | 1993-10-01 | 電子写真感光体用導電性基体および基体表面形状評価方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07104497A true JPH07104497A (ja) | 1995-04-21 |
Family
ID=17139506
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24583193A Pending JPH07104497A (ja) | 1993-10-01 | 1993-10-01 | 電子写真感光体用導電性基体および基体表面形状評価方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07104497A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010107130A1 (en) * | 2009-03-17 | 2010-09-23 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, production method of the same,image forming apparatus, and process cartridge |
| US8293439B2 (en) | 2009-03-13 | 2012-10-23 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photorecptor, method of manufacturing electrophotographic photorecptor, image forming apparatus, and process cartridge |
| US8512924B2 (en) | 2010-02-17 | 2013-08-20 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, and image forming apparatus and process cartridge using the photoreceptor |
| US8597863B2 (en) | 2009-06-16 | 2013-12-03 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, method of manufacturing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
| CN108534738A (zh) * | 2018-03-13 | 2018-09-14 | 北京航空航天大学 | 用于研究零件抗疲劳性能的表面粗糙度分析方法 |
| CN109186526A (zh) * | 2018-08-28 | 2019-01-11 | 山东建筑大学 | 一种表面粗糙度表征方法 |
| CN109211178A (zh) * | 2018-08-28 | 2019-01-15 | 山东建筑大学 | 一种工件微观几何特征表征方法 |
-
1993
- 1993-10-01 JP JP24583193A patent/JPH07104497A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8293439B2 (en) | 2009-03-13 | 2012-10-23 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photorecptor, method of manufacturing electrophotographic photorecptor, image forming apparatus, and process cartridge |
| WO2010107130A1 (en) * | 2009-03-17 | 2010-09-23 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, production method of the same,image forming apparatus, and process cartridge |
| JP2010244002A (ja) * | 2009-03-17 | 2010-10-28 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体とその製造方法および画像形成装置と画像形成用プロセスカートリッジ |
| CN102356356A (zh) * | 2009-03-17 | 2012-02-15 | 株式会社理光 | 电子照相光电导体及其生产方法,以及成像装置和处理盒 |
| US8795935B2 (en) | 2009-03-17 | 2014-08-05 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, production method of the same, image forming apparatus, and process cartridge |
| US8597863B2 (en) | 2009-06-16 | 2013-12-03 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, method of manufacturing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
| US8512924B2 (en) | 2010-02-17 | 2013-08-20 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, and image forming apparatus and process cartridge using the photoreceptor |
| CN108534738A (zh) * | 2018-03-13 | 2018-09-14 | 北京航空航天大学 | 用于研究零件抗疲劳性能的表面粗糙度分析方法 |
| CN109186526A (zh) * | 2018-08-28 | 2019-01-11 | 山东建筑大学 | 一种表面粗糙度表征方法 |
| CN109211178A (zh) * | 2018-08-28 | 2019-01-15 | 山东建筑大学 | 一种工件微观几何特征表征方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH07104497A (ja) | 電子写真感光体用導電性基体および基体表面形状評価方法 | |
| JPH0876386A (ja) | 電子写真用画像形成部材基板表面粗面化方法、電子写真用受光体製造方法、及び湿式ホーニング組成物 | |
| JPH0514902B2 (ja) | ||
| JPH08305044A (ja) | 電子写真用感光体およびその製造方法 | |
| US5362588A (en) | Electrophotographic photosensitive member and apparatus including same | |
| JP2634061B2 (ja) | 電子写真装置 | |
| US6048657A (en) | Surface treatment method without external power source | |
| JPH11102080A (ja) | 感光体および画像形成装置 | |
| JP2878030B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| US7335452B2 (en) | Substrate with plywood suppression | |
| JP2964729B2 (ja) | 電子写真感光体用基体およびその製造方法 | |
| US7361439B2 (en) | Lathe surface for coating streak suppression | |
| JPH08328389A (ja) | 液体現像転写方法、それに用いる転写紙及びその製造方法 | |
| JPH09197696A (ja) | 感光ドラム基体用アルミニウム管の製造方法 | |
| JP2996742B2 (ja) | 画像形成方法 | |
| JPH0895272A (ja) | 感光ドラム | |
| JP2754651B2 (ja) | 電子写真感光体の作製方法 | |
| JP3669553B2 (ja) | 感光体ドラム基体及び感光体ドラム基体の製造方法 | |
| JP2782955B2 (ja) | 電子写真感光体用基体およびその製造方法 | |
| JP2787051B2 (ja) | 電子写真感光体用基体およびその製造方法 | |
| JPH0452653A (ja) | 電子写真用感光体の光感度評価方法 | |
| JP2795358B2 (ja) | 電子写真感光体基体の表面加工方法 | |
| JP2818569B2 (ja) | 感光ドラム素管 | |
| JPH02173682A (ja) | 静電記録装置 | |
| JPH02105161A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 |